WO2011132616A1 - Highly abrasion-resistant imprint material - Google Patents

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WO2011132616A1 PCT/JP2011/059420 JP2011059420W WO2011132616A1 WO 2011132616 A1 WO2011132616 A1 WO 2011132616A1 JP 2011059420 W JP2011059420 W JP 2011059420W WO 2011132616 A1 WO2011132616 A1 WO 2011132616A1
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淳平 小林
加藤　拓
圭介 首藤
正睦 鈴木
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日産化学工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an imprint material and a film produced from the material and having a pattern transferred thereon. More specifically, the present invention relates to an imprint material having high scratch resistance even after the pattern is transferred, and a film produced from the material and having the pattern transferred thereon.
  • the molecular weights of A 1 and A 2 are M A1 and M A2 , respectively.
  • the alkylene oxide unit having 2 carbon atoms is represented by (—C 2 H 4 —O—), and is typically an ethylene oxide unit (hereinafter abbreviated as “EO” in this specification). it may be applied 44 as a molecular weight M O.
  • the alkylene oxide unit having 3 carbon atoms is represented by (—C 3 H 6 —O—) and is typically a propylene oxide unit, and 58 may be applied as the molecular weight M O thereof.
  • Example 3 DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-TMPT-3EO (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 428) (hereinafter abbreviated as “A-TMPT-3EO” in this specification). Except that, an imprint material PNI-A3 was prepared in the same manner as in Example 1. In this example, A-TMPT-3EO corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 3 EO.
  • Example 2 Example 1 except that DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-DPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “A-DPH” in this specification).
  • An imprint material PNI-B2 was prepared.
  • A-DPH corresponds to the component (A ′).

Abstract

Provided is a highly abrasion-resistant imprint material. The imprint material comprises a compound that has C2-3 alkylene oxide units and at least two polymerizable groups as component (A) and a photopolymerization initiator as component (B). The polymerizable groups are at least one selected from the group consisting of acryloyloxy, acryloyl, methacryloyloxy, and methacryloyl groups. The imprint material can further comprise, in addition to component (A), a compound that has at least two polymerizable groups but does not have C2-3 alkylene oxide units as component (A').

Description

高耐擦傷性インプリント材料High scratch-resistant imprint material
　本発明は、インプリント材料、及び当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。より詳しくは、パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有するインプリント材料、並びに当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関するものである。 The present invention relates to an imprint material and a film produced from the material and having a pattern transferred thereon. More specifically, the present invention relates to an imprint material having high scratch resistance even after the pattern is transferred, and a film produced from the material and having the pattern transferred thereon.
　１９９５年、現プリンストン大学のチョウ教授らがナノインプリントリソグラフィという新たな技術を提唱した（特許文献１）。ナノインプリントリソグラフィは、任意のパターンを有する、モールドを樹脂膜が形成された基材と接触させ、当該樹脂膜を加圧すると共に、熱または光を外部刺激として用い、目的のパターンを硬化された当該樹脂膜に形成する技術であり、このナノインプリントリソグラフィは、従来の半導体デバイス製造における光リソグラフィ等に比べて簡便・安価にナノスケールの加工が可能であるという利点を有する。
　したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている（特許文献２、特許文献３）。 In 1995, Professor Chou of Princeton University proposed a new technique called nanoimprint lithography (Patent Document 1). Nanoimprint lithography is a resin in which a mold is brought into contact with a substrate on which a resin film is formed, the resin film is pressed, the resin film is pressurized, and heat or light is used as an external stimulus to cure the target pattern. This nanoimprint lithography is a technique for forming a film, and has an advantage that nanoscale processing can be performed easily and inexpensively compared to optical lithography or the like in conventional semiconductor device manufacturing.
Therefore, nanoimprint lithography is a technology that is expected to be applied to the manufacture of semiconductor devices, opto-devices, displays, storage media, biochips, etc., instead of optical lithography technology. Various reports have been made on curable compositions (Patent Documents 2 and 3).
　しかし、これまでにナノインプリントリソグラフィに用いる材料（以下、本明細書では「インプリント材料」と表現する。）として種々の材料が開示されているものの、凹凸パターン等の構造物を作製した後に擦傷性試験を行い、その結果高い耐擦傷性を保持していることを示した材料の報告はなされているとはいえない。一方で、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの製品では、その内部または表面に作製した構造物に対して耐擦傷性を求められることがある。 However, although various materials have been disclosed so far as materials for use in nanoimprint lithography (hereinafter referred to as “imprint material” in this specification), scratch resistance is obtained after a structure such as an uneven pattern is produced. There have been no reports of materials that have been tested and shown to retain high scratch resistance as a result. On the other hand, in products such as a solid-state imaging device, a solar cell, an LED device, and a display, scratch resistance may be required for a structure produced inside or on the surface.
米国特許第５７７２９０５号明細書US Pat. No. 5,772,905 特開２００８－１０５４１４号公報JP 2008-105414 A 特開２００８－２０２０２２号公報JP 2008-202022 A
　本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有するインプリント材料を提供することであり、当該材料から作製され、パターンが転写された膜を提供することである。具体的には、パターンを転写した後の膜に対してスチールウール擦傷試験を行ったときに傷の本数が１０本以下のインプリント材料を提供することを目的とする。
　また、本明細書では、形成されるパターンサイズがナノメートルオーダーに限らず、例えば、マイクロメートルオーダーである場合を含む光ナノインプリント技術を光インプリントと称する。 The present invention has been made based on the above circumstances, and the problem to be solved is to provide an imprint material having high scratch resistance even after the pattern is transferred. It is to provide a film that has been fabricated and transferred with a pattern. Specifically, an object of the present invention is to provide an imprint material in which the number of scratches is 10 or less when a steel wool scratch test is performed on a film after transferring a pattern.
Moreover, in this specification, the optical nanoimprint technique including the case where the pattern size to be formed is not limited to the nanometer order but is, for example, the micrometer order is referred to as optical imprint.
　膜の耐擦傷性を向上させるために、その膜の硬度を高めること、またはその膜の表面の滑り性を高めることが考えられる。本発明者らは、凹凸構造等のパターンを有する膜では、その膜の硬度を高めるよりも、その膜の表面の滑り性を高める方が、傷が形成されにくいことを見出した結果、炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を有する化合物、及び光重合開始剤を使用することにより本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、
（Ａ）成分：炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも２つ有する化合物、及び
（Ｂ）成分：光重合開始剤
を含むインプリント材料に関する。 In order to improve the scratch resistance of the film, it is conceivable to increase the hardness of the film or to increase the slipperiness of the surface of the film. The present inventors have found that in a film having a pattern such as a concavo-convex structure, scratches are less likely to be formed by increasing the slipperiness of the film surface than by increasing the hardness of the film. The present invention has been completed by using a compound having an alkylene oxide unit of 2 or 3 and a polymerizable group, and a photopolymerization initiator.
That is, the present invention
(A) Component: It relates to an imprint material comprising a compound having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms and having at least two polymerizable groups, and (B) component: a photopolymerization initiator.
　本発明のインプリント材料では、分子内に炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも２つ有する化合物を使用しているため、当該インプリント材料から作製され、パターンが転写された膜は、そのパターン上でスチールウール擦傷試験を行っても傷の発生が１０本以下であり、傷が５０本以上発生していた従来の膜よりもはるかに少ない。
　本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、且つモールドの離型時にパターンの一部の剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。
　また、本発明のインプリント材料は、任意の基材上に製膜することができ、インプリント後に形成される、パターンが転写された膜は、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの、耐擦傷性が求められる部材を使用する製品（電子デバイス）へ好適に用いることができる。
　さらに、本発明のインプリント材料は、上記（Ａ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。 In the imprint material of the present invention, a compound having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms in the molecule and having at least two polymerizable groups is used. The film to which is transferred has 10 or fewer scratches even when a steel wool scratch test is performed on the pattern, and is far less than the conventional film having 50 or more scratches.
The imprint material of the present invention can be photocured, and part of the pattern does not peel off when the mold is released, so that a film in which a desired pattern is accurately formed can be obtained. Therefore, it is possible to form a good optical imprint pattern.
In addition, the imprint material of the present invention can be formed on an arbitrary substrate, and the film to which the pattern is transferred formed after the imprint is a solid-state imaging device, a solar cell, an LED device, a display, etc. It can be suitably used for products (electronic devices) that use members that require scratch resistance.
