WO2011092276A1 - Electrode for a reactor for producing polycrystalline silicon - Google Patents

Electrode for a reactor for producing polycrystalline silicon Download PDF

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WO2011092276A1
WO2011092276A1 PCT/EP2011/051191 EP2011051191W WO2011092276A1 WO 2011092276 A1 WO2011092276 A1 WO 2011092276A1 EP 2011051191 W EP2011051191 W EP 2011051191W WO 2011092276 A1 WO2011092276 A1 WO 2011092276A1
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WO
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reactor
electrode
electrode body
elastic elements
sealing element
Prior art date
Application number
PCT/EP2011/051191
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German (de)
French (fr)
Inventor
Robert Stöcklinger
Original Assignee
G+R Technology Group Ag
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02—Silicon
    • C01B33/021—Preparation
    • C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • C01B33/035—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process

Definitions

  • the present invention relates to an electrode for a reactor for producing polycrystalline silicon.
  • a plurality of electrodes is distributed on a bottom of the reactor.
  • filament rods made of high-purity silicon are attached, wherein the filament rods, the required power supply is supplied via an electrode body, so that the filament rods obtain a temperature required for the deposition of polycrystalline silicon temperature.
  • the polycrystalline silicon is deposited in reactors on the filament rods.
  • the processes differ essentially by the reaction partners, from which the polycrystalline silicon is deposited on the filament rods.
  • trichlorosilane SiHCl 3
  • SiHCl 3 trichlorosilane
  • U.S. Patent Application 2009/0081380 A1 discloses a reactor for producing polycrystalline silicon.
  • Polycrystalline silicon deposits on a filament rod made of ultra-pure silicon.
  • the ultra-pure silicon rods are attached in an electrode, which are also arranged distributed at the bottom of the reactor.
  • a plurality of inlet nozzles for the reaction gas is provided at the bottom of the reactor.
  • the outlet opening of the inlet nozzles is higher than the mounting plane of the filament rods in the electrode.
  • the electrodes are designed according to the embodiment shown in European Patent Application EP 2 108 619 and fastened to the reactor bottom.
  • the invention has for its object to design an electrode for holding the filament rods for the deposition of polycrystalline silicon such that during the ongoing production process and regardless of the prevailing production conditions a tightness of the electrode from the reactor interior is ensured to the environment.
  • a plurality of electrodes are mounted in a bottom of the reactor.
  • the electrodes carry filament rods, which sit in an electrode body and via which the power is supplied to the electrodes or filament rods.
  • the electrode body itself is with several elastic elements in the direction of Top side of the bottom of the reactor mechanically biased.
  • a radially encircling sealing element is used between the top of the bottom of the reactor and a parallel to the top of the bottom ring of the electrode body.
  • the sealing element itself is shielded in the region between the top of the bottom of the reactor and the parallel ring of the electrode body of a ceramic ring.
  • the bottom of the reactor can be designed as a bottom with a gap or with two spaces. In the event that only a gap is formed in the reactor bottom, cooling water is conducted in this intermediate space. Likewise, the conversion of the reactor is designed as a double wall, so as to achieve a cooling of the reactor interior. In the event that the reactor bottom consists of two spaces, gas is fed to the inlet nozzles in one of the intermediate spaces. In the other intermediate space, as already mentioned above, the cooling water required for the cooling of the interior of the reactor is conducted.
  • the electrode body extends along a longitudinal axis at least to beyond an underside of the bottom.
  • the radially encircling sealing element is designed in such a way that it also surrounds the electrode body at least likewise beyond the underside of the bottom.
  • the bottom of the reactor has multiple apertures extending from the top of the reactor bottom to the bottom of the reactor bottom. In these openings, the electrode body sits together with the sealing element.
  • the openings of course have a wall to the interstices of the reactor floor. Thus, it is ensured that the cooling water or the reaction gas does not come into contact with the electrodes.
  • the plurality of elastic elements are held by means of a threaded pin on the electrode body.
  • the elastic elements are supported at the top of the bottom of the soil.
  • two elastic elements are mounted offset by 180 ° C to each other on the electrode body.
  • the elastic elements, which bias the electrodes relative to the reactor bottom, are designed as helical springs.
  • the radially encircling sealing element consists of a material with a low thermal expansion.
  • the material of the radially encircling sealing element preferably consists of PTFE.
  • the electrode body has in the direction of a longitudinal axis a cavity into which cooling water can be supplied via a feed line.
  • a pipe is guided, via which, in conjunction with a discharge, the heated cooling water is discharged.
  • the cooling is necessary since, depending on the process used for the production of polycrystalline silicon in the interior of the reactor, a temperature of 800 to 1200 ° C is present.
  • the electrodes are cooled with the supplied cooling water to a temperature of 150 ° C.
  • the cooling should be regulated to +/- 20 ° C.
  • the reactor is cooled to a corresponding temperature by the double-walled design of the reactor.
  • Figure 1 shows a perspective and partially sectional view of a
  • FIG. 2 shows a sectional view of the electrode according to the invention, in which the
  • Reinst silicon rods are attached for the deposition of polycrystalline silicon.
  • FIG. 3 shows a side view of the electrode according to the invention, which in the
  • FIG. 4 shows a perspective view of the electrode according to the invention, which is used in the process for producing polycrystalline silicon.
  • FIG. 5 shows an enlarged view of that marked A in FIG.
  • FIG. 6 shows an enlarged view of that marked B in FIG.
  • FIG. 1 shows a perspective and partially sectioned view of a reactor 10, which is used for the production of polycrystalline silicon.
  • the reactor 10 is known from the prior art and is used for the production of polycrystalline silicon after the monosilane process.
  • the reactor 10 has a bottom 12 carrying a plurality of nozzles 40. Fresh reaction gas, to which hydrogen has been added, is introduced into the interior 50 of the reactor 10 through the nozzles 40.
  • a plurality of filament rods 60 are mounted in dedicated electrodes 6. At the filament rods 60, the polycrystalline silicon is deposited during the process.
  • a gas discharge 51 is formed via an inner tube 52.
  • the inner tube 52 has a gas inlet opening 53 into which the partially consumed reaction gas enters. This exhaust gas or partially consumed reaction gas is present at a certain operating pressure. The pressure depends on the manufacturing process used.
  • the reactor, the supply lines and the discharge lines for the reaction gas are double-walled, thereby achieving a corresponding cooling.
