WO2009016240A1 - Mikromechanischer drehratensensor - Google Patents

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WO2009016240A1
WO2009016240A1 PCT/EP2008/060086 EP2008060086W WO2009016240A1 WO 2009016240 A1 WO2009016240 A1 WO 2009016240A1 EP 2008060086 W EP2008060086 W EP 2008060086W WO 2009016240 A1 WO2009016240 A1 WO 2009016240A1
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Hanno Hammer
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Sd Sensordynamics Ag
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
    • G01C19/5705Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis
    • G01C19/5712Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis the devices involving a micromechanical structure

Definitions

  • the present invention relates to a micromechanical Coholis yaw rate sensor for detecting a yaw rate about a measuring axis, referred to hereinafter as the X-axis. It has a substrate, a vibrating structure and means for generating a torsional vibration about an axis of excitation orthogonal to the measuring axis (Z-axis).
  • the vibrating structure is rotatably connected to the substrate by means of first, inner suspensions or by means of a central suspension, so that it can execute torsional vibrations about a pivot point relative to the substrate.
  • Micromechanical rotation rate sensors are known from the prior art, wherein a distinction can generally be made between decoupled and coupled sensors.
  • the oscillating structure has a drive element and a detection element which is mechanically separated from it.
  • the drive element is placed in a usually stationary state of motion, the drive oscillation.
  • An overlap of the drive oscillation on the detection element is prevented by a suitable arrangement of the drive element with the detection element coupling spring elements. If a rate of rotation acts on the sensor from the outside, the drive element is stimulated in addition to the drive oscillation to a further movement, the detection movement. This is subsequently transmitted via the spring elements to the detection element, recorded by measurement and evaluated.
  • the vibrating structure acts both as a drive and as a detection element. However, it may be formed integrally or in several parts, is stimulated to drive vibration and performs at the action of an external rotation rate in addition to the drive vibration and the detection movement.
  • micromechanical motion sensors which have a wing-shaped detection unit. This is stored centrally on a substrate.
  • the central storage takes place with a plurality of radially distributed, each aligned transversely to the direction to be detected tilting suspension bar, which are stored at a central or a plurality of decentralized points on the substrate.
  • the detection unit performs a torsional vibration about a center of rotation coincident with the central storage parallel to the substrate due to an excitation generated by the sensor as a drive movement. Due to an external rate of rotation acting on the sensor (in the direction of or around the measuring axis) and thereby generated Coriolis forces, the detection unit undergoes an angular momentum change, which leads to a tilting movement of the same about an axis perpendicular to the rotational axis / excitation axis and the external yaw rate axis (detection axis).
  • the tilting movement is detected by means of a capacitive sensor arrangement, which is formed on the one hand by the detection unit and on the other hand by this capacitance lying opposite to the substrate.
  • the sensor arrangement is formed by a plurality of distributed arranged capacitances, in order to enable a Drehrenatencardistouche detection.
  • DE 199 15 257 A1 discloses to suitably dimension the aspect ratio of the suspension springs or beams of the detection unit.
  • the torsional vibration (excitation oscillation) of the detection unit about the excitation axis and tilting about a detection axis perpendicular to the excitation axis can be made possible while tilting about a perpendicular to these axes measuring axis substantially prevented or can be restricted in the desired manner.
  • sensors known from the described prior art are susceptible to interference due to their central suspension against the influence of external disturbances such as shock accelerations or vibrations and are often not sufficiently robust. Thus, there may be strong relative changes in position between detection unit and substrate, which in turn may lead to a so-called sticking and unusability of the sensor.
  • the present invention has the object to provide a micromechanical Coriolis yaw rate sensor with responsively developable responsiveness with sufficient sensitivity to yaw rates to one or more directions simultaneously in the measuring direction or the measuring directions (about a detection axis ) against external shock and vibration has sufficient robustness to meet the requirements of electronic signal processing as much as possible and in particular to counteract the risk of sticking the vibrating structure on the substrate.
  • Robustness to mechanical disturbances can generally be achieved by raising the resonant frequencies of the moveable sensor structure to levels substantially outside the acoustic spectrum, rendering the sensor less susceptible to shock and vibration.
  • a main aspect is therefore to create a sensor design which is characterized by the highest possible insensitivity to mechanical disturbances and at the same time the sensitivity of other designs that meet the current state of the art, or possibly exceeds.
  • the solution of the above-described object consists in a micromechanical Coriolis yaw rate sensor according to the preamble of claim 1, which is characterized in that at least one pair of second suspensions connects the vibrating structure to the substrate and is arranged on opposite sides of the fulcrum, the at least a pair of second suspensions are disposed at a greater radial distance from the fulcrum than the first, inner suspensions and the central suspension, respectively.
  • a Cartesian coordinate reference system which is stationary relative to the sensor substrate will be used by way of example below. Its origin coincides with the fulcrum of the vibration structure arranged on the substrate. Its orientation to the sensor is merely exemplary and not limited to the given representation.
  • the X-axis and the Y-axis of the reference frame are arranged parallel to the substrate plane in the plane of the quiescent (no sensing motion exporting) vibrating structure.
  • the Z-axis as the excitation axis extends orthogonally to the substrate plane, so that the vibrating structure is excited to perform a torsional vibration about the Z-axis (excitation movement).
  • the yaw rate to be measured is (as a pseudo-vectorial angular velocity) in the XY plane, eg parallel to the X-axis, which in this case represents the rotation or measurement axis of the sensor.
  • the measuring movement then consists in a tilting oscillation of the oscillating structure about the Y-axis, which in this case is the detection axis.
  • the X and Y axes act both as the measuring axis and as the detection axis.
  • the present invention relates to both coupled and decoupled yaw rate sensors, but is particularly applicable to coupled sensors.
  • the oscillating structure acts in the case of coupled sensors as a detection unit and performs both excitation and the detection movements.
  • the oscillating structure usually comprises both a detection and an excitation unit, wherein the excitation unit is excited to carry out the excitation movement and the detection unit executes the detection movement to be detected.
  • the oscillating structure according to the invention is coupled to the substrate via the first, inner suspensions and via at least a pair of second, outer suspensions, wherein the at least one pair of second suspensions are at a greater radial distance from the fulcrum than the first, inner suspensions is arranged.
  • the greater radial distance to the fulcrum inevitably results because the central suspension is located at the fulcrum, thus having a zero radial distance therefrom.
  • this may also apply to the detection unit, however, alternatively or additionally, the excitation unit, which has already been shown, in the case of a decoupled sensor together with the detection unit forms the oscillating structure, with said first, inner suspensions or the central suspension and second, outer suspensions to be connected to the substrate.
  • Both the first, inner hangers, and the second, outer hangers can each contact the substrate directly via a single point of suspension or multiple suspension points, or indirectly to the substrate via suspension structures or elements (tenons, beams, etc.) be coupled.
  • Suspension points, structures or elements are referred to below as a coupling structure.
  • the coupling structure With the coupling structure, the vibrating structure is elastic connected, which allows the above-mentioned movements of the vibrating structure relative to the substrate.
  • the first, inner suspensions or the central suspension and the second, outer suspensions can basically be designed as desired. It is essential that the first, inner suspensions or the central suspension enable the excitation movement (torsional vibration about the Z axis) and at the same time the detection movement (s) (tilting about the X and / or Y axis). They may be designed such that only the excitation movement in a first direction and a detection movement in a further direction is possible (sensor with only one measuring direction). Preferably, this is done by an axisymmetric design or arrangement of the first, inner suspensions, for example by these are arranged in pairs opposite each other on both sides of the pivot point. However, also detection movements in two spatial directions are possible, e.g.
  • first, inner suspensions are arranged with respect to these directions point-symmetrical to and as close as possible to the fulcrum or a central suspension is used.
  • the sensor then has a direction-independent or mosachsunspezifisches response.
  • second, outer suspensions an action of a rate of rotation of a certain size, regardless of the direction of rotation relative to the sensor, always produced a detection movement of the same size.
  • the direction of the deflection of the oscillating structure depends only on the orientation of the rate of rotation to the sensor.
  • the second, outer suspensions serve the purpose of making the response and the measuring sensitivity of the sensor simple from a manufacturing point of view.
  • the second, outer suspensions preferably do not influence the excitation movement of the oscillating structure or only insignificantly. Their effect is preferably limited to the detection movement (s) in the measuring direction or the measuring directions.
  • the resonant frequency of the sensor can be formed direction-specific, ie increased or decreased, without this being a change, for example reduction, the moment of inertia of the Vibration structure with consequent reduction of sensitivity would be required.
  • the resonant frequencies of the vibrating structure can be controlled in a controlled manner during movements about the Z-axis and the Y-axis, while movement about the X-axis is largely restricted by the arrangement of the inner suspensions the number of degrees of freedom is reduced to two.
  • both the operating frequencies as well as the parasitic resonances of the oscillating structure can be influenced without significant loss of sensitivity, whereby the sensor is insensitive to mechanical disturbances with sufficient sensitivity, especially in the measuring direction.
  • the second suspensions are preferably diametrically opposed to straight lines passing through the center of mass of the oscillating structure 2. In the case of a pair of second suspensions, this straight line is preferably congruent with one of the axes of the sensor-mounted reference frame. It is also possible that more than one pair of second suspensions are used, which are preferably arranged symmetrically with respect to the X-axis and symmetrically with respect to the Y-axis.
  • the second suspensions are generally not interconnected (by webs or the like), but each have a direct elastic connection to the substrate. With particular advantage, they are furthermore placed independently in their own recesses within the oscillating structure and symmetrical with respect to the specified center of rotation. An arrangement on the outside of the vibrating structure is also possible.
  • outer suspensions which are placed within the surface of the oscillating structure, are preferably associated with a recess in the oscillating structure, which accommodates the respective suspension with sufficient freedom to not hinder the functional torsional vibrations of the sensor structure.
  • the center of rotation of the oscillating structure preferably coincides with its center of gravity.
  • each first, inner or second, outer suspension has at least one spring element, preferably a beam spring element or a bending beam, which attaches to the oscillating structure on the one hand and directly to the substrate or to a rigidly connected coupling structure.
  • the spring elements of the first inner and / or second, outer suspension are branched in the region of their lugs on the oscillating structure and the substrate or its coupling structures, in particular form a plurality of arms.
  • the attachment points are formed with a rounding, which may be elliptical in particular. To this Way, the approach areas of the spring elements are formed as large as possible, whereby internal stresses are minimized.
  • the ends of the spring elements remote from the center of rotation of the oscillating structure are preferably connected to the oscillating structure, while the ends of the spring elements opposite and thus further inward are connected to the substrate or its coupling structure.
