WO2010032352A1 - タッチパネル及びそれを備えた表示装置並びに液晶表示装置 - Google Patents

タッチパネル及びそれを備えた表示装置並びに液晶表示装置 Download PDF

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touch
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坂井健彦
千葉大
片岡義晴
渡部卓哉
西脇章剛
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    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
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    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
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Definitions

  • the present invention relates to a touch panel, a display device including the touch panel, and a liquid crystal display device.
  • the touch panel is a device that inputs information interactively to an information processing device such as a computer by touching (pressing) with a finger or a pen.
  • touch panels are classified into a resistive film method, a capacitive coupling method, an infrared method, an ultrasonic method, an electromagnetic induction coupling method, and the like according to the operation principle.
  • the resistive film type and capacitive coupling type touch panel can be mounted on a display device or the like at a low cost, they are often used in recent years.
  • the resistive film type touch panel is sandwiched between, for example, a pair of substrates disposed opposite to each other, a pair of transparent conductive films provided as resistance films inside the pair of substrates, and a pair of substrates. And an insulating spacer that forms an air layer between a pair of transparent conductive films, and a position detection circuit for detecting a touched position, for example, mounted on the front surface of a display screen of a liquid crystal display panel. Used.
  • the resistive film type touch panel having such a configuration, when the surface is touched, the pair of transparent conductive films are in contact (short circuit), and a current flows between the pair of transparent conductive films.
  • the position detection circuit detects the touched position based on a change in voltage when a current flows between the pair of transparent conductive films.
  • the liquid crystal display panel includes, for example, an active matrix substrate and a counter substrate which are arranged to face each other, and a liquid crystal layer provided between the active matrix substrate and the counter substrate.
  • the constituent substrate is composed of a pair of substrates constituting the touch panel, an active matrix substrate, and a counter substrate, and The thickness will increase.
  • Patent Document 1 discloses a touch sensor type liquid crystal display in which the fixed electrode plate constituting the touch sensor panel is abolished by using the color filter substrate of the liquid crystal display panel as the fixed electrode plate of the touch sensor.
  • An apparatus is disclosed. According to this, it is described that it is possible to reduce the thickness and weight of the touch sensor type liquid crystal display device and to prevent the deterioration of the optical characteristics.
  • the liquid crystal display device incorporating this matrix type resistive film type touch panel is, for example, for a plurality of first touch panels provided as one resistive film so as to extend parallel to each other on the surface of the active matrix substrate on the liquid crystal layer side.
  • An active matrix substrate including wiring and a plurality of second touch panel wirings provided on the surface of the counter substrate on the liquid crystal layer side as the other counter film so as to extend in parallel to each other in a direction orthogonal to each first touch panel wiring
  • the first touch panel wiring and the second touch panel wiring corresponding to the pressed position are in contact with each other to be conductive.
  • each first touch panel wiring or each second touch panel wiring has a touch pin provided in a columnar shape at the intersecting portion, and the first touch panel wiring at a pressed position via the touch pin and The second touch panel wirings are connected to each other.
  • an alignment film for aligning the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer must be provided on each surface of the active matrix substrate and the counter substrate on the liquid crystal layer side. It becomes a resistance component between two touch panel wirings, and there is a risk of hindering the function of the touch panel.
  • the above-described alignment film is not limited to the problem of the touch panel function.
  • the matrix type resistive film type touch panel alone, only the side surface of the touch pin is covered with an insulating film, and the top of the touch pin is exposed from the insulating film. This is effective because an unnecessary short circuit between the first touch panel wiring and the second touch panel wiring due to, for example, conductive foreign matter can be suppressed.
  • the present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to ensure conduction at the top of the touch pin in a matrix type resistive film type touch panel.
  • the first touch panel wiring and the second touch panel wiring each have a first touch pin and a second touch pin, and the first touch pin and the second touch pin are in contact with each other.
  • the first touch panel wiring and the second touch panel wiring are electrically connected to each other.
  • the liquid crystal display device is disposed so as to face the active matrix substrate, an active matrix substrate provided with a plurality of first touch panel wirings extending in parallel to each other, and each of the first touch panels.
  • a counter substrate provided with a plurality of second touch panel wirings extending in parallel to each other in a direction intersecting with the wirings, and a liquid crystal layer provided between the active matrix substrate and the counter substrate via an alignment film, respectively
  • the first touch panel wiring includes a plurality of first touch pins provided in a column shape in a region intersecting the second touch panel wiring, and the second touch panel wirings.
  • the touch panel wiring includes a plurality of second touch pins provided in a columnar shape in a region intersecting with the first touch panel wiring.
  • the first touch pins and the second touch pins are brought into contact with each other so that the first touch panel wirings and the second touch panel wirings are electrically connected to each other. It is comprised by these.
  • each first touch panel wiring on the active matrix substrate and each second touch panel wiring on the counter substrate cross each other through the (alignment film /) liquid crystal layer (/ alignment film).
  • each first touch panel wiring and each second touch panel wiring are respectively connected to each first touch pin provided on each first touch panel wiring and each second touch panel wiring. Since they are configured to be electrically connected to each other via the second touch pins provided on the touch panel wiring, a matrix type resistive film type touch panel is built in the liquid crystal display device.
  • the first touch pins and the second touch pins (top portions) provided in the columnar shape protrude on the respective surfaces of the active matrix substrate and the counter substrate, so that they are more flat than the flat portions of the active matrix substrate and the counter substrate. Hard to be covered with alignment film.
  • the first touch panel wiring and the second touch panel wiring are electrically connected to each other by the contact between the first touch pins and the second touch pins, the touch pins are provided only on one side of the active matrix substrate and the counter substrate. (For example, the first touch pin on the active matrix substrate exists and the second touch pin on the counter substrate does not exist, and the top of the first touch pin abuts when pressed.
  • the alignment film does not become a resistance component between the first touch panel wiring and the second touch panel wiring than in the case where the surface portion is easily covered with the alignment film. Therefore, in the matrix type resistive film type touch panel incorporated in the liquid crystal display device, it is possible to ensure conduction at the top of the touch pin.
  • each first touch pin or each second touch pin may be formed in a concave shape.
  • each 1st touch pin or each 2nd touch pin is formed in a concave shape
  • the convex part of the edge of the touch pin in which the top part was formed in a concave shape serves as a fulcrum of each, It is possible to suppress a constant short circuit due to sticking between the first touch panel wiring and each second touch panel wiring. Furthermore, since the contact area at the top increases, it is possible to further ensure conduction at the top of the touch pin.
  • the first touch pins and the second touch pins may be formed in a linear shape so as to cross each other.
  • each first touch pin and each second touch pin are formed in a linear shape so as to cross each other, even if a displacement occurs when the active matrix substrate and the counter substrate are bonded together, The first touch pins and the second touch pins can be brought into contact with each other.
  • the active matrix substrate includes a plurality of first display wirings provided so as to extend in parallel to each other and a plurality of second displays provided so as to extend in parallel with each other in a direction intersecting with each first display wiring.
  • the first touch panel wirings are provided along the first display wirings
  • the second touch panel wirings are provided along the second display wirings. It may be.
  • the active matrix substrate has a plurality of first display wirings extending in parallel with each other and a plurality of second display wirings extending in parallel with each other in a direction intersecting with each first display wiring. Since each first touch panel wiring is provided along each first display wiring and each second touch panel wiring is provided along each second display wiring, a plurality of gate lines extending in parallel to each other are provided.
  • An active matrix substrate including a plurality of source lines extending in parallel to each other in a direction intersecting each gate line, and each gate line or each first touch panel wiring provided along each source line, and each first A counter substrate having two touch panel wirings is specifically configured.
  • the active matrix substrate or the counter substrate may be provided with columnar photo spacers for defining the thickness of the liquid crystal layer.
  • the photo spacer is sandwiched between the active matrix substrate and the counter substrate. Therefore, when the surface of the active matrix substrate or the counter substrate is not pressed, the first spacer on the active matrix substrate. The insulating property between the one touch panel wiring and each second touch panel wiring on the counter substrate is held by the photo spacer.
  • the touch panel according to the present invention includes a first substrate on which a plurality of first touch panel wirings are provided so as to extend in parallel to each other, the first substrate facing the first substrate, and the first touch panel wirings.
  • a second substrate provided with a plurality of second touch panel wirings extending in parallel to each other in an intersecting direction, and an intermediate layer provided via a protective film between the first substrate and the second substrate, respectively.
  • Each of the first touch panel wirings includes a plurality of first touch pins provided in a column shape in a region intersecting with each of the second touch panel wirings, and each of the second touch panel wirings.
  • each first touch panel wiring on the first substrate and each second touch panel wiring on the second substrate intersect via the (protective film /) intermediate layer (/ protective film). Then, when the surface of the first substrate or the second substrate is pressed, each first touch panel wiring and each second touch panel wiring are each provided with each first touch pin provided on each first touch panel wiring, and each Since each of the second touch pins provided on the second touch panel wiring is configured to be electrically connected to each other, a matrix type resistive film type touch panel is specifically configured.
  • each 1st touch pin and each 2nd touch pin (top part) provided in column shape protrude in each surface of the 1st substrate and the 2nd substrate, the flat part in the 1st substrate and the 2nd substrate More difficult to cover with a protective film.
  • each first touch panel wiring and each second touch panel wiring are electrically connected to each other by contact between each first touch pin and each second touch pin, a touch pin is provided only on one side of the first substrate and the second substrate.
  • the first touch pin of the first substrate is present and the second touch pin of the second substrate is not present, and the top of the first touch pin contacts when pressed
  • the protective film does not become a resistance component between the first touch panel wiring and the second touch panel wiring than in the case where the surface portion is easily covered with the protective film. Therefore, in the matrix-type resistive film type touch panel, it is possible to ensure conduction at the top of the touch pin.
  • the display device includes the touch panel having the above-described configuration and a display panel disposed to face the touch panel.
  • the conduction at the top of the touch pin is ensured, so that the effect of the present invention is specifically achieved in the display device having the touch panel outside. Is done.
  • the first touch panel wiring and the second touch panel wiring each have the first touch pin and the second touch pin, and the first touch pin and the second touch pin are in contact with each other. Since the second touch panel wiring is configured to be electrically connected to each other, the conduction at the top of the touch pin can be ensured in the matrix type resistive film type touch panel.
  • FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal display device 50a according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the TFT portion of the active matrix substrate 20a constituting the liquid crystal display device 50a.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the display unit of the liquid crystal display device 50a.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the touch panel portion of the liquid crystal display device 50a.
  • FIG. 5 is a plan view of the counter substrate 30a constituting the liquid crystal display device 50a.
  • FIG. 6 is a perspective view of the first touch pin Pa and the second touch pin Pb constituting the liquid crystal display device 50a.
  • FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal display device 50b according to the second embodiment.
  • FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal display device 50a according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the TFT portion of the active matrix substrate 20a constituting the liquid crystal display device 50a.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of the touch panel portion of the liquid crystal display device 50b.
  • FIG. 9 is a plan view of the counter substrate 30b constituting the liquid crystal display device 50b.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 70 according to the third embodiment.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of the first touch pin Pa and the second touch pin Pb constituting the liquid crystal display device according to the fourth embodiment.
  • FIG. 12 is a plan view of the first touch pin Pa and the second touch pin Pb constituting the liquid crystal display device according to the fifth embodiment.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view of the touch panel portion of the liquid crystal display device 150 of the comparative example.
  • FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal display device 50a of the present embodiment.
  • 2 is a cross-sectional view of the TFT portion of the active matrix substrate 20a constituting the liquid crystal display device 50a
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the display portion of the liquid crystal display device 50a
  • FIG. 4 is a liquid crystal display device. It is sectional drawing of the touchscreen part of 50a.
