WO2010034691A1 - Verfahren zur leckprüfung einer vakuumprozessanlage - Google Patents

Verfahren zur leckprüfung einer vakuumprozessanlage Download PDF

Info

Publication number
WO2010034691A1
WO2010034691A1 PCT/EP2009/062210 EP2009062210W WO2010034691A1 WO 2010034691 A1 WO2010034691 A1 WO 2010034691A1 EP 2009062210 W EP2009062210 W EP 2009062210W WO 2010034691 A1 WO2010034691 A1 WO 2010034691A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
vacuum
process chamber
helium
pipe
partial pressure
Prior art date
Application number
PCT/EP2009/062210
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Werner Grosse Bley
Daniel Wetzig
Ralf Hirche
Original Assignee
Inficon Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inficon Gmbh filed Critical Inficon Gmbh
Publication of WO2010034691A1 publication Critical patent/WO2010034691A1/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M3/00—Investigating fluid-tightness of structures
    • G01M3/02—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum
    • G01M3/04—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point
    • G01M3/20—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material
    • G01M3/22—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material for pipes, cables or tubes; for pipe joints or seals; for valves; for welds; for containers, e.g. radiators
    • G01M3/226—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material for pipes, cables or tubes; for pipe joints or seals; for valves; for welds; for containers, e.g. radiators for containers, e.g. radiators
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M3/00—Investigating fluid-tightness of structures
    • G01M3/02—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum
    • G01M3/04—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point
    • G01M3/20—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material
    • G01M3/202—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material using mass spectrometer detection systems
    • G01M3/205—Accessories or associated equipment; Pump constructions