  • the spring elements of the second suspensions each compensate for a deformation in their longitudinal direction Have area. Curvatures or distortions of the substrate and / or the detection unit or oscillating structure could change the positions of the fixing points of the spring elements relative to the first inner suspension without such areas, so that a change of the spring characteristics can occur and / or the rest position of the detection unit or oscillating structure relative to the substrate, whereby the temperature coefficient of the sensor is adversely affected.
  • the areas act as buffers that cushion or absorb tension. It has been found that the spring elements in the areas in a particularly advantageous meandering, U-shaped, C-shaped or annular, with other shapes are possible in addition, which allow a reduction in stress caused by relative displacements of the fixation points voltages. By using such areas, changes in the resonant frequencies of the sensor caused by relative displacements can be reduced by a factor of 10 compared to a pure bar spring.
  • the oscillating structure consists of a substantially rigid plate, which combines in the case of a coupled sensor both the function of the drive and the detection element in it.
  • it has two wing-like formations. These serve to increase the sensitivity of the sensor when detecting a rotation rate.
  • a rotation of the sensor can be detected about the X-axis of an inertial system, which is parallel to the stationary sensor system at a given time, the wing-like formations in the direction of the X-axis, preferably on both sides of the Y-axis formed.
  • radially outwardly directed comb beams act on the oscillating structure, on which electrodes are seated or which form those which form capacitances together with further, fixed comb beams. These are charged with an electrical alternating voltage of suitable frequency, whereby the drive torsional vibration of the vibrating structure is excited about the Z-axis. If a rate of rotation with proportion parallel to the X-axis, as mentioned above, the detection movement is excited.
  • the oscillatory structure here describes a tilting oscillation around the Y-axis of the reference system, which is capacitively detected by electrodes which are formed by the oscillating structure itself and parts of the underlying substrate.
  • the spatial removal of the fulcrum points from the fulcrum is an essential design parameter: the effects of the momentum moments of the vibrating structure due to the wing-like formations - in this example around the Y and Z axes of the sensor reference system - such as low resonant frequencies of the oscillations about these axes , can be compensated by the externally arranged second suspensions in a controlled manner.
  • the hinges placed away from the center of rotation counteract large deflections of the movable sensor structure, in particular in the case of non-negligible elastic deformations of the oscillating structure. This also counteracts a possible tendency to adhere sticking to the vibrating structure on the substrate.
  • the spring elements of the second suspensions are arranged in recesses in the wing-like formations.
  • the end of the spring elements remote from the first, inner suspension is connected to the oscillating structure, while the opposite end is connected to the substrate.
  • Such a sensor has a high sensitivity for detecting rotation rates about a rotation or measurement axis, while the spring elements prevent excessive deflection of the vibration structure about the detection axis.
  • the resonant frequencies of the system can be raised to values outside the acoustic spectrum, but at least above 10 kHz, when the oscillating structure is deflected about the detection axis relative to the substrate, as a result of which the sensor faces unwanted environmental disturbances, which are mostly in the acoustic range, such as shock or vibration is substantially insensitive. Furthermore, a striking caused by external shock impact of the vibrating structure in the measurement mode, with all the associated negative consequences, counteracted.
  • FIG. 1 shows a schematic plan view of a first preferred embodiment of the sensor with a pair of first, inner suspensions
  • FIG. 2 shows a schematic sectional view along the line M-II of FIG. 1,
  • FIG. 3 shows an enlarged plan view of the first inner suspensions of the sensor of FIG. 1 arranged along the Y-axis
  • FIG. 4 is an enlarged plan view of a spring element with suspension point and meander-shaped buffer zone of the sensor of FIG. 1 arranged along the X-axis within the right-hand wing;
  • FIG. 5 shows a schematic plan view of a second preferred embodiment of the sensor with central suspension
  • FIG. 6 shows a schematic sectional view along the line VI-VI of FIG. 5
  • Figure 7 is an enlarged plan view of the along the Y-axis arranged central suspension of the sensor of Fig. 5 and
  • FIG. 8 shows an enlarged plan view of a spring element of the sensor of FIG. 5 arranged along the X-axis within the right-hand wing.
  • the Cartesian coordinate system indicated in the figures represents the sensor reference system given in the general description of the invention. Its Z-axis (6 in Figures 2 and 6) extends in Figs. 1 and 5 perpendicular to the drawing plane out in the direction of the viewer. The exact position of the origin of coordinates results from the synopsis of FIGS. 1 and 2 or 5 and 6.
  • the X-axis 4 is referred to as the measuring axis 4, the Y-axis 5 as the detection axis 5 and the Z-axis 6 as the drive axis 6.
  • the sensor of a first exemplary embodiment shown in FIG. 1 in a plan view has a substrate 1 as a basic element, as is well known from the prior art.
  • a vibrating structure 2 is mounted on pairs of opposing suspension points in the form of bearing journals 3a, 3b, 14a, 14b as coupling structures.
  • the bearing pins 3a, 3b together with spring elements 11a, 11b along the Y-axis 5 first, inner suspensions 3a, 3b, 11a, 11 b, whereas the bearing pins 14a, 14b with spring elements 10a, 10b along the X-axis 4 second, outer suspensions 14a, 14b, 10a, 10b form.
  • the spring elements 10a, 10b, 11a, 11b connect the oscillating structure 2 with the bearing pins 3a, 3b, 14a, 14b.
  • the oscillating structure 2 is designed mirror-symmetrically both to the detection axis 5 and to the measuring axis 4. It is also point-symmetrical to the center of rotation of the vibrating structure 2, which coincides with the origin of the coordinate system. It has a substantially circular base body 16, on the side in the direction of the measuring axis 4 wing-like formations, hereinafter referred to as wings 17a, 17b, are arranged. Between the wings 17a, 17b are on both sides of the main body 16 of the oscillating structure 2 schematically indicated drive combs 8 are arranged, via which the oscillating structure is set in a torsional vibration about the drive axis.
  • FIG. 3 the bearing pins 3a, 3b arranged along the detection axis 5, together with springs 11a, 11b fixed thereto, are shown enlarged.
  • the bearing pins 3a, 3b are fixedly connected to the underlying substrate 1 and rise from the substrate in the direction of the positive drive axle 6.
  • the spring elements 11 a, 11 b are connected to the bearing journal 3a, 3b opposite ends with the vibrating structure 2.
  • the spring elements 11 a, 11 b allow due to their shape the rotational vibration of the vibrating structure 2 relative to the substrate 1 about the drive axis 6 (drive movement), and a rotational vibration of the vibrating structure 2 relative to the substrate 1 about the detection axis 5 (detection movement), whereas a rotational vibration to the measuring axis 4 of the vibrating structure 2 is prevented relative to the substrate 1 or substantially prevented.
  • the oscillating structure 2 is offset by means of the drive combs 8 in a rotational vibration relative to the substrate 1 about the drive axis 6. If there is now a rotation of the entire sensor about the measuring axis 4, then additional periodic Coriolis force pairs occur, which are symbolized in FIG. 2 by F C i and F C 2. These forces act on the entire movable sensor structure 2 and most strongly in the area of the wings 17a, 17b in the plane formed by the drive axis 6 and the measuring axis 4. The associated with the Coholis forces Coriolis moment thus excited the Meßmoden-torsional vibration of the vibrating structure 2 about the detection axis 5. The associated relative change in position of the vibrating structure 2 relative to the substrate 1 by means not shown in the figures measuring electrodes, preferably in the range below the wings 17a, 17b and possibly partially or completely below the inner, disc-shaped disk, can be detected metrologically.
  • the oscillating structure 2 by means of two further, outer suspensions, each consisting of bearing pins 14a, 14b and hanging thereon horizontal springs 10a, 10b with C-shaped buffer zones 20a, 20b, with 4, the horizontal springs 10a, 10b are arranged within the area of the wings 17a, 17b of the vibrating structure 2.
  • the wings 17a, 17b each have their own recesses 15a, 15b for this purpose, in which the horizontal springs 10a, 10b including buffer zones 20a, 20b and bearing journals 14a, 14b are accommodated.
  • the horizontal springs 10a, 10b are preferably connected to the bearing journal 14a, 14b opposite ends 13a, 13b with the oscillating structure 2, while they are fixed to the other ends 12a, 12b on the bearing pins 14a, 14b. Similar to the bearing journals 3a, 3b, the bearing journals 14a, 14b are firmly connected to the substrate 1.
  • the horizontal springs 10a, 10b are each in the form of a bending beam. Their aspect ratio can be arbitrary, but is preferably highly trained. In the In the embodiment shown, the horizontal springs 10a, 10b have a substantially rectangular cross-section whose width in the direction of the detection axis 5 is smaller than its height in the direction of the drive axle 6.
  • the horizontal springs 10a, 10b with bearing journals 14a, 14b placed within the vanes 17a, 17b serve primarily to compensate for the effects of the high moments of inertia of the oscillating structure 2 about the respective spatial axes.
  • the mechanical (both functional and parasitic) natural frequencies of the moving sensor structure can be set to high values, e.g. be increased above 10 kHz (with suitable spring dimensioning to over 20 kHz), so that incoming from the outside, parasitic vibrations in the acoustic frequency range only very weak in the measuring motion of the vibrating structure couple; and 2), the horizontal springs with their inner suspension largely prevent a shock caused by external shock pulses associated with an adhesive sticking of the detection unit 2 to the underlying substrate 1.
  • the horizontal springs 10a, 10b are not formed in the sensors of the embodiments as continuous bending beams of the same cross-section. Rather, they have a portion 20a, 20b as a buffer in which spring-induced stresses in their longitudinal direction - i. in the direction of the measuring axis 4 - can be dismantled. In the illustrated preferred embodiments, this region 20a, 20b is realized as an approximately C-shaped projection formed on both sides of the spring longitudinal axis.
  • FIG. 5 shows a schematic plan view of a second exemplary embodiment of the sensor, in which the oscillating structure 2 is mounted by means of a central suspension 3, 11a, 11b instead of by means of the first, inner suspensions 3a, 3b, 11a, 11b.
  • the central suspension coincides with the center of mass of the vibrating structure 2 and lies at the origin of the coordinate system.
  • the oscillating structure 2 is mirror-symmetrical to both the detection axis 5 and the measuring axis 4 as in the first embodiment. It is also point-symmetrical to the central suspension 3,11 a, 11 b. Incidentally, it is substantially similar to the vibrating structure 2 of the first embodiment, to the explanations of which reference is made.
  • the central suspension is 3,11 a, 11 b shown enlarged. It consists of the firmly connected to the substrate 1 anchor 3, which rises from the substrate 1 in the direction of the excitation axis 6.
  • the armature 3 has a substantially circular cross-section, wherein in the direction of the detection axis 5 opposite recesses 18a, 18b are introduced.
  • the oscillating structure 2 has a central passage opening 7. This is likewise substantially circular with recesses 9a, 9b introduced in the direction of the detection axis 5.
  • the central through-opening 7 of the oscillating structure 2 has a larger diameter than the armature 3, so that the oscillating structure 2 can execute torsional vibrations largely unimpeded around the armature 3 relative to the substrate 1.
  • the recesses 9a, 9b of the oscillating structure 2 and the recesses 18a, 18b of the armature 3 are opposite to each other. Between these recesses, the armature springs 11 a, 11 b arranged and each end connected to the armature 3 on the one hand and the vibrating structure 2 on the other.
  • the armature springs 11 a, 11 b allow due to their shape the rotational vibration of the vibrating structure 2 relative to the substrate 1 about the excitation axis 6, and a rotational vibration of the vibrating structure 2 relative to the substrate 1 about the detection axis 5, whereas a rotational vibration about the measuring axis 4 of the vibrating structure. 2 relative to the substrate 1 is prevented or substantially prevented.
  • both the armature springs 11 a, 11 b and the horizontal springs 10 a, 10 b - in particular the Fign. 7 and 8 can be seen - with a branch 19a, 19b, 19c, 19d; 21 a, 21 b, 21 c, 21d provided at the respective spring attachment points.
  • the spring attachment points ie the end regions of the springs, are elliptically rounded. In this way, the stresses present in the springs, in particular the maximum stresses, are distributed over a larger area in the attachment areas, without at the same time increasing the rigidity of the springs too much.