  • FIG. 5 is a plan view of the counter substrate 30a constituting the liquid crystal display device 50a.
  • FIGS. 6A to 6C are perspective views of the first touch pin Pa and the second touch pin Pb constituting the liquid crystal display device 50a.
  • the liquid crystal display device 50a includes an active matrix substrate 20a and a counter substrate 30a that are arranged to face each other, a liquid crystal layer 40 provided between the active matrix substrate 20a and the counter substrate 30a, and an active matrix substrate 20a.
  • a sealing material (not shown) provided in a frame shape is provided for adhering the matrix substrate 20a and the counter substrate 30a to each other and enclosing the liquid crystal layer 40 between the active matrix substrate 20a and the counter substrate 30a.
  • the active matrix substrate 20a includes a plurality of gate lines 11 provided as first display lines so as to extend in parallel to each other on an insulating substrate 10a such as a glass substrate, and each gate line.
  • a gate insulating film 12 provided so as to cover 11, and a plurality of source lines 14 a provided on the gate insulating film 12 as second display wirings so as to extend in parallel to each other in a direction orthogonal to each gate line 11,
  • a plurality of TFTs 5 provided at each intersection of each gate line 11 and each source line 14a, and a first interlayer insulating film 15 and a second interlayer insulation provided in order so as to cover each source line 14a and each TFT 5
  • a plurality of pixel electrodes 19 a provided in a matrix on the film 16 and the second interlayer insulating film 16 and connected to the respective TFTs 5 are provided between the pixel electrodes 19 a.
  • a plurality of first touch panel wirings 19b provided so as to extend in parallel with each other so as to overlap each gate line 11a, and a part of each pixel electrode 19a and each first touch panel wiring 19b (each first touch pin described later) And an alignment film 9a provided so as to cover a portion other than Pa).
  • an interlayer insulating film constituted by two layers including the first interlayer insulating film 15 and the second interlayer insulating film 16 is exemplified, but this interlayer insulating film is constituted by one layer. Also good.
  • the TFT 5 includes a gate electrode 11 a in which each gate line 11 protrudes to the side, a gate insulating film 12 provided so as to cover the gate electrode 11 a, and a gate insulating film 12 on the gate insulating film 12.
  • a semiconductor layer 13 provided in an island shape at a position overlapping the gate electrode 11a, and a source electrode (14a) and a drain electrode 14b provided so as to face each other on the semiconductor layer 13 are provided.
  • the source electrode (14a) is a portion protruding to the side of each source line 14a. Further, as shown in FIG.
  • the drain electrode 14b is formed on the transparent electrode 17a constituting the pixel electrode 19a through the contact hole 16c formed in the laminated film of the first interlayer insulating film 15 and the second interlayer insulating film 16. It is connected.
  • the semiconductor layer 13 includes a lower intrinsic amorphous silicon layer 13a and an upper layer n + amorphous silicon layer 13b doped with phosphorus, and includes a source electrode (14a) and a drain electrode 14b. Intrinsic amorphous silicon layer 13a exposed from constitutes a channel region.
  • the pixel electrode 19a includes a transparent electrode 17a provided on the second interlayer insulating film 16, and a reflective electrode 18a stacked on the transparent electrode 17a.
  • the surface of the second interlayer insulating film 16 under the pixel electrode 19a (the reflective electrode 18a) is formed in an uneven shape as shown in FIG. 3, the surface of the second interlayer insulating film 16 is transparent.
  • the surface of the reflective electrode 18a provided via the electrode 17a is also formed in an uneven shape.
  • the first touch panel wiring 19b includes a transparent conductive layer 17b provided on the second interlayer insulating film 16 and a reflective conductive layer 18b stacked on the transparent conductive layer 17b. Yes.
  • the second interlayer insulating film 16 below the first touch panel wiring 19b is formed in a convex shape in a region intersecting with a BM upper layer portion 25a described later.
  • the wiring 19b has a first touch pin Pa formed in a column shape in the region.
  • the reflective region R is defined by the reflective electrode 18a, and the transparent region 17a exposed from the reflective electrode 18a is transmissive region. T is specified.
  • the counter substrate 30a is formed on, for example, an insulating substrate 10b such as a glass substrate, each gate line 11a (each first touch panel wiring 19b) on the active matrix substrate 20a, and A black matrix B provided in a frame shape and in a lattice shape in the frame so as to overlap each source line 14a, and a red layer 22a, a green layer 22b, and a blue layer provided in each opening of the black matrix B, respectively Color filter 22 including 22c, and each reflection region R of color filter 22, transparent layer 23a provided to compensate for an optical path difference in reflection region R and transmission region T, and each of the later-described components constituting black matrix B A plurality of BM lower layers 21a, a transparent region T of each color filter 22 and a transparent layer 23a (reflection region R) are provided so as to cover them.
  • an insulating substrate 10b such as a glass substrate
  • each gate line 11a each first touch panel wiring 19b
  • a black matrix B provided in a frame shape and in a lat
  • the black matrix B includes a BM lower layer portion 21a provided to overlap each gate line 11 (each first touch panel wiring 19b) on the active matrix substrate 20a, and an active matrix substrate.
  • BM upper layer portion 25a provided as second touch panel wiring so as to overlap each source line 14a on 20a.
  • the BM lower layer portion 21a is made of a resin, and is made of, for example, an organic insulating film in which a black pigment is dispersed.
  • the BM upper layer portion 25a is made of, for example, a light-shielding metal film such as a chromium film, and has conductivity. Further, as shown in FIG. 4, the BM upper layer portion 25a is provided with a convex resin layer 23b below the first touch panel wiring 19b, so that the BM upper layer portion 25a is formed in a columnar shape. It has 2 touch pins Pb.
  • the first touch pin Pa and the second touch pin Pb are, for example, a cylindrical shape as shown in FIG. 6A, a rectangular parallelepiped shape whose upper surface is square as shown in FIG. 6B, and FIG. As shown in c), the upper surface is formed in a rectangular parallelepiped shape or the like.
  • the common electrodes 24a are provided in stripes so as to extend in parallel with each other between the BM upper layer portions 25a.
  • the liquid crystal layer 40 is made of a nematic liquid crystal material having electro-optical characteristics.
  • the transflective liquid crystal display device 50a configured as described above reflects light incident from the counter substrate 30a side in the reflective region R by the reflective electrode 18a and from the backlight incident from the active matrix substrate 20a side in the transmissive region T. It is configured to transmit light.
  • the liquid crystal display device 50a when displaying an image, in each pixel, when the gate signal is sent from the gate line 11 to the gate electrode 11a and the TFT 5 is turned on, the source signal is sent from the source line 14a to the source. It is sent to the electrode (14a), and a predetermined charge is written into the pixel electrode 19a composed of the transparent electrode 17a and the reflective electrode 18a via the semiconductor layer 13 and the drain electrode 14b.
  • a potential difference is generated between each pixel electrode 19a of the active matrix substrate 20a and each common electrode 24a of the counter substrate 30a, and a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 40.
  • the liquid crystal display device 50a by changing the alignment state of the liquid crystal layer 40 according to the magnitude of the voltage applied to the liquid crystal layer 40, the light transmittance of the liquid crystal layer 40 is adjusted and an image is displayed.
  • the liquid crystal display device 50a when the surface of the active matrix substrate 20a or the counter substrate 30a is pressed, the first touch pins Pa of the first touch panel wiring 19b and the BM upper layer portion 25a (second touch panel wiring) first. When the two touch pins Pb come into contact with each other and are conducted, the pressed touch position is detected.
  • the manufacturing method of this embodiment includes an active matrix substrate manufacturing process, a counter substrate manufacturing process, and a substrate bonding process.
  • a titanium film, an aluminum film, a titanium film, and the like are sequentially formed on the entire substrate of the insulating substrate 10a such as a glass substrate by a sputtering method, and then patterned by photolithography to form the gate line 11 and the gate electrode.
  • 11a is formed to a thickness of about 4000 mm.
  • a silicon nitride film or the like is formed on the entire substrate on which the gate line 11 and the gate electrode 11a are formed by a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method, and the gate insulating film 12 is formed to a thickness of about 4000 mm. To do.
  • a plasma CVD Chemical Vapor Deposition
  • an intrinsic amorphous silicon film (thickness of about 2000 mm) and phosphorus-doped n + amorphous silicon film (thickness of about 500 mm) are formed on the entire substrate on which the gate insulating film 12 is formed by plasma CVD. Films are continuously formed, and then patterned into island shapes on the gate electrode (11a) by photolithography to form a semiconductor formation layer in which an intrinsic amorphous silicon layer and an n + amorphous silicon layer are stacked.
  • an aluminum film and a titanium film are sequentially formed on the entire substrate on which the semiconductor formation layer has been formed by sputtering, and then patterned by photolithography to form a source line 14a and a source electrode (14a).
  • the drain electrode 14b is formed to a thickness of about 2000 mm.
  • the n + amorphous silicon layer of the semiconductor formation layer is etched by using the source electrode (14a) and the drain electrode 14b as a mask, thereby patterning the channel region to form the semiconductor layer 13 and the TFT 5 including the same. .
  • a silicon nitride film is formed on the entire substrate on which the TFT 5 is formed by a plasma CVD method, and the first interlayer insulating film 15 is formed to a thickness of about 4000 mm.
  • a positive photosensitive resin is applied to a thickness of about 3 ⁇ m by spin coating on the entire substrate on which the first interlayer insulating film 15 is formed, and the applied photosensitive resin is applied to a plurality of circles.
  • the first photomask formed with the light-shielding portions spaced apart from each other at random exposure is performed uniformly and with relatively low illuminance, and subsequently, at a position corresponding to the contact hole 16c on the drain electrode 14b. Development is carried out after exposure with uniform and relatively high illuminance through a second photomask in which openings are respectively formed.
  • the photosensitive resin in the exposed portion with the high illuminance is completely removed, and the photosensitive resin in the exposed portion with the low illuminance remains about 40% of the coating thickness, and the photosensitive resin in the unexposed portion. Will leave about 80% of the coating thickness.
  • the photosensitive resin in the exposed portion with the high illuminance is completely removed, and the photosensitive resin in the exposed portion with the low illuminance remains about 40% of the coating thickness, and the photosensitive resin in the unexposed portion. Will leave about 80% of the coating thickness.
  • a second interlayer insulating film 16 having a convex surface is formed. Thereafter, the first interlayer insulating film 15 exposed from the second interlayer insulating film 16 is etched to form contact holes 16c.
  • a transparent conductive film made of an ITO (Indium Tin Oxide) film or the like is formed on the entire substrate on the second interlayer insulating film 16 by a sputtering method, and then patterned by photolithography to form the transparent electrode 17a and the transparent electrode.
  • the conductive layer 17b is formed to a thickness of about 1000 mm.
  • a molybdenum film (thickness of about 750 mm) and an aluminum film (thickness of about 1000 mm) are sequentially formed on the entire substrate on which the transparent electrode 17a and the transparent conductive layer 17b are formed, and then patterned by photolithography. Then, the reflective electrode 18a and the reflective conductive layer 18b are formed, and the pixel electrode 19a including the transparent electrode 17a and the reflective electrode 18a, and the first touch panel wiring 19b including the transparent conductive layer 17b and the reflective conductive layer 18b are formed.
  • a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the pixel electrode 19a and the first touch panel wiring 19b are formed by a printing method, and then a rubbing process is performed to form an alignment film 9a having a thickness of about 1000 mm.
  • the active matrix substrate 20a can be manufactured.
  • ⁇ Opposite substrate manufacturing process First, an acrylic photosensitive resin in which black pigments such as carbon fine particles are dispersed is applied to the entire substrate of the insulating substrate 10b such as a glass substrate by a spin coating method, and the applied photosensitive resin is photo-coated. After exposure through a mask, patterning is performed by developing to form the BM lower layer portion 21a with a thickness of about 2.0 ⁇ m.
