WO2010082435A1

WO2010082435A1 - 表示パネル用の基板および表示パネル

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Publication number: WO2010082435A1
Application number: PCT/JP2009/071412
Authority: WO
Inventors: 誠神戸; 太一小畑
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2009-01-13
Filing date: 2009-12-24
Publication date: 2010-07-22
Anticipated expiration: 2011-07-13

Abstract

　インクジェット方式の印刷機を用いて配向膜を形成する構成において、滴下した配向材がシールパターン領域に流出しないような表示パネル用の基板および表示パネルを提供すること。　複数の絵素電極１１１がマトリックス状に配列される表示領域１１と、表示領域１１を囲繞するように形成されるシールパターン領域１２３と、表示領域１１内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａとを備え、配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａのうちの表示領域１１とシールパターン領域１２３との間の領域に形成される部分およびシールパターン領域１２３に形成される部分には、近接するシールパターン領域１２３の延伸方向に略平行に延伸するスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが形成される。

Description

表示パネル用の基板および表示パネル

　本発明は、表示パネル用の基板および表示パネルに関するものであり、特に、液晶表示パネルに好適な表示パネル用の基板と、この表示パネル用の基板を備える表示パネルに関するものである。

　一般的な液晶表示パネルは、二枚の基板を備える。たとえば、アクティブマトリックスタイプの液晶表示パネルであれば、ＴＦＴアレイ基板と対向基板（たとえばカラーフィルタなど）とを備える。そして、これらの基板が、所定の微小な間隔をおいて対向して配設され、これらの基板の間に液晶が充填されるという構成を備える。充填された液晶は、絵素が配列される領域を囲繞するように形成されるシール材によって封止される。換言すると、シール材に囲繞される領域に、液晶が充填される。

　ＴＦＴアレイ基板の片側表面には、薄膜トランジスタ、データ線（ソース配線とも称する）、走査線（ゲート配線とも称する）、半導体膜、絵素電極などといった、様々な配線パターンや薄膜パターンが形成される。そして絵素電極の表面の最上層には、液晶の配向を規制する機能を有する配向膜が形成される。また、カラーフィルタの片側表面には、ブラックマトリックス、着色層、共通電極などといった所定の薄膜パターンや配線パターンなどが形成される。そして共通電極の表面の所定の領域には、液晶の配向を規制する機能を有する配向膜が形成される。

　そして、ＴＦＴアレイ基板またはカラーフィルタの一方に、配向膜が形成された領域を囲繞するようにシール材が塗布され、二枚の基板が貼り合わされる。すなわち、ＴＦＴアレイ基板、対向基板（カラーフィルタ）ともに、貼り合わされた状態において、配向膜が形成される領域を囲繞するようにシール材が形成されることになる。

　配向膜の形成には、輪転機などの印刷機を用いる方法が広く用いられている。輪転機を用いる配向膜の形成方法は、印刷ローラ（印刷版）に配向材（配向膜の材料となる溶液）を塗布し、塗布された配向材を、表示パネル用の基板の表面の所定の領域に転写するというものである。このような方法によれば、表示パネル用の基板の表面の所定の領域に、精度良く配向材を転写（塗布）することができるという利点を有する。一方で、表示パネル用の基板の種類ごとに（特に、画面サイズごとに）、専用の印刷ローラが必要となるという問題点を有する。すなわち、表示パネル用の基板の種類に応じた印刷ローラが必要となるため、製造コストの削減が困難である。また、製造する表示パネル用の基板の種類を変更するたびに、印刷機の印刷ローラを変更する必要があるため、設備の柔軟性が低いという問題点もある。

　このため近年では、インクジェット方式の印刷機を用いて配向膜を形成するという方法が採用されるようになってきている。インクジェット方式の印刷機によれば、配向材の滴下位置や滴下範囲を容易に変更することができる。このため、一台の印刷機で様々な種類の表示パネル用の基板に対応することができる。したがって、従来のように表示パネル用の基板の種類ごとに印刷ローラを用意する必要がなく、また製造機種変更のたびに印刷ローラを変更するという手間を省略することができる。このように、インクジェット方式の印刷機によれば、設備コストの削減を図ることができるとともに、設備の柔軟性の向上を図ることができる。

　ところで、インクジェット方式の印刷機は、滴下ノズルを備え、この滴下ノズルが配向材を表示パネル用の基板の表面の所定の位置に滴下する。滴下された配向材は、表示パネル用の基板の表面を濡れ拡がっていく。そして濡れ拡がった配向材どうしが繋がっていくことにより、表示パネル用の基板の表面の所定の領域に、配向材の層が形成される。

　前記のようにシール材は、配向膜が形成される領域を囲繞するように形成される。そしてシール材は、配向膜の表面には形成されない。しかしながら濡れ拡がった配向材がシール材を形成すべき位置にまで達して、シール材を形成すべき位置に配向膜が形成されると、次のような問題が発生することがある。

　シール材は、二枚の基板の間に充填される液晶を密封する機能を有する。このためシール材は、表示パネル用の基板の表面に強固に密着していることが好ましい。しかしながら、一般的に配向膜とシール材とは密着性が低いため、シール材が形成される位置に配向膜が形成されると（換言すると、配向膜の表面にシール材が形成される構造となると）、液晶を密封する機能が低下するおそれがある。また、配向膜は一般的にポリイミドにより形成される。ポリイミドは吸湿性が高い材料であるため、配向膜がシール材の外側に露出すると、この露出した配向膜を通じて、液晶が密封される領域の内部に水分が滲入するおそれがある。