Furthermore, the imprint material of this invention can control a cure rate, a dynamic viscosity, and a film thickness by changing the kind and content rate of the compound of the said (A) component. Therefore, the imprint material of the present invention can be designed suitably for the type of device to be manufactured, the type of exposure process and the type of baking process, and the process margin can be expanded. it can.
　本発明は、炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも２つ有する化合物を使用することで、パターン転写後の膜へ耐擦傷性を付与した点に特徴があり、すなわち（Ａ）炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも２つ有する化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含むインプリント材料である。さらに、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分に加えて、（Ａ´）成分として、重合性基を少なくとも２つ有し且つ炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有さない化合物、（Ｃ）成分として界面活性剤及び（Ｄ）成分として溶剤からなる群から選ばれる１以上の成分をも含有することのできるインプリント材料である。
　以下、各成分について詳細に説明する。 The present invention is characterized in that scratch resistance is imparted to a film after pattern transfer by using a compound having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms and having at least two polymerizable groups. That is, an imprint material comprising (A) a compound having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms and having at least two polymerizable groups, and (B) a photopolymerization initiator. Furthermore, in addition to the component (A) and the component (B), as the component (A ′), a compound having at least two polymerizable groups and not having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms, (C It is an imprint material that can also contain one or more components selected from the group consisting of a surfactant as a component and a solvent as a component (D).
Hereinafter, each component will be described in detail.
＜（Ａ）成分＞
　（Ａ）成分である、炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも２つ有する化合物とは、１分子内に例えばエチレンオキサイドユニットまたはプロピレンオキサイドユニットを１つ以上有し且つ重合性基を分子末端に２つ以上有する化合物を表す。また、上記重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基及びメタアクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機基のことを指す。ここで、アクリロイルオキシ基はアクリロキシ基と、メタアクリロイルオキシ基はメタアクリロキシ基と表現されることがある。 <(A) component>
The compound (A), which has an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms and has at least two polymerizable groups, has, for example, one or more ethylene oxide units or propylene oxide units in one molecule. And a compound having two or more polymerizable groups at the molecular end. The polymerizable group refers to, for example, at least one organic group selected from the group consisting of an acryloyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyloxy group, and a methacryloyl group. Here, the acryloyloxy group may be expressed as an acryloxy group, and the methacryloyloxy group may be expressed as a methacryloxy group.
　上記（Ａ）成分である化合物としては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリアクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート等が挙げられる。 Examples of the compound as the component (A) include ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, and ethoxylated tri Methylolpropane triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane trimethacrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, ethoxylated glycerin trimethacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetramethacrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexaacrylate, polyglycerol mono Ethylene oxide polyacrylate Polyglycerol polyethylene glycol polyacrylates, and the like.
　上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡ－２００、同Ａ－４００、同Ａ－６００、同Ａ－１０００、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－６、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同Ａ－ＢＰＥ－３０、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００Ｎ、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００、同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ、同Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴＭ－４Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ－１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ－３３０、同ＲＰ－１０４０（以上、日本化薬株式会社製）、Ｍ－２１０、Ｍ－３５０（以上、東亞合成株式会社製）、等を挙げることができる。 The above compounds are available as commercial products. Specific examples thereof include NK ester A-200, A-400, A-600, A-1000, 1G, 2G, 3G, 4G, 9G, 14G, 23G, ABE-300, A-BPE-4, A-BPE-6, A-BPE-10, A-BPE-20, A-BPE-30 BPE-80N, BPE-100N, BPE-200, BPE-500, BPE-900, BPE-1300N, A-GLY-3E, A-GLY-9E, A-GLY- 20E, A-TMPT-3EO, A-TMPT-9EO, ATM-4E, ATM-35E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD (registered trademark) DPEA-12, PEG400DA, T E-330, the RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), M-210, M-350 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the like.
　上記（Ａ）成分である化合物は、単独または２種以上の組み合わせで使用することができる。 The compound which is the component (A) can be used alone or in combination of two or more.
＜（Ａ´）成分＞
　（Ａ´）成分として、重合性基を少なくとも２つ有し且つ炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有さない化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート等を挙げることができる。 <(A ') component>
As the component (A ′), examples of the compound having at least two polymerizable groups and not having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms include dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, neodymium. Pentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, tricyclodecane dimethanol dimethacrylate, 1 , 6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, and the like.
　上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ３０（以上、日本化薬株式会社製）、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＤＣＰ、同Ａ－ＨＤ－Ｎ、同ＴＭＰＴ、同ＤＣＰ、同ＮＰＧ、同ＨＤ－Ｎ（以上、新中村化学工業株式会社製）等を挙げることができる。 The above-mentioned compounds can be obtained as commercial products. Specific examples thereof include KAYARAD (registered trademark) DPHA, NPGDA, PET30 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), NK ester A-DPH, A -TMPT, A-DCP, A-HD-N, TMPT, DCP, NPG, HD-N (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
　本発明に含まれる（Ａ）成分は、パターン転写後の膜に対して耐擦傷性を付与することができる。炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットの含有量については、分子量計算において１分子あたりの炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニット濃度が７％以上８０％以下、好ましくは２０％以上８０％以下、より好ましくは２２％以上７８％以下である。炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニット濃度が７％より小さいと、そのような（Ａ）成分を含むインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜は、耐擦傷性に劣る場合がある。ここでアルキレンオキサイドユニット濃度とは、（Ａ）成分の分子量に対するその（Ａ）成分のアルキレンオキサイドユニットの分子量の割合を表す。本発明に含まれる（Ａ）成分が２種以上の化合物からなる場合、及び本発明が（Ａ）成分に加えて（Ａ´）成分を含む場合は、後述する式（１）または式（２）を適用した、炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニット濃度が７％以上８０％以下、好ましくは２０％以上８０％以下、より好ましくは２２％以上７８％以下である。また、本発明が（Ａ）成分に加えて（Ａ´）成分を含む場合、（Ａ）成分と（Ａ´）成分の合計１００質量部に対する（Ａ）成分の割合は、１０質量部以上１００質量部未満であることが好ましい。（Ａ）成分の割合が１０質量部より小さいと、当該（Ａ）成分及び（Ａ´）成分を含むインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜は、耐擦傷性に劣る場合がある。 The component (A) included in the present invention can impart scratch resistance to the film after pattern transfer. Regarding the content of the alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms, the concentration of the alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms per molecule in the molecular weight calculation is 7% or more and 80% or less, preferably 20% or more and 80% or less. More preferably, it is 22% or more and 78% or less. When the concentration of the alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms is smaller than 7%, the film produced from the imprint material containing such component (A) and having the pattern transferred may be inferior in scratch resistance. . Here, the alkylene oxide unit concentration represents the ratio of the molecular weight of the alkylene oxide unit of the component (A) to the molecular weight of the component (A). When the component (A) included in the present invention comprises two or more compounds, and when the present invention includes the component (A ′) in addition to the component (A), the formula (1) or the formula (2) described later ) Is applied, the concentration of the alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms is 7% or more and 80% or less, preferably 20% or more and 80% or less, more preferably 22% or more and 78% or less. Moreover, when this invention contains (A ') component in addition to (A) component, the ratio of (A) component with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (A') component is 10 to 100 mass parts. The amount is preferably less than part by mass. When the proportion of the component (A) is smaller than 10 parts by mass, the film produced from the imprint material containing the component (A) and the component (A ′) and having the pattern transferred may be inferior in scratch resistance. .