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft einen mikromechanischen Coriolis-Drehratensensor zur Erfassung einer Drehrate um eine im Folgenden als X-Achse bezeichnete Messachse mit einem Substrat, einer Schwingstruktur und Mitteln zum Erzeugen einer Drehschwingung um eine zur Messachse orthogonale Anregungsachse (Z-Achse), wobei die Schwingstruktur mittels erster, innerer Aufhängungen oder mittels einer zentralen Aufhängung drehbar mit dem Substrat verbunden ist, so dass sie Drehschwingungen um einen Drehpunkt relativ zum Substrat ausführen kann, wobei des Weiteren wenigstens ein Paar zweiter Aufhängungen die Schwingstruktur mit dem Substrat verbindet und auf einander gegenüberliegenden Seiten des Drehpunktes angeordnet ist, wobei das wenigstens eine Paar zweiter Aufhängungen in einem größeren radialen Abstand zum Drehpunkt als die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale Aufhängung angeordnet ist, um einen mikromechanischen Coriolis-Drehratensensor mit drehachsspezifisch ausbildbarem Ansprechverhalten bei ausreichender Empfindlichkeit gegenüber Drehraten um eine oder mehrere Drehrichtungen zu schaffen, der gleichzeitig in der Messrichtung oder den Messrichtungen (um eine Detektionsachse) gegenüber äußerer Schock- und Vibrationseinwirkung eine ausreichende Robustheit besitzt, um den Anforderungen der elektronischen Signalverarbeitung so weit wie möglich entgegenzukommen und insbesondere der Gefahr eines Stickings der Schwingstruktur am Substrat entgegen zu wirken.