Definitions

  • the invention relates to a method for leak testing a vacuum processing system having a process chamber and an attached plant pumping device for generating vacuum, a helium leak detector for connection to a vacuum process plant and a combination of a vacuum process plant with a helium leak detector.
  • Vacuum process equipment which have a process chamber, are systems for the production or processing of workpieces under vacuum, for example for coating glass sheets by vapor deposition of materials or for Execution of processes in which oxidation of the workpieces must be prevented.
  • Such vacuum process plants have one
  • the vacuum processing system includes the process chamber and the system pumping device.
  • Vacuum process equipment must be checked for the presence of leaks.
  • a localized helium-containing atmosphere is generated outside the process chamber.
  • a helium leak detector detects if helium has entered the evacuated process chamber.
  • the usual helium leak detectors include a mass spectrometer and a vacuum pumping apparatus capable of producing a high vacuum with pressures less than or equal to 1 mbar.
  • the vacuum pumping device in the leak detector provides a defined gas flow from the test object into the leak detector.
  • the normally short time constant of the leak detector adds up to the system time constant.
  • the leak detector is connected via a throttle. Then, the gas exchange time can be kept short if this throttle is close to the gas flow of the plant and behind it is a line under high vacuum, which is exposed to the pumping action of the leak detector.
  • DE 100 31 882 A1 (Leybold) describes a sensor for helium or hydrogen, which is designed as a partial pressure sensor and makes the use of expensive mass spectrometers dispensable.
  • the sensor contains a helium-selectively permeable membrane that defines a sensor chamber and a pressure sensor inside the sensor chamber.
  • the sensor works at any ambient pressure.
  • DE 10 2004 034 381 A1 (Inficon) describes a gas sensor which contains a pressure sensor in a detection chamber, which is closed by a membrane which is selectively permeable to the detection gas.
  • the detection chamber is connected to a getter pump, which withdraws the gas from it.
  • helium leak detectors which consist of mass spectrometer and vacuum pumping device, are usually not suitable for mobile service use, because they have a large weight and a considerable size. They are difficult to transport, sensitive to damage and expensive.
  • the user or in-service user of a vacuum process plant wants a helium leak detector which is easy to transport, lightweight and small in size. Another condition is a low response time, if possible in the single-digit second range.
  • the invention has for its object to provide a method for leak testing a vacuum processing system that meets these requirements and requires little equipment.
  • the inventive method is defined by the patent claim 1. It is characterized in that the process chamber is evacuated by operation of the plant pump device belonging to the vacuum process plant, and that a selective pressure sensor responsive to helium is connected to the vacuum process plant.
  • the invention takes advantage of the fact that a vacuum processing plant has its own vacuum pumping device, which is sufficient to generate the vacuum in the height required for plant operation. This vacuum is used to suck the helium sprayed outside the process chamber into the process chamber.
  • a partial pressure sensor independent of the total pressure, which does not require its own vacuum or high vacuum.
  • the partial pressure sensor can be connected to the Flanged process chamber or its outlet. It does not contain its own pump. So he measures helium partial pressures. In this way, a leak detection is possible.
  • the Partial horrsensor has a low weight and can be easily transported as a baggage.
  • the Helium Leak Detector can also be used to determine the leak rate if the effective equipment suction capacity for helium is known or the gauge has been calibrated over a known leak.
  • the invention further relates to a helium leak detector for connection to a vacuum process plant and to a combination of a vacuum process plant with a helium detector.
  • the test gas (helium) is not sucked into the helium sensor by means of vacuum. Rather, the helium penetrates due to the concentration gradient by diffusion in the partial pressure sensor. Thus, no flow is generated by pressure difference, but a diffusion flow to the location of the lower helium partial pressure.
  • the distance between the helium sensor and the process chamber is to be kept as short as possible.