特開２０００－７５１２１号公報

　上記実情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、インクジェット方式の印刷機によって配向膜を塗布する場合において、滴下された配向材が、本来濡れ拡がるべきではない方向に拡がらないようにすることができる表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供すること、特に、滴下された配向材が、シールパターン領域に濡れ拡がらないようにすることができる表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供すること、または、滴下された配向材が、シールパターン領域を越えて濡れ拡がらないようにすることができる表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供すること、または、シール材による液晶の密封の度合を維持することができる表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供することである。

　前記課題を解決するため、本発明は、複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、を備え、前記配線のうちの前記表示領域と前記シールパターン領域との間の領域に形成される部分には開口部が形成されることを要旨とするものである。

　前記開口部は、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行に延伸するスリット状に形成されることが好ましい。

　本発明は複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、を備え、前記配線のうちの前記シールパターン領域に形成される部分には開口部が形成されることを要旨とするものである。

　本発明は、複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、を備え、前記配線のうちの前記表示領域と前記シールパターン領域との間の領域に形成される部分にはつづら折り状に形成される部分を有することを要旨とするものである。

　前記つづら折り状に形成される部分には、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行に延伸する部分が含まれることが好ましい。

　本発明は、複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、を備え、前記配線のうちの前記シールパターン領域に形成される部分にはつづら折り状に形成される部分を有することを要旨とするものである。

　前記配線にはデータ線が好適に適用できる。また、前記配線には走査線が好適に適用できる。

　本発明に係る表示パネルは、前記表示パネル用の基板と、対向基板とを備えることを要旨とするものである。

　本発明によれば、インクジェット方式の印刷機を用いて配向膜を形成する構成において、滴下された配向材は表示パネル用の基板に形成される配線に沿って流動しようとするが、配線に形成される開口部が、配向材の流動を阻止する。したがって、絵素が配列される領域に滴下された配向材が、配線を伝ってシールパターン領域に流出することが防止される。このため、シール材を形成する工程において、シール材が配向膜に接触すること（シール材が配向膜の表面に形成されること）が防止される。このような構成であれば、表示パネル用の基板とシール材との密着性を維持することができる。

　また、本発明によれば、絵素が配列される領域に滴下された配向材が、配線を伝ってシールパターン領域の外側に流出することが防止される。このため、配向膜がシールパターン領域の外側に形成されることが防止される。したがって、配向膜が外気に露出しなくなるから、外気中の水分が配向膜を通じて液晶中に滲入することが防止される。

　ここで、配線に形成される開口部が、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行な方向に延伸するものであれば、滴下された配向材の流動を、より効果的に防止することができる。

　また、本発明によれば、インクジェット方式の印刷機を用いて配向膜を形成する構成において、滴下された配向材は表示パネル用の基板に形成される配線を伝って流動しようとするが、配線に形成されるつづら折り状の部分が、配向材の流動を阻止する。したがって、前記同様の作用効果を奏することができる。

　ここで、つづら折り状の部分が、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行な方向に延伸する部分を有するものであれば、滴下された配向材の流動を、より効果的に防止することができる。

本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板および第二実施形態にかかる表示パネル用の基板の概略構成を、模式的に示した外観斜視図である。表示領域に設けられる絵素と配線の構成を、模式的に示した平面図である。本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の所定の部分を抜き出して示した図であり、（ａ）は、図１のＢ部を抜き出して拡大して示した図、（ｂ）は、図１のＣ部を抜き出して拡大して示した図である。本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板の所定の部分を抜き出して示した図であり、（ａ）は、図１のＢ部を抜き出して拡大して示した図、（ｂ）は、図１のＣ部を抜き出して拡大して示した図である。本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板および第二実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の各工程を、模式的に示した断面図である。本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板および第二実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の各工程を、模式的に示した断面図である。本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板および第二実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の各工程を、模式的に示した断面図である。対向基板の構成を模式的に示した図であり、（ａ）は対向基板の全体構造を模式的に示した斜視図、（ｂ）は対向基板に形成される一絵素の構成を抜き出して示した平面図、（ｃ）は（ｂ）のＦ－Ｆ線断面図であって、絵素の断面構造を示した図である。本発明の実施形態にかかる表示パネルの一部の断面構造を、模式的に示した断面図である。

　以下に、本発明の各種実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。本発明の各実施形態にかかる表示パネル用の基板は、アクティブマトリックスタイプの液晶表示パネルに適用されるＴＦＴアレイ基板である。

　図１は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの概略構成を、模式的に示した外観斜視図である。まず、図１を参照して、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの全体的な構成を説明する。なお、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの全体構成は、ほぼ同じであることから、まとめて説明する。

　図１に示すように、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂは、表示領域１１（アクティブ領域とも称する）が設けられる。そして、表示領域１１の外側には、この表示領域１１を囲繞するように、パネル額縁領域１２が設けられる。

　図２は、表示領域１１に設けられる絵素と配線の構成を、模式的に示した平面図である。図２に示すように表示領域１１には、複数の絵素がマトリックス状に配列される。各絵素は、絵素電極１１１と、この絵素電極１１１を駆動するスイッチング素子１１２（具体的にはたとえば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）を有する。そしてスイッチング素子１１２のドレイン電極１１５と絵素電極１１１とがドレイン配線１１９により電気的に接続されている。また、表示領域１１には、複数の走査線１１６ａ，１１６ｂ（ゲート配線とも称する）が、互いに略平行に設けられる。そして、走査線１１６ａ，１１６ｂどうしの間には、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂ（蓄積容量信号線とも称する）が、走査線１１６ａ，１１６ｂに略平行に設けられる。さらに、複数のデータ線１１７ａ，１１７ｂ（ソース配線とも称する）が、互いに略平行で、かつ走査線１１６ａ，１１６ｂおよび補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂに略直交するように設けられる。