  • the gas inlet opening 53 for the inner tube 52 is clearly spaced from the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10. This spacing is therefore necessary to ensure that fresh reaction gas entering the reactor interior 50 does not immediately exit through the gas inlet opening 53 of the inner tube 52 again.
  • the reactor wall 58 and the inner tube 52 are double-walled and can be cooled with water.
  • the inner tube 52 is passed through the bottom 12 of the reactor. From the discharge line 51, the spent reaction gas is passed to a recycling system (not shown here). Likewise, a feed line 54 for fresh reaction gas is provided on the bottom 12 of the reactor 10.
  • the bottom 12 of the reactor 10 is constructed of two spaces.
  • fresh reaction gas is supplied, which distributes uniformly to the nozzles 40 at the bottom 12 of the reactor 10, so that the reaction gas enters the interior 50 of the reactor 10 via the upper side 13 of the bottom 12 of the reactor 10.
  • cooling water is guided, so that the bottom 12 of the reactor 10 can be cooled to a certain temperature or maintained at this temperature.
  • FIG. 2 shows a sectional view of the electrode 6, which is arranged in the bottom 12 of the reactor 10.
  • the electrode 6 has an elongated shape and extends over the top 13 and the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10.
  • the electrode 6 consists of an electrode body 14 in which the filament rods 16 are supported.
  • the bottom 12 of the reactor 10 has a plurality of holders for one of the plurality of electrodes 6.
  • the holders are formed as apertures 16 in the bottom 12 of the reactor 10 and through the apertures 16 extend the electrodes 6.
  • the electrode body 4 has an upper side 13 of the Bottom 12 of the reactor 10 parallel ring 7. Between the parallel ring 7 and the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10, a radially encircling sealing element 3 is inserted.
  • the radial sealing element 3 also extends along the longitudinal axis of the electrode body and Also protrudes beyond the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10.
  • a plurality of elastic elements 2 are attached to the electrode body 4. These elastic elements 2 are configured in such a way that they bias the electrode body 4 in the direction of the upper side 13 of the bottom 12 of the reactor 10.
  • the radially encircling sealing element 3 is preferably made of PTFE.
  • a ceramic ring 15 is provided on the upper side 13 of the bottom 12 of the reactor 10. The ceramic ring 15 thus surrounds the radially encircling sealing element 3, which would protrude into the reactor interior 50.
  • the electrode body 4 has a cavity 22 along the longitudinal axis L of the electrode body 4.
  • the cavity 22 can be supplied via a supply line 20 cooling water.
  • a tube 23 is guided, via which, in conjunction with a discharge line 21, the heated cooling water can be removed from the electrode 4.
  • FIG. 3 shows a side view of the electrode 6 according to the invention and its installation in the bottom 12 of the reactor 10.
  • the electrode 6 has a height H along its longitudinal axis L and a width B in the interior 50 of the reactor 10.
  • the ceramic sleeve 15 On the upper side 13 of the bottom 12 of FIG Reactor 10 sits the ceramic sleeve 15, with which the radially encircling sealing element (not shown here) is substantially protected from temperature influences from the interior of the reactor.
  • the opening 16 extends through which the electrode 6 from the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10 to the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10 is guided.
  • an adjustment 25 is provided for fixing and clamping the electrode 6, an adjustment 25 is provided.
  • cooling water is supplied via a supply line 20 and discharged via a discharge line 21.
  • the bottom 12 of the reactor 10 is formed with a gap. In this space, the cooling water for the cooling of the bottom 12 of the reactor 10 is guided.
  • FIG. 4 shows a perspective view of the electrode 6 according to the invention, which is used in a reactor 10 for the production of polycrystalline silicon.
  • the holder 27 of the electrode 6 for the filament rods 60 is provided above the radially encircling ring 7 of the electrode 6, the holder 27 of the electrode 6 for the filament rods 60 is provided.
  • the electrode 6 is supported relative to the underside 14 of the bottom 12 of the reactor 10.
  • the supply line 20 is provided for the cooling water and the discharge 21 for the heated in the interior of the electrode 6 cooling water.
  • FIG. 5 shows an enlarged view of the area marked A in FIG.
  • the elastic elements 2 are arranged in 180 ° C opposite.
  • the elastic elements 2 are designed as helical springs.
  • the elastic elements 2 are held on the electrode body 4 via threaded pins 29.
  • a support 28 is provided between the top 30 of the elastic elements 2 and the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10.
  • the elastic body 2 are thus supported with the top 30 against the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10 from.
  • the underside 32 of the elastic elements 2 is supported relative to the electrode body 4.
  • the adjusting element 25 is provided for the support of the elastic elements 2 with their underside 32 on the electrode body 4.
  • the elastic element 2 is designed as a helical spring and held on the electrode body 4 by means of a threaded pin 29. Characterized in that the adjusting element is provided on the electrode body 4, one reaches a tension or a bias voltage of the elastic elements 2, so that the radially encircling light element 3 between the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10 and the parallel thereto ring 7 of the electrode body 4th is clamped and thus causes a seal.
  • This tension is always ensured that regardless of the different expansion coefficients of the different materials of the electrode 6 is always a tightness is ensured, so that no reaction gas from the interior 50 of the reactor 10 passes to the outside.

Abstract

The invention relates to an electrode (6) for a reactor (10) for producing polycrystalline silicon. A plurality of electrodes (6) are fastened to a floor (12) of the reactor (10). The electrodes (6) carry filament rods (60) of high-purity silicone. The electrode base (4) is mechanically prestressed by means of a plurality of elastic elements (2) in the direction (5) of an upper face (13) of the floor (12) of the reactor (10). A radially peripheral sealing element (3) is inserted between the upper face (13) of the floor (12) of the reactor (10) and a ring (7) of the electrode base (4), which is parallel to the upper face (13) of the floor (12).