Description

Mikromechanischer Drehratensensor
Die vorliegende Erfindung betrifft einen mikromechanischen Coholis-Drehratensensor zur Erfassung einer Drehrate um eine im Folgenden als X-Achse bezeichnete Messachse. Er weist ein Substrat, eine Schwingstruktur und Mittel zum Erzeugen einer Drehschwingung um eine zur Messachse orthogonale Anregungsachse (Z-Achse) auf. Die Schwingstruktur ist mittels erster, innerer Aufhängungen oder mittels einer zentralen Aufhängung drehbar mit dem Substrat verbunden, so dass sie Drehschwingungen um einen Drehpunkt relativ zum Substrat ausführen kann.
Aus dem Stand der Technik sind mikromechanische Drehratensensoren bekannt, wobei generell zwischen entkoppelten und gekoppelten Sensoren unterschieden werden kann. Bei entkoppelten Sensoren weist die Schwingstruktur ein Antriebselement und ein davon mechanisch getrenntes Detektionselement auf. Das Antriebselement wird in einen üblicherweise stationären Bewegungszustand, die Antriebsschwingung, versetzt. Ein Übergreifen der Antriebsschwingung auf das Detektionselement wird durch geeignete Anordnung von das Antriebselement mit dem Detektionselement koppelnden Federelementen verhindert. Wirkt von außen eine Drehrate auf den Sensor, wird das Antriebselement neben der Antriebsschwingung zu einer weiteren Bewegung, der Erfassungsbewegung, angeregt. Diese wird in weiterer Folge über die Federelemente auf das Detektionselement übertragen, messtechnisch erfasst und ausgewertet.
Bei gekoppelten Sensoren wirkt die Schwingstruktur sowohl als Antriebs- als auch als Detektionselement. Sie kann gleichwohl einteilig oder mehrteilig ausgebildet sein, wird zu einer Antriebsschwingung angeregt und führt bei Einwirken einer äußeren Drehrate neben der Antriebsschwingung auch die Erfassungsbewegung aus.
Aus der DE 103 20 725 A1 sowie der DE 199 15 257 A1 sind gekoppelte mikromechanische Bewegungssensoren bekannt, die eine flügeiförmig ausgebildete Detektionseinheit aufweisen. Diese ist zentral an einem Substrat gelagert. Die zentrale Lagerung erfolgt mit mehreren radial verteilten, jeweils quer zur zu erfassenden Kipprichtung ausgerichteten Aufhängebalken, die an einem zentralen oder mehreren dezentralen Punkten an dem Substrat gelagert werden.
Die Detektionseinheit führt aufgrund einer sensorintern erzeugten Anregung als Antriebsbewegung eine Drehschwingung um einen Drehmittelpunkt zusammenfallend mit der zentralen Lagerung parallel zum Substrat aus. Aufgrund einer äußeren, auf den Sensor einwirkenden Drehrate (in Richtung der oder um die Messachse) und dadurch erzeugter Coriolis-Kräfte erfährt die Detektionseinheit eine Drehimpulsänderung, die zu einer Kippbewegung derselben um eine zur Drehschwingachse/Anregungsachse und zur äußeren Drehrate senkrechte Achse (Detektionsachse) führt. Die Kippbewegung wird mittels einer kapazitiven Sensoranordnung detektiert, die durch die Detektionseinheit einerseits und dieser auf dem Substrat gegenüberliegende Kapazitäten andererseits gebildet wird. Die Sensoranordnung ist durch eine Mehrzahl von verteilt angeordneten Kapazitäten ausgebildet, um eine drehratenrichtungsabhängige Erfassung zu ermöglichen.
Zur Einstellung der Empfindlichkeit des Ansprechverhaltens in unterschiedlichen Richtungen offenbart die DE 199 15 257 A1 , das Aspektverhältnis der Aufhängungsfedern oder -balken der Detektionseinheit geeignet zu dimensionieren. Durch eine gezielte Ausbildung des Aspektverhältnisses von in bestimmten Raumrichtungen angeordneten Aufhängungsbalken kann beispielsweise die Drehschwingung (Anregungsschwingung) der Detektionseinheit um die Anregungsachse sowie ein Verkippen um eine zur Anregungsachse senkrechte Detektionsachse ermöglicht werden, während ein Verkippen um eine zu diesen Achsen senkrechte Messachse im wesentlichen verhindert oder in gewünschter Weise eingeschränkt werden kann.
Zwar ist auf diese Weise eine Erfassung von Drehraten drehratenrichtungsspezifisch möglich, allerdings sind aus dem beschriebenen Stand der Technik bekannte Sensoren aufgrund ihrer zentralen Aufhängung gegenüber dem Einfluss externer Störgrößen wie Stoßbeschleunigungen oder Vibrationen störanfällig und oft nicht genügend robust. So kann es zu starken relativen Lageänderungen zwischen Detektionseinheit und Substrat kommen, die wiederum zu einem so genannten Sticking und Unbrauchbarkeit des Sensors führen können.
Ausgehend von dem zuvor beschriebenen Stand der Technik liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen mikromechanischen Coriolis-Drehratensensor mit drehachsspezifisch ausbildbarem Ansprechverhalten bei ausreichender Empfindlichkeit gegenüber Drehraten um eine oder mehrere Drehrichtungen zu schaffen, der gleichzeitig in der Messrichtung oder den Messrichtungen (um eine Detektionsachse) gegenüber äußerer Schock- und Vibrationseinwirkung eine ausreichende Robustheit besitzt, um den Anforderungen der elektronischen Signalverarbeitung so weit wie möglich entgegenzukommen und insbesondere der Gefahr eines Stickings der Schwingstruktur am Substrat entgegen zu wirken. Robustheit gegenüber mechanischen Störeinflüssen kann generell erreicht werden, indem die Resonanzfrequenzen der beweglichen Sensorstruktur auf werte weitgehend außerhalb des akustischen Spektrums gehoben werden, wodurch der Sensor gegenüber Schocks und Vibrationen unempfindlicher wird. Eine solche Maßnahme wird aber im Allgemeinen mit einer Verringerung der Trägheitsmomente des Detektionselements, und damit einer Verkleinerung der detektierenden Sensorfläche, einhergehen müssen, so dass die erhöhte Robustheit mit einer geringeren Sensorsensitivität erkauft wird. Ein Hauptaspekt ist daher, ein Sensordesign zu kreieren, welches sich durch möglichst hohe Unempfindlichkeit gegenüber mechanischen Störeinflüssen auszeichnet und gleichzeitig die Sensitivität anderer Designs, welche dem gegenwärtigen Stand der Technik entsprechen, erreicht oder möglichst übertrifft.
Die Lösung der oben beschriebenen Aufgabe besteht in einem mikromechanischen Coriolis-Drehratensensor nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 , der dadurch gekennzeichnet ist, dass wenigstens ein Paar zweiter Aufhängungen die Schwingstruktur mit dem Substrat verbindet und auf einander gegenüberliegenden Seiten des Drehpunktes angeordnet ist, wobei das wenigstens eine Paar zweiter Aufhängungen in einem größeren radialen Abstand zum Drehpunkt als die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale Aufhängung angeordnet ist.
Zur Beschreibung des erfindungsgemäßen Drehratensensors wird im Folgenden beispielhaft ein zum Sensorsubstrat ortsfestes Kartesisches Koordinaten-Bezugssystem verwendet. Dessen Ursprung fällt mit dem Drehpunkt der am Substrat angeordneten Schwingstruktur zusammen. Seine Orientierung zum Sensor ist lediglich beispielhaft und nicht auf die gegebene Darstellung beschränkt. Die X-Achse und die Y-Achse des Bezugssystems sind parallel zur Substratebene in der Ebene der ruhenden (keine Erfassungsbewegung ausführenden) Schwingstruktur angeordnet. Die Z-Achse als Anregungsachse erstreckt sich orthogonal zur Substratebene, so dass die Schwingstruktur zur Durchführung einer Drehschwingung um die Z-Achse angeregt wird (Anregungsbewegung). Die zu messende Drehrate liegt (als pseudo-vektorielle Winkelgeschwindigkeit) in der X-Y-Ebene, z.B. parallel zur X-Achse, die in diesem Fall die Dreh- oder Messachse des Sensors darstellt. Die Messbewegung besteht dann in einer Kippschwingung der Schwingstruktur um die Y-Achse, die in diesem Fall die Detektionsachse ist. Im Falle eines nicht auf eine Messrichtung eingeschränkten Sensors fungieren die X- und die Y-Achse jeweils sowohl als Messachse als auch als Detektionsachse. Bei einer nicht parallel zur Y- oder X-Achse orientierten Drehrate wirken deren Beschleunigungsanteile jeweils in Richtung einer dieser Achsen und führen zu Auslenkungen um die jeweils andere Achse, so dass die X- und die Y-Achse gleichzeitig Mess- und Detektionsachse sein können.
Die vorliegende Erfindung betrifft sowohl gekoppelte als entkoppelte Drehratensensoren, ist jedoch in besonders vorteilhafter weise bei gekoppelten Sensoren anwendbar. Die Schwingstruktur wirkt im Falle gekoppelter Sensoren als Detektionseinheit und führt sowohl Anregungs- als auch die Erfassungsbewegungen aus. Im Falle eines entkoppelten Sensors umfasst die Schwingstruktur üblicherweise sowohl eine Detektions- als auch eine Anregungseinheit, wobei die Anregungseinheit zum Durchführen der Anregungsbewegung angeregt wird und die Detektionseinheit die zu erfassende Detektionsbewegung ausführt.
In beiden der vorgenannten Fälle ist die Schwingstruktur erfindungsgemäß über die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale Aufhängung und über wenigstens ein Paar zweiter, äußerer Aufhängungen mit dem Substrat gekoppelt, wobei das wenigstens eine Paar zweiter Aufhängungen in einem größeren radialen Abstand zum Drehpunkt als die ersten, inneren Aufhängungen angeordnet ist. Im Falle einer Verwendung einer zentralen Aufhängung anstelle erster, innerer Aufhängungen ergibt sich der größere radiale Abstand zum Drehpunkt zwangsläufig, da die zentrale Aufhängung im Drehpunkt angeordnet ist, demnach zu diesem einen gegen Null gehenden radialen Abstand besitzt.
Im Falle eines gekoppelten Sensors bedeutet das, dass die die Schwingstruktur ausbildende Detektionseinheit über die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale Aufhängung und die zweiten, äußeren Aufhängungen mit dem Substrat verbunden ist. Im Falle eines entkoppelten Sensors kann dies für die Detektionseinheit gleichfalls zutreffen, allerdings kann alternativ oder zusätzlich die Angregungseinheit, die wie zuvor bereits dargestellt wurde, im Falle eines entkoppelten Sensors zusammen mit der Detektionseinheit die Schwingstruktur ausbildet, mit den besagten ersten, inneren Aufhängungen bzw. der zentralen Aufhängung und zweiten, äußeren Aufhängungen mit dem Substrat verbunden sein.
Sowohl die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale Aufhängung, als auch die zweiten, äußeren Aufhängungen können jeweils über einen einzigen Aufhängungspunkt oder mehrere Aufhängungspunkte mit dem Substrat direkt oder über Aufhängungsstrukturen oder -elemente (Zapfen, Balken, etc.) mit dem Substrat indirekt gekoppelt sein. Aufhängungspunkte, -strukturen oder -elemente werden im Folgenden als Koppelstruktur bezeichnet. Mit der Koppelstruktur ist die Schwingstruktur elastisch verbunden, was die zuvor angeführten Bewegungen der Schwingstruktur relativ zum Substrat ermöglicht.
Die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale Aufhängung sowie die zweiten, äußeren Aufhängungen können grundsätzlich beliebig ausgebildet sein. Wesentlich ist, dass die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale Aufhängung die Anregungsbewegung (Drehschwingung um die Z-Achse) und gleichzeitig die Erfassungsbewegung(en) (Verkippen um die X- und/oder Y-Achse) ermöglichen. Sie können derart ausgebildet sein, dass lediglich die Anregungsbewegung in eine erste Richtung und eine Erfassungsbewegung in eine weitere Richtung möglich ist (Sensor mit nur einer Messrichtung). Vorzugsweise erfolgt dies durch eine achssymmetrische Ausbildung oder Anordnung der ersten, inneren Aufhängungen, beispielsweise indem diese paarweise einander gegenüber liegend beiderseits des Drehpunkts angeordnet sind. Allerdings sind auch Erfassungsbewegungen in zwei Raumrichtungen möglich, z.B. indem die ersten, inneren Aufhängungen bezüglich dieser Richtungen punktsymmetrisch zum und möglichst nahe am Drehpunkt angeordnet sind bzw. eine zentrale Aufhängung verwendet wird. Der Sensor weist dann ein richtungsunabhängiges oder drehachsunspezifisches Ansprechverhalten auf. Ohne weitere zweite, äußere Aufhängungen riefe eine Einwirkung einer Drehrate bestimmter Größe unabhängig von deren Drehrichtung relativ zum Sensor immer eine Erfassungsbewegung entsprechender, gleicher Größe hervor. Die Richtung der Auslenkung der Schwingstruktur hinge dabei nur von der Orientierung der Drehrate zum Sensor ab.