　各走査線１１６ａ，１１６ｂは、所定の複数の絵素のスイッチング素子１１２のゲート電極１１３に、電気的に接続されている。そして各走査線１１６ａ，１１６ｂは、これらの所定のスイッチング素子１１２のゲート電極１１３に、ゲート信号（選択パルスとも称する）を伝送することができる。補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂは、所定の絵素電極１１１との間に補助容量（蓄積容量とも称する）を形成する。データ線１１７ａ，１１７ｂは、所定の複数の絵素のスイッチング素子１１２のソース電極１１４に電気的に接続されている。そしてデータ線１１７ａ，１１７ｂは、これら所定のスイッチング素子１１２のソース電極１１４に、データ信号を伝送することができる。

　図１に戻って説明する。表示領域１１の周囲には、この表示領域１１を囲繞するように、パネル額縁領域１２が設けられる。このパネル額縁領域１２には、端子領域１２１が設けられるとともに、シールパターン領域１２３が設定される。

　端子領域１２１は、パネル額縁領域１２の外周縁または外周縁近傍に設けられる領域である。この端子領域１２１には、配線電極端子１２２が設けられる。この配線電極端子１２２は、表示領域１１から延設される所定の配線（走査線１１６ａ，１１６ｂ、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂ、データ線１１７ａ，１１７ｂなど）と、ドライバＩＣ（ドライバＬＳＩとも称する）とを接続するための端子である。具体的には、端子領域１２１に異方性導電膜（ＡＣＦ：Anisotropic Conductive Film）が貼付され、ドライバＩＣ（またはドライバＬＳＩ）が実装されたＴＣＰ（Tape Carrier Package）が、貼付された異方性導電膜によって、配線電極端子１２２に固定される。このような構成によれば、ＴＣＰに実装されるドライバＩＣなどが生成した所定の信号は、配線電極端子１２２を通じて、表示領域１１に設けられる所定の配線（走査線１１６ａ，１１６ｂ、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂ、データ線１１７ａ，１１７ｂ）に伝送することができる。

　パネル額縁領域１２には、シールパターン領域１２３が設定される。シールパターン領域１２３は、液晶を封止保持するためのシールパターンが形成される領域（換言すると、シール材が塗布される領域）である。シールパターンは、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａまたは第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂと、対向基板とが貼り合わされた状態において、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａまたは本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂと対向基板との間に、液晶を封入するとともに（換言すると液晶層を形成するとともに）、対向基板を本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａまたは第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂに固定する。図１に示すように、シールパターン領域１２３は、表示領域１１の外周縁から所定の距離をおいて、この表示領域１１を囲繞するように設定される領域である。具体的にはシールパターン領域１２３は、開口した略四辺形を有する額縁状の領域であり、四辺形の各辺は所定の幅寸法を有する。

　図３は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの所定の部分を抜き出して示した図である。それぞれ図３（ａ）は、図１のＢ部を抜き出して拡大して示した図、図３（ｂ）は、図１のＣ部を抜き出して拡大して示した図である。すなわちこれらの図は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａのパネル額縁領域１２に形成される配線の構造を、模式的に示した平面図である。

　図３（ａ），（ｂ）のそれぞれに示すように、パネル額縁領域１２には、所定の配線（走査線１１６ａ、補助容量信号線１１８ａ、データ線１１７ａ）が形成される。具体的には、図３（ａ）に示すように、パネル額縁領域１２の所定の辺には、走査線１１６ａと補助容量信号線１１８ａが、表示領域１１から延伸して形成される。また、図３（ｂ）に示すように、パネル額縁領域１２の他の所定の辺には、データ線１１７ａが、表示領域１１から延伸して形成される。これらの配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａは、パネル額縁領域１２のシールパターン領域１２３を横断し、端子領域１２１に達する。

　これら所定の配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａのうち、シールパターン領域１２３と表示領域１１との間に延設される部分およびシールパターン領域１２３に形成される部分には、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが形成される。具体的には図３（ａ）に示すように、表示領域１１から延伸する走査線１１６ａおよび補助容量信号線１１８ａに、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂが形成される。このスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂは、走査線１１６ａおよび補助容量信号線１１８ａが交差するシールパターン領域１２３の延伸方向（図３（ａ）においては、矢印Ａで示す方向）に細長い形状を有する。このため走査線１１６ａおよび補助容量信号線１１８ａは、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間に延設される部分およびシールパターン領域１２３に形成される部分は、全体としてはしご状の構造を有する。

　また、図３（ｂ）に示すように、表示領域１１から延伸するデータ線１１７ａに、スリット状の開口部１１９ｃが形成される。このスリット状の開口部１１９ｃは、データ線１１７ａが交差するシールパターン領域１２３の延伸方向（図３（ｂ）においては、矢印Ｂで示す方向）に細長い形状を有する。したがってデータ線１１７ａは、走査線１１６ａおよび補助容量信号線１１８ａと同様に、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間に延設される部分およびシールパターン領域１２３に形成される部分は、全体としてはしご状の構造を有する。

　表示領域１１から延伸してシールパターン領域１２３を横断する配線のうち、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間およびシールパターン領域１２３に形成される部分にスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが形成されると、配向膜の形成工程において次のような作用を奏する。配向膜は、液晶の配向を規制する機能を有する膜であり、表示領域１１（すなわち絵素電極の表面）に形成される。