Description

ELEKTRODE FÜR EINEN REAKTOR ZUR HERSTELLUNG VON  ELECTRODE FOR A REACTOR FOR THE MANUFACTURE OF
POLYKRISTALLINEM SILIZIUM  POLYCRYSTALLINE SILICON
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Elektrode für einen Reaktor zur Herstellung von polykristallinem Silizium. Eine Vielzahl von Elektroden ist dabei auf einem Boden des Reaktors verteilt. In den einzelnen Elektroden sind Filamentstäbe aus Reinst- Silizium befestigt, wobei über einen Elektrodenkörper den Filamentstäben die erforderliche Stromzufuhr zugeleitet wird, damit die Filamentstäbe eine für die Abscheidung von polykristallinem Silizium erforderliche Temperatur erlangen. The present invention relates to an electrode for a reactor for producing polycrystalline silicon. A plurality of electrodes is distributed on a bottom of the reactor. In the individual electrodes filament rods made of high-purity silicon are attached, wherein the filament rods, the required power supply is supplied via an electrode body, so that the filament rods obtain a temperature required for the deposition of polycrystalline silicon temperature.
Das polykristalline Silizium wird in Reaktoren auf den Filamentstäben abgeschieden. Bei der Abscheidung des polykristallinen Siliziums unterscheidet man im Wesentlichen zwei Prozesse, den Monosilan-Prozess oder das Siemens-Verfahren. Die Verfahren unterscheiden sich im Wesentlichen durch die Reaktionspartner, aus denen sich das polykristalline Silizium auf den Filamentstäben abscheidet. The polycrystalline silicon is deposited in reactors on the filament rods. In the deposition of the polycrystalline silicon, a distinction is made essentially two processes, the monosilane process or the Siemens process. The processes differ essentially by the reaction partners, from which the polycrystalline silicon is deposited on the filament rods.
Bei dem Siemens-Verfahren wird Trichlorsilan (SiHCI3) in Anwesenheit von Wasserstoff an den beheizten Reinst-Siliziumstäben bei ca. 1000 bis 1200 °C thermisch zersetzt. Das elementare Silizium wächst dabei auf den Filamentstäben auf. Der dabei frei werdende Chlorwasserstoff wird in den Kreislauf zurückgeführt. Der Prozess läuft bei einem Druck von ca. 6,5 bar ab. In the Siemens process, trichlorosilane (SiHCl 3 ) is thermally decomposed at about 1000 to 1200 ° C. in the presence of hydrogen on the heated ultra-pure silicon rods. The elemental silicon grows on the filament rods. The liberated hydrogen chloride is recycled into the circulation. The process takes place at a pressure of approx. 6.5 bar.
Bei dem Monosilan-Prozess wird Monosilan (SiH4) in Anwesenheit von Wasserstoff an den beheizten Reinst-Siliziumstäben bei 850 bis 900 °C thermisch zersetzt. Das elementare Silizium wächst dabei auf den Filamentstäben auf. Der Monosilan- Prozess läuft bei einem Druck von ca. 2 bis 2,5 bar ab. Die europäische Patentanmeldung EP 2 108 619 A2 offenbart einen Reaktor für die Herstellung von polykristallinem Silizium. Auf dem Reaktorboden ist eine Vielzahl von Elektroden angeordnet, von denen jede einen Siliziumstab trägt, an dem sich das polykristalline Silizium während des Reaktionsprozesses abscheidet. Der Halter für die Elektrode hat eine im Wesentlichen längliche Gestalt und besteht aus Material, das keine Korrosion zeigt. Isolierendes Material ist im Durchlass des Reaktorbodens vorgesehen und isoliert somit die Elektrode gegenüber dem Reaktorboden und hält somit die Elektrode in Position. In the monosilane process, monosilane (SiH 4 ) is thermally decomposed at 850 to 900 ° C in the presence of hydrogen on the heated ultra-pure silicon rods. The elemental silicon grows on the filament rods. The monosilane process takes place at a pressure of approx. 2 to 2.5 bar. European patent application EP 2 108 619 A2 discloses a reactor for the production of polycrystalline silicon. On the reactor bottom, a plurality of electrodes are arranged, each carrying a silicon rod, on which the polycrystalline silicon is deposited during the reaction process. The holder for the electrode has a substantially elongated shape and is made of material that shows no corrosion. Insulating material is provided in the passage of the reactor bottom, thus isolating the electrode from the bottom of the reactor, thus holding the electrode in position.
Die U.S.-Patentanmeldung 2009/0081380 A1 offenbart einen Reaktor zur Herstellung von polykristallinem Silizium. Polykristallines Silizium scheidet sich dabei auf einem Filamentstab aus Reinst-Silizium ab. Die Reinst-Siliziumstäbe sind dabei in einer Elektrode befestigt, welche ebenfalls verteilt am Boden des Reaktors angeordnet sind. Ebenso ist am Boden des Reaktors eine Vielzahl von Einlassdüsen für das Reaktionsgas vorgesehen. Die Austrittsöffnung der Einlassdüsen liegt dabei höher als die Befestigungsebene der Filamentstäbe in der Elektrode. Die Elektroden sind entsprechend der in der europäischen Patentanmeldung EP 2 108 619 dargestellten Ausführungsform ausgestaltet und am Reaktorboden befestigt. U.S. Patent Application 2009/0081380 A1 discloses a reactor for producing polycrystalline silicon. Polycrystalline silicon deposits on a filament rod made of ultra-pure silicon. The ultra-pure silicon rods are attached in an electrode, which are also arranged distributed at the bottom of the reactor. Likewise, a plurality of inlet nozzles for the reaction gas is provided at the bottom of the reactor. The outlet opening of the inlet nozzles is higher than the mounting plane of the filament rods in the electrode. The electrodes are designed according to the embodiment shown in European Patent Application EP 2 108 619 and fastened to the reactor bottom.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Elektrode für die Halterung der Filamentstäbe für die Abscheidung von polykristallinem Silizium derart auszugestalten, dass während des laufenden Produktionsprozesses und unabhängig von den herrschenden Produktionsbedingungen eine Dichtigkeit der Elektrode vom Reaktorinnenraum zur Umgebung gewährleistet ist. The invention has for its object to design an electrode for holding the filament rods for the deposition of polycrystalline silicon such that during the ongoing production process and regardless of the prevailing production conditions a tightness of the electrode from the reactor interior is ensured to the environment.
Die Aufgabe wird gelöst durch eine Elektrode, die die Merkmale im Anspruch 1 umfasst. The object is achieved by an electrode comprising the features in claim 1.