　例えば、（Ａ）成分である化合物Ａをｘ質量％（ｘは０＜ｘ≦１００を満たす正数）及び（Ａ´）成分である化合物Ｂを（１００－ｘ）質量％含む場合の、アルキレンオキサイドユニット濃度（％）は、下記式（１）で表される。ただし、化合物Ａのアルキレンオキサイドユニット１個当たりの分子量をＭO、化合物Ａの１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数ｎA、化合物Ａ及びＢの分子量をそれぞれＭA，ＭBとする。ｘ＝１００の場合は、（Ａ´）成分を含まないことを意味する。
　１００（ＭO×ｎA×ｘ）／｛（ＭA×ｘ）＋〔ＭB×（１００－ｘ）〕｝・・・（１）
　一方、（Ａ）成分が化合物Ａ1及びＡ2から成り、当該化合物Ａ1をｘ質量％（ｘは０＜ｘ≦１００を満たす正数）及び化合物Ａ2を（１００－ｘ）質量％含む場合の、アルキレンオキサイドユニット濃度（％）は、下記式（２）で表される。ただし、化合物Ａ1及びＡ2のアルキレンオキサイドユニット１個当たりの分子量をそれぞれＭO1，ＭO2、化合物Ａ1及びＡ2の１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数をそれぞれｎA1，ｎA2、化合物Ａ1及びＡ2の分子量をそれぞれＭA1，ＭA2とする。ｘ＝１００の場合は、（Ａ）成分が化合物Ａ1から成り化合物Ａ2を含まないことを意味する。
　１００｛（ＭO1×ｎA1×ｘ）＋〔ＭO2×ｎA2×（１００－ｘ）｝／｛（ＭA1×ｘ）＋〔ＭA2×（１００－ｘ）〕｝・・・（２）
　なお、炭素原子数２のアルキレンオキサイドユニットは（－Ｃ2Ｈ4－Ｏ－）で表され、代表的にはエチレンオキサイドユニット（以下、本明細書では「ＥＯ」と略称する。）であり、その分子量ＭOとして４４を適用すればよい。炭素原子数３のアルキレンオキサイドユニットは（－Ｃ3Ｈ6－Ｏ－）で表され、代表的にはプロピレンオキサイドユニットであり、その分子量ＭOとして５８を適用すればよい。 For example, in the case of containing x mass% of compound A as component (A) (x is a positive number satisfying 0 <x ≦ 100) and (100−x) mass% of compound B as component (A ′) The oxide unit concentration (%) is represented by the following formula (1). However, molecular weight M O per alkylene oxide unit of Compound A, the number n A of alkylene oxide units per molecule of Compound A, Compound A and the molecular weight of each M A of B, and M B. When x = 100, it means that the component (A ′) is not included.
100 (M O × n A × x) / {(M A × x) + [M B × (100−x)]} (1)
On the other hand, the component (A) is composed of compounds A 1 and A 2 , and the compound A 1 contains x mass% (x is a positive number satisfying 0 <x ≦ 100) and the compound A 2 contains (100−x) mass%. In this case, the concentration (%) of the alkylene oxide unit is represented by the following formula (2). However, the molecular weights per alkylene oxide unit of the compounds A 1 and A 2 are M O1 and M O2 respectively, and the number of alkylene oxide units per molecule of the compounds A 1 and A 2 are n A1 and n A2 , respectively. The molecular weights of A 1 and A 2 are M A1 and M A2 , respectively. In the case of x = 100, it means that the component (A) consists of the compound A 1 and does not contain the compound A 2 .
100 {(M O1 × n A1 × x) + [M O2 × n A2 × (100−x)} / {(M A1 × x) + [M A2 × (100−x)]} (2 )
The alkylene oxide unit having 2 carbon atoms is represented by (—C 2 H 4 —O—), and is typically an ethylene oxide unit (hereinafter abbreviated as “EO” in this specification). it may be applied 44 as a molecular weight M O. The alkylene oxide unit having 3 carbon atoms is represented by (—C 3 H 6 —O—) and is typically a propylene oxide unit, and 58 may be applied as the molecular weight M O thereof.
＜（Ｂ）成分＞
　（Ｂ）成分である光重合開始剤としては、例えば、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシ－ｉｓｏ－ブタレート、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４－ビス［α－（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）－ｉｓｏ－プロポキシ］ベンゼン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α－（ｉｓｏ－プロピルフェニル）－ｉｓｏ－プロピルヒドロペルオキシド、２，５－ジメチルヘキサン、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、ブチル－４，４－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）－４，４’－ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシベンゾエート、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物、９，１０－アントラキノン、１－クロロアントラキノン、２－クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α－メチルベンゾイン、α－フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－［４－｛４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）ベンジル｝－フェニル］－２－メチル－プロパン－１－オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチル－ベンジル）－１－（４－モリフォリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等の光ラジカル発生剤が挙げられるが、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されない。 <(B) component>
Examples of the photopolymerization initiator as component (B) include tert-butylperoxy-iso-butarate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoyldioxy) hexane, 1,4-bis [α- (Tert-butyldioxy) -iso-propoxy] benzene, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (tert-butyldioxy) hexene hydroperoxide, α- (iso-propylphenyl) -iso- Propyl hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane, tert-butyl hydroperoxide, 1,1-bis (tert-butyldioxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, butyl-4,4-bis (tert-butyldioxy) valerate , Cyclohexanone peroxide, 2,2 ', 5 5′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-amylperoxycarbonyl) ) Benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′-bis (tert-butylperoxycarbonyl) -4,4′-dicarboxybenzophenone, tert-butylperoxy Organic peroxides such as benzoate and di-tert-butyldiperoxyisophthalate, quinones such as 9,10-anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, octamethylanthraquinone and 1,2-benzanthraquinone, benzoin Methyl Benzoin derivatives such as benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-phenylbenzoin, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy- 2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1 -[4- {4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) benzyl} -phenyl] -2-methyl-propan-1-one, phenylglyoxylic acid methyl ester, 2-methyl-1- [4 -(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one, bis (2, 4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O— Benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) However, there is no particular limitation as long as the light source used for photocuring has absorption.
　上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）１１７３、同ＭＢＦ、同ＴＰＯ、同４２６５（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ－ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬株式会社製）、ＶＩＣＵＲＥ－１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ　Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ　ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン－ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー株式会社製）、アデカオプトマ－Ｎ－１７１７、同Ｎ－１４１４、同Ｎ－１６０６（株式会社ＡＤＥＫＡ（旧旭電化工業株式会社）製）等が挙げられる。 The above-mentioned compounds can be obtained as commercial products. Specific examples thereof include IRGACURE (registered trademark) 651, 184, 500, 2959, 127, 754, 907, 369, 379, 379EG, 819, 819DW, 1800, 1870, 784, OXE01, OXE02, 250, DAROCUR (registered trademark) 1173, MBF, TPO, 4265 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.) ), KAYACURE-DETX, MBP, DMBI, EPA, OA (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), VISURE-10, 55 (above, STAUFFER Co. LTD), ESACURE KIP150, TZT, Same 1001, Same KTO46, Same KB1, Same KL200, Same KS300 EB3, triazine-PMS, triazine A, triazine B (manufactured by Nippon Siebel Hegner), Adekaoptoma-N-1717, N-1414, N-1606 (ADEKA (formerly Asahi Denka Kogyo)) ) And the like.
　上記光重合開始剤は、単独または２種以上の組み合わせで使用することができる。 The above photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
　本発明のインプリント材料における（Ｂ）成分の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、０．５ｐｈｒ乃至３０ｐｈｒであることが好ましく、１ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒであることがより好ましい。この割合が０．１ｐｈｒ以下の場合には、十分な硬化性が得られず、パターニング特性の悪化及び耐擦傷性の低下が起こるからである。ここで、ｐｈｒとは、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００ｇに対する、光重合開始剤の質量を表す。 The content of the component (B) in the imprint material of the present invention is preferably 0.5 phr to 30 phr, and preferably 1 phr to 20 phr with respect to the total mass of the component (A) and the component (B). It is more preferable. When this ratio is 0.1 phr or less, sufficient curability cannot be obtained, and patterning characteristics are deteriorated and scratch resistance is deteriorated. Here, phr represents the mass of the photopolymerization initiator with respect to 100 g of the total mass of the components (A) and (B).
＜（Ｃ）成分＞
　本発明のインプリント材料は（Ｃ）成分として界面活性剤を含有しても良い。（Ｃ）成分である界面活性剤を含む場合は、得られる塗膜の製膜性を調整する役割を果たす。
　界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンアセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレインエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェ二ルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成株式会社）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、同Ｆ１７３、同Ｒ－０８、同Ｒ－３０（ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム株式会社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（旭硝子株式会社製）等のフッ素系界面活性剤、及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業株式会社製）、ＢＹＫ（登録商標）－３０２、同－３０７、同－３２２、同－３２３、同－３３０、同－３３３、同－３７０、同－３７５、同－３７８、同－ＵＶ３５００、同－ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）等を挙げることができる。 <(C) component>
The imprint material of the present invention may contain a surfactant as the component (C). When the surfactant (C) is included, it plays the role of adjusting the film forming property of the resulting coating film.
Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene acetyl ether, polyoxyethylene olein ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene Polyoxyethylene alkyl aryl ethers such as ethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, sorbitan Sorbitan fatty acid esters such as tristearate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene Nonionic surfactants such as polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as bitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, Ftop (registered trademark) EF301, EF303, EF352 (Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.), MegaFac (registered trademark) F171, F173, R-08, R-30 (made by DIC Corporation), Florard FC430, FC431 (Sumitomo) 3M Corporation), Asahi Guard (registered trademark) AG710, Surflon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (produced by Asahi Glass Co., Ltd.) Surfactant and organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), BYK (registered trademark) -302, -307, -322, -323, -330, -333, -370, -375, -378, -UV3500, and -UV3570 (produced by Big Chemie Japan Co., Ltd.).
　上記界面活性剤は、単独または２種以上の組み合わせで使用することができる。界面活性剤が使用される場合、その割合は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒ、より好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒである。 The above surfactants can be used alone or in combination of two or more. When a surfactant is used, the proportion thereof is preferably 0.01 phr to 20 phr, more preferably 0.01 phr to 10 phr with respect to the total mass of the component (A) and the component (B).
＜（Ｄ）成分＞
　本発明のインプリント材料は（Ｄ）成分として溶剤を含有しても良い。（Ｄ）成分である溶剤を含む場合は、（Ａ）成分である化合物の粘度調節の役割を果たす。本発明の場合、溶剤の使用は任意であるが、通常は溶剤を必要としない。 <(D) component>
The imprint material of the present invention may contain a solvent as the component (D). When the solvent which is (D) component is included, it plays the role of viscosity adjustment of the compound which is (A) component. In the present invention, the use of a solvent is optional, but usually no solvent is required.
　上記溶剤としては、例えば、トルエン、ｐ－キシレン、ｏ－キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ－ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、γ－ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピルケトン、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、アリルアルコール、ｎ－プロパノール、２－メチル－２－ブタノール、イソブタノール、ｎ－ブタノール、２－メチル－１－ブタノール、１－ペンタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－エチルヘキサノール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、１－メトキシ－２－ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフリフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、イソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリジン等が挙げられ、上記（Ａ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。 Examples of the solvent include toluene, p-xylene, o-xylene, styrene, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol. Monoisopropyl ether, ethylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether Diethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol, 1-octanol, ethylene glycol, hexylene glycol, diacetone alcohol, furfuryl Alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, propylene glycol, benzyl alcohol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, γ-butyrolactone, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, diethyl ketone, methyl Isobutyl ketone, methyl n-butyl ketone, Cyclohexanone, 2-heptanone, ethyl acetate, isopropyl ketone, n-propyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, methanol, ethanol, isopropanol, tert-butanol, allyl alcohol, n-propanol, 2-methyl-2-butanol, isobutanol, n-butanol, 2-methyl-1-butanol, 1-pentanol, 2-methyl-1-pentanol, 2-ethylhexanol, 1-octanol, Ethylene glycol, hexylene glycol, trimethylene glycol, 1-methoxy-2-butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, propylene glycol, benzyl alcohol, Sopropyl ether, 1,4-dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, N-cyclohexyl-2- Pyrrolidine etc. are mentioned, and it is not particularly limited as long as the viscosity of the component (A) can be adjusted.
　しかし、（Ａ）成分である化合物及び（Ｂ）成分である光重合開始剤との相溶性の観点から、好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチルピロリドン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－ブタノール、ジアセトンアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル等である。 However, from the viewpoint of compatibility with the compound (A) and the photopolymerization initiator (B), preferably, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone. , Methanol, ethanol, isopropanol, tert-butanol, n-butanol, diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol Methyl ether, propylene glycol monobutyl ether, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate or the like.
　上記溶剤は、単独または２種以上の組み合わせで使用することができる。 The above solvents can be used alone or in combination of two or more.
　本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着補助剤及び離型性向上剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤を更に含有することができる。 As long as the imprint material of the present invention does not impair the effects of the present invention, an epoxy compound, a photoacid generator, a photosensitizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an adhesion aid, and a mold release are provided as necessary. It can further contain at least one additive selected from property improvers.
　上記エポキシ化合物は、エポキシ基またはオキシラン環を少なくとも１つ有する化合物であり、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ－４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（以上、ダイセル化学工業株式会社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８４０、同８４０－Ｓ、同Ｎ－６６０、同Ｎ－６７３－８０Ｍ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。 The epoxy compound is a compound having at least one epoxy group or oxirane ring. For example, Epolide (registered trademark) GT-401, PB3600, Celoxide (registered trademark) 2021P, 2000, 3000, EHPE3150, EHPE3150CE, Cyclomer (registered trademark) M100 (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), EPICLON (registered trademark) 840, 840-S, N-660, N-673-80M (above, manufactured by DIC Corporation), etc. Is mentioned.
　上記光酸発生剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１０８、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３、同ＣＧＩ７２５（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＷＰＡＧ－１４５、ＷＰＡＧ－１７０、ＷＰＡＧ－１９９、ＷＰＡＧ－２８１、ＷＰＡＧ－３３６、ＷＰＡＧ－３６７（以上、和光純薬工業株式会社製）、ＴＦＥ－トリアジン、ＴＭＥ－トリアジン、ＭＰ－トリアジン、ジメトキシトリアジン、ＴＳ－９１、ＴＳ－０１（株式会社三和ケミカル製）等が挙げられる。 Examples of the photoacid generator include IRGACURE (registered trademark) PAG103, PAG108, PAG121, PAG203, CGI725 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.), WPAG-145, WPAG-170, WPAG-199, WPAG- 281, WPAG-336, WPAG-367 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), TFE-triazine, TME-triazine, MP-triazine, dimethoxytriazine, TS-91, TS-01 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) ) And the like.
　上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３－置換クマリン系、３，４－置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系等が挙げられる。 Examples of the photosensitizer include, for example, thioxanthene series, xanthene series, ketone series, thiopyrylium salt series, base styryl series, merocyanine series, 3-substituted coumarin series, 3,4-substituted coumarin series, cyanine series, acridine series. , Thiazine, phenothiazine, anthracene, coronene, benzanthracene, perylene, ketocoumarin, fumarine, borate and the like.
　上記光増感剤は、単独または２種以上の組み合わせで使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の波長を調整することもできる。 The above photosensitizers can be used alone or in combination of two or more. The wavelength in the UV region can also be adjusted by using the photosensitizer.
　上記紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９－２、同１０９、同３２８、同３８４－２、同４００、同４０５、同４６０、同４７７、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ、同１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同５１００、同４００－ＤＷ、同４７７－ＤＷ、同９９－ＤＷ、同１２３－ＤＷ、同５０５０、同５０６０、同５１５１（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）等が挙げられる。 Examples of the ultraviolet absorber include TINUVIN (registered trademark) PS, 99-2, 109, 328, 384-2, 400, 405, 460, 477, 479, 900, 928, 1130, 111FDL, 123, 144, 152, 292, 5100, 400-DW, 477-DW, 99-DW, 123-DW, 5050, 5060, 5151 (above, BASF Japan Ltd.) and the like.
　上記紫外線吸収剤は、単独または２種以上の組み合わせで使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、光硬化時に膜の最表面の硬化速度を制御することができ、離型性を向上できる場合がある。 The above ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more. By using the ultraviolet absorber, it is possible to control the curing speed of the outermost surface of the film during photocuring and to improve the mold release property.
　上記酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５、同１５２０Ｌ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）等が挙げられる。 Examples of the antioxidant include IRGANOX (registered trademark) 1010, 1035, 1076, 1135, and 1520L (above, BASF Japan Ltd.).
　上記酸化防止剤は、単独または２種以上の組み合わせで使用することができる。当該酸化防止剤を用いることで、酸化によって膜が黄色に変色することを防止することができる。 The above antioxidants can be used alone or in combination of two or more. By using the antioxidant, it is possible to prevent the film from turning yellow due to oxidation.
　上記密着補助剤としては、例えば、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。当該密着補助剤の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは５ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒ、より好ましくは１０ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒである。 Examples of the adhesion aid include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and the like. By using the adhesion aid, adhesion with the substrate is improved. The content of the adhesion aid is preferably 5 phr to 50 phr, more preferably 10 phr to 50 phr, with respect to the total mass of the component (A) and the component (B).