　配向膜の形成は、まずインクジェット方式の印刷機を用いて、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの表示領域１１の表面に、配向材の滴を滴下する。配向材とは、配向膜の原料を溶解した溶液をいうものとする。滴下された配向材の滴は、それが有する濡れ性および流動性によって濡れ拡がっていく。そして濡れ拡がった配向材の滴どうしが繋がっていく。これにより、表示領域１１の表面に、配向材の膜が形成される。そして形成された配向材の膜を焼成することによって、配向材に含まれる揮発成分を除去して固化させる。これにより、表示領域１１の表面に配向膜が形成される。

　滴下された配向材の滴や、濡れ拡がった配向材の滴のうち、表示領域１１に形成される配線（走査線１１６ａ、補助容量信号線１１８ａ、データ線１１７ａ）の表面に乗ったものは、これらの配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａの表面を伝わるように流動する。すなわち、配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａの表面に乗った配向材は、当該配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａの表面を、その延伸方向に流れる。ここで、配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａにスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが形成されると、これらのスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが、配向材の流動を防止する機能を果たす。具体的には、配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａの表面を流れる配向材が、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが形成される部分に達すると、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃの端縁において配向材の表面張力により、流動が阻止される。この結果、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが配向材の流動の障碍物となり、配向材の流動が停止する。

　特に、これらのスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃは、配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａが交差するシールパターン領域１２３の延伸方向に、略平行に形成される。これは換言すると、これらのスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃは、配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａに乗った配向材の流動方向に略直角な方向に延伸する。したがって、このような構成によれば、シールパターン領域１２３に向かって流れる配向材の流動や、シールパターン領域１２３に到達した配向材がさらにシールパターン領域１２３の全域に広がることやシールパターン領域１２３を横断してシールパターン領域１２３の外側に到達することを、より効果的に阻止することができる。

　これらのスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃが表示領域１１とシールパターン領域１２３との間に形成されると、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間に、配向材の流動を阻止する障碍物が形成されたのと同様の作用を奏する。したがって、表示領域１１に滴下された配向材が、表示領域１１から延伸する配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａを伝わって、シールパターン領域１２３に流入することを防止できる。この結果、シールパターン領域１２３の表面に、配向膜が形成されることを防止できる。同様に、配向材がシールパターン領域１２３の外側にまで達するように形成されること（換言すると、配向膜が表示領域１１からシールパターン領域１２３の外側に跨って形成されること）を防止できる。

　また、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃがシールパターン領域１２３に形成されると、シールパターン領域１２３に、配向材の流動を阻止する障碍物が形成されたのと同様の作用を奏する。したがって、表示領域１１に滴下された配向材が、表示領域１１から延伸する配線１１６ａ，１１７ａ，１１８ａを伝わってシールパターン領域１２３に到達したとしても、配向材がシールパターン領域１２３の全域にわたって広がることを防止または抑制できる。この結果、シールパターン領域１２３の表面に、配向膜が形成されることを防止または抑制できる。同様に、配向材がシールパターン領域１２３の外側にまで達するように形成されること（換言すると、配向膜が表示領域１１からシールパターン領域１２３の外側に跨って形成されること）を防止できる。

　配向膜を形成した後、シールパターン領域１２３にはシールパターンが形成される。シールパターンは、たとえば紫外線硬化型の樹脂材料により形成される。具体的には、シール材塗布装置（たとえばディスペンサなど）により、シールパターン領域１２３の表面にシール材が塗布される。シール材は、公知の各種シール材が適用できる。たとえば紫外線硬化型のシール材が好適に適用できる。その後、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと対向基板とが貼り合わされる。そして、シール材に紫外線が照射され、シール材を固化させる。これにより、表示領域１１を囲繞するように、シールパターンが形成される。

　シールパターンは、シールパターンに囲まれる領域の内側に液晶を密封する機能を有する。また、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａに、対向基板を接着固定する機能を有する。したがって、シール材は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの表面に、強固に密着している必要がある。ところで一般的に、配向膜とシール材とは密着性が低い。したがって、シールパターン領域１２３の表面とシール材との密着性を確保するためには、シールパターン領域１２３の表面に配向膜が形成されないようにする必要がある。

　本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａによれば、前記の通り配向膜の形成工程において、シールパターン領域１２３に配向膜が形成されることを防止できる。したがって、シール材と本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの表面との密着性を損なうことがない。

　また、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａによれば、配向膜をシールパターン領域１２３の内側にのみ形成することができる。すなわち、シールパターンを形成した後において、配向膜が、シールパターンに囲まれる領域（密閉された領域）と外気との間に跨って形成されることを防止できる。したがって、外気中の水分が、配向膜を通じてシールパターンに囲まれる領域に滲入することを防止できる。

　次いで、本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂについて説明する。図４は、本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの所定の部分を抜き出して示した図である。それぞれ図４（ａ）は、図１のＢ部を抜き出して拡大して示した図、図４（ｂ）は、図１のＣ部を抜き出して拡大して示した図である。すなわちこれらの図は、本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂのパネル額縁領域１２に形成される配線の構造を、模式的に示した平面図である。

　図４（ａ），（ｂ）のそれぞれに示すように、パネル額縁領域１２には、所定の配線（走査線１１６ｂ、補助容量信号線１１８ｂ、データ線１１７ｂ）が形成される。具体的には、図４（ａ）に示すように、パネル額縁領域１２の所定の辺には、走査線１１６ｂと補助容量信号線１１８ｂが、表示領域１１から延伸して形成される。また、図４（ｂ）に示すように、パネル額縁領域１２の他の所定の辺には、データ線１１７ｂが、表示領域１１から延伸して形成される。これらの配線１１６ｂ，１１７ｂ，１１８ｂは、パネル額縁領域１２のシールパターン領域１２３を横断し、端子領域１２１に達する。