Erfindungsgemäß sind mehrere Elektroden in einem Boden des Reaktors befestigt. Die Elektroden tragen dabei Filamentstäbe, die in einem Elektrodenkörper sitzen und über den die Stromzufuhr zu den Elektroden bzw. Filamentstäben erfolgt. Der Elektrodenkörper selbst ist mit mehreren elastischen Elementen in Richtung der Oberseite des Bodens des Reaktors hin mechanisch vorgespannt. Zwischen der Oberseite des Bodens des Reaktors und einem zur Oberseite des Bodens parallelen Ring des Elektrodenkörpers ist ein radial umlaufendes Dichtelement eingesetzt. Das Dichtelement selbst ist im Bereich zwischen der Oberseite des Bodens des Reaktors und dem dazu parallelen Ring des Elektrodenkörpers von einem Keramikring abgeschirmt. According to the invention, a plurality of electrodes are mounted in a bottom of the reactor. The electrodes carry filament rods, which sit in an electrode body and via which the power is supplied to the electrodes or filament rods. The electrode body itself is with several elastic elements in the direction of Top side of the bottom of the reactor mechanically biased. Between the top of the bottom of the reactor and a parallel to the top of the bottom ring of the electrode body, a radially encircling sealing element is used. The sealing element itself is shielded in the region between the top of the bottom of the reactor and the parallel ring of the electrode body of a ceramic ring.
Der Boden des Reaktors kann dabei als Boden mit einem Zwischenraum oder mit zwei Zwischenräumen ausgebildet sein. Für den Fall, dass lediglich ein Zwischenraum im Reaktorboden ausgebildet ist, wird in diesem Zwischenraum Kühlwasser geführt. Ebenso ist die Umwandung des Reaktors als Doppelwandung ausgebildet, um somit eine Kühlung des Reaktorinnenraums zu erzielen. Für den Fall, dass der Reaktorboden aus zwei Zwischenräumen besteht, wird in einem der Zwischenräume Gas zu den Eintrittsdüsen geführt. In dem anderen Zwischenraum wird, wie bereits oben erwähnt, das für die Kühlung des Reaktorinneren erforderliche Kühlwasser geführt. The bottom of the reactor can be designed as a bottom with a gap or with two spaces. In the event that only a gap is formed in the reactor bottom, cooling water is conducted in this intermediate space. Likewise, the conversion of the reactor is designed as a double wall, so as to achieve a cooling of the reactor interior. In the event that the reactor bottom consists of two spaces, gas is fed to the inlet nozzles in one of the intermediate spaces. In the other intermediate space, as already mentioned above, the cooling water required for the cooling of the interior of the reactor is conducted.
Der Elektrodenkörper erstreckt sich dabei entlang einer Längsachse zumindest bis über eine Unterseite des Bodens hinaus. Das radial umlaufende Dichtelement ist dabei derart ausgebildet, dass es den Elektrodenkörper zumindest ebenfalls bis über die Unterseite des Bodens hinaus umgibt. In this case, the electrode body extends along a longitudinal axis at least to beyond an underside of the bottom. The radially encircling sealing element is designed in such a way that it also surrounds the electrode body at least likewise beyond the underside of the bottom.
Der Boden des Reaktors hat mehrere Durchbrüche ausgebildet, die von der Oberseite des Reaktorbodens bis zur Unterseite des Reaktorbodens reichen. In diesen Durchbrüchen sitzt der Elektrodenkörper zusammen mit dem Dichtelement. Die Durchbrüche besitzen selbstverständlich eine Wandung zu den Zwischenräumen des Reaktorbodens hin. Somit ist es sichergestellt, dass das Kühlwasser bzw. das Reaktionsgas nicht mit den Elektroden in Kontakt tritt. The bottom of the reactor has multiple apertures extending from the top of the reactor bottom to the bottom of the reactor bottom. In these openings, the electrode body sits together with the sealing element. The openings of course have a wall to the interstices of the reactor floor. Thus, it is ensured that the cooling water or the reaction gas does not come into contact with the electrodes.
Die mehreren elastischen Elemente sind mittels eines Gewindestifts am Elektrodenkörper gehaltert. Die elastischen Elemente sind an deren Oberseite von der Unterseite des Bodens abgestützt. Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind jeweils zwei elastische Elemente um 180 °C zueinander versetzt am Elektrodenkörper gehaltert. Die elastischen Elemente, welche die Elektroden gegenüber dem Reaktorboden vorspannen, sind als Schraubenfedern ausgebildet. The plurality of elastic elements are held by means of a threaded pin on the electrode body. The elastic elements are supported at the top of the bottom of the soil. According to a preferred embodiment of the invention, in each case two elastic elements are mounted offset by 180 ° C to each other on the electrode body. The elastic elements, which bias the electrodes relative to the reactor bottom, are designed as helical springs.
Das radial umlaufende Dichtelement besteht aus einem Material mit geringer thermischer Ausdehnung. Bevorzugt besteht das Material des radial umlaufenden Dichtelements aus PTFE. The radially encircling sealing element consists of a material with a low thermal expansion. The material of the radially encircling sealing element preferably consists of PTFE.
Der Elektrodenkörper besitzt in Richtung einer Längsachse einen Hohlraum, in den über eine Zuleitung Kühlwasser zuführbar ist. Im Hohlraum ist ein Rohr geführt, über das in Verbindung mit einer Ableitung das erwärmte Kühlwasser abgeführt wird. Die Kühlung ist erforderlich, da je nach dem verwendeten Prozess für die Herstellung von polykristallinem Silizium im Innenraum des Reaktors eine Temperatur von 800 bis 1200 °C vorliegt. Die Elektroden werden mit dem zugeführten Kühlwasser auf eine Temperatur von 150 °C gekühlt. Die Kühlung soll dabei auf +/- 20 °C geregelt sein. Ebenso wird, wie bereits erwähnt, durch die doppelwandige Ausbildung des Reaktors der Reaktor auf eine entsprechende Temperatur gekühlt. The electrode body has in the direction of a longitudinal axis a cavity into which cooling water can be supplied via a feed line. In the cavity, a pipe is guided, via which, in conjunction with a discharge, the heated cooling water is discharged. The cooling is necessary since, depending on the process used for the production of polycrystalline silicon in the interior of the reactor, a temperature of 800 to 1200 ° C is present. The electrodes are cooled with the supplied cooling water to a temperature of 150 ° C. The cooling should be regulated to +/- 20 ° C. Likewise, as already mentioned, the reactor is cooled to a corresponding temperature by the double-walled design of the reactor.
Im Folgenden sollen Ausführungsbeispiele die Erfindung und ihre Vorteile anhand der beigefügten Figuren näher erläutern. In the following, embodiments of the invention and their advantages with reference to the accompanying figures will be explained in more detail.