Die zweiten, äußeren Aufhängungen dienen unabhängig von der spezifischen Ausgestaltung der ersten, inneren Aufhängungen bzw. der zentralen Aufhängung dem Zweck, das Ansprechverhalten und die Messempfindlichkeit des Sensors auf aus fertigungstechnischer Sicht einfache Weise drehachsspezifisch auszubilden. Die zweiten, äußeren Aufhängungen beeinflussen die Anregungsbewegung der Schwingstruktur vorzugsweise nicht oder nur unwesentlich. Ihre Wirkung beschränkt sich vorzugsweise auf die Erfassungsbewegung(en) in der Messrichtung bzw. den Messrichtungen. Durch entsprechende Abstimmung von Anzahl und Ausbildung der zweiten, äußeren Aufhängungen und Ort deren Platzierung bezüglich des Drehpunkts kann die relative Beweglichkeit zwischen Schwingstruktur und Substrat individuell richtungsbezogen eingestellt werden. Hierdurch wird die Messempfindlichkeit des Sensors richtungsspezifisch ausgebildet, so dass dieser ein drehachsspezifisches Ansprechverhalten aufweist. Des Weiteren kann die Resonanzfrequenz des Sensors richtungsspezifisch ausgebildet, also erhöht oder verringert, werden, ohne dass es hierzu einer Veränderung, z.B. Verringerung, des Trägheitsmoments der Schwingstruktur mit daraus resultierender Verringerung der Sensitivität bedürfte. Beispielsweise können durch Anordnung der zweiten, äußeren Aufhängungen die Resonanzfrequenzen der Schwingstruktur bei Bewegungen um die Z-Achse sowie die Y-Achse in kontrollierter Weise beeinflusst werden, während eine Bewegung um die X-Achse durch die Anordnung der inneren Aufhängungen weitgehend eingeschränkt ist, wodurch die Zahl der Freiheitsgrade auf zwei reduziert ist. Durch entsprechende Dimensionierung können sowohl die Arbeitsfrequenzen wie auch die parasitären Resonanzen der Schwingstruktur ohne wesentlichen Empfindlichkeitsverlust beeinflusst werden, wodurch der Sensor bei ausreichender Sensitivität insbesondere in Messrichtung unempfindlich gegenüber mechanischen Störeinflüssen ist.
Die zweiten Aufhängungen liegen vorzugsweise auf durch den Massenschwerpunkt der Schwingstruktur 2 verlaufenden Geraden einander diametral gegenüber. Im Falle eines Paars zweiter Aufhängungen ist diese Gerade vorzugsweise deckungsgleich mit einer der Achsen des sensorfesten Bezugssystems. Auch ist möglich, dass mehr als ein Paar zweiter Aufhängungen verwendet wird, wobei diese vorzugsweise symmetrisch bezüglich der X-Achse als auch symmetrisch bezüglich der Y-Achse angeordnet sind. Die zweiten Aufhängungen sind im Allgemeinen nicht (durch Stege oder dergleichen) untereinander verbunden, sondern besitzen jeweils zum Substrat eine direkte elastische Verbindung. Mit besonderem Vorteil sind sie des Weiteren unabhängig voneinander in eigenen Ausnehmungen innerhalb der Schwingstruktur platziert und bezüglich des spezifizierten Drehzentrums symmetrisch. Eine Anordnung am Außenbereich der Schwingstruktur ist jedoch gleichfalls möglich. Zweite, äußere Aufhängungen, welche innerhalb der Fläche der Schwingstruktur platziert sind, gehen vorzugsweise mit einer Ausnehmung in der Schwingstruktur einher, welche die jeweilige Aufhängung mit hinreichend viel Spielraum aufnimmt, um die funktionsgemäßen Drehschwingungen der Sensorstruktur nicht zu behindern. Vorzugsweise fällt das Drehzentrum der Schwingstruktur mit deren Massenschwerpunkt zusammen.
Nach einem weiteren Vorschlage der Erfindung weist jede erste, innere bzw. zweite, äußere Aufhängung mindestens ein Federelement, vorzugsweise ein Balkenfederelement oder einen Biegebalken, auf, welches einerseits an der Schwingstruktur und andererseits direkt an dem Substrat oder einer starr mit diesem verbundenen Koppelstruktur ansetzt. Gemäß einem weiteren Vorschlag sind die Federelemente der ersten inneren und/oder zweiten, äußeren Aufhängung im Bereich ihrer Ansätze an der Schwingstruktur sowie dem Substrat oder dessen Koppelstrukturen verzweigt, bilden insbesondere mehrere Arme aus. Vorzugsweise sind die Ansatzstellen mit einer Verrundung ausgebildet, die insbesondere ellipsenförmig sein kann. Auf diese Weise werden die Ansatzbereiche der Federelemente möglichst groß ausgebildet, wodurch innere Spannungen minimiert werden. Gleichzeitig wird durch die Verzweigung wenig Material benötigt, so dass eine hohe Belastungskapazität bei möglichst geringem Gewicht erzielt werden kann. Vorzugsweise sind die vom Drehzentrum der Schwingstruktur entfernten Enden der Federelemente mit der Schwingstruktur verbunden, während die gegenüber und somit weiter innen, liegenden Enden der Federelemente mit dem Substrat oder dessen Koppelstruktur verbunden sind.
Damit es aufgrund der Drei- oder Mehrfachfixierung der Detektionseinheit oder Schwingstruktur am Substrat beispielsweise bei temperaturbedingten Verformungen möglichst nicht zu einer Veränderung der Sensorcharakteristik kommt, ist nach einer besonders vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung vorgesehen, dass die Federelemente der zweiten Aufhängungen jeweils einen Verformungen in ihre Längsrichtung ausgleichenden Bereich aufweisen. Verkrümmungen oder Verzerrungen des Substrats und/oder der Detektionseinheit oder Schwingstruktur könnten ohne derartige Bereiche die Lagen der Fixierungspunkte der Federelemente relativ zur ersten, inneren Aufhängung verändern, so dass es zu einer Veränderung der Federcharakteristika kommen kann und/oder sich die Ruhelage der Detektionseinheit oder Schwingstruktur relativ zum Substrat verändern kann, wodurch der Temperaturgang des Sensors negativ beeinflusst wird. Durch die mit der Erfindung vorgeschlagenen, Verformungen in der Längsrichtung der Federelemente ausgleichenden Bereiche werden Spannungen, die aufgrund einer Relativverschiebung der Fixierungspunkte in die Federelemente eingeleitet werden, verringert oder sogar gänzlich neutralisiert. Die Bereiche wirken als Puffer, die Verspannungen abfedern bzw. auffangen. Es hat sich herausgestellt, dass die Federelemente in den Bereichen in besonders vorteilhafter weise mäanderförmig, U-förmig, C-förmig oder ringförmig ausgebildet sind, wobei daneben andere Formgebungen möglich sind, die einen Spannungsabbau von durch Relativverschiebungen der Fixierungspunkte hervorgerufenen Spannungen ermöglichen. Durch die Verwendung derartiger Bereiche können durch Relativverschiebungen verursachte Änderungen in den Resonanzfrequenzen des Sensors um den Faktor 10 gegenüber einer reinen Balkenfeder reduziert werden.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform besteht die Schwingstruktur aus einer im Wesentlichen starren Platte, die im Falle eines gekoppelten Sensors sowohl die Funktion des Antriebs- als auch des Erfassungselements in sich vereint. Vorzugsweise weist sie in einer besonderen Ausführungsform zwei flügelartige Ausformungen auf. Diese dienen dazu, die Sensitivität des Sensors bei der Erfassung einer Drehrate zu erhöhen. Soll beispielsweise eine Rotation des Sensors um die X-Achse eines Inertialsystems erfasst werden, das zu einem gegebenen Zeitpunkt achsparallel mit dem ortsfesten Sensorsystem ist, sind die flügelartigen Ausformungen in Richtung der X-Achse, vorzugsweise beiderseits der Y-Achse, ausgebildet.
Nach einer weiteren Ausführungsform setzen an der Schwingstruktur radial nach außen gerichtete Kammbalken an, an welchen Elektroden sitzen oder die solche bilden, die zusammen mit weiteren, feststehenden Kammbalken Kapazitäten bilden. Diese werden mit einer elektrischen Wechselspannung geeigneter Frequenz beschickt, wodurch die Antriebs-Drehschwingung der Schwingstruktur um die Z-Achse angeregt wird. Liegt eine Drehrate mit Anteil parallel zur X-Achse an, wird, wie oben erwähnt, die Erfassungsbewegung angeregt. Die Schwingstruktur beschreibt hierbei eine Kippschwingung um die Y-Achse des Bezugssystems, welche durch Elektroden, die durch die Schwingstruktur selbst und Teile des darunter liegenden Substrats gebildet werden, kapazitiv erfasst wird. Die räumliche Entfernung der Fixierungspunkte vom Drehpunkt ist ein wesentlicher Designparameter: Die Auswirkungen der aufgrund der flügelartigen Ausformungen hohen Trägheitsmomente der Schwingstruktur - im vorliegenden Beispiel um die Y- und die Z-Achse des Sensor-Bezugssystems - wie etwa niedrige Resonanzfrequenzen der Schwingungen um diese Achsen, können durch die außen angeordneten zweiten Aufhängungen in kontrollierter Weise kompensiert werden. Des Weiteren wirken die vom Drehzentrum weg nach außen hin platzierten Aufhängungen zu großen Auslenkungen der beweglichen Sensorstruktur, insbesondere bei nicht vernachlässigbaren elastischen Verformungen der Schwingstruktur, entgegen. Auf diese Weise wird auch einer möglichen Neigung zu adhäsigem Anhaften ("Sticking") der Schwingstruktur am Substrat entgegengewirkt.
Eine besonders kompakte und robuste Ausführungsform des Sensors ergibt sich, wenn gemäß einem weiteren Vorschlag der Erfindung die Federelemente der zweiten Aufhängungen in Ausnehmungen in den flügelartigen Ausformungen angeordnet sind. Vorzugsweise ist dabei das von der ersten, inneren Aufhängung entfernte Ende der Federelemente mit der Schwingstruktur verbunden, während das gegenüberliegende Ende mit dem Substrat verbunden ist. Ein derartiger Sensor besitzt für eine Erfassung von Drehraten um eine Dreh- oder Messachse eine große Sensitivität, während durch die Federelemente eine übermäßige Auslenkung der Schwingstruktur um die Detektionsachse verhindert wird. Gleichzeitig können die Resonanzfrequenzen des Systems bei einer Auslenkung der Schwingstruktur um die Detektionsachse relativ zum Substrat auf werte außerhalb des akustischen Spektrums, zumindest aber auf einen Wert oberhalb von 10 kHz, gehoben werden, wodurch der Sensor gegenüber unerwünschten störenden Umwelteinflüssen, die meist im akustischen Bereich liegen, wie Schock oder Vibrationen im wesentlichen unempfindlicher wird. Des Weiteren wird einem durch äußere Schockeinwirkung verursachtes Aufschlagen der Schwingstruktur in der Messmode, mit allen damit verbundenen negativen Konsequenzen, entgegengewirkt.
Weitere Vorteile und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden, nicht beschränkenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der Figuren. Dabei zeigen:
Figur 1 eine schematische Aufsicht auf eine erste bevorzugte Ausführungsform des Sensors mit einem Paar erster, innerer Aufhängungen,
Figur 2 eine schematische Schnittansicht entlang der Linie M-Il der Figur 1 ,
Figur 3 eine vergrößerte Aufsicht der entlang der Y-Achse angeordneten ersten, inneren Aufhängungen des Sensors der Fig. 1 ,
Figur 4 eine vergrößerte Aufsicht eines entlang der X-Achse innerhalb des rechten Flügels angeordneten Federelements mit Aufhängepunkt und mäanderförmiger Pufferzone des Sensors der Fig. 1 ,
Figur 5 eine schematische Aufsicht auf eine zweite bevorzugte Ausführungsform des Sensors mit zentraler Aufhängung,
Figur 6 eine schematische Schnittansicht entlang der Linie Vl-Vl der Figur 5,
Figur 7 eine vergrößerte Aufsicht der entlang der Y-Achse angeordneten zentralen Aufhängung des Sensors der Fig. 5 und