　上記離型性向上剤としては、シリコーンユニット含有化合物またはフッ素含有化合物が挙げられる。シリコーンユニット含有化合物としては、Ｘ－２２－１６４、Ｘ－２２－１６４ＡＳ、Ｘ－２２－１６４Ａ、Ｘ－２２－１６４Ｂ、Ｘ－２２－１６４Ｃ、Ｘ－２２－１６４Ｅ、Ｘ－２２－１６３、Ｘ－２２－１６９ＡＳ、Ｘ－２２－１７４ＤＸ、Ｘ－２２－２４２６、Ｘ－２２－９００２、Ｘ－２２－２４７５、Ｘ－２２－４９５２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－３４３、Ｘ－２２－２０４６（以上、信越化学工業株式会社製）等が挙げられる。フッ素含有化合物としては、Ｒ－５４１０、Ｒ－１４２０、Ｍ－５４１０、Ｍ－１４２０、Ｅ－５４４４、Ｅ－７４３２、Ａ－１４３０、Ａ－１６３０（以上ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。 Examples of the mold release improver include a silicone unit-containing compound or a fluorine-containing compound. Examples of the silicone unit-containing compound include X-22-164, X-22-164AS, X-22-164A, X-22-164B, X-22-164C, X-22-164E, X-22-163, X -22-169AS, X-22-174DX, X-22-2426, X-22-9002, X-22-2475, X-22-4952, KF-643, X-22-343, X-22-2046 (The above is manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Examples of the fluorine-containing compound include R-5410, R-1420, M-5410, M-1420, E-5444, E-7432, A-1430, and A-1630 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.).
　本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ａ´）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分が均一に混合した状態であれば良い。また、（Ａ）成分乃至（Ｄ）成分を混合する際の順序は、均一な溶液が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、（Ａ）成分に（Ｂ）成分を所定の割合で混合する方法等が挙げられる。また、これに更に（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を混合し、均一な溶液とする方法等も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。 The method for preparing the imprint material of the present invention is not particularly limited as long as the component (A), the component (A ′), the component (B), the component (C), and the component (D) are uniformly mixed. good. Further, the order of mixing the components (A) to (D) is not particularly limited as long as a uniform solution can be obtained. Examples of the preparation method include a method of mixing the component (B) with the component (A) at a predetermined ratio. Moreover, the method etc. which mix (C) component and (D) component further to this, and make it a uniform solution are also mentioned. Furthermore, in an appropriate stage of this preparation method, there may be mentioned a method in which other additives are further added and mixed as necessary.
　また、（Ｄ）成分である溶剤を用いる場合には、光照射前の膜及び光照射後の膜の少なくとも一方に対し、溶剤を蒸発させる目的で、焼成しても良い。焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、真空中等で焼成することができるものであればよい。焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では、特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。 In the case of using the solvent as the component (D), firing may be performed on at least one of the film before light irradiation and the film after light irradiation for the purpose of evaporating the solvent. The baking equipment is not particularly limited. For example, it can be fired in a suitable atmosphere, that is, in an inert gas such as air or nitrogen, in a vacuum, using a hot plate, an oven, or a furnace. I just need it. The firing temperature is not particularly limited for the purpose of evaporating the solvent, but can be performed at 40 ° C. to 200 ° C., for example.
　本発明のインプリント材料は、基材に塗布し光硬化することで所望の膜を得ることができる。塗布方法としては、公知または周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等を挙げることができる。 The imprint material of the present invention can be applied to a substrate and photocured to obtain a desired film. As a coating method, a known or well-known method such as a spin coating method, a dip method, a flow coating method, an ink jet method, a spray method, a bar coating method, a gravure coating method, a slit coating method, a roll coating method, a transfer printing method, Examples thereof include brush coating, blade coating, and air knife coating.
　本発明のインプリント材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が製膜されたガラス（ＩＴＯ基板）、シリコンナイトライド（ＳｉＮが製膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が製膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることも可能である。 As a substrate for applying the imprint material of the present invention, for example, silicon (ITO substrate) formed with silicon, indium tin oxide (ITO), silicon nitride (glass formed with SiN ( SiN substrate), glass on which indium zinc oxide (IZO) is formed, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), acrylic, plastic, glass, quartz, ceramics, etc. It is also possible to use a flexible base material having flexibility.
　本発明のインプリント材料を硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ2エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）等を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、またはＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０乃至２０００ｍＪ／ｃｍ2、より好ましくは３０乃至１０００ｍＪ／ｃｍ2である。 As a light source for curing the imprintable material of the present invention is not particularly limited, for example, a high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, KrF excimer laser, ArF excimer laser, F 2 excimer laser, electron beam (EB), And extreme ultraviolet (EUV). In general, a wavelength of 436 nm G-line, 405 nm H-line, 365 nm I-line, or GHI mixed line can be used as the wavelength. Furthermore, the exposure dose is preferably 30 to 2000 mJ / cm 2 , more preferably 30 to 1000 mJ / cm 2 .
　光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば、特に限定されないが、例えば、東芝機械株式会社のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機構株式会社製のＮＭ－０８０１ＨＢ等の市販されている装置を用いることができる。 The optical imprinting apparatus is not particularly limited as long as a target pattern can be obtained. For example, ST50 manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd., Sindre (registered trademark) 60 manufactured by Obducat, and NM-0801HB manufactured by Meisho Agency A commercially available apparatus such as can be used.
　本発明で用いる光インプリント用に使用するモールド材としては、例えば、石英、シリコン、ニッケル、アルミナ、カルボニルシラン、グラッシーカーボン等を挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、モールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行っても良い。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＨＤ等が挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。 Examples of the mold material used for optical imprinting used in the present invention include quartz, silicon, nickel, alumina, carbonylsilane, and glassy carbon, but are not particularly limited as long as a desired pattern can be obtained. . Further, the mold may be subjected to a mold release treatment for forming a thin film such as a fluorine compound on the surface thereof in order to improve the mold release property. Examples of the mold release agent used for the mold release treatment include OPTOOL (registered trademark) HD manufactured by Daikin Industries, Ltd., but are not particularly limited as long as the target pattern can be obtained.
　光インプリントのパターンは、目的の電子デバイスに適合したパターンを選択すればよく、パターンサイズもこれに準ずる。パターンサイズは、例えば、ナノメートルオーダー及びマイクロメートルオーダーである。 For the optical imprint pattern, a pattern suitable for the target electronic device may be selected, and the pattern size conforms to this. The pattern size is, for example, nanometer order and micrometer order.
　以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
［膜形成用塗布液の調製］
＜実施例１＞
　ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ－１２（日本化薬株式会社製、分子量：１０８０）（以下、本明細書では「ＤＰＥＡ－１２」と略称する。）５ｇにＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）１１７３（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３」と略称する。）を１ｇ（ＤＰＥＡ－１２の総質量に対して２０ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１を調製した。本実施例において、ＤＰＥＡ－１２は（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯ（エチレンオキサイドユニット）が１２個である。ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３は（Ｂ）成分に該当する。 [Preparation of coating solution for film formation]
<Example 1>
KAYARAD (registered trademark) DPEA-12 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., molecular weight: 1080) (hereinafter abbreviated as “DPEA-12” in this specification) 5 g DAROCUR (registered trademark) 1173 (BASF Japan Ltd.) (Hereinafter abbreviated as “DAROCUR1173”) (1 phr) (20 phr with respect to the total mass of DPEA-12) was added to prepare an imprint material PNI-A1. In this example, DPEA-12 corresponds to component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 12 EO (ethylene oxide units). DAROCUR 1173 corresponds to the component (B).
＜実施例２＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡＴＭ－４Ｅ（新中村化学工業株式会社製、分子量：５２９）（以下、本明細書では「ＡＴＭ－４Ｅ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ２を調製した。本実施例において、ＡＴＭ－４Ｅは（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが４個である。 <Example 2>
The procedure was carried out except that DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester ATM-4E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 529) (hereinafter abbreviated as “ATM-4E” in this specification). An imprint material PNI-A2 was prepared in the same manner as in Example 1. In this example, ATM-4E corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule thereof is 4 EO.
＜実施例３＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ（新中村化学工業株式会社製、分子量：４２８）（以下、本明細書では「Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ３調製した。本実施例において、Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯは（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが３個である。 <Example 3>
DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-TMPT-3EO (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 428) (hereinafter abbreviated as “A-TMPT-3EO” in this specification). Except that, an imprint material PNI-A3 was prepared in the same manner as in Example 1. In this example, A-TMPT-3EO corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 3 EO.
