WO2007118989A2 - Dispositif de gaufrage, tel qu'un cylindre ou manchon - Google Patents

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Chouaib Boukaftane
Hélène BIAVA
Christian Reinhart
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Macdermid Printing Solutions Europe Sas
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Definitions

  • Embossing device such as a cylinder or sleeve.
  • the invention relates to an embossing device, such as a cylinder or sleeve, of the type comprising on its outer peripheral surface a embossing pattern in relief and recessed, intended to be reproduced on a flat and deformable substance, and a process for the manufacture of such an embossing device.
  • Devices of this type are already known, which comprise metal embossing cylinders provided with a relief pattern, the etching being carried out according to the knurling technique and it is therefore a relief obtained by plastic deformation of the metal of the cylinder. . It is also known to use instead of purely mechanical knurling the knurling technology of the mechano-chemical type.
  • the object of the invention is to overcome these disadvantages of known embossing devices.
  • the embossing device is characterized in that the cylinder carries a photopolymer coating whose outer surface comprises the embossing pattern.
  • Figures 1 to 4 illustrate four embodiments of the method of manufacturing an embossing cylinder device according to the invention
  • Figure 5 is a perspective view of an embossing cylinder device according to the invention.
  • FIG. 5 shows an embossing cylinder device 1 comprising a cylinder 2 which could be made of metal, for example made of steel, or of a composite material, surrounded by a coating 3 whose external surface comprises a relief zone pattern 4 regularly distributed on the periphery. It is advantageous that the coating 3 comprises a first resin base layer 5 covering the cylinder and an outer layer of main resin 6 which gives the relief.
  • the basic primer serves to protect the metal of the cylinder 2 against external aggression and to increase the adhesion of the main layer 6 to the cylinder.
  • the base resin layer covering the cylinder was cross-linked by exposure to ultraviolet and / or visible light and the main resin layer 6 serving as photoresist is applied to the primary layer 5 and then imaged with a mask for example a film made in situ or a CTP.
  • the main resin could also be applied directly to the metal by choosing an appropriate resin composition.
  • FIGS. 1 to 4 four modes of application of the main resin layer 6 will be described below, the application being able to be done directly on the cylinder 2 or on an intermediate layer such as the primary layer 5.
  • the method illustrated in Figure 1 provides for the application of the resin indicated at 8 on the peripheral surface of the cylinder 2, the uniformity of the thickness of the layer is provided by means of a doctor blade 9 which extends over the entire length of the cylinder.
  • the resin is provided by a resin feeder, denoted 10, which is displaceable in the axial direction of the cylinder 2, as indicated by the arrow F1.
  • the feed device essentially comprises a reservoir 11 and a tubular element 12 output of the resin 8, the moving means of the assembly 10 formed by the reservoir 11 and the tube 12 can be of any kind known per se.
  • the resin 8 is applied to the face of the cylinder 2 just above the doctor blade 9, by rotating the cylinder in the direction of the arrow F2 and by moving the 10 in the axial direction as indicated by the arrow Fl. It is the squeegee 9 defining between it and the peripheral surface a slot of a predetermined width and uniform over the length of the cylinder which ensures an even thickness the coating that will be subsequently processed to have the embossing pattern.
  • FIG. 2 illustrates another embodiment of the method according to the invention, the particularity of which lies in the fact that it uses, in place of the doctor blade 9 of the first embodiment, a pressure roller 14 which moves parallel to the cylinder axis in both directions, as indicated by the arrow F3.
  • the resin supply device 10 which is of the same nature as in Figure 1 moves as before, according to the arrow Fl.
  • the rectilinear axial movements of the doctor blade 14, rotary cylinder 2 and axial straight of the feeding device 10 have for result that the resin is deposited and uniformized as to the thickness of the resin layer on the peripheral surface of the cylinder along the helical line 15 shown in Figure 2.
  • Figure 3 shows a third embodiment of the invention that uses as an equalizing member of the thickness of the resin layer on the cylinder 2 another rotating cylinder 17 which serves as a counter-cylinder whose axis of rotation is parallel to the axis of rotation of the carrier cylinder of the layer of embossing but which is laterally displaceable so that the deviation ⁇ l of the axes of the cylinders 2 and 17 is variable.
  • the relative displacement of the counter-cylinder 17 makes it possible to establish between this cylinder and the cylinder 2 carrying the resin layer a slot 18 of a predetermined width, which determines the thickness of the resin layer, the feed device resin 10 applying the resin on the peripheral surface of the cylinder 2 at a location just upstream of the slot.
  • the cylinder 17 rotates in the direction of the arrow F4, that is to say in the same direction as the cylinder 2.
  • Figure 4 illustrates yet another embodiment of the method according to the invention, which differs from that shown in Figure 3 by the nature of the application device of the resin.
  • the resin is applied to the peripheral surface of the cylinder 2 by bubbling in a resin bath 20 which extends over the entire length of the cylinder and in which part of the periphery is engaged with a predetermined depth so that, during the passage of the periphery of the cylinder by the bath, resin adheres to this surface, the thickness of the applied resin layer being determined by the width 1 of the slot 18 existing between the cylinder 2 and the counter cylinder 17.