Figur 8 eine vergrößerte Aufsicht eines entlang der X-Achse innerhalb des rechten Flügels angeordneten Federelements des Sensors der Fig. 5. Bei der nachfolgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele und in den Figuren sind gleiche Elemente und Funktionseinheiten der Sensoren mit gleichen Bezugszeichen sowie Bezeichnungen versehen. Das in den Figuren angedeutete Kartesische Koordinatensystem stellt das in der allgemeinen Beschreibung der Erfindung angegebene Sensor-Bezugssystem dar. Dessen Z-Achse (6 in Fign. 2 und 6) erstreckt sich in den Fign. 1 und 5 senkrecht aus der Zeichnungsebene hinaus in Richtung des Betrachters. Die genaue Lage des Koordinatenursprungs ergibt sich aus der Zusammenschau der Fign. 1 und 2 bzw. 5 und 6. Im Folgenden wird die X-Achse 4 als Messachse 4, die Y-Achse 5 als Detektionsachse 5 und die Z-Achse 6 als Antriebsachse 6 bezeichnet.
Der in der Fig. 1 in einer Aufsicht dargestellte Sensor eines ersten Ausführungsbeispiels weist ein Substrat 1 als Grundelement auf, wie es aus dem Stand der Technik hinreichend bekannt ist. Relativ zum Substrat 1 ist eine Schwingstruktur 2 an paarweise einander gegenüberliegender Aufhängepunkten in Form von Lagerzapfen 3a,3b,14a,14b als Koppelstrukturen gelagert. Die Lagerzapfen 3a, 3b bilden zusammen mit Federelementen 11 a,11 b entlang der Y-Achse 5 erste, innere Aufhängungen 3a,3b,11a,11 b aus, wohingegen die Lagerzapfen 14a, 14b mit Federelementen 10a, 10b entlang der X-Achse 4 zweite, äußere Aufhängungen 14a, 14b, 10a, 10b ausbilden. Die Federelemente 10a,10b,11 a, 11 b verbinden die Schwingstruktur 2 mit den Lagerzapfen 3a, 3b, 14a, 14b.
Die Schwingstruktur 2 ist spiegelsymmetrisch sowohl zur Detektionsachse 5 als auch zur Messachse 4 ausgebildet. Sie ist des Weiteren punktsymmetrisch zum Drehzentrum der Schwingstruktur 2, welches mit dem Ursprung des Koordinatensystems zusammenfällt. Sie weist einen im wesentlichen kreisförmigen Grundkörper 16 auf, an dem seitlich in Richtung der Messachse 4 flügelartige Ausformungen, im Folgenden als Flügel 17a, 17b bezeichnet, angeordnet sind. Zwischen den Flügeln 17a, 17b sind beidseits des Grundkörpers 16 der Schwingstruktur 2 schematisch angedeutete Antriebskämme 8 angeordnet, über die die Schwingstruktur in eine Drehschwingung um die Antriebsachse versetzt wird.
In der Fig. 3 sind die entlang der Detektionsachse 5 angeordneten Lagerzapfen 3a,3b samt daran fixierten Federn 11 a,11 b vergrößert dargestellt. Die Lagerzapfen 3a, 3b sind fest mit dem darunter liegenden Substrat 1 verbunden und erheben sich vom Substrat in Richtung der positiven Antriebsachse 6. Für je eine aus Federelement 11 a,11 b und Lagerzapfen 3a, 3b bestehende Aufhängung 3a,11 a und 3b,11 b sind Aussparungen 9a, 9b in der Schwingstruktur 2 vorgesehen. Die Federelemente 11 a,11 b sind an den den Lagerzapfen 3a, 3b entgegen gesetzten Enden mit der Schwingstruktur 2 verbunden. Die Federelemente 11 a,11 b ermöglichen aufgrund ihrer Gestalt die Rotationsschwingung der Schwingstruktur 2 relativ zum Substrat 1 um die Antriebsachse 6 (Antriebsbewegung), sowie eine Rotationsschwingung der Schwingstruktur 2 relativ zum Substrat 1 um die Detektionsachse 5 (Erfassungsbewegung), wohingegen eine Rotationsschwingung um die Messachse 4 der Schwingstruktur 2 relativ zum Substrat 1 unterbunden oder im Wesentlichen verhindert wird.
Während des Betriebes wird die Schwingstruktur 2 mittels der Antriebskämme 8 in eine Rotationsschwingung relativ zum Substrat 1 um die Antriebsachse 6 versetzt. Kommt es nun zu einer Drehung des gesamten Sensors um die Messachse 4, so treten zusätzlich periodische Coriolis-Kräftepaare auf, welche in der Fig. 2 durch FCi und FC2 symbolisiert sind. Diese Kräfte wirken auf die gesamte bewegliche Sensorstruktur 2 und dabei am stärksten im Bereich der Flügel 17a, 17b in der durch die Antriebsachse 6 und die Messachse 4 gebildeten Ebene. Das mit den Coholis-Kräftepaaren einhergehende Coriolis-Moment erregt somit die Meßmoden-Drehschwingung der Schwingstruktur 2 um die Detektionsachse 5. Die damit einhergehende relative Lageänderung der Schwingstruktur 2 relativ zum Substrat 1 ist mittels in den Figuren nicht dargestellten Messelektroden, die sich vorzugsweise im Bereich unterhalb der Flügel 17a, 17b sowie ggf. teilweise oder ganz unterhalb der inneren, diskusförmigen Scheibe befinden, messtechnisch erfassbar.
Neben der Verbindung über die Aufhängungen 3a,3b,11 a,11 b ist die Schwingstruktur 2 mittels zweier weiterer, äußerer Aufhängungen, bestehend jeweils aus Lagerzapfen 14a, 14b und daran hängender Horizontalfedern 10a, 10b mit C-förmigen Pufferzonen 20a, 20b, mit dem Substrat 1 verbunden, siehe Fig. 4. Die Horizontalfedern 10a, 10b sind innerhalb des Bereichs der Flügel 17a, 17b der Schwingstruktur 2 angeordnet. Die Flügel 17a,17b weisen zu diesem Zweck jeweils eigene Aussparungen 15a, 15b auf, in denen die Horizontalfedern 10a, 10b samt Pufferzonen 20a, 20b und Lagerzapfen 14a, 14b aufgenommen sind. Die Horizontalfedern 10a, 10b sind vorzugsweise mit ihren den Lagerzapfen 14a, 14b entgegen gesetzten Enden 13a, 13b mit der Schwingstruktur 2 verbunden, während sie mit den anderen Enden 12a, 12b an den Lagerzapfen 14a, 14b fixiert sind. Ähnlich wie die Lagerzapfen 3a,3b sind die Lagerzapfen 14a, 14b fest mit dem Substrat 1 verbunden.
Die Horizontalfedern 10a, 10b sind jeweils in Form eines Biegebalkens ausgebildet. Ihr Aspektverhältnis kann beliebig sein, ist vorzugsweise jedoch hoch ausgebildet. In der gezeigten Ausführungsform besitzen die Horizontalfedern 10a, 10b einen im Wesentlichen rechteckigen Querschnitt, dessen Breite in Richtung der Detektionsachse 5 kleiner als dessen Höhe in Richtung der Antriebsachse 6 ist.
Die innerhalb der Flügel 17a, 17b platzierten Horizontalfedern 10a, 10b mit Lagerzapfen 14a, 14b dienen in erster Linie dazu, die Auswirkungen der hohen Trägheitsmomente der Schwingstruktur 2 um die jeweiligen Raumachsen zu kompensieren. Durch diese Maßnahme werden zwei Effekte erreicht : 1 ) Die mechanischen (sowohl funktionsgemäßen als auch parasitären) Eigenfrequenzen der bewegten Sensorstruktur können auf hohe Werte, z.B. über 10 kHz (bei geeigneter Federdimensionierung bis über 20 kHz), angehoben werden, so dass von außen kommende, parasitäre Vibrationen im akustischen Frequenzbereich nur mehr sehr schwach in die Messbewegung der Schwingstruktur einkoppeln; und 2), die Horizontalfedern mit ihrer Innenaufhängung verhindern weitgehend ein durch äußere Schockimpulse verursachtes Aufschlagen verbunden mit einem adhäsiven Anhaften ("sticking") der Detektionseinheit 2 am darunter liegenden Substrat 1.
Die Horizontalfedern 10a, 10b sind bei den Sensoren der Ausführungsbeispiele nicht als durchgehende Biegebalken gleichen Querschnitts ausgebildet. Vielmehr weisen sie einen Bereich 20a, 20b als Puffer auf, in dem in die Feder eingeleitete Spannungen in deren Längsrichtung - d.h. in Richtung der Messachse 4 - abgebaut werden können. In den dargestellten bevorzugten Ausführungsformen ist dieser Bereich 20a, 20b als beidseits der Federlängsachse ausgebildete, näherungsweise C-förmige Auskragung realisiert. Kommt es beispielsweise aufgrund von stressinduzierten Verformungen des Substrats zu einer relativen Lageänderung zwischen den Lagerzapfen 14a, 14b, können diese über eine elastische Verformung der Horizontalfedern 10a.10b in den Bereichen 20a, 20b ausgeglichen werden, ohne die Federcharakteristik der Horizontalfedern 10a, 10b bei Biegungen um die Detektionsachse 5 sowie bei Biegungen um die Antriebsachse 6 wesentlich zu verändern. Durch die Verwendung derartiger Pufferzonen in den Federn können durch Relativverschiebungen der Fixierungspunkte verursachte Änderungen der Resonanzfrequenzen um den Faktor 10 gegenüber einem Sensor mit geraden Balkenfedern reduziert werden. Aufgrund der im bevorzugten Ausführungsbeispiel relativ nahe aneinander liegenden Lagerzapfen 3a,3b erübrigen sich solche Pufferbereiche für die ersten, inneren Aufhängungen.
In der Fig. 5 ist ein zweites Ausführungsbeispiel des Sensors in einer schematischen Aufsicht dargestellt, bei dem die Schwingstruktur 2 anstelle mittels der ersten, inneren Aufhängungen 3a,3b,11a,11 b mittels einer zentralen Aufhängung 3,11a,11 b gelagert ist. Die zentrale Aufhängung fällt mit dem Massemittelpunkt der Schwingstruktur 2 zusammen und liegt im Ursprung des Koordinatensystems.
Die Schwingstruktur 2 ist wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel spiegelsymmetrisch sowohl zur Detektionsachse 5 als auch zur Messachse 4 ausgebildet. Sie ist des weiteren punktsymmetrisch zur zentralen Aufhängung 3,11 a, 11 b. Im Übrigen gleicht sie im Wesentlichen der Schwingstruktur 2 des ersten Ausführungsbeispiels, auf dessen Erläuterungen Bezug genommen wird.
In der Fig. 6 ist die zentrale Aufhängung 3,11 a,11 b vergrößert dargestellt. Sie besteht aus dem fest mit dem Substrat 1 verbundenen Anker 3, der sich von dem Substrat 1 in Richtung der Anregungsachse 6 erhebt. Der Anker 3 weist einen im Wesentlichen kreisförmigen Querschnitt auf, wobei in Richtung der Detektionsachse 5 einander gegenüberliegend Aussparungen 18a, 18b eingebracht sind. Die Schwingstruktur 2 weist eine zentrale Durchgangsöffnung 7 auf. Diese ist gleichfalls im Wesentlichen kreisförmig mit in Richtung der Detektionsachse 5 eingebrachten Aussparungen 9a,9b. Die zentrale Durchgangsöffnung 7 der Schwingstruktur 2 besitzt einen größeren Durchmesser als der Anker 3, so dass die Schwingstruktur 2 relativ zu dem Substrat 1 weitgehend ungehindert um den Anker 3 Drehschwingungen ausführen kann. Die Aussparungen 9a,9b der Schwingstruktur 2 und die Aussparungen 18a, 18b des Ankers 3 liegen einander gegenüber. Zwischen diesen Aussparungen sind die Ankerfedern 11 a,11 b angeordnet und jeweils endseitig mit dem Anker 3 einerseits sowie der Schwingstruktur 2 andererseits verbunden. Die Ankerfedern 11 a,11 b ermöglichen aufgrund ihrer Gestalt die Rotationsschwingung der Schwingstruktur 2 relativ zum Substrat 1 um die Anregungsachse 6, sowie eine Rotationsschwingung der Schwingstruktur 2 relativ zum Substrat 1 um die Detektionsachse 5, wohingegen eine Rotationsschwingung um die Messachse 4 der Schwingstruktur 2 relativ zum Substrat 1 unterbunden oder im Wesentlichen verhindert wird.
Bei dem zweiten Ausführungsbeispiel sind sowohl die Ankerfedern 11 a,11 b als auch die Horizontalfedern 10a, 10b - wie insbesondere den Fign. 7 und 8 zu entnehmen ist - mit einer Verzweigung 19a,19b,19c,19d; 21 a,21 b,21 c,21d an den jeweiligen Federansatzstellen versehen. Des Weiteren sind die Federansatzstellen, d.h. die Endbereiche der Federn, ellipsenförmig verrundet. Auf diese Weise werden die in den Federn vorliegenden Spannungen, insbesondere die Maximalspannungen, in den Ansatzbereichen auf ein größeres Areal verteilt, ohne gleichzeitig die Steifigkeit der Federn zu sehr zu erhöhen. Die Ansatzstellen der Federn an den jeweils angrenzenden Bereichen der Detektionseinheit 2 bzw. des zentralen Ankers 3 oder der Außenanker 14a, 14b laufen in einer abgerundeten Form ineinander über, was gleichfalls zu einer Spannungsverminderung in den Federansätzen sowie den an diesen angrenzenden Strukturen führt. Insgesamt wird durch diese Formgebung der Federendbereiche die Bruchgefahr in diesen Zonen reduziert, was zu einer verbesserten Haltbarkeit des gesamten Sensors führt. Diese Formgebung der Federansätze kann auch bei einem Sensor nach dem ersten Ausführungsbeispiel gegeben sein.