  • the transparent layer 23b is formed to a thickness of about 2.0 ⁇ m.
  • a chromium film is formed on the entire substrate on which the resin layer 23b is formed by sputtering, and then patterned by photolithography to form the BM upper layer portion 25a with a thickness of about 2000 mm.
  • an acrylic photosensitive resin colored in red, green, or blue is applied on the substrate on which the BM upper layer portion 25a is formed, and the applied photosensitive resin is exposed through a photomask.
  • patterning is performed by developing to form a colored layer (for example, red layer 22a) of a selected color with a thickness of about 2.0 ⁇ m.
  • the same process is repeated for the other two colors to form the other two colored layers (for example, the green layer 22b and the blue layer 22c) with a thickness of about 2.0 ⁇ m, and the red layer 22a and the green layer.
  • the color filter 22 including the layer 22b and the blue layer 22c is formed.
  • an acrylic photosensitive resin is applied onto the substrate on which the color filter 22 is formed by spin coating, and the applied photosensitive resin is exposed through a photomask and then developed.
  • the transparent layer 23a is formed to a thickness of about 2 ⁇ m.
  • an ITO film is formed on the entire substrate on which the transparent layer 23a is formed by sputtering, and then patterned by photolithography to form the common electrode 24a with a thickness of about 1500 mm.
  • an acrylic photosensitive resin is applied to the entire substrate on which the common electrode 24a is formed by a spin coating method, and the applied photosensitive resin is exposed through a photomask and then developed.
  • the photo spacer 26 is formed to a thickness of about 4 ⁇ m.
  • a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the photo spacers 26 are formed by a printing method, and then a rubbing process is performed to form an alignment film 9b with a thickness of about 1000 mm.
  • the counter substrate 30a can be manufactured.
  • a seal material made of ultraviolet curing and thermosetting resin is drawn in a frame shape on the counter substrate 30a manufactured in the counter substrate manufacturing step.
  • a liquid crystal material is dropped onto a region inside the sealing material in the counter substrate 30a on which the sealing material is drawn.
  • the bonded body is released to atmospheric pressure. By doing, the surface and the back surface of the bonded body are pressurized.
  • the sealing material is cured by heating the bonded body.
  • the liquid crystal display device 50a can be manufactured as described above.
  • each BM upper layer functioning as each first touch panel wiring 19b on the active matrix substrate 20a and each second touch panel wiring on the counter substrate 30a. 25a intersects via the alignment film 9a / liquid crystal layer 40 / alignment film 9b, and when the surface of the active matrix substrate 20a or the counter substrate 30a is pressed, each first touch panel wiring 19b and each BM upper layer portion 25a.
  • the type resistive film type touch panel is built in the liquid crystal display device.
  • each first touch pin Pa and each second touch pin Pb are brought into contact with each other so that each first touch panel wiring 19b and each BM upper layer portion 25a are electrically connected to each other, so that the touch pins are provided only on one side of the active matrix substrate and the counter substrate.
  • the counter substrate 130 has a second touch panel wiring 125 on the insulating substrate 110b.
  • the first touch panel wiring 119 on the insulating substrate 110a does not have a touch pin.
  • the surface portion of the active matrix substrate 120 with which the top of the substrate abuts There than covered if easily) in the alignment film 109, alignment films 9a and 9b may not become a resistance component between the first wiring 19b and the BM layer portion 25a for a touch panel. Therefore, in the matrix-type resistive touch panel built in the liquid crystal display device, conduction at the top of the touch pin can be ensured.
  • the photo spacer 26 since the photo spacer 26 is sandwiched between the active matrix substrate 20a and the counter substrate 30a, the surface of the active matrix substrate 20a or the counter substrate 30a is pressed. If not, the insulating property between each first touch panel wiring 19b on the active matrix substrate 20a and each BM upper layer portion 25a on the counter substrate 30a can be held by the photo spacer 26.
  • FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal display device 50b of the present embodiment.
  • 8 is a cross-sectional view of the touch panel portion of the liquid crystal display device 50b
  • FIG. 9 is a plan view of the counter substrate 30b constituting the liquid crystal display device 50b.
  • the same portions as those in FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
  • the first display wiring is a gate line and the second display wiring is a source line.
  • the first display wiring is used. Is a source line, and the second display wiring is a gate line.
  • the liquid crystal display device 50b includes an active matrix substrate 20b and a counter substrate 30b that are disposed to face each other, a liquid crystal layer 40 provided between the active matrix substrate 20b and the counter substrate 30b, and an active matrix substrate 20b.
  • a sealing material (not shown) provided in a frame shape is provided for adhering the matrix substrate 20b and the counter substrate 30b to each other and enclosing the liquid crystal layer 40 between the active matrix substrate 20b and the counter substrate 30b.
  • the active matrix substrate 20b includes a plurality of gate lines 11 provided as second display wirings so as to extend in parallel to each other on an insulating substrate 10a such as a glass substrate, and each gate line.
  • a gate insulating film 12 provided so as to cover 11, and a plurality of source lines 14 a provided on the gate insulating film 12 as first display wirings so as to extend in parallel to each other in a direction orthogonal to each gate line 11,
  • a plurality of TFTs 5 provided at each intersection of each gate line 11 and each source line 14a, and a first interlayer insulating film 15 and a second interlayer insulation provided in order so as to cover each source line 14a and each TFT 5 Provided between each pixel electrode 19a and a plurality of pixel electrodes 19a provided in a matrix on the film 16 and the second interlayer insulating film 16 and connected to each TFT 5.
  • first touch panel wirings 19c provided so as to extend in parallel with each other so as to overlap with each source line 14a, a part of each pixel electrode 19a and each first touch panel wiring 19c (each first touch panel described later).
  • an alignment film 9a provided so as to cover a portion other than the touch pin Pa).
  • the first touch panel wiring 19c is formed on the second interlayer insulating film 16 simultaneously with the transparent electrode 17a and on the transparent conductive layer 17cb simultaneously with the reflective electrode 18a. And the reflective conductive layer 18cb.
  • the second interlayer insulating film 16 below the first touch panel wiring 19 c is formed in a convex shape in a region intersecting with a BM upper layer portion 25 a described later.
  • the wiring 19c has a first touch pin Pa formed in a column shape in the region.
  • the counter substrate 30b is formed on, for example, an insulating substrate 10b such as a glass substrate, each gate line 11 and each source line 14a (each first touch panel wiring 19cb on the active matrix substrate 20b).
  • a black matrix B provided in a frame shape and in a lattice shape in the frame, and a red layer 22a, a green layer 22b, and a blue layer 22c provided in each opening of the black matrix B, respectively.
  • each reflective area R of the color filter 22 and the color filter 22 a transparent layer 23 a provided to compensate for an optical path difference in the reflective area R and the transmissive area T, and each BM lower layer portion described later constituting the black matrix B 21b, a plurality of common filters provided so as to cover the transmission region T and the transparent layer 23a (reflection region R) of each color filter 22.
  • an alignment film 9b provided so as to cover the respective photo spacers 26.
  • the black matrix B includes a BM lower layer portion 21b provided to overlap each source line 14a (each first touch panel wiring 19c) on the active matrix substrate 20b, and an active matrix substrate.
  • BM upper layer portion 25b provided as a second touch panel wiring so as to overlap each gate line 11 on 20b.
  • the BM lower layer portion 21b is made of a resin and is made of, for example, an organic insulating film in which a black pigment is dispersed.
  • the BM upper layer portion 25b is made of, for example, a light-shielding metal film such as a chromium film, and has conductivity.
  • the BM upper layer portion 25b is formed in a columnar shape because the convex resin layer 23b is provided in the lower layer in the region intersecting with each first touch panel wiring 19c.
  • a second touch pin Pb is provided.
  • the common electrodes 24b are provided in stripes so as to extend in parallel with each other between the BM upper layer portions 25b.
  • the transflective liquid crystal display device 50b having the above configuration reflects light incident from the counter substrate 30b side in the reflective region R by the reflective electrode 18a and from the backlight incident from the active matrix substrate 20b side in the transmissive region T. It is configured to transmit light.
  • the liquid crystal display device 50b when an image is displayed, in each pixel, when the gate signal is sent from the gate line 11 to the gate electrode 11a and the TFT 5 is turned on, the source signal is sent from the source line 14a to the source. It is sent to the electrode (14a), and a predetermined charge is written into the pixel electrode 19a composed of the transparent electrode 17a and the reflective electrode 18a via the semiconductor layer 13 and the drain electrode 14b.
  • a potential difference is generated between each pixel electrode 19a of the active matrix substrate 20b and each common electrode 24b of the counter substrate 30b, and a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 40.
  • an image is displayed by adjusting the light transmittance of the liquid crystal layer 40 by changing the alignment state of the liquid crystal layer 40 according to the magnitude of the voltage applied to the liquid crystal layer 40.
  • the liquid crystal display device 50b when the surface of the active matrix substrate 20b or the counter substrate 30b is pressed, the first touch pins Pa of the first touch panel wiring 19c and the first of the BM upper layer portion 25b (second touch panel wiring). When the two touch pins Pb come into contact with each other and are conducted, the pressed touch position is detected.
  • liquid crystal display device 50b of this embodiment can be manufactured by changing the pattern shape of the constituent thin film in the active matrix manufacturing process and the counter substrate manufacturing process described in the first embodiment. Description is omitted.
  • the alignment films 9a and 9b have the resistance component between the first touch panel wiring 19c and the BM upper layer portion 25b. Therefore, in the matrix type resistive touch panel built in the liquid crystal display device, conduction at the top of the touch pin can be ensured.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 70 of the present embodiment.
  • a matrix type resistive film type touch panel is built-in.
  • the matrix type resistive film type touch panel 60 of the liquid crystal display panel 50 is used. It is mounted on the front.
  • the liquid crystal display device 70 includes a liquid crystal display panel 50 having a polarizing plate 41 attached to the upper surface and the lower surface, and an upper surface (front surface) of the liquid crystal display panel 50 attached to the upper surface (front surface) via a double-sided adhesive tape. And a matrix type resistive film type touch panel 60 attached thereto.
  • the liquid crystal display panel 50 includes, for example, an active matrix substrate 20 and a counter substrate 30 that are arranged to face each other, and a liquid crystal layer 40 provided between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30.
  • the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30 are bonded to each other, and a sealing material (not shown) provided in a frame shape is provided between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30 to enclose the liquid crystal layer 40. .
  • the active matrix substrate 20 includes, for example, a plurality of gate lines (not shown) provided so as to extend in parallel to each other on an insulating substrate (not shown) such as a glass substrate, and a gate provided so as to cover each gate line.
  • a plurality of pixel electrodes (not shown) respectively connected to the TFT, and an alignment film (not shown) provided so as to cover each pixel electrode are provided.
  • the counter substrate 30 is provided in a frame shape and in a lattice shape in the frame so as to overlap each gate line and each source line on the active matrix substrate 20 on an insulating substrate (not shown) such as a glass substrate, for example.
  • an insulating substrate such as a glass substrate, for example.
  • a black matrix not shown
  • a color filter not shown
  • a common electrode not shown
  • a plurality of photo spacers (not shown) provided in a columnar shape on the electrode, and an alignment film (not shown) provided so as to cover the common electrode and each photo spacer.
  • the touch panel 60 includes a first substrate 61 and a second substrate 66 that are arranged to face each other, and an air layer 65 provided as an intermediate layer between the first substrate 61 and the second substrate 66. And.
  • the first substrate 61 includes, for example, a plurality of first touch panel wirings 62 formed of an ITO film or the like so as to extend in parallel to each other on an insulating substrate 10c such as a glass substrate, and the insulating substrate 10c.