Figur 1 zeigt eine perspektivische und zum Teil geschnittene Ansicht eines Figure 1 shows a perspective and partially sectional view of a
Reaktors für die Herstellung von polykristallinem Silizium gemäß dem Stand der Technik.  Reactor for the production of polycrystalline silicon according to the prior art.
Figur 2 zeigt eine Schnittansicht der erfindungsgemäßen Elektrode, an der die Figure 2 shows a sectional view of the electrode according to the invention, in which the
Reinst-Siliziumstäbe für die Abscheidung von polykristallinem Silizium befestigt werden.  Reinst silicon rods are attached for the deposition of polycrystalline silicon.
Figur 3 zeigt eine Seitenansicht der erfindungsgemäßen Elektrode, die im FIG. 3 shows a side view of the electrode according to the invention, which in the
Reaktorboden sitzt, der aus lediglich einem Zwischenraum gebildet ist. Figur 4 zeigt eine perspektivische Ansicht der erfindungsgemäßen Elektrode, die bei dem Prozess zur Herstellung von polykristallinem Silizium Verwendung findet. Reactor floor sits, which is formed of only one space. FIG. 4 shows a perspective view of the electrode according to the invention, which is used in the process for producing polycrystalline silicon.
Figur 5 zeigt eine vergrößerte Ansicht des in Figur 2 mit A gekennzeichneten FIG. 5 shows an enlarged view of that marked A in FIG
Bereichs.  Range.
Figur 6 zeigt eine vergrößerte Ansicht des in Figur 2 mit B gekennzeichneten FIG. 6 shows an enlarged view of that marked B in FIG
Bereichs.  Range.
Für gleiche oder gleich wirkende Elemente der Erfindung werden identische Bezugszeichen verwendet. Ferner werden der Übersicht halber nur Bezugszeichen in den einzelnen Figuren dargestellt, die für die Beschreibung der jeweiligen Figur oder für die Einordung einer Figur in den Kontext anderer Figuren erforderlich sind. For identical or equivalent elements of the invention, identical reference numerals are used. Furthermore, for the sake of clarity, only reference symbols are shown in the individual figures, which are required for the description of the respective figure or for the arrangement of a figure in the context of other figures.
Figur 1 zeigt eine perspektivische und teilweise geschnittene Ansicht eines Reaktors 10, welcher für die Herstellung von polykristallinem Silizium Verwendung findet. Der Reaktor 10 ist aus dem Stand der Technik bekannt und dient zur Herstellung von polykristallinem Silizium nach dem Monosilan-Prozess. Der Reaktor 10 besitzt einen Boden 12, der eine Vielzahl von Düsen 40 trägt. Durch die Düsen 40 wird frisches Reaktionsgas, dem Wasserstoff beigemischt ist, in den Innenraum 50 des Reaktors 10 eingebracht. Ebenfalls ist auf dem Boden 12 des Reaktors 10 eine Vielzahl von Filamentstäben 60 in dafür vorgesehenen Elektroden 6 befestigt. An den Filamentstäben 60 scheidet sich während des Prozesses das polykristalline Silizium ab. Figure 1 shows a perspective and partially sectioned view of a reactor 10, which is used for the production of polycrystalline silicon. The reactor 10 is known from the prior art and is used for the production of polycrystalline silicon after the monosilane process. The reactor 10 has a bottom 12 carrying a plurality of nozzles 40. Fresh reaction gas, to which hydrogen has been added, is introduced into the interior 50 of the reactor 10 through the nozzles 40. Also, on the bottom 12 of the reactor 10, a plurality of filament rods 60 are mounted in dedicated electrodes 6. At the filament rods 60, the polycrystalline silicon is deposited during the process.
In der hier gezeigten Ausführungsform ist eine Gasabführung 51 über ein Innenrohr 52 ausgebildet. Das Innenrohr 52 besitzt eine Gaseintrittsöffnung 53, in die das zum Teil verbrauchte Reaktionsgas eintritt. Dieses Abgas bzw. zum Teil verbrauchte Reaktionsgas liegt dabei bei einem bestimmten Betriebsdruck vor. Der Druck hängt dabei von dem verwendeten Herstellungsprozess ab. Der Reaktor, die Zuleitungen und die Ableitungen für das Reaktionsgas sind doppelwandig ausgebildet, um dadurch eine entsprechende Kühlung zu erreichen. Die Gaseintrittsöffnung 53 für das Innenrohr 52 ist deutlich von der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 beabstandet. Diese Beabstandung ist deshalb notwendig, damit sichergestellt ist, dass frisches in den Reaktorinnenraum 50 eintretendes Reaktionsgas nicht sofort wieder durch die Gaseintrittsöffnung 53 des Innenrohrs 52 austritt. Die Reaktorwand 58 und das Innenrohr 52 sind doppelwandig ausgebildet und können mit Wasser gekühlt werden. Das Innenrohr 52 ist durch den Boden 12 des Reaktors geführt. Aus der Ableitung 51 wird das verbrauchte Reaktionsgas zu einem Wiederaufbereitungssystem (hier nicht dargestellt) geführt. Ebenso ist am Boden 12 des Reaktors 10 eine Zuleitung 54 für frisches Reaktionsgas vorgesehen. In the embodiment shown here, a gas discharge 51 is formed via an inner tube 52. The inner tube 52 has a gas inlet opening 53 into which the partially consumed reaction gas enters. This exhaust gas or partially consumed reaction gas is present at a certain operating pressure. The pressure depends on the manufacturing process used. The reactor, the supply lines and the discharge lines for the reaction gas are double-walled, thereby achieving a corresponding cooling. The gas inlet opening 53 for the inner tube 52 is clearly spaced from the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10. This spacing is therefore necessary to ensure that fresh reaction gas entering the reactor interior 50 does not immediately exit through the gas inlet opening 53 of the inner tube 52 again. The reactor wall 58 and the inner tube 52 are double-walled and can be cooled with water. The inner tube 52 is passed through the bottom 12 of the reactor. From the discharge line 51, the spent reaction gas is passed to a recycling system (not shown here). Likewise, a feed line 54 for fresh reaction gas is provided on the bottom 12 of the reactor 10.