  • the diameter of the connecting line must be so large that, irrespective of the level of the vacuum, there is sufficient conductivity for gas exchange. The diameter can therefore be kept relatively small. In the fine vacuum range, it may be less than 10mm, typically even only 5mm.
  • the cross-section need only be so large that the free path of the helium atoms is not affected. The free path depends on the respective total pressure.
  • the invention is suitable for the testing of process chambers both in a fine vacuum at 0, lmbar ⁇ p ⁇ lOmbar and also in a high vacuum at p ⁇ 0, lmbar.
  • the gas exchange time is determined by the induction time for gas diffusion.
  • the diameter of the connecting pipe between the vacuum processing system and the partial pressure sensor plays a negligible role, as long as it is not smaller than the mean free path, whereby the diffusion would be hindered.
  • the free path in air is only about 7 ⁇ m, so that nominal diameters of a few millimeters are already sufficiently large.
  • the length of the connection pipe is of crucial importance for the response time since the induction time for gas diffusion increases quadratically with the connection length.
  • the induction time increases only linearly. If at a pressure of 5 mbar the length of the pipeline is about 15 cm, a gas exchange time of 5 seconds is achieved, which is acceptable for the system leak detection.
  • the gas exchange time is given by the conductivity of the pipeline and the dead volume of pipeline and sensor.
  • the dead volume With a pipeline of 25mm inner diameter and 20cm length, the dead volume is about 0.11.
  • the conductance for molecular flow is about 101 / s and the resulting time constant 10ms.
  • the sensor dead volume of a few cm 3 extends this value negligibly.
  • the response time of the sensor is thus determined even without its own pump only of the intrinsic electrical time constant of the sensor.
  • the drawing shows the leak test of a vacuum processing system.
  • the vacuum processing system 10 has a process chamber 11, which is, for example, an autoclave in which workpieces are under vacuum can be made or edited.
  • the process chamber 11 is connected to a vacuum pumping device 12, which generates the required vacuum.
  • the vacuum pumping device 12 is two-stage. It includes a vacuum pump 13 and a roughing pump 14.
  • the vacuum pump 13 is, for example, a Roots pump, and the roughing pump 14 is a spool pump.
  • the outlet 15 of the vacuum pumping device 12 is at atmospheric pressure.
  • the two pumps 13 and 14 are connected by a connecting line 16.
  • a branch line 17 is connected, which leads to a connection flange 18 of the vacuum processing system.
  • a partial pressure sensor 20 for helium with a pipe socket 19 is connected to the connecting flange 18.
  • the branch line 17 and the pipe socket 19 together form the pipe 21, whose length determines the distance of the partial pressure sensor 20 from the connecting line 16, in which the pumped gas flow flows.
  • the partial pressure sensor 20 is designed in the same way as described in DE 100 31 882 A1, which is hereby incorporated by reference into the present application.
  • the helium sensor has a detection chamber bounded by a helium-permeable wall.
  • a pressure sensor for example in the form of a Penning pressure sensor, as described in DE 10 2004 034 381 Al. This provides an indication corresponding to the helium partial pressure.
  • the process chamber When testing the process chamber 11 for leaks, the process chamber is first evacuated with the system pumping device 12. Then, a helium-containing atmosphere is generated outside the process chamber. This is done here with a spray gun 25 which is connected to a helium gas bottle 26. When there is a leak in the tank wall, a leakage flow Q L flows into the tank interior.
  • a spray gun can also a partial test, in which a limited outer area of the process chamber is wrapped and helium is introduced into the enclosure. Both methods are suitable for the localization of leaks or the examination of limited areas, such as welds or connecting pieces.
  • Another test method is the integral test, which envelops the entire process chamber.
  • the partial pressure sensor 20 measures the helium partial pressure p He , which results from the system leak rate q He and the installed pumping speed S A , H e for helium:
  • the response time is given by
  • the invention enables a leak test of a vacuum process system with simple equipment with a short response time.
  • a significant advantage is that the equipment for the leak test does not have its own pumping device.