　これら所定の配線１１６ｂ，１１７ｂ，１１８ｂのうち、シールパターン領域１２３と表示領域１１との間に延設される部分およびシールパターン領域１２３に形成される部分には、つづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆを有する。具体的には図４（ａ）に示すように、表示領域１１から延伸する走査線１１６ｂおよび補助容量信号線１１８ｂが、つづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅを有する。このつづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅは、走査線１１６ｂおよび補助容量信号線１１８ｂが交差するシールパターン領域１２３の延伸方向（図４（ａ）においては、矢印Ｃで示す方向）に平行に延伸する部分を有する。

　また、図４（ｂ）に示すように、表示領域１１から延伸するデータ線１１７ｂも、つづら折り状に形成される部分１１９ｆを有する。このつづら折り状に形成される部分１１９ｆは、データ線１１７ｂが交差するシールパターン領域１２３の延伸方向（図４（ｂ）においては、矢印Ｄで示す方向）に平行に延伸する部分を有する。

　表示領域１１から延伸してシールパターン領域１２３を横断する配線のうち、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間に形成される部分およびシールパターン領域１２３に形成される部分につづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆが含まれると、配向膜の形成工程において本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと同様の作用を奏することができる。

　すなわち、つづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆを含む構成は、配線１１６ｂ，１１７ｂ，１１８ｂにスリット状の開口部が形成された構成に相当する。したがって、配線１１６ｂ，１１７ｂ，１１８ｂの表面を流れる配向材が、つづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆに達すると、配向材の表面張力により、配向材の流動が阻止される。この結果、つづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆが配向材の流動の障碍物となり、配向材の流動が停止する。

　特に、これらのつづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆには、配線１１６ｂ，１１７ｂ，１１８ｂが交差するシールパターン領域１２３の延伸方向に略平行に延伸する部分が含まれる。これは換言すると、配線１１６ｂ，１１７ｂ，１１８ｂに、配向材の流動方向に略直角な方向に延伸するスリット（たとえば細長いスリット）が形成される構成に相当する。そしてこのような複数のスリットが、配向材の流動方向に沿って連続的に形成されることになる。したがって、このような構成によれば、シールパターン領域１２３に向かって流れる配向材の流動や、シールパターン領域１２３に到達した配向材がさらにシールパターン領域１２３の全域に広がることやシールパターン領域１２３を横断してシールパターン領域１２３の外側に到達することを、より効果的に阻止することができる。

　次に、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの製造方法について説明する。なお、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂとは、配線の形状が相違するのみであるから、使用するフォトマスク（に形成されるパターン）を除いて、同じ製造方法が適用できる。したがってまとめて説明する。

　図５から図７は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの製造方法の各工程を、模式的に示した断面図である。なお、これらの断面図は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの表示領域１１の断面構造を模式的に示した図であり、特定の断面線に沿って切断した図ではない。

　まず、図５（ａ）に示すように、ガラスなどからなる透明基板３１の表示領域１１に、走査線１１６ａ，１１６ｂ、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂ、およびスイッチング素子１１２のゲート電極１１３が形成される。また、パネル額縁領域１２にも、走査線１１６ａ，１１６ｂ、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂが形成される。これらのパネル額縁領域１２に形成される走査線１１６ａ，１１６ｂ、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂは、表示領域１１から延伸するという構成を有する。

　具体的には、透明基板３１の片側表面に、クロム、タングステン、モリブデン、アルミニウムなどからなる単層または多層の導体膜（第一の導体膜）が形成される。この第一の導体膜の形成方法には、公知の各種スパッタリング法などが適用できる。また、この第一の導体膜の厚さは特に限定されるものではないが、たとえば３００ｎｍ程度の膜厚が適用できる。

　そして、形成された第一の導体膜が、表示領域においては、図５（ａ）に示すように、走査線１１６ａ，１１６ｂ、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂ、スイッチング素子１１２のゲート電極１１３などの形状にパターニングされる。この第一の導体膜のパターニングには、公知の各種ウェットエッチングが適用できる。第一の導体膜がクロムからなる構成においては、（ＮＨ_４）_２［Ｃｅ（ＮＨ_３）_６］＋ＨＮＯ_３＋Ｈ_２Ｏ液を用いたウェットエッチングが適用できる。

　このパターニングにおいて、パネル額縁領域１２にも走査線１１６ａ，１１６ｂおよび補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂが形成される。そして、これらパネル額縁領域１２に形成される走査線１１６ａ，１１６ｂおよび補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂのうち、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間の領域に形成される部分およびシールパターン領域１２３に形成される部分には、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂまたはつづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅが形成される。

　次に、図５（ｂ）に示すように、前記工程を経た透明基板３１の表示領域１１には、ゲート絶縁膜３２が形成される。ゲート絶縁膜３２には、厚さ３００ｎｍ程度のＳｉＮｘ（窒化シリコン）などが適用できる。ゲート絶縁膜３２の形成方法としては、プラズマＣＶＤ法が適用できる。図５（ｂ）に示すように、ゲート絶縁膜３２が形成されると、走査線１１６ａ，１１６ｂ、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂ、スイッチング素子１１２のゲート電極１１３は、ゲート絶縁膜３２により覆われる。