In der hier dargestellten Ausführungsform ist der Boden 12 des Reaktors 10 aus zwei Zwischenräumen aufgebaut. In dem ersten Zwischenraum 12 wird frisches Reaktionsgas zugeführt, dass sich gleichmäßig auf die Düsen 40 am Boden 12 des Reaktors 10 verteilt, so dass das Reaktionsgas über die Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 in den Innenraum 50 des Reaktors 10 eintritt. Im zweiten Zwischenraum 122 ist Kühlwasser geführt, damit der Boden 12 des Reaktors 10 auf eine bestimmte Temperatur gekühlt bzw. bei dieser Temperatur gehalten werden kann. In the embodiment shown here, the bottom 12 of the reactor 10 is constructed of two spaces. In the first intermediate space 12, fresh reaction gas is supplied, which distributes uniformly to the nozzles 40 at the bottom 12 of the reactor 10, so that the reaction gas enters the interior 50 of the reactor 10 via the upper side 13 of the bottom 12 of the reactor 10. In the second intermediate space 12 2 cooling water is guided, so that the bottom 12 of the reactor 10 can be cooled to a certain temperature or maintained at this temperature.
Figur 2 zeigt eine Schnittansicht der Elektrode 6, welche im Boden 12 des Reaktors 10 angeordnet ist. Die Elektrode 6 besitzt dabei eine längliche Gestalt und erstreckt sich über die Oberseite 13 und die Unterseite 14 des Bodens 12 des Reaktors 10. Die Elektrode 6 besteht aus einem Elektrodenkörper 14, in dem die Filamentstäbe 16 gehaltert sind. Der Boden 12 des Reaktors 10 besitzt mehrere Halterungen für eine der Vielzahl von Elektroden 6. Die Halterungen sind als Durchbrüche 16 im Boden 12 des Reaktors 10 ausgebildet und durch die Durchbrüche 16 erstrecken sich die Elektroden 6. Der Elektrodenkörper 4 besitzt einen zur Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 parallelen Ring 7. Zwischen dem parallelen Ring 7 und der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 ist ein radial umlaufendes Dichtelement 3 eingesetzt. Analog zum Elektrodenkörper 4 erstreckt sich das radiale Dichtelement 3 ebenfalls entlang der Längsachse des Elektrodenkörpers und überragt ebenfalls die Unterseite 14 des Bodens 12 des Reaktors 10. Unterhalb der Unterseite 14 des Bodens 12 des Reaktors 10 sind am Elektrodenkörper 4 mehrere elastische Elemente 2 befestigt. Diese elastischen Elemente 2 sind dabei derart ausgestaltet, dass sie den Elektrodenkörper 4 in Richtung der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 hin vorspannen. Dadurch, dass zwischen dem parallelen Ring 7 des Elektrodenkörpers 4 und der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 das radial umlaufende Dichtelement 3 vorgesehen ist, ist somit gewährleistet, dass unabhängig von der thermischen Ausdehnung der unterschiedlichen Materialien der Elektrode 6 immer eine ausreichende Dichtigkeit zwischen dem Elektrodenkörper 4 und dem Reaktorboden 12 bzw. der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 gewährleistet ist. Das radial umlaufende Dichtelement 3 besteht bevorzugter Weise aus PTFE. Um das radial umlaufende Dichtelement 3 bzgl. der Temperatureinflüsse zu schützen, ist auf der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 ein Keramikring 15 vorgesehen. Der Keramikring 15 umgibt somit das radial umlaufende Dichtelement 3, welches in den Reaktorinnenraum 50 ragen würde. FIG. 2 shows a sectional view of the electrode 6, which is arranged in the bottom 12 of the reactor 10. The electrode 6 has an elongated shape and extends over the top 13 and the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10. The electrode 6 consists of an electrode body 14 in which the filament rods 16 are supported. The bottom 12 of the reactor 10 has a plurality of holders for one of the plurality of electrodes 6. The holders are formed as apertures 16 in the bottom 12 of the reactor 10 and through the apertures 16 extend the electrodes 6. The electrode body 4 has an upper side 13 of the Bottom 12 of the reactor 10 parallel ring 7. Between the parallel ring 7 and the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10, a radially encircling sealing element 3 is inserted. Analogous to the electrode body 4, the radial sealing element 3 also extends along the longitudinal axis of the electrode body and Also protrudes beyond the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10. Below the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10, a plurality of elastic elements 2 are attached to the electrode body 4. These elastic elements 2 are configured in such a way that they bias the electrode body 4 in the direction of the upper side 13 of the bottom 12 of the reactor 10. The fact that between the parallel ring 7 of the electrode body 4 and the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10, the radially encircling sealing element 3 is provided, thus ensuring that regardless of the thermal expansion of the different materials of the electrode 6 is always a sufficient tightness between the electrode body 4 and the reactor bottom 12 and the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10 is ensured. The radially encircling sealing element 3 is preferably made of PTFE. In order to protect the radially encircling sealing element 3 with respect to the effects of temperature, a ceramic ring 15 is provided on the upper side 13 of the bottom 12 of the reactor 10. The ceramic ring 15 thus surrounds the radially encircling sealing element 3, which would protrude into the reactor interior 50.
Der Elektrodenkörper 4 hat einen Hohlraum 22 entlang der Längsachse L des Elektrodenkörpers 4 ausgebildet. In den Hohlraum 22 kann über ein Zuleitung 20 Kühlwasser zugeführt werden. Im Hohlraum 22 ist ein Rohr 23 geführt, über das in Verbindung mit einer Ableitung 21 das erwärmte Kühlwasser aus der Elektrode 4 abgeführt werden kann. The electrode body 4 has a cavity 22 along the longitudinal axis L of the electrode body 4. In the cavity 22 can be supplied via a supply line 20 cooling water. In the cavity 22, a tube 23 is guided, via which, in conjunction with a discharge line 21, the heated cooling water can be removed from the electrode 4.