Abstract

Eine Vakuumprozessanlage (10), die eine Prozesskammer (11) und eine daran angeschlossene Anlagenpumpvorrichtung (12) aufweist, soll auf Lecks untersucht werden. Hierzu wird die Prozesskammer (11) evakuiert und außerhalb der Prozesskammer wird eine Helium enthaltende Atmosphäre erzeugt. An die Prozesskammer (11) oder eine damit verbundene Rohrleitung wird ein pumpenloser Partialdrucksensor (20) angeschlossen, der den Helium-Partialdruck misst. Eine eigene Vakuumerzeugung am Heliumleckdetektor ist nicht erforderlich.

Description

Verfahren zur Leckprüfunq einer Vakuumprozessanlage
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Leckprüfung einer Vakuumprozessanlage, die eine Prozesskammer und eine daran angeschlossene Anlagenpumpvorrichtung zur Vakuumerzeugung aufweist, einen Heliumleckdetektor zum Anschluss an eine Vakuumprozessanlage und eine Kombination einer Vakuumprozessanlage mit einem Heliumleckdetektor.
Vakuumprozessanlagen, die eine Prozesskammer aufweisen, sind Anlagen zur Erzeugung oder zum Bearbeiten von Werkstücken unter Vakuum, beispielsweise zum Beschichten von Glasscheiben durch Aufdampfen von Materialien oder zur Durchführung von Prozessen, bei denen Oxidation der Werkstücke verhindert werden muss. Solche Vakuumprozessanlagen haben eine
Anlagenpumpvorrichtung, die in der Prozesskammer das Vakuum in der benötigten Größe erzeugen kann. Zur Vakuumprozessanlage gehören die Prozesskammer sowie die Anlagenpumpvorrichtung. Vakuumprozessanlagen müssen auf das Vorhandensein von Lecks geprüft werden. Hierzu wird außerhalb der Prozesskammer eine örtlich begrenzte Helium enthaltende Atmosphäre erzeugt. Mit einem Heliumleckdetektor wird festgestellt, ob Helium in die evakuierte Prozesskammer eingedrungen ist. Die üblichen Heliumleckdetektoren enthalten ein Massenspektrometer und eine Vakuumpumpvorrichtung, die geeignet ist, ein Hochvakuum mit Drücken kleiner 0,lmbar zu erzeugen. Die Vakuumpumpvorrichtung im Leckdetektor sorgt für einen definierten Gasstrom aus dem Testobjekt in den Leckdetektor. Die normalerweise kurze Zeitkonstante des Leckdetektors addiert sich zur Anlagenzeitkonstante. Bei Feinvakuumdruck wird der Leckdetektor über eine Drossel angeschlossen. Dann kann die Gasaustauschzeit nur kurz gehalten werden, wenn diese Drossel nahe an dem Gasstrom der Anlage ist und sich dahinter eine Leitung unter Hochvakuum befindet, die der Pumpwirkung des Leckdetektors ausgesetzt ist.
Insbesondere bei Groblecks oder zu Beginn der Evakuierung können Drücke auftreten, die im Feinvakuumbereich (0,l-100mbar) liegen. Gerade dann aber möchte man eine Lecksuche durchführen, um die Groblecks abzudichten und den Arbeitsdruck zu erreichen, bei dem dann die Feinlecksuche stattfindet.
In DE 100 31 882 Al (Leybold) ist ein Sensor für Helium oder Wasserstoff beschrieben, der als Partialdrucksensor ausgebildet ist und den Einsatz teurer Massenspektrometer entbehrlich macht. Der Sensor enthält eine für Helium selektiv durchlässige Membran, die eine Sensorkammer begrenzt und im Inneren der Sensorkammer einen Drucksensor. Der Sensor arbeitet bei beliebigen Umgebungsdrücken. In DE 10 2004 034 381 Al (Inficon) ist ein Gassensor beschrieben, der in einer Detektionskammer, die durch eine für das Detektionsgas selektiv durchlässige Membran abgeschlossen ist, einen Drucksensor enthält. Die Detektionskammer ist mit einer Getterpumpe verbunden, welche das Gas aus ihr abzieht.
Die üblichen Heliumleckdetektoren, die aus Massenspektrometer und Vakuumpumpvorrichtung bestehen, eignen sich in der Regel nicht für mobile Serviceeinsätze, weil sie ein großes Gewicht und eine erhebliche Baugröße haben. Sie sind schwierig zu transportieren, empfindlich gegen Beschädigungen und teuer. Der Benutzer oder In-Betrieb-Nehmer einer Vakuumprozessanlage möchte einen Heliumleckdetektor, der leicht zu transportieren ist, ein geringes Gewicht und eine geringe Baugröße hat. Eine weitere Bedingung ist eine geringe Ansprechzeit, möglichst im einstelligen Sekundenbereich.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Leckprüfung einer Vakuumprozessanlage anzugeben, das diesen Anforderungen gerecht wird und wenig apparativen Aufwand erfordert.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist durch den Patentanspruch 1 definiert. Es ist dadurch gekennzeichnet, dass die Prozesskammer durch Betrieb der zur Vakuumprozessanlage gehörenden Anlagenpumpvorrichtung evakuiert wird, und dass an die Vakuumprozessanlage ein selektiv auf Helium ansprechender Partialdrucksensor angeschlossen wird.