　次いで、図６（ａ）に示すように、ゲート絶縁膜３２の表面の所定の位置に、所定の形状の半導体膜３３が形成される。具体的には、この半導体膜３３は、ゲート絶縁膜３２を介してゲート電極１１３に重畳する位置と、ゲート絶縁膜３２を介して補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂと重畳する位置に形成される。この半導体膜３３は、第一のサブ半導体膜３３１と第二のサブ半導体膜３３２との二層構造を有する。第一のサブ半導体膜３３１には、厚さが約１００ｎｍ程度のアモルファスシリコンなどが適用できる。第二のサブ半導体膜３３２には、厚さが約２０ｎｍ程度のｎ^＋型のアモルファスシリコンなどが適用できる。

　第一のサブ半導体膜３３１は、エッチングによりデータ線１１７ａ，１１７ｂやドレイン配線１１９などを形成する工程において、エッチングストッパ層として機能する。第二のサブ半導体膜３３２は、後の工程で形成されるソース電極１１４やドレイン電極１１５とのオーミックコンタクトを良好にするためのものである。

　この半導体膜３３（第一のサブ半導体膜３３１と第二のサブ半導体膜３３２）は、プラズマＣＶＤ法とフォトリソグラフィ法を用いることにより形成できる。すなわち、まずプラズマＣＶＤ法を用いて、半導体膜３３（第一のサブ半導体膜３３１と第二のサブ半導体膜３３２）の材料を、前記工程を経た透明基板の片側表面に堆積させる。

　そして、形成された半導体膜３３（第一のサブ半導体膜３３１と第二のサブ半導体膜３３２）を、フォトリソグラフィ法などを用いることにより、所定の形状にパターニングする。具体的には、形成された半導体膜３３の表面にフォトレジスト材料の層を形成する。フォトレジスト材料の層の形成には、スピンコータなどが適用できる。そして、形成されたフォトレジスト材料の層に、フォトマスクを用いて露光処理を施し、その後現像処理を施す。そうすると、表示領域における半導体膜３３の表面には、所定のパターンのフォトレジスト材料の層が残る。

　そして、パターニングされたフォトレジスト材料の層をマスクとして用いて、半導体膜のパターニングを行う。このパターニングには、たとえばＨＦ＋ＨＮＯ_３溶液を用いたウェットエッチングやＣｌ_２とＳＦ_６ガスを用いたドライエッチングが適用できる。これにより、半導体膜３３（第一のサブ半導体膜３３１と第二のサブ半導体膜３３２）が、ゲート絶縁膜３２を介してゲート電極１１３に重畳するように形成されるとともに、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂに重畳するように形成される。

　次に、図６（ｂ）に示すように、データ線１１７ａ，１１７ｂ、ドレイン配線１１９、スイッチング素子１１２のソース電極１１４およびドレイン電極１１５が形成される。まず、前記工程を経た透明基板３１の片側表面に、データ線１１７ａ，１１７ｂ、ドレイン配線１１９、スイッチング素子１１２のソース電極１１４およびドレイン電極１１５の材料となる導体膜（この導体膜を「第二の導体膜と称する」）が形成される。その後、形成された第二の導体膜が所定の形状にパターニングされる。

　この第二の導体膜は、チタン、アルミニウム、クロム、モリブデンなどからなる二層以上の積層構造を有する。本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂにおいては、第二の導体膜が二層構造を有する。すなわち、第二の導体膜は、透明基板３１に近い側の第一のサブ導体膜と、絵素電極に近い側の第二のサブ導体膜とからなる二層構造を有する。第一のサブ導体膜には、チタンなどが適用できる。第二のサブ導体膜には、アルミニウムなどが適用できる。

　第二の導体膜の形成方法としては、スパッタリング法などが適用できる。第二の導体膜のパターニングには、Ｃｌ_２とＢＣｌ_３ガスを用いたドライエッチングおよび燐酸、酢酸、硝酸を用いたウェットエッチングが適用できる。このパターニングによって、データ線１１７ａ，１１７ｂ、ドレイン配線１１９、スイッチング素子１１２のソース電極１１４およびドレイン電極１１５が形成される。このパターニングにおいては、第一のサブ半導体膜をエッチングストッパ層として、第二のサブ半導体膜もエッチングされる。

　以上の工程を経ると、図６（ｂ）に示すように、透明基板３１の表示領域には、スイッチング素子１１２（すなわちゲート電極１１３、ソース電極１１４およびドレイン電極１１５）、データ線１１７ａ，１１７ｂ、走査線１１６ａ，１１６ｂ、ドレイン配線１１９、補助容量信号線１１８ａ，１１８ｂが形成される。このデータ線１１７ａ，１１７ｂは、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間およびシールパターン領域１２３に形成される部分において、スリット状の開口部１１９ｃまたはつづら折り状に形成される部分１１９ｆが形成される。

　次いで、図７（ａ）に示すように、前記工程を経た透明基板３１の表示領域１１に、パッシベーション膜３４と有機絶縁膜３５が形成される。このパッシベーション膜３４には、厚さが３００ｎｍ程度のＳｉＮｘ（窒化シリコン）が適用できる。パッシベーション膜３４の形成方法には、プラズマＣＶＤ法などが適用できる。そして形成されたパッシベーション膜３４の表面には有機絶縁膜３５が形成される。この有機絶縁膜３５には、アクリル系の樹脂材料が適用できる。

　形成された有機絶縁膜３５は、フォトリソグラフィ法などによって、所定のパターンにパターニングされる。このパターニングによって、有機絶縁膜３５には、絵素電極１１１とドレイン配線１１９とを電気的に導通させるための開口部（コンタクトホール）３５１が形成される。