  • a plurality of spacers 63 formed in a columnar shape on an acrylic resin or the like, a part of each first touch panel wiring 62 (a part other than each first touch pin Pa described later), and each spacer 63 are provided.
  • a protective film 64a made of resin.
  • the first touch panel wiring 62 is formed in a columnar shape because a convex resin layer 67a is provided in a lower layer in a region intersecting each second touch panel wiring 68 described later.
  • the first touch pin Pa is provided.
  • the second substrate 66 includes, for example, a plurality of second touch panel wires 68 formed of an ITO film or the like so as to extend in parallel with each other on an insulating substrate 10d such as a glass substrate. And a resin protective film 64b provided so as to cover a part of the touch panel wiring 68 (a part other than each second touch pin Pb described later).
  • the second touch panel wiring 68 is provided with a convex resin layer 67b in a lower layer in a region intersecting with each first touch panel wiring 62. It has 2 touch pins Pb.
  • the touch panel 60 configured as described above, when the surface of the second substrate 66 is pressed, the first touch pin Pa of the first touch panel wiring 62 and the second touch pin Pb of the second touch panel wiring 68 are brought into contact with each other to be conductive. By doing so, the pressed touch position is detected.
  • each first touch panel wiring 62 on the first substrate 61 and each second touch panel wiring 68 on the second substrate 66 are: When the surface of the second substrate 66 is pressed by crossing through the protective film 64a / air layer 65 / protective film 64b, the first touch panel wiring 62 and the second touch panel wiring 68 are respectively connected to the first touch panel wiring 68. Since each of the first touch pins Pa provided on the touch panel wiring 62 and each second touch pin Pb provided on each second touch panel wiring 68 are configured to be electrically connected to each other, a matrix type resistor is provided. A membrane-type touch panel is specifically configured.
  • the top portions of the first touch pins Pa and the second touch pins Pb provided in a columnar shape protrude from the surfaces of the first substrate 61 and the second substrate 66, and thus the first substrate 61 and the second substrate 62 are provided. It is harder to be covered with the protective films 64a and 64b than in the flat part.
  • the first touch panel wiring 62 and the second touch panel wiring 68 are electrically connected to each other by the contact between the first touch pins Pa and the second touch pins Pb, only one side of the first substrate and the second substrate is provided. Touch pins are provided (for example, the first touch pin of the first substrate is present and the second touch pin of the second substrate is not present, and the top portion of the first touch pin is applied when pressed.
  • the protective films 64a and 64b do not become a resistance component between the first touch panel wiring 62 and the second touch panel wiring 68 than in the case where the surface portion of the second substrate that is in contact is easily covered with the protective film. Therefore, in the matrix type resistive film type touch panel, conduction at the top of the touch pin can be ensured.
  • an active matrix driving liquid crystal display panel is exemplified as the display panel.
  • the present invention is a passive matrix driving liquid crystal display panel, an active matrix driving or passive matrix driving organic EL (electroluminescence).
  • the present invention can also be applied to other display panels such as a display panel.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of the first touch pin Pa and the second touch pin Pb constituting the liquid crystal display device of the present embodiment.
  • first touch pin Pa and the second touch pin Pb formed in a columnar shape are illustrated, but in this embodiment, the top portion of the first touch pin Pa or the second touch pin Pb is formed in a concave shape.
  • the top portion of the first touch pin Pa constituting the liquid crystal display device of the present embodiment is formed in a concave shape.
  • the second touch pin Pb is formed in a columnar shape so that the top portion thereof fits into the concave portion of the first touch pin Pa.
  • the alignment film does not become a resistance component between the first touch panel wiring and the second touch panel wiring, as in the first and second embodiments.
  • conduction at the top of the touch pin can be ensured.
  • the convex portion at the edge of the first touch pin Pa formed in the concave shape serves as a fulcrum.
  • the first touch pin Pa and the second touch pin Pb in the touch panel built in the liquid crystal display device are exemplified, but the present invention can also be applied to the first touch pin and the second touch pin in the touch panel alone. it can.
  • FIG. 12 is a plan view of the first touch pin Pa and the second touch pin Pb constituting the liquid crystal display device of the present embodiment.
  • the first touch pin Pa and the second touch pin Pb configured such that the top portions overlap each other are illustrated.
  • the first touch pin Pa and the second touch pin Pb intersect each other. It is configured as follows.
  • the first touch pin Pa constituting the liquid crystal display device of the present embodiment is formed in a linear shape so as to extend along the gate line 11, for example, as shown in FIG.
  • the second touch pin Pb is formed in a linear shape so as to extend along the source line 14a, for example, and is provided so as to be orthogonal to the first touch pin Pa.
  • the alignment film does not become a resistance component between the first touch panel wiring and the second touch panel wiring, as in the first, second, and fourth embodiments.
  • conduction at the top of the touch pin can be ensured.
  • each first touch pin Pa and each second touch pin Pb are formed in a linear shape so as to intersect with each other, so that the active matrix substrate and the counter substrate are bonded together. Even if the position shift occurs, the first touch pins Pa and the second touch pins Pb can be brought into contact with each other.
  • the first touch pin Pa and the second touch pin Pb in the touch panel built in the liquid crystal display device are exemplified, but the present invention can also be applied to the first touch pin and the second touch pin in the touch panel alone. it can.
  • the configuration in which one touch panel wiring is provided for each display wiring of the gate line and the source line is illustrated.
  • the present invention is provided for each of a plurality of adjacent display wirings.
  • a configuration in which one touch panel wiring is provided may be used, that is, the touch panel wiring may be thinned to reduce the number of touch panel wirings.
  • the configuration in which the first touch panel wiring is formed at the same time as the pixel electrode 19a is illustrated.