Die Erfindung macht sich den Umstand zunutze, dass eine Vakuumprozessanlage eine eigene Vakuumpumpvorrichtung hat, die zur Erzeugung des Vakuums in der für den Anlagenbetrieb benötigten Höhe ausreicht. Dieses Vakuum wird dazu benutzt, das außerhalb der Prozesskammer versprühte Helium in die Prozesskammer einzusaugen. An die Prozesskammer ist ein vom Gesamtdruck unabhängiger Partialdrucksensor angeschlossen, der kein eigenes Vakuum und auch kein Hochvakuum benötigt. Der Partialdrucksensor kann an die Prozesskammer oder deren Auslass angeflanscht werden. Er enthält keine eigene Pumpe. Er misst also Helium-Partialdrücke. Auf diese Weise ist eine Leckerkennung möglich. Der Partialdrucksensor hat ein geringes Gewicht und lässt sich leicht auch als Fluggepäck transportieren.
Der Heliumleckdetektor kann auch zur Bestimmung der Leckrate benutzt werden, wenn das wirksame Anlagensaugvermögen für Helium bekannt ist oder die Anzeige über ein bekanntes Testleck kalibriert wurde.
Die Erfindung betrifft ferner einen Heliumleckdetektor zum Anschluss an eine Vakuumprozessanlage sowie eine Kombination einer Vakuumprozessanlage mit einem Heliumdetektor.
Bei der vorliegenden Erfindung erfolgt kein Einsaugen des Testgases (Helium) in den Heliumsensor mittels Vakuum. Vielmehr dringt das Helium aufgrund des Konzentrationsgradienten durch Diffusion in den Partialdrucksensor ein. Es wird also keine Strömung durch Druckdifferenz erzeugt, sondern eine Diffusionsströmung zum Ort des geringeren Helium-Partialdrucks.
Für die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es wichtig, eine kurze Ansprechzeit des Heliumleckdetektors zu erhalten. Hierzu ist der Abstand zwischen dem Heliumsensor und der Prozesskammer möglichst kurz zu halten. Der Durchmesser der Anschlussleitung muss so groß sein, dass unabhängig von der Höhe des Vakuums ein ausreichender Leitwert zum Gasaustausch vorhanden ist. Der Durchmesser kann also relativ klein gehalten werden. Im Feinvakuumbereich darf er kleiner als 10mm sein, typischerweise sogar nur 5mm betragen. Der Querschnitt muss nur so groß sein, dass die freie Weglänge der Heliumatome nicht beeinflusst wird. Die freie Weglänge ist abhängig von dem jeweiligen Gesamtdruck. O
Die Erfindung eignet sich für die Prüfung von Prozesskammern sowohl im Feinvakuum bei 0,lmbar < p < lOmbar sowie ebenfalls im Hochvakuum bei p < 0,lmbar. Im Feinvakuum ist die Gasaustauschzeit bestimmt durch die Induktionszeit für Gasdiffusion. Hier spielt der Durchmesser des Anschlussrohres zwischen der Vakuumprozessanlage und dem Partialdrucksensor eine vernachlässigbare Rolle, solange er nicht kleiner ist als die mittlere freie Weglänge, wodurch die Diffusion behindert würde. Bei lOmbar ist die freie Weglänge in Luft nur ca. 7μm, so dass Nennweiten von wenigen Millimetern bereits ausreichend groß sind. Die Länge des Anschlussrohres ist allerdings von entscheidender Bedeutung für die Ansprechzeit, da die Induktionszeit für Gasdiffusion quadratisch mit der Anschlusslänge ansteigt. Mit dem Druck in der Leitung steigt die Induktionszeit dagegen nur linear. Wenn bei einem Druck von 5mbar die Länge der Rohrleitung ca. 15cm beträgt, erreicht man eine Gasaustauschzeit von 5sec, was für die Anlagenlecksuche akzeptabel ist.
Bei Betrieb im Hochvakuum ist die Gasaustauschzeit gegeben durch den Leitwert der Rohrleitung und das Totvolumen von Rohrleitung und Sensor. Bei einer Rohrleitung von 25mm Innendurchmesser und 20cm Länge beträgt das Totvolumen ca. 0,11. Der Leitwert für molekulare Strömung beträgt ca. 101/s und die resultierende Zeitkonstante 10ms. Das Sensortotvolumen von einigen cm3 verlängert diesen Wert vernachlässigbar. Im Hochvakuum ist also die Ansprechzeit des Sensors auch ohne eigene Pumpe nur von der intrinsischen elektrischen Zeitkonstante des Sensors bestimmt.
Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die einzige Figur der Zeichnung ein Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutert.
In der Zeichnung ist die Leckprüfung einer Vakuumprozessanlage dargestellt.
Die Vakuumprozessanlage 10 weist eine Prozesskammer 11 auf, bei der es sich beispielsweise um einen Autoklaven handelt, in dem Werkstücke unter Vakuum hergestellt oder bearbeitet werden können. Die Prozesskammer 11 ist an eine Vakuumpumpvorrichtung 12 angeschlossen, die das erforderliche Vakuum erzeugt. Die Vakuumpumpvorrichtung 12 ist zweistufig. Sie enthält eine Vakuumpumpe 13 und eine Vorvakuumpumpe 14. Die Vakuumpumpe 13 ist beispielsweise eine Roots-Pumpe und die Vorvakuumpumpe 14 ist eine Schieberpumpe. Der Auslass 15 der Vakuumpumpvorrichtung 12 liegt auf Atmosphärendruck. Die beiden Pumpen 13 und 14 sind durch eine Verbindungsleitung 16 verbunden.
An die Verbindungsleitung 16 ist eine Abzweigleitung 17 angeschlossen, die zu einem Anschlussflansch 18 der Vakuumprozessanlage führt. An den Anschlussflansch 18 ist ein Partialdrucksensor 20 für Helium mit einem Rohrstutzen 19 angeschlossen. Die Abzweigleitung 17 und der Rohrstutzen 19 bilden gemeinsam die Rohrleitung 21, deren Länge den Abstand des Partialdrucksensors 20 von der Verbindungsleitung 16 bestimmt, in der der gepumpte Gasstrom fließt.
Der Partialdrucksensor 20 ist in gleicher Weise ausgebildet, wie in DE 100 31 882 Al beschrieben ist, die hiermit durch Verweis in die vorliegende Anmeldung einbezogen wird. Der Heliumsensor weist eine Detektionskammer auf, die von einer selektiv für Helium durchlässigen Wand begrenzt ist. In der Detektionskammer befindet sich ein Drucksensor, beispielsweise in Form eines Penning-Drucksensors, wie auch in DE 10 2004 034 381 Al beschrieben ist. Dieser liefert eine dem Helium-Partialdruck entsprechende Anzeige.
Bei der Prüfung der Prozesskammer 11 auf Dichtheit wird die Prozesskammer zunächst mit der Anlagenpumpvorrichtung 12 evakuiert. Dann wird außerhalb der Prozesskammer eine Helium enthaltende Atmosphäre erzeugt. Dies geschieht hier mit einer Sprühpistole 25, die mit einer Heliumgasflasche 26 verbunden ist. Wenn sich ein Leck in der Behälterwand befindet, fließt ein Leckstrom QL in das Behälterinnere. Anstelle einer lokalen Prüfung mit Sprühpistole kann auch eine partielle Prüfung erfolgen, bei der ein begrenzter Außenbereich der Prozesskammer eingehüllt wird und in die Umhüllung Helium eingeführt wird. Beide Methoden eignen sich für die Lokalisierung von Lecks bzw. die Prüfung begrenzter Bereiche, wie beispielsweise Schweißnähte oder Anschlussstutzen. Eine weitere Prüfmethode ist die integrale Prüfung, bei der die gesamte Prozesskammer eingehüllt wird.
Der Partialdrucksensor 20 misst den Helium-Partialdruck pHe, der sich aus der Anlagenleckrate qHe und dem installierten Saugvermögen SA,He für Helium ergibt:
P He -
S He
Um das unbekannte Anlagensaugvermögen zu eliminieren, wird zur Kalibrierung ein bekanntes Prüfleck mit der Leckrate QTL gemessen. Mit dem zugehörigen Partialdruck dieses Prüflecks pTL ergeben sich die Heliumleckraten qHe der Anlage aus den gemessenen Partialdrücken pHe wie folgt:
gemessen HTL _ r gemessen
1I He — P He ' gemessen ~ J CAL ' PHe
P TL
Die Ansprechzeit ist gegeben durch
1. die Zeitkonstante der Anlage, definiert als
γ Anlage
(63% vom Endwert)
Anlage
und zusätzlich 2. durch die Gasaustauschzeit in der Rohrleitung zum Leckdetektor bzw. Sensor. Die Anlagenzeitkonstante ist nicht beeinflussbar, die Zeit für den Gasaustausch mit dem Leckdetektor/Sensor addiert sich dazu und muss deshalb kurz gehalten werden.
Die Erfindung ermöglicht eine Leckprüfung einer Vakuumprozessanlage mit einfachen apparativen Mitteln bei kurzer Ansprechzeit. Ein wesentlicher Vorteil liegt darin, dass die Ausrüstung für die Leckprüfung keine eigene Pumpvorrichtung aufweist.