＜実施例４＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ（新中村化学工業株式会社製、分子量：６９２）（以下、本明細書では「Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ４を調製した。本実施例において、Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯは（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが９個である。 <Example 4>
DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-TMPT-9EO (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 692) (hereinafter abbreviated as “A-TMPT-9EO” in this specification). An imprint material PNI-A4 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above. In this example, A-TMPT-9EO corresponds to component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 9 EO.
＜実施例５＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－２０（新中村化学工業株式会社製、分子量：１２１６）（以下、本明細書では「Ａ－ＢＰＥ－２０」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ５を調製した。本実施例において、Ａ－ＢＰＥ－２０は（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが１７個である。 <Example 5>
DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-BPE-20 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 1216) (hereinafter abbreviated as “A-BPE-20” in this specification). An imprint material PNI-A5 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above. In this example, A-BPE-20 corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 17 EO.
＜実施例６＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０（新中村化学工業株式会社製、分子量：７７６）（以下、本明細書では「Ａ－ＢＰＥ－１０」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ６を調製した。本実施例において、Ａ－ＢＰＥ－１０は（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが１０個である。 <Example 6>
DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-BPE-10 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 776) (hereinafter abbreviated as “A-BPE-10” in this specification). An imprint material PNI-A6 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above. In this example, A-BPE-10 corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 10 EO.
＜実施例７＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－４（新中村化学工業株式会社製、分子量：５１２）（以下、本明細書では「Ａ－ＢＰＥ－４」と略称する）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ７を調製した。本実施例において、Ａ－ＢＰＥ－４は（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが４個である。 <Example 7>
Except for changing DPEA-12 of Example 1 to NK ester A-BPE-4 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 512) (hereinafter abbreviated as “A-BPE-4” in this specification). Prepared an imprint material PNI-A7 in the same manner as in Example 1. In this example, A-BPE-4 corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 4 EO.
＜実施例８＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－４００（新中村化学工業株式会社製、分子量：５０８）（以下、本明細書では「Ａ－４００」と略称する）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ８を調製した。本実施例において、Ａ－４００は（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが９個である。 <Example 8>
Example 1 except that DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-400 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 508) (hereinafter abbreviated as “A-400” in this specification). In the same manner as in Example 1, an imprint material PNI-A8 was prepared. In this example, A-400 corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 9 EO.
＜実施例９＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業株式会社製、分子量：３０８）（以下、本明細書では「Ａ－２００」と略称する）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ９を調製した。本実施例において、Ａ－２００は（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが４個である。 <Example 9>
Example except that DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 308) (hereinafter abbreviated as “A-200” in this specification). In the same manner as in Example 1, an imprint material PNI-A9 was prepared. In this example, A-200 corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is 4 EO.
＜実施例１０＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステル１Ｇ（新中村化学工業株式会社製、分子量：１９８）（以下、本明細書では「１Ｇ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ａ１０を調製した。本実施例において、１Ｇは（Ａ）成分に該当し、その１分子当たりのアルキレンオキサイドユニットの数は、ＥＯが１個である。 <Example 10>
Example 1 except that DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester 1G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight: 198) (hereinafter abbreviated as “1G” in this specification). An imprint material PNI-A10 was prepared. In this example, 1G corresponds to the component (A), and the number of alkylene oxide units per molecule is EO.
＜実施例１１＞
　ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製、分子量：５５２）（以下、本明細書では「ＤＰＨＡ」と略称する。）４．５ｇにＡ－４００を０．５ｇ（ＤＰＨＡとＡ－４００の合計１００質量部の内、１０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を１ｇ（ＤＰＨＡ及びＡ－４００の総質量に対して２０ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１１を調製した。本実施例及び後述する実施例１２乃至１７において、Ａ－４００は（Ａ）成分に該当し、ＤＰＨＡは炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有さない（Ａ´）成分に該当し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３は（Ｂ）成分に該当する。 <Example 11>
KAYARAD (registered trademark) DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., molecular weight: 552) (hereinafter abbreviated as “DPHA” in this specification) 4.5 g of A-400 (DPHA and A-400) 1 part of DAROCUR1173 (20 phr with respect to the total mass of DPHA and A-400) was added to prepare imprint material PNI-A11. In this example and Examples 12 to 17 described later, A-400 corresponds to the component (A), DPHA corresponds to the component (A ′) having no alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms, DAROCUR 1173 corresponds to the component (B).
＜実施例１２＞
　ＤＰＨＡ４ｇにＡ－４００を１ｇ（ＤＰＨＡとＡ－４００の合計１００質量部の内、２０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を１ｇ（ＤＰＨＡ及びＡ－４００の総質量に対して２０ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１２を調製した。 <Example 12>
1 g of A-400 (20 parts by mass of the total of 100 parts by mass of DPHA and A-400) and 1 g of DAROCUR1173 (20 phr with respect to the total mass of DPHA and A-400) are added to 4 g of DPHA, and the imprint material PNI -A12 was prepared.
＜実施例１３＞
　ＤＰＨＡ３．５ｇにＡ－４００を１．５ｇ（ＤＰＨＡとＡ－４００の合計１００質量部の内、３０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を１ｇ（ＤＰＨＡ及びＡ－４００の総質量に対して２０ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１３を調製した。 <Example 13>
1.5 g of A-400 (30 parts by mass of the total of 100 parts by mass of DPHA and A-400) is added to 3.5 g of DPHA, and 1 g of DAROCUR1173 (20 phr with respect to the total mass of DPHA and A-400) is added. An imprint material PNI-A13 was prepared.
＜実施例１４＞
　ＤＰＨＡ２．５ｇにＡ－４００を２．５ｇ（ＤＰＨＡとＡ－４００の合計１００質量部の内、５０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を１ｇ（ＤＰＨＡ及びＡ－４００の総質量に対して２０ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１４を調製した。 <Example 14>
To 2.5 g of DPHA, 2.5 g of A-400 (50 parts by mass of 100 parts by mass of DPHA and A-400) and 1 g of DAROCUR1173 (20 phr with respect to the total mass of DPHA and A-400) are added. An imprint material PNI-A14 was prepared.
＜実施例１５＞
　ＤＰＨＡ１．５ｇにＡ－４００を３．５ｇ（ＤＰＨＡとＡ－４００の合計１００質量部の内、７０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を１ｇ（ＤＰＨＡ及びＡ－４００の総質量に対して２０ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１５を調製した。 <Example 15>
To 1.5 g of DPHA, 3.5 g of A-400 (70 parts by mass of 100 parts by mass of DPHA and A-400) and 1 g of DAROCUR1173 (20 phr with respect to the total mass of DPHA and A-400) are added. An imprint material PNI-A15 was prepared.
＜実施例１６＞
　ＤＰＨＡ１ｇにＡ－４００を４ｇ（ＤＰＨＡとＡ－４００の合計１００質量部の内、８０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を１ｇ（ＤＰＨＡ及びＡ－４００の総質量に対して２０ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１６を調製した。 <Example 16>
4 g of A-400 (80 parts by mass of the total of 100 parts by mass of DPHA and A-400) and 1 g of DAROCUR1173 (20 phr with respect to the total mass of DPHA and A-400) are added to 1 g of DPHA, and the imprint material PNI -A16 was prepared.
＜実施例１７＞
　ＤＰＨＡ０．５ｇにＡ－４００を４．５ｇ（ＤＰＨＡとＡ－４００の合計１００質量部の内、９０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を１ｇ（ＤＰＨＡ及びＡ－４００の総質量に対して２０ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１７を調製した。 <Example 17>
To 0.5 g of DPHA, 4.5 g of A-400 (90 parts by mass, out of 100 parts by mass of DPHA and A-400) and 1 g of DAROCUR1173 (20 phr with respect to the total mass of DPHA and A-400) are added, An imprint material PNI-A17 was prepared.