  • the present invention has a configuration in which the first touch panel wiring is formed at the same time as the gate line or the source line. There may be.
  • a transflective liquid crystal display device is exemplified, but the present invention can also be applied to a transmissive or reflective liquid crystal display device.
  • a single-touch touch panel is exemplified, but the present invention can also be applied to a multi-touch touch panel.
  • the liquid crystal display device includes TN (Twisted Nematic), VA (Vertical Alignment), MVA (Multi-domain Vertical Alignment), ASV (Advanced Super View), and IPS (In-Plane-Switching). It may be a simple method.
  • the present invention is useful for a car navigation system, a PDA (Personal Digital Assistant), etc., because the device itself can be made thin and light in a liquid crystal display device equipped with a resistive touch panel. It is useful for mobile devices such as mobile phones, notebook computers, portable game machines, and digital cameras.
  • Second touch pins 9a, 9b Alignment film 11 Gate line (first display wiring or second display wiring) 14a Source line (second display wiring or first display wiring) 19b, 19c, 62 First touch panel wiring 20, 20a, 20b Active matrix substrates 25a, 25b BM upper layer (second touch panel wiring) 26 Photospacer 30, 30a, 30b Counter substrate 40 Liquid crystal layer 50 Liquid crystal display panel 50a, 50b, 70 Liquid crystal display device 60 Touch panel 61 First substrate 66 Second substrate 64a, 64b Protective film 65 Air layer (intermediate layer) 68 Wiring for second touch panel

Landscapes

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Abstract

　互いに平行に延びるように複数の第１タッチパネル用配線（１９ｂ）が設けられたアクティブマトリクス基板（２０ａ）と、アクティブマトリクス基板（２０ａ）に対向して配置され、各第１タッチパネル用配線（１９ｂ）に交差する方向に互いに平行に延びるように複数の第２タッチパネル用配線（２５ａ）が設けられた対向基板（３０ａ）と、アクティブマトリクス基板（２０ａ）及び対向基板（３０ａ）の間に配向膜（９ａ）及び（９ｂ）を介して設けられた液晶層（４０）とを備え、各第１タッチパネル用配線（１９ｂ）は、各第２タッチパネル用配線（２５ａ）に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第１タッチピン（Ｐａ）を有し、各第２タッチパネル用配線（２５ａ）は、各第１タッチパネル用配線（１９ｂ）に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第２タッチピン（Ｐｂ）を有している。

Description

タッチパネル及びそれを備えた表示装置並びに液晶表示装置
　本発明は、タッチパネル及びそれを備えた表示装置並びに液晶表示装置に関するものである。
　タッチパネルは、指やペンなどでタッチ（押圧）することによって、コンピュータなどの情報処理装置に対話形式で情報を入力する装置である。
　また、タッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量結合方式、赤外線方式、超音波方式及び電磁誘導結合方式などに分類されている。ここで、抵抗膜方式及び静電容量結合方式のタッチパネルは、低コストで表示装置などに搭載可能であるので、近年よく利用されている。
　上記抵抗膜方式のタッチパネルは、例えば、互いに対向して配置された一対の基板と、一対の基板の内側に抵抗膜としてそれぞれ設けられた一対の透明導電膜と、一対の基板の間に挟持されて一対の透明導電膜の間に空気層を形成する絶縁性を有するスペーサと、タッチされた位置を検出するための位置検出回路とを備え、例えば、液晶表示パネルの表示画面の前面に搭載して使用される。
　このような構成の抵抗膜方式のタッチパネルでは、その表面がタッチされることにより、一対の透明導電膜同士が接触（短絡）して、一対の透明導電膜の間に電流が流れることになり、位置検出回路が一対の透明導電膜の間に電流が流れたときの電圧の変化に基づいてタッチされた位置を検出することになる。
　ところで、液晶表示パネルは、例えば、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板及び対向基板と、アクティブマトリクス基板及び対向基板の間に設けられた液晶層とを備えている。そのため、上記抵抗膜方式のタッチパネルが液晶表示パネルの前面に搭載された液晶表示装置では、構成基板が、タッチパネルを構成する一対の基板、アクティブマトリクス基板及び対向基板の４枚からなり、装置全体の厚さが増大してしまう。
　そこで、例えば、特許文献１には、液晶表示パネルのカラーフィルター基板をタッチセンサの固定電極板として利用することにより、タッチセンサパネルを構成していた固定電極板が廃止されたタッチセンサ式液晶表示装置が開示されている。そして、これによれば、タッチセンサ式液晶表示装置の厚さ及び重量を低減することができ、光学特性の劣化を防止する効果も有する、と記載されている。
特開２００１－８４１００号公報
　しかしながら、特許文献１に記載された発明では、タッチセンサ式液晶表示装置を構成する構成基板が３枚であり、改善の余地があるので、例えば、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルが内蔵された液晶表示装置（液晶表示パネル）が、近年、提案されている。
　このマトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルが内蔵された液晶表示装置は、例えば、アクティブマトリクス基板の液晶層側の表面に互いに平行に延びるように一方の抵抗膜として設けられた複数の第１タッチパネル用配線と、対向基板の液晶層側の表面に各第１タッチパネル用配線と直交する方向に互いに平行に延びるように他方の対向膜として設けられた複数の第２タッチパネル配線とを備え、アクティブマトリクス基板又は対向基板の表面が押圧されたときに、その押圧された位置でその位置に対応する第１タッチパネル用配線及び第２タッチパネル配線が互いに接触して導通するように構成されている。ここで、各第１タッチパネル用配線又は各第２タッチパネル配線は、その交差部に柱状に設けられたタッチピンを有しており、このタッチピンを介して、押圧された位置の第１タッチパネル用配線及び第２タッチパネル配線が互いに導通することになる。
　しかしながら、液晶表示パネルでは、アクティブマトリクス基板及び対向基板の液晶層側の各表面に液晶層の液晶分子を配向させるための配向膜を設ける必要があるので、配向膜が第１タッチパネル用配線と第２タッチパネル配線との間の抵抗成分となり、タッチパネルの機能に支障を来たすおそれがある。
　また、上述した配向膜によるタッチパネルの機能への支障の問題に限らず、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネル単体において、タッチピンの側面だけを絶縁膜で覆って、タッチピンの頂部を絶縁膜から露出させることは、例えば、導電性異物などに起因する第１タッチパネル用配線と第２タッチパネル配線との間の不要な短絡を抑制することができるので、有効である。
　本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることにある。
　上記目的を達成するために、本発明は、第１タッチパネル用配線及び第２タッチパネル用配線が第１タッチピン及び第２タッチピンをそれぞれ有し、第１タッチピン及び第２タッチピンが互いに接触することにより、第１タッチパネル用配線及び第２タッチパネル用配線が互いに導通するようにしたものである。
　具体的に本発明に係る液晶表示装置は、互いに平行に延びるように複数の第１タッチパネル用配線が設けられたアクティブマトリクス基板と、上記アクティブマトリクス基板に対向して配置され、上記各第１タッチパネル用配線に交差する方向に互いに平行に延びるように複数の第２タッチパネル用配線が設けられた対向基板と、上記アクティブマトリクス基板及び対向基板の間にそれぞれ配向膜を介して設けられた液晶層とを備えた液晶表示装置であって、上記各第１タッチパネル用配線は、上記各第２タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第１タッチピンを有し、上記各第２タッチパネル用配線は、上記各第１タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第２タッチピンを有し、上記アクティブマトリクス基板又は対向基板の表面が押圧されたときに、上記各第１タッチピン及び各第２タッチピンが互いに接触することにより、上記各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が互いに導通するように構成されていることを特徴とする。
　上記の構成によれば、アクティブマトリクス基板上の各第１タッチパネル用配線と、対向基板上の各第２タッチパネル用配線とは、（配向膜／）液晶層（／配向膜）を介して交差し、アクティブマトリクス基板又は対向基板の表面が押圧されたときに、各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が、各第１タッチパネル用配線に設けられた各第１タッチピン、及び各第２タッチパネル用配線に設けられた各第２タッチピンを介して、互いに導通するように構成されているので、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルが液晶表示装置に内蔵されることになる。ここで、柱状に設けられた各第１タッチピン及び各第２タッチピン（の頂部）は、アクティブマトリクス基板及び対向基板の各表面において突出しているので、アクティブマトリクス基板及び対向基板における平坦な部分よりも配向膜で覆われ難い。しかも、各第１タッチピンと各第２タッチピンとの接触により、各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が互いに導通するので、アクティブマトリクス基板及び対向基板の一方側のみにタッチピンが設けられている場合（例えば、アクティブマトリクス基板上の第１タッチピンが存在して、対向基板上の第２タッチピンが存在しない場合であって、押圧されたときに第１タッチピンの頂部が当接する対向基板の表面部分が配向膜で覆われ易い場合）よりも、配向膜が第１タッチパネル用配線と第２タッチパネル用配線との間の抵抗成分とならなくなる。したがって、液晶表示装置に内蔵されたマトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることが可能になる。
　上記各第１タッチピン又は各第２タッチピンの頂部は、凹状に形成されていてもよい。
　上記の構成によれば、各第１タッチピン又は各第２タッチピンの頂部が凹状に形成されているので、頂部が凹状に形成されたタッチピンの縁の凸部がてこの支点となることにより、各第１タッチパネル用配線と各第２タッチパネル用配線との貼り付きによる常時短絡を抑制することが可能になる。さらに、頂部における接触面積が増えるので、タッチピンの頂部における導通をより確実にすることが可能になる。
　上記各第１タッチピン及び各第２タッチピンは、互いに交差するように線状に形成されていてもよい。
　上記の構成によれば、各第１タッチピン及び各第２タッチピンが互いに交差するように線状に形成されているので、アクティブマトリクス基板と対向基板とを貼り合わせる際に位置ずれが発生しても、各第１タッチピンと各第２タッチピンとを互いに接触させることが可能になる。
　上記アクティブマトリクス基板は、互いに平行に延びるように設けられた複数の第１表示用配線と、該各第１表示用配線に交差する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数の第２表示用配線とを有し、上記各第１タッチパネル用配線は、上記各第１表示用配線に沿って設けられ、上記各第２タッチパネル用配線は、上記各第２表示用配線に沿って設けられていてもよい。
　上記の構成によれば、アクティブマトリクス基板が互いに平行に延びる複数の第１表示用配線と、各第１表示用配線に交差する方向に互いに平行に延びる複数の第２表示用配線とを有し、各第１タッチパネル用配線が各第１表示用配線に沿って設けられ、各第２タッチパネル用配線が各第２表示用配線に沿って設けられているので、互いに平行に延びる複数のゲート線と、各ゲート線に交差する方向に互いに平行に延びる複数のソース線と、各ゲート線又は各ソース線に沿って設けられた各第１タッチパネル用配線とを備えたアクティブマトリクス基板、及び各第２タッチパネル用配線を備えた対向基板が具体的に構成される。
　上記アクティブマトリクス基板又は対向基板には、上記液晶層の厚さを規定するための柱状のフォトスペーサが設けられていてもよい。
　上記の構成によれば、アクティブマトリクス基板及び対向基板の間に、フォトスペーサが挟持されることになるので、アクティブマトリクス基板又は対向基板の表面が押圧されていないときには、アクティブマトリクス基板上の各第１タッチパネル用配線と、対向基板上の各第２タッチパネル用配線との絶縁性がフォトスペーサにより保持されることになる。
　また、本発明に係るタッチパネルは、互いに平行に延びるように複数の第１タッチパネル用配線が設けられた第１基板と、上記第１基板に対向して配置され、上記各第１タッチパネル用配線と交差する方向に互いに平行に延びるように複数の第２タッチパネル用配線が設けられた第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間にそれぞれ保護膜を介して設けられた中間層とを備えたタッチパネルであって、上記各第１タッチパネル用配線は、上記各第２タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第１タッチピンを有し、上記各第２タッチパネル用配線は、上記各第１タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第２タッチピンを有し、上記第１基板又は第２基板の表面が押圧されたときに、上記各第１タッチピン及び各第２タッチピンが互いに接触することにより、上記各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が互いに導通するように構成されていることを特徴とする。