Claims

_ g _Patentansprüche
1. Verfahren zur Leckprüfung einer Vakuumprozessanlage (10), die eine Prozesskammer (11) und eine daran angeschlossene Anlagenpumpvorrichtung (12) zur Vakuumerzeugung aufweist, bei welchem außerhalb der Prozesskammer (11) eine Helium enthaltende Atmosphäre erzeugt wird und das Eindringen von Helium in die Prozesskammer detektiert wird,
d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , d a s s
die Prozesskammer (11) durch Betrieb der Anlagenpumpvorrichtung (12) evakuiert wird, und dass an die Vakuumprozessanlage (10) ein selektiv auf Helium ansprechender pumpenloser Partialdrucksensor (20) angeschlossen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor (20) an eine Saugleitung der Anlagenpumpvorrichtung (12) angeschlossen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor an eine Verbindungsleitung (16) zwischen einer Vakuumpumpe (13) und einer Vorvakuumpumpe (14) der Anlagenpumpvorrichtung (12) angeschlossen wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor an einen Anschluss der Prozesskammer (11) angeschlossen wird.
5. Heliumleckdetektor zum Anschluss an eine Vakuumprozessanlage (10), die eine Prozesskammer (11) und eine daran angeschlossene Anlagenpumpvorrichtung (12) zur Vakuumerzeugung aufweist,
d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , d a s s
ein mit der Prozesskammer (11) verbindbarer, selektiv auf Helium ansprechender pumpenloser Partialdrucksensor (20) vorgesehen ist, der an die Prozesskammer oder eine damit verbundene Saugleitung anschließbar ist.
6. Heliumleckdetektor nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor (20) mit der Prozesskammer (11) durch eine Rohrleitung (21) verbindbar ist, deren Innendurchmesser kleiner ist als 10mm.
7. Heliumleckdetektor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Innendurchmesser der Rohrleitung (21) maximal 5mm beträgt.
8. Heliumleckdetektor nach einem der Ansprüche 5-7, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor (20) einen Rohrstutzen (19) aufweist, der mit einem Anschlussrohr (17) der Vakuumprozessanlage (10) verbindbar ist und zusammen mit dem Anschlussrohr eine Rohrleitung (21) bildet.
9. Heliumleckdetektor nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Länge der Rohrleitung (21) kleiner ist als 50cm, insbesondere kleiner als 25cm.
10. Kombination einer Vakuumprozessanlage (10), die eine Prozesskammer (11) und eine daran angeschlossene Anlagenpumpvorrichtung (12) zur Vakuumerzeugung aufweist, mit einem Heliumleckdetektor,
d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , d a s s
der Heliumleckdetektor ein pumpenloser Partialdrucksensor (20) ist, der an die Prozesskammer (11) oder eine damit verbundene Saugleitung angeschlossen ist.
11. Kombination nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor (20) mit der Prozesskammer (11) durch eine Rohrleitung (21) verbindbar ist, deren Innendurchmesser kleiner ist als 10mm.
12. Kombination nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor (20) einen Rohrstutzen (19) aufweist, der mit einem Anschlussrohr (17) der Vakuumprozessanlage (10) verbindbar ist und zusammen mit dem Anschlussrohr eine Rohrleitung (21) bildet.
13. Kombination nach einem der Ansprüche 10-12, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdrucksensor (20) einen Rohrstutzen (19) aufweist, der mit einem Anschlussrohr (17) der Vakuumprozessanlage (10) verbindbar ist und zusammen mit dem Anschlussrohr eine Rohrleitung (21) bildet.
14. Kombination nach einem der Ansprüche 10-13, dadurch gekennzeichnet, dass die Länge der Rohrleitung (21) kleiner ist als 50cm, insbesondere kleiner als 25cm.
PCT/EP2009/062210 2008-09-24 2009-09-21 Verfahren zur leckprüfung einer vakuumprozessanlage WO2010034691A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008048625A DE102008048625A1 (de) 2008-09-24 2008-09-24 Verfahren zur Leckprüfung einer Vakuumprozessanlage
DE102008048625.6 2008-09-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010034691A1 true WO2010034691A1 (de) 2010-04-01

Family

ID=41351480

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2009/062210 WO2010034691A1 (de) 2008-09-24 2009-09-21 Verfahren zur leckprüfung einer vakuumprozessanlage