Claims

Ansprüche
1. Mikromechanischer Coriolis-Drehratensensor zur Erfassung einer Drehrate um eine Messachse (4) (X-Achse), aufweisend: ein Substrat (1 ), eine Schwingstruktur (2) und
Mittel zum Erzeugen einer Drehschwingung der Schwingstruktur um eine zur
Messachse (4) orthogonale Anregungsachse (5) (Z-Achse), wobei die Schwingstruktur (2) mittels erster, innerer Aufhängungen (3a,3b,11 a,11 b) oder einer zentralen Aufhängung (3,11 a,11 b) drehbar mit dem Substrat (1 ) verbunden ist, so dass sie Drehschwingungen um einen Drehpunkt, vorzugsweise zusammenfallend mit dem Massenschwerpunkt der Schwingstruktur (2), relativ zum Substrat (1 ), ausführen kann, gekennzeichnet durch wenigstens ein Paar zweiter Aufhängungen (14a, 14b, 10a, 10b), das die Schwingstruktur (2) mit dem Substrat (1 ) verbindet, wobei dessen Aufhängungen (14a, 14b, 10a, 10b) auf einander gegenüberliegenden
Seiten des Drehpunktes angeordnet sind und das wenigstens eine Paar zweiter Aufhängungen in einem größeren radialen
Abstand zum Drehpunkt als die ersten, inneren Aufhängungen bzw. die zentrale
Aufhängung angeordnet ist.
2. Mikromechanischer Drehratensensor zur Erfassung einer Drehrate um eine Messachse (4) (x-Achse), aufweisend: ein Substrat (1 ) und eine Detektionseinheit (2), wobei die Detektionseinheit (2) mittels einer zentralen Aufhängung (3,11 a, 11 b) drehbar mit dem Substrat (1 ) verbunden ist, so dass die Detektionseinheit (2) Drehschwingungen um die zentrale
Aufhängung (3,11 a, 11 b) relativ zum Substrat (1 ) ausführen kann, dadurch gekennzeichnet, dass die Detektionseinheit (2) und das Substrat (1 ) mittels wenigstens zweier zweiter
Aufhängungen (10a,10b;14a,14b) miteinander verbunden sind.
3. Mikromechanischer Drehratensensor nach Anspruch 1 bzw. 2, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten, inneren und zweiten, äußeren Aufhängungen auf durch den Massenschwerpunkt der Schwingstruktur 2 verlaufenden Geraden einander diametral gegenüber liegen (im Falle des Anspruchs 1 ), bzw. die zweiten, äußeren Aufhängungen (10a,10b;14a,14b) auf einer durch die zentrale Aufhängung (3,11 a, 11 b) verlaufenden Geraden einander diametral gegenüber liegen (im Falle des Anspruchs 2).
4. Mikromechanischer Drehratensensor nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten, inneren Aufhängungen (3a, 3b) paarweise einander gegenüberliegend angeordnet sind.
5. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten Aufhängungen (14a, 14b, 10a, 10b) jeweils wenigstens ein Federelement (10a, 10b) umfassen.
6. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eines der Federelemente (10a, 10b) als Biegebalken ausgebildet ist.
7. Mikromechanischer Drehratensensor nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Federelemente (10a,1 Ob) jeweils einen Verformungen in ihre Längsrichtung ausgleichenden Bereich (20a, 20b) aufweisen.
8. Mikromechanischer Drehratensensor nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Verformungen ausgleichende Bereich (20a, 20b) mäanderförmig, U-förmig, C-förmig oder ringförmig ausgebildet ist.
9. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eines der Federelemente (10a, 10b) in Richtung der aufgrund der zu detektierenden Drehrate hervorgerufenen Auslenkung eine höhere Federsteif ig keit als in einer hierzu orthogonalen Richtung aufweist.
10. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Federelemente (10a,1 Ob) jeweils einen im wesentlichen rechteckigen Querschnitt mit einem hohen Aspektverhältnis aufweisen.
11. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Detektionseinheit (2) an der zentralen Aufhängung (3,11 a,11 b) mittels wenigstens einer Biegefeder (11 a,11 b) mit dem Substrat (1 ) verbunden ist, die Drehungen der Detektionseinheit (2) relativ zum Substrat (1 ) um die Messachse (4) im wesentlichen verhindert, in die anderen Raumrichtungen jedoch zulässt.
12. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schwingstruktur (2) zwei flügelartige Ausformungen (17a, 17b) aufweist.
13. Mikromechanischer Drehratensensor nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die flügelartigen Ausformungen (17a,17b) Ausnehmungen (15a,15b) für die Federelemente (10a, 10b) und die damit verbundenen Pufferelemente (20a, 20b) aufweisen.
14. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Federelemente (10a, 10b) an dem radial von der zentralen Aufhängung (3,11 a,11 b) bzw. der ersten inneren
Aufhängungen (3a,3b,11 a, 11 b) entfernten Enden (13a, 13b) mit der Schwingstruktur (2) verbunden sind.
15. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der Ansprüche 5 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Federelemente (10a, 10b) mit dem mit der Detektionseinheit (2) verbundenen Ende (13) gegenüberliegenden Ende (12) vorzugsweise über Außenanker (14a, 14b) mit dem Substrat (1 ) verbunden sind.
16. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass an der Schwingstruktur (2) Antriebskämme (8) in radialer Richtung angeordnet sind.
17. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der Ansprüche 5 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Federelemente (10a, 10) im Bereich ihrer Ansätze an der Detektionseinheit (2) und/oder dem Substrat (1 ) verzweigt sind.
18. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der Ansprüche 11 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Biegefedern (11a, 11 b) im Bereich ihrer Ansätze an der Detektionseinheit (2) und/oder den zentralen Anker (3) verzweigt sind.
19. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der Ansprüche 5 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Ansatzstellen der Federelemente (10a, 10b) vorzugsweise ellipsenförmig verrundet sind.
20. Mikromechanischer Drehratensensor nach einem der Ansprüche 11 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Ansatzstellen der Biegefedern (11 a,11 b) vorzugsweise ellipsenförmig verrundet sind.
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Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2008801013302A CN101855516B (zh) 2007-07-31 2008-07-31 微机械转动率传感器
CA2695091A CA2695091C (en) 2007-07-31 2008-07-31 Micromechanical rate-of-rotation sensor
US12/671,483 US8353212B2 (en) 2007-07-31 2008-07-31 Micromechanical rate-of-rotation sensor
AT08786708T ATE514921T1 (de) 2007-07-31 2008-07-31 Mikromechanischer drehratensensor
EP08786708A EP2183548B1 (de) 2007-07-31 2008-07-31 Mikromechanischer drehratensensor
JP2010518681A JP5351891B2 (ja) 2007-07-31 2008-07-31 マイクロメカニクスのコリオリ−回転速度センサー

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Application Number Priority Date Filing Date Title
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DE102007035806.9 2007-07-31

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WO (1) WO2009016240A1 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010125071A1 (de) * 2009-04-28 2010-11-04 Sensordynamics Ag Mikromechanischer sensor
WO2010125070A1 (de) * 2009-04-28 2010-11-04 Sensordynamics Ag Mikromechanischer sensor
WO2012004825A1 (ja) * 2010-07-05 2012-01-12 パイオニア株式会社 回転振動型ジャイロ
US9265252B2 (en) 2011-08-10 2016-02-23 Bayer Intellectual Property Gmbh Active compound combinations comprising specific tetramic acid derivatives