　上記の構成によれば、第１基板上の各第１タッチパネル用配線と、第２基板上の各第２タッチパネル用配線とは、（保護膜／）中間層（／保護膜）を介して交差し、第１基板又は第２基板の表面が押圧されたときに、各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が、各第１タッチパネル用配線に設けられた各第１タッチピン、及び各第２タッチパネル用配線に設けられた各第２タッチピンを介して、互いに導通するように構成されているので、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルが具体的に構成されることになる。ここで、柱状に設けられた各第１タッチピン及び各第２タッチピン（の頂部）は、第１基板及び第２基板の各表面において突出しているので、第１基板及び第２基板における平坦な部分よりも保護膜で覆われ難い。しかも、各第１タッチピンと各第２タッチピンとの接触により、各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が互いに導通するので、第１基板及び第２基板の一方側のみにタッチピンが設けられている場合（例えば、第１基板の第１タッチピンが存在して、第２基板の第２タッチピンが存在しない場合であって、押圧されたときに第１タッチピンの頂部が当接する第２基板の表面部分が保護膜で覆われ易い場合）よりも、保護膜が第１タッチパネル用配線と第２タッチパネル用配線との間の抵抗成分とならなくなる。したがって、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることが可能になる。
　また、本発明に係る表示装置は、上記構成のタッチパネルと、上記タッチパネルに対向して配置された表示パネルとを備えていることを特徴とする。
　上記の構成によれば、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通が確実になっているので、タッチパネルを外部に備えた表示装置において、本発明の作用効果が具体的に奏される。
　本発明によれば、第１タッチパネル用配線及び第２タッチパネル用配線が第１タッチピン及び第２タッチピンをそれぞれ有し、第１タッチピン及び第２タッチピンが互いに接触することにより、第１タッチパネル用配線及び第２タッチパネル用配線が互いに導通する構成されているので、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることができる。
図１は、実施形態１に係る液晶表示装置５０ａの等価回路図である。 図２は、液晶表示装置５０ａを構成するアクティブマトリクス基板２０ａのＴＦＴ部の断面図である。 図３は、液晶表示装置５０ａの表示部の断面図である。 図４は、液晶表示装置５０ａのタッチパネル部の断面図である。 図５は、液晶表示装置５０ａを構成する対向基板３０ａの平面図である。 図６は、液晶表示装置５０ａを構成する第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂの斜視図である。 図７は、実施形態２に係る液晶表示装置５０ｂの等価回路図である。 図８は、液晶表示装置５０ｂのタッチパネル部の断面図である。 図９は、液晶表示装置５０ｂを構成する対向基板３０ｂの平面図である。 図１０は、実施形態３に係る液晶表示装置７０の断面図である。 図１１は、実施形態４に係る液晶表示装置を構成する第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂの断面図である。 図１２は、実施形態５に係る液晶表示装置を構成する第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂの平面図である。 図１３は、比較例の液晶表示装置１５０のタッチパネル部の断面図である。
　以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
　《発明の実施形態１》
　図１～図６は、本発明に係る液晶表示装置の実施形態１を示している。具体的に、図１は、本実施形態の液晶表示装置５０ａの等価回路図である。また、図２は、液晶表示装置５０ａを構成するアクティブマトリクス基板２０ａのＴＦＴ部の断面図であり、図３は、液晶表示装置５０ａの表示部の断面図であり、図４は、液晶表示装置５０ａのタッチパネル部の断面図である。また、図５は、液晶表示装置５０ａを構成する対向基板３０ａの平面図である。また、図６（ａ）～図６（ｃ）は、液晶表示装置５０ａを構成する第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂの斜視図である。
　液晶表示装置５０ａは、図３に示すように、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａと、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａの間に設けられた液晶層４０と、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａを互いに接着すると共にアクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａの間に液晶層４０を封入するために枠状に設けられたシール材（不図示）とを備えている。
　アクティブマトリクス基板２０ａは、図１～図４に示すように、ガラス基板などの絶縁基板１０ａ上に互いに平行に延びるように第１表示用配線として設けられた複数のゲート線１１と、各ゲート線１１を覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上に各ゲート線１１と直交する方向に互いに平行に延びるように第２表示用配線として設けられた複数のソース線１４ａと、各ゲート線１１及び各ソース線１４ａの交差部分毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ５と、各ソース線１４ａ及び各ＴＦＴ５を覆うように順に設けられた第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６と、第２層間絶縁膜１６上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴ５にそれぞれ接続された複数の画素電極１９ａと、各画素電極１９ａの間に設けられ、各ゲート線１１ａと重なるように互いに平行に延びるように設けられた複数の第１タッチパネル用配線１９ｂと、各画素電極１９ａ及び各第１タッチパネル用配線１９ｂの一部（後述する各第１タッチピンＰａの以外の部分）を覆うように設けられた配向膜９ａとを備えている。ここで、本実施形態では、第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６からなる２層により構成された層間絶縁膜を例示したが、この層間絶縁膜は、１層により構成されていてもよい。
　ＴＦＴ５は、図１及び図２に示すように、各ゲート線１１が側方に突出したゲート電極１１ａと、ゲート電極１１ａを覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上でゲート電極１１ａに重なる位置に島状に設けられた半導体層１３と、半導体層１３上で互いに対峙するように設けられたソース電極（１４ａ）及びドレイン電極１４ｂとを備えている。ここで、ソース電極（１４ａ）は、各ソース線１４ａの側方に突出した部分である。また、ドレイン電極１４ｂは、図２に示すように、第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６の積層膜に形成されたコンタクトホール１６ｃを介して画素電極１９ａを構成する透明電極１７ａに接続されている。さらに、半導体層１３は、図２に示すように、下層の真性アモルファスシリコン層１３ａと、その上層のリンがドープされたｎ＋アモルファスシリコン層１３ｂとを備え、ソース電極（１４ａ）及びドレイン電極１４ｂから露出する真性アモルファスシリコン層１３ａがチャネル領域を構成している。
　画素電極１９ａは、図３に示すように、第２層間絶縁膜１６上に設けられた透明電極１７ａと、透明電極１７ａ上に積層された反射電極１８ａとにより構成されている。ここで、画素電極１９ａ（反射電極１８ａ）の下層の第２層間絶縁膜１６の表面は、図３に示すように、凹凸状に形成されているので、第２層間絶縁膜１６の表面に透明電極１７ａを介して設けられた反射電極１８ａの表面も凹凸状に形成されている。
　第１タッチパネル用配線１９ｂは、図４に示すように、第２層間絶縁膜１６上に設けられた透明導電層１７ｂと、透明導電層１７ｂ上に積層された反射導電層１８ｂとにより構成されている。ここで、第１タッチパネル用配線１９ｂの下層の第２層間絶縁膜１６は、図４に示すように、後述するＢＭ上層部２５ａに交差する領域が凸状に形成されているので、第１タッチパネル用配線１９ｂは、その領域に柱状に形成された第１タッチピンＰａを有している。
　そして、アクティブマトリクス基板２０ａ及びそれを備えた液晶表示装置５０ａの表示部では、図３に示すように、反射電極１８ａにより反射領域Ｒが規定され、反射電極１８ａから露出する透明電極１７ａにより透過領域Ｔが規定されている。
　対向基板３０ａは、図１、図３～図５に示すように、例えば、ガラス基板などの絶縁基板１０ｂ上に、アクティブマトリクス基板２０ａ上の各ゲート線１１ａ（各第１タッチパネル用配線１９ｂ）及び各ソース線１４ａに重なるように、枠状に且つその枠内に格子状に設けられたブラックマトリクスＢと、ブラックマトリクスＢの各開口部にそれぞれ設けられた赤色層２２ａ、緑色層２２ｂ及び青色層２２ｃを含むカラーフィルター２２と、カラーフィルター２２の各反射領域Ｒにおいて、反射領域Ｒ及び透過領域Ｔにおける光路差を補償するために設けられた透明層２３ａと、ブラックマトリクスＢを構成する後述の各ＢＭ下層部２１ａ、各カラーフィルター２２の透過領域Ｔ及び透明層２３ａ（反射領域Ｒ）を覆うように設けられた複数の共通電極２４ａと、各共通電極２４ａ上に柱状に設けられた複数のフォトスペーサ２６と、各共通電極２４ａ、ブラックマトリクスＢを構成する後述の各ＢＭ上層部２５ａの一部（後述する各第２タッチピンＰｂの以外の部分）及び各フォトスペーサ２６を覆うように設けられた配向膜９ｂとを備えている。
　ブラックマトリクスＢは、図４及び図５に示すように、アクティブマトリクス基板２０ａ上の各ゲート線１１（各第１タッチパネル用配線１９ｂ）に重なるように設けられたＢＭ下層部２１ａと、アクティブマトリクス基板２０ａ上の各ソース線１４ａに重なるように第２タッチパネル用配線として設けられたＢＭ上層部２５ａとを備えている。
　ＢＭ下層部２１ａは、樹脂製であり、例えば、黒色顔料が分散された有機絶縁膜により構成されている。
　ＢＭ上層部２５ａは、例えば、クロム膜などの遮光性を有する金属膜により構成され、導電性を有している。また、ＢＭ上層部２５ａは、図４に示すように、各第１タッチパネル用配線１９ｂに交差する領域において、その下層に凸状の樹脂層２３ｂが設けられているので、柱状に形成された第２タッチピンＰｂを有している。
　ここで、第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂは、例えば、図６（ａ）に示すように、円柱状、図６（ｂ）に示すように、上面が正方形の直方体状、及び図６（ｃ）に示すように、上面が長方形の直方体状などに形成されている。
　共通電極２４ａは、図５に示すように、各ＢＭ上層部２５ａの間に互いに平行に延びるようにストライプ状に設けられている。
　液晶層４０は、電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。
　上記構成の半透過型の液晶表示装置５０ａは、反射領域Ｒにおいて対向基板３０ａ側から入射する光を反射電極１８ａで反射すると共に、透過領域Ｔにおいてアクティブマトリクス基板２０ａ側から入射するバックライトからの光を透過するように構成されている。
　液晶表示装置５０ａでは、画像を表示する際に、各画素において、ゲート線１１からゲート信号がゲート電極１１ａに送られて、ＴＦＴ５がオン状態になったときに、ソース線１４ａからソース信号がソース電極（１４ａ）に送られて、半導体層１３及びドレイン電極１４ｂを介して、透明電極１７ａ及び反射電極１８ａからなる画素電極１９ａに所定の電荷が書き込まれる。このとき、液晶表示装置５０ａでは、アクティブマトリクス基板２０ａの各画素電極１９ａと対向基板３０ａの各共通電極２４ａとの間において電位差が生じ、液晶層４０に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示装置５０ａでは、液晶層４０に印加された電圧の大きさによって液晶層４０の配向状態を変えることにより、液晶層４０の光透過率を調整して画像を表示することになる。
　また、液晶表示装置５０ａでは、アクティブマトリクス基板２０ａ又は対向基板３０ａの表面が押圧されたときに、第１タッチパネル用配線１９ｂの第１タッチピンＰａとＢＭ上層部２５ａ（第２タッチパネル用配線）の第２タッチピンＰｂとが互いに接触して導通することにより、押圧されたタッチ位置を検出することになる。
　次に、本実施形態の液晶表示装置５０ａの製造方法について一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程及び基板貼り合わせ工程を備える。
　＜アクティブマトリクス基板作製工程＞
　まず、ガラス基板などの絶縁基板１０ａの基板全体に、スパッタリング法により、例えば、チタン膜、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線１１及びゲート電極１１ａを厚さ４０００Å程度に形成する。
　続いて、ゲート線１１及びゲート電極１１ａが形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、ゲート絶縁膜１２を厚さ４０００Å程度に形成する。
　さらに、ゲート絶縁膜１２が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により、例えば、真性アモルファスシリコン膜（厚さ２０００Å程度）、及びリンがドープされたｎ＋アモルファスシリコン膜（厚さ５００Å程度）を連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィによりゲート電極（１１ａ）上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層及びｎ＋アモルファスシリコン層が積層された半導体形成層を形成する。
　そして、上記半導体形成層が形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えば、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線１４ａ、ソース電極（１４ａ）及びドレイン電極１４ｂを厚さ２０００Å程度に形成する。
　続いて、ソース電極（１４ａ）及びドレイン電極１４ｂをマスクとして上記半導体形成層のｎ＋アモルファスシリコン層をエッチングすることにより、チャネル領域をパターニングして、半導体層１３及びそれを備えたＴＦＴ５を形成する。
　さらに、ＴＦＴ５が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、第１層間絶縁膜１５を厚さ４０００Å程度に形成する。
