WO2008081768A1 - Ether chlorométhyl contenant une structure alicyclique, monomère polymérisable pour une résine photosensible et son procédé de fabrication - Google Patents

Ether chlorométhyl contenant une structure alicyclique, monomère polymérisable pour une résine photosensible et son procédé de fabrication Download PDF

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Nobuaki Matsumoto
Naoya Kawano
Shinji Tanaka
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Abstract

L'invention concerne une composition pour des résines photosensibles, à savoir une matière photosensible pour des résines photosensibles qui permet d'améliorer la rugosité dans un résist ayant un groupe alkyladamantyle ou une structure de lactone. Cette composition pour des résines photosensibles contient comme constituant un polymère qui a un ester (méth)acrylate contenant une structure alicyclique représenté par la formule générale (II) ci-après. (Dans la formule, R1 représente un groupe fonctionnel ayant une structure alicyclique avec 4-9 atomes de carbone et ayant au moins un groupe ester ou un groupe céto; et R2 représente un atome d'hydrogène, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle).
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