Figur 3 zeigt eine Seitenansicht der erfindungsgemäßen Elektrode 6 und deren Einbau in den Boden 12 des Reaktors 10. Die Elektrode 6 besitzt entlang ihrer Längsachse L eine Bauhöhe H und im Innenraum 50 des Reaktors 10 eine Breite B. Auf der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 sitzt die Keramikhülse 15, mit der das radial umlaufende Dichtelement (hier nicht dargestellt) im Wesentlichen von Temperatureinflüssen aus dem Innern des Reaktor geschützt ist. Von der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 erstreckt sich der Durchbruch 16, durch den die Elektrode 6 von der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 zu der Unterseite 14 des Bodens 12 des Reaktors 10 geführt ist. Für die Befestigung und Verspannung der Elektrode 6 ist eine Einstellelement 25 vorgesehen. Wie bereits in der Beschreibung zu Figur 2 erwähnt, wird über eine Zuleitung 20 Kühlwasser zugeführt und über eine Ableitung 21 abgeführt. In der hier dargestellten Ausführungsform ist der Boden 12 des Reaktors 10 mit einem Zwischenraum ausgebildet. In diesem Zwischenraum ist das Kühlwasser für die Kühlung des Bodens 12 des Reaktors 10 geführt. FIG. 3 shows a side view of the electrode 6 according to the invention and its installation in the bottom 12 of the reactor 10. The electrode 6 has a height H along its longitudinal axis L and a width B in the interior 50 of the reactor 10. On the upper side 13 of the bottom 12 of FIG Reactor 10 sits the ceramic sleeve 15, with which the radially encircling sealing element (not shown here) is substantially protected from temperature influences from the interior of the reactor. From the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10, the opening 16 extends through which the electrode 6 from the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10 to the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10 is guided. For fixing and clamping the electrode 6, an adjustment 25 is provided. As already mentioned in the description of FIG. 2, cooling water is supplied via a supply line 20 and discharged via a discharge line 21. In the embodiment shown here, the bottom 12 of the reactor 10 is formed with a gap. In this space, the cooling water for the cooling of the bottom 12 of the reactor 10 is guided.
Figur 4 zeigt eine perspektivische Ansicht der erfindungsgemäßen Elektrode 6, die in einem Reaktor 10 für die Herstellung von polykristallinem Silizium Verwendung findet. Oberhalb des radial umlaufenden Rings 7 der Elektrode 6 ist die Halterung 27 der Elektrode 6 für die Filamentstäbe 60 vorgesehen. Mittels einer Abstützung 28 wird die Elektrode 6 gegenüber der Unterseite 14 des Bodens 12 des Reaktors 10 abgestützt. Ferner erfolgt eine Abstützung über das Einstellelement 25, welches auf dem Elektrodenkörper 4 aufgeschraubt ist. Am unteren Ende der Elektrode 6 ist die Zuleitung 20 für das Kühlwasser und die Ableitung 21 für das im Innenraum der Elektrode 6 erwärmte Kühlwasser vorgesehen. FIG. 4 shows a perspective view of the electrode 6 according to the invention, which is used in a reactor 10 for the production of polycrystalline silicon. Above the radially encircling ring 7 of the electrode 6, the holder 27 of the electrode 6 for the filament rods 60 is provided. By means of a support 28, the electrode 6 is supported relative to the underside 14 of the bottom 12 of the reactor 10. Furthermore, a support via the adjusting element 25, which is screwed onto the electrode body 4. At the lower end of the electrode 6, the supply line 20 is provided for the cooling water and the discharge 21 for the heated in the interior of the electrode 6 cooling water.
Figur 5 zeigt eine vergrößerte Darstellung des in Figur 2 mit A gekennzeichneten Bereichs. In Figur 5 wird dabei im Wesentlichen die Verspannung des Elektrodenkörpers 4 dargestellt. In der hier gezeigten Ausführungsform sind zwei elastische Elemente 2 in 180 °C gegenüber angeordnet. Die elastischen Elemente 2 sind als Schraubenfedern ausgebildet. Die elastischen Elemente 2 werden über Gewindestifte 29 am Elektrodenkörper 4 gehaltert. Zwischen der Oberseite 30 der elastischen Elemente 2 und der Unterseite 14 des Bodens 12 des Reaktors 10 ist eine Abstützung 28 vorgesehen. Die elastischen Körper 2 stützen sich somit mit deren Oberseite 30 gegenüber der Unterseite 14 des Bodens 12 des Reaktors 10 ab. Die Unterseite 32 der elastischen Elemente 2 ist gegenüber dem Elektrodenkörper 4 abgestützt. Für die Abstützung der elastischen Elemente 2 mit deren Unterseite 32 am Elektrodenkörper 4 ist das Einstellelement 25 vorgesehen. Figur 6 zeigt eine vergrößerte Darstellung des in Figur 2 mit B gekennzeichneten Bereichs. Das elastische Element 2 ist als Schraubenfeder ausgebildet und am Elektrodenkörper 4 mittels eines Gewindestifts 29 gehaltert. Dadurch, dass das Einstellelement am Elektrodenkörper 4 vorgesehen wird, erreicht man eine Verspannung bzw. eine Vorspannung der elastischen Elemente 2, so dass das radial umlaufende Lichtelement 3 zwischen der Oberseite 13 des Bodens 12 des Reaktors 10 und dem dazu parallelen Ring 7 des Elektrodenkörpers 4 eingespannt wird und somit eine Abdichtung herbeiführt. Durch diese Verspannung ist immer gewährleistet, dass unabhängig von den unterschiedlichen Ausdehnungskoeffizienten der verschiedenen Materialien der Elektrode 6 immer eine Dichtigkeit gewährleistet ist, so dass kein Reaktionsgas aus dem Innenraum 50 des Reaktors 10 nach außen gelangt. FIG. 5 shows an enlarged view of the area marked A in FIG. In FIG. 5, essentially the tension of the electrode body 4 is shown. In the embodiment shown here, two elastic elements 2 are arranged in 180 ° C opposite. The elastic elements 2 are designed as helical springs. The elastic elements 2 are held on the electrode body 4 via threaded pins 29. Between the top 30 of the elastic elements 2 and the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10, a support 28 is provided. The elastic body 2 are thus supported with the top 30 against the bottom 14 of the bottom 12 of the reactor 10 from. The underside 32 of the elastic elements 2 is supported relative to the electrode body 4. For the support of the elastic elements 2 with their underside 32 on the electrode body 4, the adjusting element 25 is provided. FIG. 6 shows an enlarged view of the area marked B in FIG. The elastic element 2 is designed as a helical spring and held on the electrode body 4 by means of a threaded pin 29. Characterized in that the adjusting element is provided on the electrode body 4, one reaches a tension or a bias voltage of the elastic elements 2, so that the radially encircling light element 3 between the top 13 of the bottom 12 of the reactor 10 and the parallel thereto ring 7 of the electrode body 4th is clamped and thus causes a seal. By this tension is always ensured that regardless of the different expansion coefficients of the different materials of the electrode 6 is always a tightness is ensured, so that no reaction gas from the interior 50 of the reactor 10 passes to the outside.