　そして、第１層間絶縁膜１５が形成された基板全体に、スピンコート法により、例えば、ポジ型の感光性樹脂を厚さ３μｍ程度に塗布し、その塗布された感光性樹脂を、複数の円形状の遮光部が互いに離間してランダムに形成された第１のフォトマスクを介して均一に且つ相対的に低照度で露光し、続いて、ドレイン電極１４ｂ上のコンタクトホール１６ｃに対応する位置に開口部がそれぞれ形成された第２のフォトマスクを介して均一に且つ相対的に高照度で露光した後に、現像する。これにより、上述した高照度の露光部分の感光性樹脂は、完全に除去され、同低照度の露光部分の感光性樹脂は、塗布厚の４０％程度残膜し、未露光部分の感光性樹脂は、塗布厚の８０％程度残膜することになる。さらに、感光性樹脂が現像された基板を２００℃程度に加熱して、感光性樹脂を熱だれさせることにより、反射領域Ｒの表面がなめらかな凹凸状に、且つ第１タッチピンＰａを形成する部分の表面が凸状になった第２層間絶縁膜１６を形成する。その後、第２層間絶縁膜１６から露出する第１層間絶縁膜１５をエッチングして、コンタクトホール１６ｃをそれぞれ形成する。
　続いて、第２層間絶縁膜１６上の基板全体に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、透明電極１７ａ及び透明導電層１７ｂを厚さ１０００Å程度に形成する。
　さらに、透明電極１７ａ及び透明導電層１７ｂが形成された基板全体に、モリブデン膜（厚さ７５０Å程度）及びアルミニウム膜（厚さ１０００Å程度）をスパッタリング法により順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、反射電極１８ａ及び反射導電層１８ｂを形成して、透明電極１７ａ及び反射電極１８ａを備えた画素電極１９ａ、並びに透明導電層１７ｂ及び反射導電層１８ｂを備えた第１タッチパネル用配線１９ｂを形成する。
　最後に、画素電極１９ａ及び第１タッチパネル用配線１９ｂが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜９ａを厚さ１０００Å程度に形成する。
　以上のようにして、アクティブマトリクス基板２０ａを作製することができる。
　＜対向基板作製工程＞
　まず、ガラス基板などの絶縁基板１０ｂの基板全体に、スピンコート法により、例えば、カーボン微粒子などの黒色顔料が分散されたアクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することによりパターニングして、ＢＭ下層部２１ａを厚さ２．０μｍ程度に形成する。
　続いて、ＢＭ下層部２１ａが形成された基板全体に、スピンコート法により、アクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像及び加熱することにより、透明層２３ｂを厚さ２．０μｍ程度に形成する。
　さらに、樹脂層２３ｂが形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えば、クロム膜を成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ＢＭ上層部２５ａを厚さ２０００Å程度に形成する。
　続いて、ＢＭ上層部２５ａが形成された基板上に、例えば、赤、緑又は青に着色されたアクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することによりパターニングして、選択した色の着色層（例えば、赤色層２２ａ）を厚さ２．０μｍ程度に形成する。さらに、他の２色についても同様な工程を繰り返して、他の２色の着色層（例えば、緑色層２２ｂ及び青色層２２ｃ）を厚さ２．０μｍ程度に形成して、赤色層２２ａ、緑色層２２ｂ及び青色層２２ｃを備えたカラーフィルター２２を形成する。
　さらに、カラーフィルター２２が形成された基板上に、スピンコート法により、アクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することにより、透明層２３ａを厚さ２μｍ程度に形成する。
　その後、透明層２３ａが形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えば、ＩＴＯ膜を成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、共通電極２４ａを厚さ１５００Å程度に形成する。
　さらに、共通電極２４ａが形成された基板全体に、スピンコート法により、アクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することにより、フォトスペーサ２６を厚さ４μｍ程度に形成する。
　最後に、フォトスペーサ２６が形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜９ｂを厚さ１０００Å程度に形成する。
　以上のようにして、対向基板３０ａを作製することができる。
　＜貼り合わせ工程＞
　まず、例えば、ディスペンサを用いて、上記対向基板作製工程で作製された対向基板３０ａに、紫外線硬化及び熱硬化併用型樹脂などにより構成されたシール材を枠状に描画する。
　続いて、上記シール材が描画された対向基板３０ａにおけるシール材の内側の領域に液晶材料を滴下する。
　さらに、上記液晶材料が滴下された対向基板３０ａと、上記アクティブマトリクス基板作製工程で作製されたアクティブマトリクス基板２０ａとを、減圧下で貼り合わせた後に、その貼り合わせた貼合体を大気圧に開放することにより、その貼合体の表面及び裏面を加圧する。
　最後に、上記貼合体に挟持されたシール材にＵＶ光を照射した後に、その貼合体を加熱することによりシール材を硬化させる。
　以上のようにして、液晶表示装置５０ａを作製することができる。
　以上説明したように、本実施形態の液晶表示装置５０ａによれば、アクティブマトリクス基板２０ａ上の各第１タッチパネル用配線１９ｂと、対向基板３０ａ上の第２タッチパネル用配線として機能する各ＢＭ上層部２５ａは、配向膜９ａ／液晶層４０／配向膜９ｂを介して交差し、アクティブマトリクス基板２０ａ又は対向基板３０ａの表面が押圧されたときに、各第１タッチパネル用配線１９ｂ及び各ＢＭ上層部２５ａが、各第１タッチパネル用配線１９ｂに設けられた各第１タッチピンＰａ、及び各ＢＭ上層部２５ａに設けられた各第２タッチピンＰｂを介して、互いに導通するように構成されているので、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルが液晶表示装置に内蔵されることになる。ここで、柱状に設けられた各第１タッチピンＰａ及び各第２タッチピンＰｂの頂部は、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａの各表面において突出しているので、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａにおける平坦な部分よりも配向膜９ａ及び９ｂで覆われ難い。しかも、各第１タッチピンＰａと各第２タッチピンＰｂとの接触により、各第１タッチパネル用配線１９ｂ及び各ＢＭ上層部２５ａが互いに導通するので、アクティブマトリクス基板及び対向基板の一方側のみにタッチピンが設けられている場合（例えば、図１３に示すようなアクティブマトリクス基板１２０、対向基板１３０及び液晶層を備えた液晶表示装置１５０において、対向基板１３０では、絶縁基板１１０ｂ上の第２タッチパネル用配線１２５がその下層の樹脂層１２３によりタッチピンＰを有し、アクティブマトリクス基板１２０では、絶縁基板１１０ａ上の第１タッチパネル用配線１１９がタッチピンを有していない場合であって、押圧されたときにタッチピンＰの頂部が当接するアクティブマトリクス基板１２０の表面部分Ｆが配向膜１０９で覆われ易い場合）よりも、配向膜９ａ及び９ｂが第１タッチパネル用配線１９ｂとＢＭ上層部２５ａとの間の抵抗成分とならなくなる。したがって、液晶表示装置に内蔵されたマトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることができる。
　また、本実施形態の液晶表示装置５０ａによれば、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａの間に、フォトスペーサ２６が挟持されることになるので、アクティブマトリクス基板２０ａ又は対向基板３０ａの表面が押圧されていないときには、アクティブマトリクス基板２０ａ上の各第１タッチパネル用配線１９ｂと、対向基板３０ａ上の各ＢＭ上層部２５ａとの絶縁性をフォトスペーサ２６により保持することができる。
　《発明の実施形態２》
　図７～図９は、本発明に係る液晶表示装置の実施形態２を示している。具体的に図７は、本実施形態の液晶表示装置５０ｂの等価回路図である。そして、図８は、液晶表示装置５０ｂのタッチパネル部の断面図であり、図９は、液晶表示装置５０ｂを構成する対向基板３０ｂの平面図である。なお、以下の各実施形態において、図１～図６と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
　上記実施形態１の液晶表示装置５０ａでは、第１表示用配線がゲート線であり、第２表示用配線がソース線であったが、本実施形態の液晶表示装置５０ｂでは、第１表示用配線がソース線であり、第２表示用配線がゲート線である。
　液晶表示装置５０ｂは、図８に示すように、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板２０ｂ及び対向基板３０ｂと、アクティブマトリクス基板２０ｂ及び対向基板３０ｂの間に設けられた液晶層４０と、アクティブマトリクス基板２０ｂ及び対向基板３０ｂを互いに接着すると共にアクティブマトリクス基板２０ｂ及び対向基板３０ｂの間に液晶層４０を封入するために枠状に設けられたシール材（不図示）とを備えている。
　アクティブマトリクス基板２０ｂは、図７及び図８に示すように、ガラス基板などの絶縁基板１０ａ上に互いに平行に延びるように第２表示用配線として設けられた複数のゲート線１１と、各ゲート線１１を覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上に各ゲート線１１と直交する方向に互いに平行に延びるように第１表示用配線として設けられた複数のソース線１４ａと、各ゲート線１１及び各ソース線１４ａの交差部分毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ５と、各ソース線１４ａ及び各ＴＦＴ５を覆うように順に設けられた第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６と、第２層間絶縁膜１６上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴ５にそれぞれ接続された複数の画素電極１９ａと、各画素電極１９ａの間に設けられ、各ソース線１４ａと重なるように互いに平行に延びるように設けられた複数の第１タッチパネル用配線１９ｃと、各画素電極１９ａ及び各第１タッチパネル用配線１９ｃの一部（後述する各第１タッチピンＰａの以外の部分）を覆うように設けられた配向膜９ａとを備えている。
　第１タッチパネル用配線１９ｃは、図８に示すように、第２層間絶縁膜１６上に透明電極１７ａと同時に形成された透明導電層１７ｃｂと、透明導電層１７ｃｂ上に反射電極１８ａと同時に形成された反射導電層１８ｃｂとにより構成されている。ここで、第１タッチパネル用配線１９ｃの下層の第２層間絶縁膜１６は、図８に示すように、後述するＢＭ上層部２５ａに交差する領域が凸状に形成されているので、第１タッチパネル用配線１９ｃは、その領域に柱状に形成された第１タッチピンＰａを有している。
　対向基板３０ｂは、図７～図９に示すように、例えば、ガラス基板などの絶縁基板１０ｂ上に、アクティブマトリクス基板２０ｂ上の各ゲート線１１及び各ソース線１４ａ（各第１タッチパネル用配線１９ｃｂ）に重なるように、枠状に且つその枠内に格子状に設けられたブラックマトリクスＢと、ブラックマトリクスＢの各開口部にそれぞれ設けられた赤色層２２ａ、緑色層２２ｂ及び青色層２２ｃを含むカラーフィルター２２と、カラーフィルター２２の各反射領域Ｒにおいて、反射領域Ｒ及び透過領域Ｔにおける光路差を補償するために設けられた透明層２３ａと、ブラックマトリクスＢを構成する後述の各ＢＭ下層部２１ｂ、各カラーフィルター２２の透過領域Ｔ及び透明層２３ａ（反射領域Ｒ）を覆うように設けられた複数の共通電極２４ｂと、各共通電極２４ｂ上に柱状に設けられたフォトスペーサ２６と、各共通電極２４ｂ、ブラックマトリクスＢを構成する後述の各ＢＭ上層部２５ｂの一部（後述する各第２タッチピンＰｂの以外の部分）及び各フォトスペーサ２６を覆うように設けられた配向膜９ｂとを備えている。
　ブラックマトリクスＢは、図８及び図９に示すように、アクティブマトリクス基板２０ｂ上の各ソース線１４ａ（各第１タッチパネル用配線１９ｃ）に重なるように設けられたＢＭ下層部２１ｂと、アクティブマトリクス基板２０ｂ上の各ゲート線１１に重なるように第２タッチパネル用配線として設けられたＢＭ上層部２５ｂとを備えている。
　ＢＭ下層部２１ｂは、樹脂製であり、例えば、黒色顔料が分散された有機絶縁膜により構成されている。
　ＢＭ上層部２５ｂは、例えば、クロム膜などの遮光性を有する金属膜により構成され、導電性を有している。ここで、ＢＭ上層部２５ｂは、図８に示すように、各第１タッチパネル用配線１９ｃに交差する領域において、その下層に凸状の樹脂層２３ｂが設けられているので、柱状に形成された第２タッチピンＰｂを有している。
　共通電極２４ｂは、図９に示すように、各ＢＭ上層部２５ｂの間に互いに平行に延びるようにストライプ状に設けられている。
　上記構成の半透過型の液晶表示装置５０ｂは、反射領域Ｒにおいて対向基板３０ｂ側から入射する光を反射電極１８ａで反射すると共に、透過領域Ｔにおいてアクティブマトリクス基板２０ｂ側から入射するバックライトからの光を透過するように構成されている。
　液晶表示装置５０ｂでは、画像を表示する際に、各画素において、ゲート線１１からゲート信号がゲート電極１１ａに送られて、ＴＦＴ５がオン状態になったときに、ソース線１４ａからソース信号がソース電極（１４ａ）に送られて、半導体層１３及びドレイン電極１４ｂを介して、透明電極１７ａ及び反射電極１８ａからなる画素電極１９ａに所定の電荷が書き込まれる。このとき、液晶表示装置５０ｂでは、アクティブマトリクス基板２０ｂの各画素電極１９ａと対向基板３０ｂの各共通電極２４ｂとの間において電位差が生じ、液晶層４０に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示装置５０ｂでは、液晶層４０に印加された電圧の大きさによって液晶層４０の配向状態を変えることにより、液晶層４０の光透過率を調整して画像を表示することになる。
　また、液晶表示装置５０ｂでは、アクティブマトリクス基板２０ｂ又は対向基板３０ｂの表面が押圧されたときに、第１タッチパネル用配線１９ｃの第１タッチピンＰａとＢＭ上層部２５ｂ（第２タッチパネル用配線）の第２タッチピンＰｂとが互いに接触して導通することにより、押圧されたタッチ位置を検出することになる。
　なお、本実施形態の液晶表示装置５０ｂは、実施形態１で説明したアクティブマトリクス作製工程及び対向基板作製工程において、構成薄膜のパターン形状を変更することにより、製造することができるので、その詳細な説明を省略する。
　以上説明したように、本実施形態の液晶表示装置５０ｂによれば、上記実施形態１と同様に、配向膜９ａ及び９ｂが第１タッチパネル用配線１９ｃとＢＭ上層部２５ｂとの間の抵抗成分とならなくなるので、液晶表示装置に内蔵されたマトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることができる。
　《発明の実施形態３》
　図１０は、本実施形態の液晶表示装置７０の断面図である。
　上記各実施形態の液晶表示装置では、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルが内蔵されていたが、本実施形態の液晶表示装置７０では、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネル６０が液晶表示パネル５０の前面に搭載されている。
　液晶表示装置７０は、図１０に示すように、上面及び下面に偏光板４１がそれぞれ貼り付けられた液晶表示パネル５０と、液晶表示パネル５０の上面（前面）に両面粘着テープなどを介して貼り付けられたマトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネル６０とを備えている。