＜実施例１８＞
　Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ２．５ｇにエポリード（登録商標）ＧＴ－４０１（ダイセル化学工業（株）製、分子量：６７５）（以下、本明細書では「ＧＴ－４０１」と略称する。）を２．５ｇ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯに対して２０ｐｈｒ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１０３を０．１ｇ（ＧＴ－４０１に対して４ｐｈｒ）を加え、インプリント材料ＰＮＩ－Ａ１８を調製した。本実施例において、Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯは（Ａ）成分に該当し、ＧＴ－４０１は必要に応じて含有することができるエポキシ化合物に該当し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３は（Ｂ）成分に該当し、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１０３は必要に応じて含有することができる光酸発生剤に該当する。 <Example 18>
2.5 g of E-Polyde (registered trademark) GT-401 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., molecular weight: 675) (hereinafter abbreviated as “GT-401”) in 2.5 g of A-TMPT-9EO. Then, 0.5 g of DAROCUR1173 (20 phr for A-TMPT-9EO) and 0.1 g of IRGACURE PAG103 (4 phr for GT-401) were added to prepare imprint material PNI-A18. In this example, A-TMPT-9EO corresponds to component (A), GT-401 corresponds to an epoxy compound that can be contained as necessary, DAROCUR1173 corresponds to component (B), and IRGACURE PAG103 Corresponds to a photoacid generator that can be contained as required.
＜比較例１＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＤＰＨＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ１を調製した。本比較例において、ＤＰＨＡは（Ａ´）成分に該当する。 <Comparative Example 1>
An imprint material PNI-B1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that DPEA-12 in Example 1 was changed to DPHA. In this comparative example, DPHA corresponds to the component (A ′).
＜比較例２＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－ＤＰＨ（新中村化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「Ａ－ＤＰＨ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ２を調製した。本比較例において、Ａ－ＤＰＨは（Ａ´）成分に該当する。 <Comparative Example 2>
Example 1 except that DPEA-12 of Example 1 was changed to NK ester A-DPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “A-DPH” in this specification). An imprint material PNI-B2 was prepared. In this comparative example, A-DPH corresponds to the component (A ′).
＜比較例３＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「Ａ－ＴＭＰＴ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ３を調製した。本比較例において、Ａ－ＴＭＰＴは（Ａ´）成分に該当する。 <Comparative Example 3>
Example 1 except that DPEA-12 in Example 1 was changed to NK ester A-TMPT (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “A-TMPT” in this specification). An imprint material PNI-B3 was prepared. In this comparative example, A-TMPT corresponds to the component (A ′).
＜比較例４＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ－３０（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＰＥＴ－３０」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ４を調製した。本比較例において、ＰＥＴ－３０は（Ａ´）成分に該当する。 <Comparative Example 4>
Example 1 except that DPEA-12 of Example 1 was changed to KAYARAD (registered trademark) PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “PET-30” in this specification). The imprint material PNI-B4 was prepared in the same manner as described above. In this comparative example, PET-30 corresponds to the component (A ′).
＜比較例５＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をペンタエリスリトールトリアクリレート（アルドリッチ社製）（以下、本明細書では「ＰＴＡ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ５を調製した。本比較例において、ＰＴＡは（Ａ´）成分に該当する。 <Comparative Example 5>
Imprint material PNI-B5 as in Example 1 except that DPEA-12 of Example 1 was changed to pentaerythritol triacrylate (manufactured by Aldrich) (hereinafter abbreviated as “PTA” in this specification). Was prepared. In this comparative example, PTA corresponds to the component (A ′).
＜比較例６＞
　実施例１のＤＰＥＡ－１２をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＮＰＧＤＡ（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＮＰＧＤＡ」と略称する。）に変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ６を調製した。本比較例及び後述する比較例７乃至１３において、ＮＰＧＤＡは（Ａ´）成分に該当する。 <Comparative Example 6>
In the same manner as in Example 1, except that DPEA-12 in Example 1 was changed to KAYARAD (registered trademark) NPGDA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “NPGDA” in this specification). Print material PNI-B6 was prepared. In this comparative example and comparative examples 7 to 13 described later, NPGDA corresponds to the component (A ′).
＜比較例７＞
　実施例１１のＡ－４００をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ７を調製した。 <Comparative Example 7>
An imprint material PNI-B7 was prepared in the same manner as in Example 1 except that A-400 in Example 11 was changed to NPGDA.
＜比較例８＞
　実施例１２のＡ－４００をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ８を調製した。 <Comparative Example 8>
An imprint material PNI-B8 was prepared in the same manner as in Example 1 except that A-400 in Example 12 was changed to NPGDA.
＜比較例９＞
　実施例１３のＡ－４００をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ９を調製した。 <Comparative Example 9>
An imprint material PNI-B9 was prepared in the same manner as in Example 1 except that A-400 in Example 13 was changed to NPGDA.
＜比較例１０＞
　実施例１４のＡ－４００をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ１０を調製した。 <Comparative Example 10>
An imprint material PNI-B10 was prepared in the same manner as in Example 1 except that A-400 in Example 14 was changed to NPGDA.
＜比較例１１＞
　実施例１５のＡ－４００をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ１１を調製した。 <Comparative Example 11>
An imprint material PNI-B11 was prepared in the same manner as in Example 1 except that A-400 in Example 15 was changed to NPGDA.
＜比較例１２＞
　実施例１６のＡ－４００をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ１２を調製した。 <Comparative Example 12>
An imprint material PNI-B12 was prepared in the same manner as in Example 1 except that A-400 in Example 16 was changed to NPGDA.
＜比較例１３＞
　実施例１７のＡ－４００をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－Ｂ１３を調製した。 <Comparative Example 13>
An imprint material PNI-B13 was prepared in the same manner as in Example 1 except that A-400 in Example 17 was changed to NPGDA.
［光インプリント］
　インプリント装置は、ＮＭ－０８０１ＨＢ（明昌機構株式会社製）を使用した。実施例１乃至実施例１８並びに比較例１乃至比較例１３で調製したインプリント材料から作製した各光インプリント用膜をパターニング試験した。用いたモールドはシリコン製であり、パターンは１００ｎｍのラインアンドスペースパターン（以下、本明細書では「Ｌ／Ｓ」と略称する。）及び直径１００ｎｍのドットパターン（以下、本明細書では「Ｄｏｔ」と略称する。）の２種類を使用した。モールドは事前にオプツール（登録商標）ＨＤ（ダイキン工業株式会社製）に浸漬し、温度が９０℃、湿度が９０ＲＨ％の高温高湿装置を用いて１時間処理し、純水でリンス後、エアーで乾燥させたものを使用した。 [Optical imprint]
As the imprint apparatus, NM-0801HB (manufactured by Myeongchang Organization) was used. Each film for optical imprinting produced from the imprinting materials prepared in Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 to 13 was subjected to a patterning test. The mold used was made of silicon, and the pattern was a 100 nm line and space pattern (hereinafter abbreviated as “L / S” in the present specification) and a dot pattern with a diameter of 100 nm (hereinafter referred to as “Dot” in the present specification). The two types are used. The mold is immersed in Optool (registered trademark) HD (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) in advance, treated for 1 hour using a high-temperature and high-humidity device with a temperature of 90 ° C and a humidity of 90RH%, rinsed with pure water, and then air What was dried with was used.
［スチールウール擦傷試験］
　試験機は大栄精機（有）製を使用し、♯００００のスチールウールを使用した。荷重は８２ｇとし、そのスチールウールを１０往復させた。
擦傷後の傷本数について以下のように示した結果を表１に示す。
　　０～５本：Ａ
　６～１０本：Ｂ
１１～２０本：Ｃ
２１～３０本：Ｄ
３１～４０本：Ｅ
　４１本以上：Ｆ [Steel wool scratch test]
The test machine used was made by Daiei Seiki Co., Ltd., and # 0000 steel wool was used. The load was 82 g and the steel wool was reciprocated 10 times.
Table 1 shows the results of the number of scratches after abrasion as follows.
0-5: A
6-10: B
11-20: C
21-30: D
31 to 40: E
41 or more: F
　実施例１で得たＰＮＩ－Ａ１をガラス基板上にスピンコートし、シリコン製モールドを接着させた状態で、光インプリント装置に設置した。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて１０００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／ｃｍ2の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）モールドと基板を分離して離型、というシーケンスで行い、Ｌ／Ｓ及びＤｏｔが転写された膜をそれぞれ得た。そしてそれぞれの膜について、スチールウール擦傷試験を行った。このとき、Ｌ／Ｓについてはラインと垂直方向に擦傷試験を行った。そして試験後の傷本数を観察した。 The PNI-A1 obtained in Example 1 was spin-coated on a glass substrate and placed in an optical imprint apparatus with a silicon mold adhered. Optical imprinting is always performed at 23 ° C. under conditions of a) pressurization to 1000 N over 10 seconds, b) exposure at 500 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp, c) pressure removal over 10 seconds, d) mold And the substrate were separated and released to obtain a film to which L / S and Dot were transferred. Each film was subjected to a steel wool scratch test. At this time, for L / S, a scratch test was performed in a direction perpendicular to the line. The number of scratches after the test was observed.