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8042394B2 (en) 2007-09-11 2011-10-25 Stmicroelectronics S.R.L. High sensitivity microelectromechanical sensor with rotary driving motion
IT1391972B1 (it) 2008-11-26 2012-02-02 St Microelectronics Rousset Giroscopio microelettromeccanico con movimento di azionamento rotatorio e migliorate caratteristiche elettriche
IT1392741B1 (it) 2008-12-23 2012-03-16 St Microelectronics Rousset Giroscopio microelettromeccanico con migliorata reiezione di disturbi di accelerazione
IT1394007B1 (it) 2009-05-11 2012-05-17 St Microelectronics Rousset Struttura microelettromeccanica con reiezione migliorata di disturbi di accelerazione
ITTO20091042A1 (it) 2009-12-24 2011-06-25 St Microelectronics Srl Giroscopio integrato microelettromeccanico con migliorata struttura di azionamento
CN102811617A (zh) 2010-01-22 2012-12-05 拜耳知识产权有限责任公司 杀螨和/或杀虫活性物质结合物
US9156673B2 (en) 2010-09-18 2015-10-13 Fairchild Semiconductor Corporation Packaging to reduce stress on microelectromechanical systems
US9455354B2 (en) 2010-09-18 2016-09-27 Fairchild Semiconductor Corporation Micromachined 3-axis accelerometer with a single proof-mass
KR101332701B1 (ko) 2010-09-20 2013-11-25 페어차일드 세미컨덕터 코포레이션 기준 커패시터를 포함하는 미소 전자기계 압력 센서
FI124020B (fi) * 2011-03-04 2014-02-14 Murata Electronics Oy Jousirakenne, resonaattori, resonaattorimatriisi ja anturi
ITTO20110806A1 (it) 2011-09-12 2013-03-13 St Microelectronics Srl Dispositivo microelettromeccanico integrante un giroscopio e un accelerometro
US9863769B2 (en) 2011-09-16 2018-01-09 Invensense, Inc. MEMS sensor with decoupled drive system
US9170107B2 (en) 2011-09-16 2015-10-27 Invensense, Inc. Micromachined gyroscope including a guided mass system
US8833162B2 (en) 2011-09-16 2014-09-16 Invensense, Inc. Micromachined gyroscope including a guided mass system
US10914584B2 (en) 2011-09-16 2021-02-09 Invensense, Inc. Drive and sense balanced, semi-coupled 3-axis gyroscope
US9062972B2 (en) * 2012-01-31 2015-06-23 Fairchild Semiconductor Corporation MEMS multi-axis accelerometer electrode structure
US8978475B2 (en) 2012-02-01 2015-03-17 Fairchild Semiconductor Corporation MEMS proof mass with split z-axis portions
US9488693B2 (en) 2012-04-04 2016-11-08 Fairchild Semiconductor Corporation Self test of MEMS accelerometer with ASICS integrated capacitors
KR102058489B1 (ko) 2012-04-05 2019-12-23 페어차일드 세미컨덕터 코포레이션 멤스 장치 프론트 엔드 전하 증폭기
EP2647952B1 (de) 2012-04-05 2017-11-15 Fairchild Semiconductor Corporation Automatische Verstärkungsregelungsschleife einer MEMS-Vorrichtung für mechanischen Amplitudenantrieb
EP2647955B8 (de) 2012-04-05 2018-12-19 Fairchild Semiconductor Corporation MEMS-Vorrichtung mit Quadraturphasenverschiebungsauslöschung
US9625272B2 (en) 2012-04-12 2017-04-18 Fairchild Semiconductor Corporation MEMS quadrature cancellation and signal demodulation
DE102013014881B4 (de) 2012-09-12 2023-05-04 Fairchild Semiconductor Corporation Verbesserte Silizium-Durchkontaktierung mit einer Füllung aus mehreren Materialien
EP2884229B1 (de) * 2013-09-30 2018-09-19 InvenSense, Inc. Mikrogefertigtes Gyroskop mit einem geführten Massesystem
US9404747B2 (en) 2013-10-30 2016-08-02 Stmicroelectroncs S.R.L. Microelectromechanical gyroscope with compensation of quadrature error drift
US9958271B2 (en) 2014-01-21 2018-05-01 Invensense, Inc. Configuration to reduce non-linear motion
FR3039641B1 (fr) * 2015-07-31 2017-08-11 Sagem Defense Securite Dispositif de mesure inertielle a double suspension
KR101673362B1 (ko) * 2015-12-14 2016-11-07 현대자동차 주식회사 가속도 센서 및 그 제조 방법
US10551191B2 (en) 2017-02-17 2020-02-04 Invensense, Inc. Deformation rejection mechanism for offset minimization of out-of-plane sensing MEMS device
US10655963B2 (en) 2017-02-17 2020-05-19 Invensense, Inc. Anchoring structure for a sensor insensitive to anchor movement
US11085766B2 (en) 2017-11-10 2021-08-10 Semiconductor Components Industries, Llc Micromachined multi-axis gyroscopes with reduced stress sensitivity
CN112682054B (zh) * 2020-12-03 2022-08-23 重庆文理学院 一种用于tbm施工监测的挖掘设备及其勘测方法
CN114353776A (zh) * 2021-12-31 2022-04-15 瑞声开泰科技(武汉)有限公司 一种基于旋转模态的mems陀螺

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19523895A1 (de) * 1995-06-30 1997-01-02 Bosch Gmbh Robert Beschleunigungssensor
DE19641284C1 (de) * 1996-10-07 1998-05-20 Inst Mikro Und Informationstec Drehratensensor mit entkoppelten orthogonalen Primär- und Sekundärschwingungen
US5869760A (en) * 1995-06-06 1999-02-09 Analog Devices, Inc. Micromachined device with rotationally vibrated masses
DE19928307A1 (de) * 1998-06-22 1999-12-30 Aisin Seiki Winkelratensensor
DE19844686A1 (de) * 1998-09-29 2000-04-06 Fraunhofer Ges Forschung Mikromechanischer Drehratensensor und Verfahren zur Herstellung
WO2008122502A1 (de) * 2007-04-05 2008-10-16 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Mikromechanischer inertialsensor zur messung von drehraten

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4811602A (en) * 1987-07-17 1989-03-14 Sundstrand Data Control, Inc. Frame assembly and dither drive for a coriolis rate sensor
US4782700A (en) * 1987-07-17 1988-11-08 Sundstrand Data Control, Inc. Frame assembly and dither drive for a coriolis rate sensor
US4848156A (en) * 1987-07-17 1989-07-18 Sundstrand Data Control, Inc. Frame assembly and dither drive for a coriolis rate sensor
US5025346A (en) * 1989-02-17 1991-06-18 Regents Of The University Of California Laterally driven resonant microstructures
US5249465A (en) * 1990-12-11 1993-10-05 Motorola, Inc. Accelerometer utilizing an annular mass
US5396797A (en) * 1991-02-08 1995-03-14 Alliedsignal Inc. Triaxial angular rate and acceleration sensor
US5241861A (en) * 1991-02-08 1993-09-07 Sundstrand Corporation Micromachined rate and acceleration sensor
US5331853A (en) * 1991-02-08 1994-07-26 Alliedsignal Inc. Micromachined rate and acceleration sensor
US5203208A (en) * 1991-04-29 1993-04-20 The Charles Stark Draper Laboratory Symmetrical micromechanical gyroscope
US5313835A (en) * 1991-12-19 1994-05-24 Motorola, Inc. Integrated monolithic gyroscopes/accelerometers with logic circuits
US5377544A (en) * 1991-12-19 1995-01-03 Motorola, Inc. Rotational vibration gyroscope
US5349855A (en) * 1992-04-07 1994-09-27 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Comb drive micromechanical tuning fork gyro
DE19648425C1 (de) 1996-11-22 1998-01-02 Siemens Ag Drehratensensor
JP3399336B2 (ja) * 1997-12-22 2003-04-21 株式会社豊田中央研究所 検出器
WO2000029855A1 (en) * 1998-10-14 2000-05-25 Irvine Sensors Corporation Multi-element micro-gyro
JP2000146998A (ja) * 1998-11-16 2000-05-26 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 検出器
JP4348759B2 (ja) * 1998-12-15 2009-10-21 ミツミ電機株式会社 回転振動型ジャイロ
DE19915257A1 (de) * 1999-04-03 2000-06-15 Bosch Gmbh Robert Drehratensensor
US6516651B1 (en) * 1999-07-22 2003-02-11 Analog Devices, Inc. Coriolis effect transducer
DE19937747C2 (de) 1999-08-10 2001-10-31 Siemens Ag Mechanischer Resonator für Rotationssensor
DE19945859A1 (de) * 1999-09-24 2001-03-29 Bosch Gmbh Robert Mikromechanischer Drehratensensor
US6315062B1 (en) * 1999-09-24 2001-11-13 Vermeer Manufacturing Company Horizontal directional drilling machine employing inertial navigation control system and method
WO2001079862A1 (en) * 2000-04-14 2001-10-25 Microsensors, Inc. Z-axis micro-gyro
DE10238893A1 (de) * 2002-08-24 2004-03-04 Robert Bosch Gmbh Drehratensensor
US7845228B2 (en) * 2002-12-10 2010-12-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Activity monitoring
US6848304B2 (en) * 2003-04-28 2005-02-01 Analog Devices, Inc. Six degree-of-freedom micro-machined multi-sensor
US6845665B2 (en) * 2003-04-28 2005-01-25 Analog Devices, Inc. Micro-machined multi-sensor providing 2-axes of acceleration sensing and 1-axis of angular rate sensing
DE10320725A1 (de) * 2003-05-08 2004-11-25 Robert Bosch Gmbh Mikromechanischer Bewegungssensor
FI116543B (fi) * 2004-12-31 2005-12-15 Vti Technologies Oy Värähtelevä mikromekaaninen kulmanopeusanturi
US7240552B2 (en) * 2005-06-06 2007-07-10 Bei Technologies, Inc. Torsional rate sensor with momentum balance and mode decoupling
US7228738B2 (en) * 2005-06-06 2007-06-12 Bei Technologies, Inc. Torsional rate sensor with momentum balance and mode decoupling
US7222533B2 (en) * 2005-06-06 2007-05-29 Bei Technologies, Inc. Torsional rate sensor with momentum balance and mode decoupling
FR2910742B1 (fr) * 2006-12-22 2009-05-01 Commissariat Energie Atomique Oscillateur mecanique forme d'un reseau d'oscillateurs elementaires
US7950281B2 (en) * 2007-02-28 2011-05-31 Infineon Technologies Ag Sensor and method for sensing linear acceleration and angular velocity

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5869760A (en) * 1995-06-06 1999-02-09 Analog Devices, Inc. Micromachined device with rotationally vibrated masses
DE19523895A1 (de) * 1995-06-30 1997-01-02 Bosch Gmbh Robert Beschleunigungssensor
DE19641284C1 (de) * 1996-10-07 1998-05-20 Inst Mikro Und Informationstec Drehratensensor mit entkoppelten orthogonalen Primär- und Sekundärschwingungen
DE19928307A1 (de) * 1998-06-22 1999-12-30 Aisin Seiki Winkelratensensor
DE19844686A1 (de) * 1998-09-29 2000-04-06 Fraunhofer Ges Forschung Mikromechanischer Drehratensensor und Verfahren zur Herstellung
WO2008122502A1 (de) * 2007-04-05 2008-10-16 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Mikromechanischer inertialsensor zur messung von drehraten

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010125071A1 (de) * 2009-04-28 2010-11-04 Sensordynamics Ag Mikromechanischer sensor
WO2010125070A1 (de) * 2009-04-28 2010-11-04 Sensordynamics Ag Mikromechanischer sensor
CN102428348A (zh) * 2009-04-28 2012-04-25 感应动力股份公司 微机械传感器
US8826736B2 (en) 2009-04-28 2014-09-09 Maxim Integrated Products, Inc. Micromechanical sensor
US9103850B2 (en) 2009-04-28 2015-08-11 Maxim Integrated Products, Inc. Micromechanical sensor with multiple spring bars
US9778038B2 (en) 2009-04-28 2017-10-03 Hanking Electronics, Ltd. Micromechanical sensor
WO2012004825A1 (ja) * 2010-07-05 2012-01-12 パイオニア株式会社 回転振動型ジャイロ
WO2012004979A1 (ja) * 2010-07-05 2012-01-12 パイオニア株式会社 回転振動型ジャイロ
US9265252B2 (en) 2011-08-10 2016-02-23 Bayer Intellectual Property Gmbh Active compound combinations comprising specific tetramic acid derivatives

Also Published As

Publication number Publication date
DE102007035806B4 (de) 2011-03-17
KR20100041859A (ko) 2010-04-22
CA2695091C (en) 2016-06-14
WO2009016240A8 (de) 2009-04-02
JP5351891B2 (ja) 2013-11-27
US20100199764A1 (en) 2010-08-12
US8353212B2 (en) 2013-01-15
DE102007035806A1 (de) 2009-02-12
JP2010534848A (ja) 2010-11-11
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