　有機絶縁膜３５に開口部３５１が形成されると、この開口部３５１を通じて、パッシベーション膜３４の所定の部分が露出する。パターニングされた有機絶縁膜３５をマスクとして用いて、パッシベーション膜３４がパターニングされる。

　このパターニングによって、パッシベーション膜３４のうち、有機絶縁膜３５の開口部から露出する部分が除去される。これによりパッシベーション膜３４に開口部が形成される。このパッシベーション膜３４のパターニングには、ＣＦ_４＋Ｏ_２ガスもしくはＳＦ_６＋Ｏ_２ガスを用いたドライエッチングが適用できる。

　次いで、図７（ｂ）に示すように、表示領域１１に絵素電極１１１が形成される。絵素電極１１１には、たとえば、１００ｎｍ程度の厚さのＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム酸化スズ）が適用できる。また、絵素電極１１１の成形方法としては、公知の各種スパッタリング法が適用できる。

　以上の工程を経て、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａおよび第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂが製造される。

　本発明の実施形態にかかる表示パネルの製造方法は、ＴＦＴアレイ基板製造工程と、カラーフィルタ製造工程と、パネル（セル）製造工程とを含む。なお、ＴＦＴアレイ基板製造工程は、前記のとおりである。

　対向基板（カラーフィルタ）５の構成とカラーフィルタ製造工程は次のとおりである。図８は、対向基板５の構成を模式的に示した図であり、具体的には図８（ａ）は対向基板５の全体構造を模式的に示した斜視図、図８（ｂ）は対向基板５に形成される一絵素の構成を抜き出して示した平面図、図８（ｃ）は図８（ｂ）のＦ－Ｆ線断面図であって、絵素の断面構造を示した図である。

　この図８に示すように対向基板５は、ガラスなどからなる透明基板５１の片側表面にブラックマトリックス５２が形成され、ブラックマトリックス５２の各格子の内側には、赤色、緑色、青色のそれぞれの色の着色感材からなる着色層５３が形成される。そしてこれら各色の着色層５３が形成される格子が、所定の順序で配列される。ブラックマトリックス５２および各色の着色層５３の表面には保護膜５４が形成され、保護膜５４の表面には透明電極（共通電極）５５が形成される。透明電極（共通電極）５５の表面には、液晶の配向を制御する配向規制構造物５６が形成される。

　カラーフィルタ製造工程には、ブラックマトリックス形成工程と、着色層形成工程と、保護膜形成工程と、透明電極（共通電極）形成工程とが含まれる。

　ブラックマトリックス形成工程の内容は、たとえば樹脂ＢＭ法であれば次のとおりである。まず、透明基板５１の表面にＢＭレジスト（黒色着色剤を含有する感光性樹脂組成物をいう）などが塗布される。次いで塗布されたＢＭレジストがフォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンに形成される。これにより、所定のパターンのブラックマトリックス５２が得られる。

　着色層形成工程では、カラー表示用の赤色、緑色、青色の各色の着色層５３が形成される。たとえば着色感材法であれば次のとおりである。まず、ブラックマトリックス５２が形成された透明基板５１の表面に、着色感材（感光性材料に所定の色の顔料を分散した溶液をいう）が塗布される。次いで、塗布された着色感材が、フォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンに形成される。そしてこの工程が、赤色、緑色、青色の各色について行われる。これにより各色の着色層５３が得られる。

　ブラックマトリックス形成工程で用いる方法は、樹脂ＢＭ法に限定されるものではない。たとえばクロムＢＭ法、重ね合わせ法などの公知の各種方法が適用できる。着色層形成工程で用いる方法も、着色感材法に限定されるものではない。たとえば印刷法、染色法、電着法、転写法、エッチング法など、公知の各種方法が適用できる。また、先に着色層が形成され、その後にブラックマトリックスが形成される背面露光法を用いてもよい。

　保護膜形成工程では、ブラックマトリックス５２および着色層５３の表面に、保護膜５４が形成される。たとえば、前記工程を経た透明基板５１の表面に、スピンコータを用いて保護膜材料が塗布される方法（全面塗布法）や、印刷またはフォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンの保護膜が形成される方法（パターニング法）などが適用できる。保護膜材料には、たとえばアクリル樹脂やエポキシ樹脂などが適用できる。

　透明電極（共通電極）膜形成工程においては、保護膜５４の表面に透明電極（共通電極）５５が形成される。たとえばマスキング法であれば、前記工程を経た透明基板５１の表面にマスクが配置され、スパッタリングなどによってインジウム酸化スズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）などを蒸着させて透明電極（共通電極）５５が形成される。

　次いで配向規制構造物５６が形成される。この配向規制構造物５６は、たとえば感光性の樹脂材料などからなり、フォトリソグラフィ法などを用いて形成される。前記工程を経た透明基板５１の表面に感光性材料が塗布され、フォトマスクを通じて所定のパターンに露光される。そしてその後の現像工程において不要な部分が除去され、所定のパターンの配向規制構造物５６が得られる。

　このような工程を経て、対向基板５が得られる。

　次いで、パネル製造工程（セル製造工程とも称する）について説明する。図９は、本発明の実施形態にかかる表示パネル６の一部の断面構造を、模式的に示した断面図である。図９に示すように、本発明の実施形態にかかる表示パネル６は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａまたは第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂと、対向基板（カラーフィルタ）５とを有する。そしてこれらの基板１ａ，１ｂ，５が所定の微小な間隔をおいて対向して配設される。本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂのシールパターン領域１２３にはシール材が塗布され、塗布されたシール材により表示領域１１を囲繞するようにシール６３が形成される。このシール６３により本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂと対向基板（カラーフィルタ）５とが接着固定されるとともに、シール６３に囲まれる領域に液晶を封止する。