　実施例２で得たＰＮＩ－Ａ２を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as described above except that the PNI-A2 obtained in Example 2 was used.
　実施例３で得たＰＮＩ－Ａ３を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A3 obtained in Example 3 was used.
　実施例４で得たＰＮＩ－Ａ４を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 A light imprint and a steel wool scratch test were performed in the same manner as above except that the PNI-A4 obtained in Example 4 was used.
　実施例５で得たＰＮＩ－Ａ５を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A5 obtained in Example 5 was used.
　実施例６で得たＰＮＩ－Ａ６を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A6 obtained in Example 6 was used.
　実施例７で得たＰＮＩ－Ａ７を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A7 obtained in Example 7 was used.
　実施例８で得たＰＮＩ－Ａ８を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A8 obtained in Example 8 was used.
　実施例９で得たＰＮＩ－Ａ９を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A9 obtained in Example 9 was used.
　実施例１０で得たＰＮＩ－Ａ１０を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A10 obtained in Example 10 was used.
　実施例１１で得たＰＮＩ－Ａ１１を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 A light imprint and a steel wool scratch test were performed in the same manner as described above except that PNI-A11 obtained in Example 11 was used.
　実施例１２で得たＰＮＩ－Ａ１２を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 A light imprint and a steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A12 obtained in Example 12 was used.
　実施例１３で得たＰＮＩ－Ａ１３を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 A light imprint and a steel wool scratch test were conducted in the same manner as described above except that PNI-A13 obtained in Example 13 was used.
　実施例１４で得たＰＮＩ－Ａ１４を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A14 obtained in Example 14 was used.
　実施例１５で得たＰＮＩ－Ａ１５を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A15 obtained in Example 15 was used.
　実施例１６で得たＰＮＩ－Ａ１６を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as above except that the PNI-A16 obtained in Example 16 was used.
　実施例１７で得たＰＮＩ－Ａ１７を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 A light imprint and a steel wool scratch test were conducted in the same manner as described above except that PNI-A17 obtained in Example 17 was used.
　実施例１８で得たＰＮＩ－Ａ１８を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリントを行った。そしてＬ／Ｓ及びＤｏｔが転写された膜についてそれぞれ１００℃で２分間の焼成を行った後にスチールウール擦傷試験を行った。 Optical imprinting was performed in the same manner as described above except that PNI-A18 obtained in Example 18 was used. The film to which L / S and Dot were transferred was fired at 100 ° C. for 2 minutes, and then a steel wool scratch test was performed.
　比較例１で得たＰＮＩ－Ｂ１を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and the steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B1 obtained in Comparative Example 1 was used.
　比較例２で得たＰＮＩ－Ｂ２を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B2 obtained in Comparative Example 2 was used.
　比較例３で得たＰＮＩ－Ｂ３を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B3 obtained in Comparative Example 3 was used.
　比較例４で得たＰＮＩ－Ｂ４を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B4 obtained in Comparative Example 4 was used.
　比較例５で得たＰＮＩ－Ｂ５を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and the steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B5 obtained in Comparative Example 5 was used.
　比較例６で得たＰＮＩ－Ｂ６を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B6 obtained in Comparative Example 6 was used.
　比較例７で得たＰＮＩ－Ｂ７を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were conducted in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B7 obtained in Comparative Example 7 was used.
　比較例８で得たＰＮＩ－Ｂ８を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B8 obtained in Comparative Example 8 was used.
　比較例９で得たＰＮＩ－Ｂ９を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and the steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B9 obtained in Comparative Example 9 was used.
　比較例１０で得たＰＮＩ－Ｂ１０を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B10 obtained in Comparative Example 10 was used.
　比較例１１で得たＰＮＩ－Ｂ１１を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B11 obtained in Comparative Example 11 was used.
　比較例１２で得たＰＮＩ－Ｂ１２を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B12 obtained in Comparative Example 12 was used.
　比較例１３で得たＰＮＩ－Ｂ１３を使用した以外は上記実施例１で得たインプリント材料を用いた方法と同様の方法で、光インプリント及びスチールウール擦傷試験を行った。 The optical imprint and steel wool scratch test were performed in the same manner as the method using the imprint material obtained in Example 1 except that PNI-B13 obtained in Comparative Example 13 was used.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
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　表１の結果から、実施例１乃至実施例１８はいずれもスチールウール擦傷試験後に発生する傷の本数は１０本以下であり、耐擦傷性が確認された。一方、比較例１乃至比較例１３はいずれも傷が多数発生し、十分な耐擦傷性は見られなかった。以上の結果から、本発明のインプリント材料を基材に塗布して得られる膜は、インプリント後も耐擦傷性を有するものとなる。 From the results shown in Table 1, in Examples 1 to 18, the number of scratches generated after the steel wool scratch test was 10 or less, and scratch resistance was confirmed. On the other hand, all of Comparative Examples 1 to 13 had many scratches, and sufficient scratch resistance was not observed. From the above results, the film obtained by applying the imprint material of the present invention to a substrate has scratch resistance even after imprinting.
　本発明のインプリント材料から得られる膜は、固体撮像装置（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）などの、耐擦傷性が求められる部材を使用する製品（電子デバイス）へ好適に用いることができる。 The film obtained from the imprint material of the present invention is required to have scratch resistance such as a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.), solar cell, LED device, display (liquid crystal display, EL display, etc.). It can use suitably for the product (electronic device) which uses a member.

Claims (13)

  1. 　（Ａ）成分：炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも２つ有する化合物、及び
    　（Ｂ）成分：光重合開始剤を含み、
    　前記重合性基はアクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基及びメタアクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるインプリント材料。     (A) component: a compound having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms and having at least two polymerizable groups, and (B) component: containing a photopolymerization initiator,
    The imprint material, wherein the polymerizable group is at least one selected from the group consisting of an acryloyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyloxy group, and a methacryloyl group.
  2. 　前記（Ａ）成分の分子量に対する前記（Ａ）成分中のアルキレンオキサイドユニットの分子量の割合が７％以上８０％以下である請求項１に記載のインプリント材料。 The imprint material according to claim 1, wherein a ratio of a molecular weight of the alkylene oxide unit in the component (A) to a molecular weight of the component (A) is 7% or more and 80% or less.
  3. 　前記（Ａ）成分のほかに、（Ａ´）成分として重合性基を少なくとも２つ有し且つ炭素原子数２または３のアルキレンオキサイドユニットを有さない化合物を更に含有する、請求項１に記載のインプリント材料。 In addition to the component (A), the component (A ') further contains a compound having at least two polymerizable groups and not having an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms. Imprint material.
  4. 　前記（Ａ´）成分と（Ａ）成分の合計１００質量部に対する前記（Ａ）成分の割合は１０質量部以上１００質量部未満である、請求項３に記載のインプリント材料。 The imprint material according to claim 3, wherein a ratio of the component (A) to a total of 100 parts by mass of the component (A ′) and the component (A) is 10 parts by mass or more and less than 100 parts by mass.
  5. 　（Ｃ）成分として界面活性剤を更に含有する、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント材料。 The imprint material according to any one of claims 1 to 4, further comprising a surfactant as a component (C).
  6. 　（Ｄ）成分として溶剤を更に含有する、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント材料。 The imprint material according to any one of claims 1 to 5, further comprising a solvent as the component (D).
  7. 　請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜。 A film produced from the imprint material according to any one of claims 1 to 6 and having a pattern transferred thereon.
  8. 　請求項７に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた光学部材。 An optical member provided on a substrate with a film to which the pattern according to claim 7 is transferred.
  9. 　請求項７に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置。 A solid-state imaging device comprising a film on which a pattern according to claim 7 is transferred on a substrate.
  10. 　請求項７に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイス。 An LED device comprising a film on which a pattern according to claim 7 is transferred on a substrate.
  11. 　請求項７に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池。 A solar cell comprising a film on which a pattern according to claim 7 is transferred on a substrate.
  12. 　請求項７に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイ。 A display comprising a film on which a pattern according to claim 7 is transferred on a substrate.
  13. 　請求項７に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイス。 An electronic device comprising a film on which a pattern according to claim 7 is transferred on a substrate.
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