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102008048625A1 (de)
WO (1) WO2010034691A1 (de)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3549882A (en) * 1968-09-30 1970-12-22 Nasa Leak detector wherein a probe is monitored with ultraviolet radiation
US3939695A (en) * 1974-02-26 1976-02-24 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Apparatus for detecting leaks
WO2001044775A1 (de) * 1999-12-14 2001-06-21 Inficon Gmbh Verfahren zur lecksuche und lecklokalisierung sowie zur durchführung dieser verfahren geeignete vorrichtungen
US6286362B1 (en) * 1999-03-31 2001-09-11 Applied Materials, Inc. Dual mode leak detector
DE10031882A1 (de) * 2000-06-30 2002-01-10 Leybold Vakuum Gmbh Sensor für Helium oder Wasserstoff
WO2009068614A1 (de) * 2007-12-01 2009-06-04 Inficon Gmbh Verfahren und vorrichtung zur dichtheitsprüfung

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100549946B1 (ko) * 2003-10-20 2006-02-07 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 진공누설 검출장치
DE102004034381A1 (de) 2004-07-16 2006-02-16 Inficon Gmbh Gassensor und Verfahren zum Betreiben einer Getterpumpe

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3549882A (en) * 1968-09-30 1970-12-22 Nasa Leak detector wherein a probe is monitored with ultraviolet radiation
US3939695A (en) * 1974-02-26 1976-02-24 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Apparatus for detecting leaks
US6286362B1 (en) * 1999-03-31 2001-09-11 Applied Materials, Inc. Dual mode leak detector
WO2001044775A1 (de) * 1999-12-14 2001-06-21 Inficon Gmbh Verfahren zur lecksuche und lecklokalisierung sowie zur durchführung dieser verfahren geeignete vorrichtungen
DE10031882A1 (de) * 2000-06-30 2002-01-10 Leybold Vakuum Gmbh Sensor für Helium oder Wasserstoff
WO2009068614A1 (de) * 2007-12-01 2009-06-04 Inficon Gmbh Verfahren und vorrichtung zur dichtheitsprüfung

Also Published As

Publication number Publication date
DE102008048625A1 (de) 2010-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2217902B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur dichtheitsprüfung
DE3828588C1 (de)
DE602004013199T2 (de) System und verfahren zur bestimmung der lecksicherheit eines objekts
EP1880184B1 (de) Schnüffellecksucher mit quarzfenstersensor
EP2601498B1 (de) Lecksuchgerät
EP2399113B1 (de) Verfahren zur funktionsprüfung eines lecksuchgerätes
DE1937271A1 (de) Lecksuchgeraet
EP2780683A2 (de) Schnelle lecksuche an formsteifen/schlaffen verpackungen ohne zusatz von prüfgas
WO1993012411A1 (de) Lecksucher für vakuumanlagen sowie verfahren zur durchführung der lecksuche an vakuumanlagen
EP3374746B1 (de) Druckmessung am prüfgaseinlass
EP2399112A1 (de) Schnüffellecksucher
WO2013007432A1 (de) Lecksucheinrichtung sowie verfahren zum überprüfen von gegenständen auf dichtigkeit mittels einer lecksucheinrichtung
DE10156205A1 (de) Testgaslecksuchgerät
DE2441124A1 (de) Lecksucheinrichtung
WO2022135854A1 (de) Gaslecksuchvorrichtung und gaslecksuchverfahren zur erkennung eines gaslecks in einem prüfling
EP2917714A1 (de) Lecktestgerät
WO1998012529A1 (de) Verfahren zur untersuchung einer mehrzahl ähnlicher prüflinge auf lecks sowie für die durchführung dieses verfahrens geeigneter lecksucher
EP1309843A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur dichtheitsprüfung eines gasgenerators
EP2801808A1 (de) Dichtheitsprüfanordnung und Dichtheitsprüfverfahren
WO2010034691A1 (de) Verfahren zur leckprüfung einer vakuumprozessanlage
DE3426677C2 (de) Verfahren zur Leckprüfung eines Bauteils
DE2416950A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum pruefen von rohren
DE102021119256A1 (de) Leckdetektoren
DE3316765A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur lecksuche an turbinengehaeusen
EP3407048A1 (de) Prüfling-trocknungs- und dichtheitsprüfverfahren sowie -anordnung

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 09783249

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 09783249

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1