　まず、前記工程を経て得たＴＦＴアレイ基板（すなわち本発明のいずれかの実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂ）と対向基板（カラーフィルタ）５のそれぞれの表面に、配向膜６１，６２が形成される。そして形成された配向膜６１，６２に配向処理が施される。その後、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂと対向基板５とが貼り合わせるとともに、これらの間に液晶が充填される。

　本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂと対向基板５のそれぞれの表面に配向膜６１，６２を形成する方法は次のとおりである。まず配向材塗布装置などを用いて、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂと対向基板５のそれぞれの表示領域の表面に配向材が塗布される。配向材とは、配向膜の原料となる物質を含む溶液をいう。配向材塗布装置には、インクジェット方式の印刷装置（ディスペンサ）が適用できる。

　滴下された配向材のうち、配線１１６ａ，１１６ｂ，１１７ａ，１１７ｂ，１１８ａ，１１８ｂの表面に乗ったものは、配線１１６ａ，１１６ｂ，１１７ａ，１１７ｂ，１１８ａ，１１８ｂに沿って流動し、濡れ拡がろうとする。しかしながら前記の通り、表示領域１１から延出してシールパターン領域１２３に到達する配線１１６ａ，１１６ｂ，１１７ａ，１１７ｂ，１１８ａ，１１８ｂには、表示領域１１とシールパターン領域１２３との間およびシールパターン領域１２３に、スリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃまたはつづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆが形成される。そして、これらのスリット状の開口部１１９ａ，１１９ｂ，１１９ｃやつづら折り状に形成される部分１１９ｄ，１１９ｅ，１１９ｆが、配向材の流動を阻止する。

　このため、配線１１６ａ，１１６ｂ，１１７ａ，１１７ｂ，１１８ａ，１１８ｂ上に滴下された配向材が、配線１１６ａ，１１６ｂ，１１７ａ，１１７ｂ，１１８ａ，１１８ｂを伝わって、シールパターン領域１２３に到達することを防止することができる。また、配向材がシールパターン領域１２３に達した場合であっても、シールパターン領域１２３の全域に広がることやシールパターン領域１２３を横断してシールパターン領域１２３の外側に達することが防止できる。この結果、配向膜６１がシールパターン領域１２３やシールパターン領域１２３の外側に形成されることを防止できる。

　塗布された配向材６１，６２は、配向膜焼成装置などを用いて加熱され、焼成される。

　次いで、焼成された配向膜６１，６２に配向処理が施される。この配向処理としては、ラビングロールなどを用いて配向膜の表面に微小な傷をつける方法や、配向膜の表面に紫外線などの光エネルギを照射して配向膜の表面性状を調整する光配向処理など、公知の各種処理方法が適用できる。また、配向処理を施さない構成であっても良い。

　次いで、シールパターニング装置などを用いて、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂのシールパターン領域１２３にシール材が塗布される。

　そしてスペーサ散布装置などを用いて、セルギャップを所定の値に均一に保つためのスペーサが、本発明の実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂの表面に散布される。そして、液晶滴下装置などを用いて、本発明のいずれかの実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂの表面のシール材に囲まれる領域に、液晶が滴下される。

　そして、減圧雰囲気下で本発明のいずれかの実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ，１ｂと対向基板５とが貼り合わせられる。そしてシール材に紫外線が照射され、シール材を固化させる。なお、シール材を固化させた後に、本発明のいずれかの実施形態にかかる表示パネル用の基板と対向基板（カラーフィルタ）の間に液晶が注入される方法であってもよい。

　このような工程を経て、本発明の実施形態にかかる表示パネルが得られる。

　以上、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明したが、本発明は前記各実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において種々の改変が可能であることはいうまでもない。

Claims

　複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、
該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、
前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、
を備え、
　前記配線のうちの前記表示領域と前記シールパターン領域との間の領域に形成される部分には開口部が形成されることを特徴とする表示パネル用の基板。
　前記開口部は、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行に延伸するスリット状に形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル用の基板。
　複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、
該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、
前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、
を備え、
　前記配線のうちの前記シールパターン領域に形成される部分には開口部が形成されることを特徴とする表示パネル用の基板。
　前記開口部は、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行に延伸するスリット状に形成されることを特徴とする請求項３に記載の表示パネル用の基板。
　複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、
該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、
前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、
を備え、
　前記配線のうちの前記表示領域と前記シールパターン領域との間の領域に形成される部分にはつづら折り状に形成される部分を有することを特徴とする表示パネル用の基板。
　前記つづら折り状に形成される部分には、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行に延伸する部分が含まれることを特徴とする請求項５に記載の表示パネル用の基板。
　複数の絵素電極がマトリックス状に配列される表示領域と、
該表示領域を囲繞するように形成されるシールパターン領域と、
前記表示領域内に配列される所定の絵素に所定の信号を伝送することができる配線と、
を備え、
　前記配線のうちの前記シールパターン領域に形成される部分にはつづら折り状に形成される部分を有することを特徴とする表示パネル用の基板。
　前記つづら折り状に形成される部分には、近接するシールパターン領域の延伸方向に略平行に延伸する部分が含まれることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル用の基板。
　前記配線はデータ線であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
　前記配線は走査線であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
　請求項１から請求項１０のいずれかに記載の表示パネル用の基板と、対向基板とを備えることを特徴とする表示パネル。