Die Erfindung wurde unter Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsformen beschrieben. Es ist für einen Fachmann selbstverständlich, dass Änderungen und Abwandlungen gemacht werden können, ohne dabei den Schutzbereich der nachstehenden Ansprüche zu verlassen. The invention has been described with reference to preferred embodiments. It will be understood by those skilled in the art that changes and modifications may be made without departing from the scope of the following claims.

Claims

Ansprüche claims
1 . Elektrode (6) für einen Reaktor (10) zur Herstellung von polykristallinem Silizium wobei mehrere Elektroden (6) in einem Boden (12) des Reaktors (10) befestigt sind und Filamentstäbe (60) aus Reinst-Silizium tragen, die in einem 1 . Electrode (6) for a reactor (10) for the production of polycrystalline silicon, wherein a plurality of electrodes (6) in a bottom (12) of the reactor (10) are fastened and carry filament rods (60) made of ultra-pure silicon, which in a
Elektrodenkörper (4) sitzen und über den die Stromzufuhr erfolgt, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenkörper (4) mit mehreren elastischen Elementen (2) in Richtung (5) einer Oberseite (13) des Bodens (12) des Reaktors (10) hin mechanisch vorgespannt ist und dass zwischen der Oberseite (13) des Bodens (12) des Reaktors (10) und einem zur Oberseite (13) des Bodens (12) parallelen Ring (7) des Elektrodenkörpers (4) ein radial umlaufendes  Electrode body (4) sit and over which the power is supplied, characterized in that the electrode body (4) with several elastic elements (2) in the direction (5) of an upper side (13) of the bottom (12) of the reactor (10) out mechanically is biased and that between the top (13) of the bottom (12) of the reactor (10) and to the top (13) of the bottom (12) parallel ring (7) of the electrode body (4) has a radially encircling
Dichtelement (3) eingesetzt ist.  Seal element (3) is inserted.
2. Elektrode nach Anspruch 1 , wobei das Dichtelement (3) im Bereich zwischen der Oberseite (13) des Bodens (12) des Reaktors (10) und dem dazu parallelen Ring (7) des Elektrodenkörpers (4) von einem Keramikring (15) abgeschirmt ist. 2. An electrode according to claim 1, wherein the sealing element (3) in the region between the upper side (13) of the bottom (12) of the reactor (10) and the parallel ring (7) of the electrode body (4) of a ceramic ring (15). is shielded.
3. Elektrode (6) nach den Ansprüchen 1 und 2, wobei der Elektrodenkörper (4) 3. electrode (6) according to claims 1 and 2, wherein the electrode body (4)
entlang einer Längsachse (L) zumindest bis über eine Unterseite (14) des Bodens (12) erstreckt und dass das radial umlaufende Dichtelement (3) derart ausgebildet ist, dass es den Elektrodenkörper (4) zumindest ebenfalls bis über die Unterseite (14) des Bodens (12) hinaus umgibt.  extends along a longitudinal axis (L) at least to over an underside (14) of the bottom (12) and that the radially encircling sealing element (3) is designed such that it at least likewise over the underside (14) of the electrode body (4) Surrounds the floor (12).
4. Elektrode (6) nach Anspruch 3, wobei der Elektrodenkörper (4) zusammen mit dem Dichtelement (3) in einem Durchbruch (16) im Boden (12) des Reaktors (10) sitzt. 4. electrode (6) according to claim 3, wherein the electrode body (4) together with the sealing element (3) in an opening (16) in the bottom (12) of the reactor (10) sits.
5. Elektrode (6) nach den Ansprüchen 1 bis 4, wobei die mehreren elastischen 5. electrode (6) according to claims 1 to 4, wherein the plurality of elastic
Elemente (2) mittels eines Gewindestifts (29) am Elektrodenkörper (4) gehaltert sind, wobei die elastischen Elemente (2) an deren Oberseite (30) an der  Elements (2) by means of a threaded pin (29) on the electrode body (4) are supported, wherein the elastic elements (2) on the upper side (30) on the
Unterseite (14) des Bodens (12) abgestützt sind und wobei die elastischen Elemente (2) an deren Unterseite (32) am Elektrodenkörper (4) abgestützt sind. Bottom (14) of the bottom (12) are supported and wherein the elastic elements (2) on the underside (32) on the electrode body (4) are supported.
6. Elektrode (6) nach den Ansprüchen 1 bis 5, wobei zwei elastische Elemente (2) um jeweils 180 °C zueinander versetzt am Elektrodenkörper (4) gehaltert sind. 6. electrode (6) according to claims 1 to 5, wherein two elastic elements (2) each offset by 180 ° C to each other on the electrode body (4) are supported.
7. Elektrode (6) nach den Ansprüchen 1 bis 6, wobei die elastischen Elemente (2) Schraubenfedern sind. 7. electrode (6) according to claims 1 to 6, wherein the elastic elements (2) are coil springs.
8. Elektrode (6) nach Anspruch 1 , wobei das radial umlaufende Dichtelement (3) aus einem Material mit geringer thermischer Ausdehnung besteht. 8. electrode (6) according to claim 1, wherein the radially encircling sealing element (3) consists of a material having a low thermal expansion.
9. Elektrode (6) nach Anspruch 8, wobei das Material des radial umlaufenden 9. electrode (6) according to claim 8, wherein the material of the radially encircling
Dichtelements (3) PTFE ist.  Sealing element (3) is PTFE.
10. Elektrode (6) nach den Ansprüchen 1 bis 9, wobei der Elektrodenkörper (4) einen Hohlraum (22) entlang der Längsachse (L) ausgebildet hat, in den über eine Zuleitung (20) Kühlwasser zuführbar ist und wobei im Hohlraum (22) ein Rohr (23) geführt ist, über das in Verbindung mit einer Ableitung (21 ) das erwärmte Kühlwasser abführbar ist. 10. electrode (6) according to claims 1 to 9, wherein the electrode body (4) has a cavity (22) along the longitudinal axis (L) has formed, into which via a supply line (20) cooling water can be fed and wherein in the cavity (22 ), a pipe (23) is guided, via which in connection with a discharge (21), the heated cooling water can be discharged.
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