　液晶表示パネル５０は、図１０に示すように、例えば、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板２０及び対向基板３０と、アクティブマトリクス基板２０及び対向基板３０の間に設けられた液晶層４０と、アクティブマトリクス基板２０及び対向基板３０を互いに接着すると共にアクティブマトリクス基板２０及び対向基板３０の間に液晶層４０を封入するために枠状に設けられたシール材（不図示）とを備えている。
　アクティブマトリクス基板２０は、例えば、ガラス基板などの絶縁基板（不図示）上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線（不図示）と、各ゲート線を覆うように設けられたゲート絶縁膜（不図示）と、ゲート絶縁膜上に各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線（不図示）と、各ゲート線及び各ソース線の交差部分毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ（不図示）と、各ソース線及び各ＴＦＴを覆うように順に設けられた層間絶縁膜（不図示）と、層間絶縁膜上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴにそれぞれ接続された複数の画素電極（不図示）と、各画素電極を覆うように設けられた配向膜（不図示）とを備えている。
　対向基板３０は、例えば、ガラス基板などの絶縁基板（不図示）上に、アクティブマトリクス基板２０上の各ゲート線及び各ソース線に重なるように、枠状に且つその枠内に格子状に設けられたブラックマトリクス（不図示）と、ブラックマトリクスの各開口部にそれぞれ設けられたカラーフィルター（不図示）と、ブラックマトリクス及びカラーフィルターを覆うように設けられた共通電極（不図示）と、共通電極上に柱状に設けられた複数のフォトスペーサ（不図示）と、共通電極及び各フォトスペーサを覆うように設けられた配向膜（不図示）とを備えている。
　タッチパネル６０は、図１０に示すように、互いに対向して配置された第１基板６１及び第２基板６６と、第１基板６１及び第２基板６６の間に中間層として設けられた空気層６５とを備えている。
　第１基板６１は、図１０に示すように、例えば、ガラス基板などの絶縁基板１０ｃ上に互いに平行に延びるようにＩＴＯ膜などにより形成された複数の第１タッチパネル用配線６２と、絶縁基板１０ｃ上にアクリル樹脂などに柱状に形成された複数のスペーサ６３と、各第１タッチパネル用配線６２の一部（後述する各第１タッチピンＰａの以外の部分）及び各スペーサ６３を覆うように設けられた樹脂製の保護膜６４ａとを備えている。
　第１タッチパネル用配線６２は、図１０に示すように、後述する各第２タッチパネル用配線６８に交差する領域において、その下層に凸状の樹脂層６７ａが設けられているので、柱状に形成された第１タッチピンＰａを有している。
　第２基板６６は、図１０に示すように、例えば、ガラス基板などの絶縁基板１０ｄ上に互いに平行に延びるようにＩＴＯ膜などにより形成された複数の第２タッチパネル用配線６８と、各第２タッチパネル用配線６８の一部（後述する各第２タッチピンＰｂの以外の部分）を覆うように設けられた樹脂製の保護膜６４ｂとを備えている。
　第２タッチパネル用配線６８は、図１０に示すように、各第１タッチパネル用配線６２に交差する領域において、その下層に凸状の樹脂層６７ｂが設けられているので、柱状に形成された第２タッチピンＰｂを有している。
　上記構成のタッチパネル６０は、第２基板６６の表面が押圧されたときに、第１タッチパネル用配線６２の第１タッチピンＰａと第２タッチパネル用配線６８の第２タッチピンＰｂとが互いに接触して導通することにより、押圧されたタッチ位置を検出するようになっている。
　本実施形態のタッチパネル６０及びそれを備えた液晶表示装置７０によれば、第１基板６１上の各第１タッチパネル用配線６２と、第２基板６６上の各第２タッチパネル用配線６８とは、保護膜６４ａ／空気層６５／保護膜６４ｂを介して交差し、第２基板６６の表面が押圧されたときに、各第１タッチパネル用配線６２及び各第２タッチパネル用配線６８が、各第１タッチパネル用配線６２に設けられた各第１タッチピンＰａ、及び各第２タッチパネル用配線６８に設けられた各第２タッチピンＰｂを介して、互いに導通するように構成されているので、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルが具体的に構成されることになる。ここで、柱状に設けられた各第１タッチピンＰａ及び各第２タッチピンＰｂの頂部は、第１基板６１及び第２基板６６の各表面において突出しているので、第１基板６１及び第２基板６２における平坦な部分よりも保護膜６４ａ及び６４ｂで覆われ難い。しかも、各第１タッチピンＰａと各第２タッチピンＰｂとの接触により、各第１タッチパネル用配線６２及び各第２タッチパネル用配線６８が互いに導通するので、第１基板及び第２基板の一方側のみにタッチピンが設けられている場合（例えば、第１基板の第１タッチピンが存在して、第２基板の第２タッチピンが存在しない場合であって、押圧されたときに第１タッチピンの頂部が当接する第２基板の表面部分が保護膜で覆われ易い場合）よりも、保護膜６４ａ及び６４ｂが第１タッチパネル用配線６２と第２タッチパネル用配線６８との間の抵抗成分とならなくなる。したがって、マトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることができる。
　本実施形態では、表示パネルとしてアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示パネルを例示したが、本発明は、パッシブマトリクス駆動方式の液晶表示パネル、アクティブマトリクス駆動方式又はパッシブマトリクス駆動方式の有機ＥＬ（electro luminescence）表示パネルなどの他の表示パネルにも適用することができる。
　《発明の実施形態４》
　図１１は、本実施形態の液晶表示装置を構成する第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂの断面図である。
　上記各実施形態では、柱状に形成された第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂを例示したが、本実施形態では、第１タッチピンＰａ又は第２タッチピンＰｂの頂部が凹状に形成されている。
　具体的に本実施形態の液晶表示装置を構成する第１タッチピンＰａは、図１１に示すように、その頂部が凹状に形成されている。また、第２タッチピンＰｂは、図１１に示すように、その頂部が第１タッチピンＰａの凹部に嵌合するように柱状に形成されている。
　本実施形態の液晶表示装置によれば、上記実施形態１及び２と同様に、配向膜が第１タッチパネル用配線と第２タッチパネル用配線との間の抵抗成分とならなくなるので、液晶表示装置に内蔵されたマトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることができる。
　また、本実施形態の液晶表示装置によれば、第１タッチピンＰａの頂部が凹状に形成されているので、頂部が凹状に形成された第１タッチピンＰａの縁の凸部がてこの支点となることにより、各第１タッチパネル用配線と各第２タッチパネル用配線との貼り付きによる常時短絡を抑制することができる。
　なお、本実施形態では、液晶表示装置に内蔵されたタッチパネルにおける第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂを例示したが、本発明は、タッチパネル単体における第１タッチピン及び第２タッチピンにも適用することができる。
　《発明の実施形態５》
　図１２は、本実施形態の液晶表示装置を構成する第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂの平面図である。
　上記実施形態１～３では、各頂部が互いに重なり合うように構成された第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂを例示したが、本実施形態では、第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂが互いに交差するように構成されている。
　具体的に本実施形態の液晶表示装置を構成する第１タッチピンＰａは、図１２に示すように、例えば、ゲート線１１に沿って延びるように線状に形成されている。また、第２タッチピンＰｂは、図１２に示すように、例えば、ソース線１４ａに沿って延びるように線状に形成され、第１タッチピンＰａに直交するように設けられている。
　本実施形態の液晶表示装置によれば、上記実施形態１、２及び４と同様に、配向膜が第１タッチパネル用配線と第２タッチパネル用配線との間の抵抗成分とならなくなるので、液晶表示装置に内蔵されたマトリクス型の抵抗膜方式のタッチパネルにおいて、タッチピンの頂部における導通を確実にすることができる。
　また、本実施形態の液晶表示装置によれば、各第１タッチピンＰａ及び各第２タッチピンＰｂが互いに交差するように線状に形成されているので、アクティブマトリクス基板と対向基板とを貼り合わせる際に位置ずれが発生しても、各第１タッチピンＰａと各第２タッチピンＰｂとを互いに接触させることができる。
　なお、本実施形態では、液晶表示装置に内蔵されたタッチパネルにおける第１タッチピンＰａ及び第２タッチピンＰｂを例示したが、本発明は、タッチパネル単体における第１タッチピン及び第２タッチピンにも適用することができる。
　上記実施形態１及び２では、ゲート線やソース線の表示用配線１本毎に、タッチパネル用配線が１本設けられた構成を例示したが、本発明は、隣り合う複数本の表示用配線毎に、タッチパネル用配線が１本設けられた構成であってもよい、すなわち、タッチパネル用配線を間引いて、その本数を少なくしてもよい。
　上記実施形態１及び２では、第１タッチパネル用配線が画素電極１９ａと同時に形成される構成を例示したが、本発明は、第１タッチパネル用配線がゲート線又はソース線と同時に形成される構成であってもよい。
　上記各実施形態では、半透過型の液晶表示装置を例示したが、本発明は、透過型や反射型の液晶表示装置にも適用することができる。
　上記各実施形態では、シングルタッチのタッチパネルを例示したが、本発明は、マルチタッチのタッチパネルにも適用することができる。
　上記各実施形態の液晶表示装置は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertical Alignment）、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）、ＡＳＶ（Advanced Super View）、ＩＰＳ（In-Plane-Switching）など、どのような方式であってもよい。
　以上説明したように、本発明は、抵抗膜方式のタッチパネルを備えた液晶表示装置において、装置自体を薄く軽量化することができるため、カーナビ、ＰＤＡ(Personal Digital Assistant）などについて有用であり、特に、携帯電話、ノート型パソコン、携帯型ゲーム機、デジタルカメラなどのモバイル機器全般に有用である。
Ｐａ　　　第１タッチピン
Ｐｂ　　　第２タッチピン
９ａ，９ｂ　　　　　配向膜
１１　　　ゲート線（第１表示用配線又は第２表示用配線）
１４ａ　　ソース線（第２表示用配線又は第１表示用配線）
１９ｂ，１９ｃ，６２　　第１タッチパネル用配線
２０，２０ａ，２０ｂ　　アクティブマトリクス基板
２５ａ，２５ｂ　　　ＢＭ上層部（第２タッチパネル用配線）
２６　　　フォトスペーサ
３０，３０ａ，３０ｂ　　対向基板
４０　　　液晶層
５０　　　液晶表示パネル
５０ａ，５０ｂ，７０　　液晶表示装置
６０　　　タッチパネル
６１　　　第１基板
６６　　　第２基板
６４ａ，６４ｂ　　　保護膜
６５　　　空気層（中間層）
６８　　　第２タッチパネル用配線

Claims (7)

  1. 　互いに平行に延びるように複数の第１タッチパネル用配線が設けられたアクティブマトリクス基板と、
    　上記アクティブマトリクス基板に対向して配置され、上記各第１タッチパネル用配線に交差する方向に互いに平行に延びるように複数の第２タッチパネル用配線が設けられた対向基板と、
    　上記アクティブマトリクス基板及び対向基板の間にそれぞれ配向膜を介して設けられた液晶層とを備えた液晶表示装置であって、
    　上記各第１タッチパネル用配線は、上記各第２タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第１タッチピンを有し、
    　上記各第２タッチパネル用配線は、上記各第１タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第２タッチピンを有し、
    　上記アクティブマトリクス基板又は対向基板の表面が押圧されたときに、上記各第１タッチピン及び各第２タッチピンが互いに接触することにより、上記各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が互いに導通するように構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 　請求項１に記載された液晶表示装置において、
    　上記各第１タッチピン又は各第２タッチピンの頂部は、凹状に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  3. 　請求項１に記載された液晶表示装置において、
    　上記各第１タッチピン及び各第２タッチピンは、互いに交差するように線状に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  4. 　請求項１乃至３の何れか１つに記載された液晶表示装置において、
    　上記アクティブマトリクス基板は、互いに平行に延びるように設けられた複数の第１表示用配線と、該各第１表示用配線に交差する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数の第２表示用配線とを有し、
    　上記各第１タッチパネル用配線は、上記各第１表示用配線に沿って設けられ、
    　上記各第２タッチパネル用配線は、上記各第２表示用配線に沿って設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
  5. 　請求項１乃至４の何れか１つに記載された液晶表示装置において、
    　上記アクティブマトリクス基板又は対向基板には、上記液晶層の厚さを規定するための柱状のフォトスペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
  6. 　互いに平行に延びるように複数の第１タッチパネル用配線が設けられた第１基板と、
    　上記第１基板に対向して配置され、上記各第１タッチパネル用配線と交差する方向に互いに平行に延びるように複数の第２タッチパネル用配線が設けられた第２基板と、
    　上記第１基板及び第２基板の間にそれぞれ保護膜を介して設けられた中間層とを備えたタッチパネルであって、
    　上記各第１タッチパネル用配線は、上記各第２タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第１タッチピンを有し、
    　上記各第２タッチパネル用配線は、上記各第１タッチパネル用配線に交差する領域に、柱状に設けられた複数の第２タッチピンを有し、
    　上記第１基板又は第２基板の表面が押圧されたときに、上記各第１タッチピン及び各第２タッチピンが互いに接触することにより、上記各第１タッチパネル用配線及び各第２タッチパネル用配線が互いに導通するように構成されていることを特徴とするタッチパネル。
  7. 　請求項６に記載されたタッチパネルと、
    　上記タッチパネルに対向して配置された表示パネルとを備えていることを特徴とする表示装置。
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