  • the production of the embossing is obtained by liquid or pasty hot before crosslinking intended to produce the embossing pattern.
  • a type of resin which is based on pokyester, polyether, polyurethane, or other, or combinations, urethane or the like.
  • the reactive groups are epoxy, (ME) acrylates, oxetanes, vinyl ether, allowing radical or cationic photopolymerization.
  • the resin will be chosen so that it is compatible with a temperature of at least 140 ° C. after complete crosslinking, a double crosslinking system to be possible and postcooking possible if necessary.
  • the possibility of incorporating fillers and / or flexibilizers into the resin to modify the rheology and the physical properties is provided.
  • the resin is advantageously usable in a structural composite based on glass or carbon fibers, and a combination with layers of other materials or fibrous reinforcements by means of specialized adhesive must be possible.
  • Regarding the physical properties of pure resin it has the highest toughness possible.
  • the Young's modulus is between 800 and 2000 and preferably greater than 1500 MPa. Wear resistance is high, such as impact resistance and mechanical overload. Another requirement relates to the absence of static electricity generation by contact or friction.
  • the resin must provide an anti-adherence surface, that is to say, there must be no accumulation of particles in contact during operation.
  • the coating composition will be deposited at a thickness of 0.1 to 2 mm, crosslinkable in its mass deposited endlessly.
  • the composition could be applied in a higher crosslinkable thickness in two or more times and it is then necessary to provide a system that promotes interlocking between the layers.
  • the relief of the embossing layer can be developed by means of, for example, a mask and ultraviolet light having a wavelength of, for example, 370 nm.
  • the relief has a depth of 0.2 to 1.2 mm or more if on two levels.
  • a relief at more than one level is achievable by means of superimposed layers containing photoinitiators absorbing in different regions, complementary masses per level and intercalated filters.
  • the relief is developable at an intermediate stage of crosslinking of the resin, for example less than one minute of exposure.
  • the composition has a hardness greater than 75 Shore D and an elastic modulus greater than 1000 MPa at ambient temperature and remaining greater than 500 MPa up to 80 ° C.
  • the composition has elastic and mechanical characteristics compatible with loads greater than 100 ° C. Kg / cml and speeds above 100 m / min.
  • the resin is resistant to impact and abrasion and can reproduce embossing but also laminating or laminating locally on a multilayer non-fabric, whether or not entangled, by relying on an elastomeric counterpart having a hardness between 50 and 70 Shore A. surface after photopolymerization and cleaning has sufficient anti-adhesion vis-à-vis the paper lint to prevent further fouling in operation.
  • photopolymer formulas which can be used in the context of the invention for low-viscosity compositions based on resin with dynamic properties and abrasive behavior, applicable to embossing, but which can be applied, will be given as non-limiting examples. also for composite reinforcements with fabric or non-woven glass.
  • the composition comprises 100 parts by weight of polyurethane acrylate, oligomer type polyether, aliphatic polyester urethane diacrylate as sold under the name CN981 by the company Cray Valley, 25 parts by weight of a monomer triacrylate: Tris (2- hydroxy ethyl) Isocyanurate triacrylate, type SR 368 marketed by Cray Valley, and an acyl phosphine photoinitiator such as BaPO, Irgacure 819, TPO Darocure, in a proportion of 0.05% to 2% by weight of the photopolymer.
  • This formula can be cross-linked in thickness from 0.1 to 3 mm in UV light with a peak around 380 nm.
  • there is added to the formula which has just been given respectively from 3 to 10 parts by weight of silica submicroscopic pyrogenation (200 m 2 / g).
  • the photopolymer system in particular for rigid support, comprises 50 parts by weight of a polyurethane oligomer of the CN981 type, 50 parts by weight of an epoxy acrylate oligomer, bis phenol A difunctional acrylate of the CN 104 Cray type. Valley, 10 parts by weight of a SR 368 type trifunctional monomer, and a monomer triacrylate, acid-type adhesion promoter such as Cray Valley SR9051, which provides a metal-bonded or thermally cross-linked epoxy composite bonding.
  • Another formula comprises 50 parts by weight of CN981, 50 parts by weight of CN104, 20 parts by weight of SR368, 5 parts by weight of SR 9051 and a photoinitiator marketed under the name BAPO at a level of 0.05% by weight of photocomposition.
  • a resin with a mono or bidirectional glass woven reinforcement radiation crosslinkable in 0.3 to 2 mm thick usable in a composite sleeve for supporting endless printer shapes or elastomer replacing cylinders in industrial application.
  • Another formula could then include 50 parts in weight of CN981, 50 parts by weight of CN104, tricyclodecane dimethanol diacrylate monomer of the type sold by Sartomer under the name 833S and 0.1% by weight of the photocomposition of the BAPO photoinitiator.
  • the formulated photopolymer ensures good compromise vis-à-vis the static and 1 anti-adhesion vis-a-vis the substrate to be embossed. It is sufficiently transparent to light and can react at depths of 0.4 to 2 mm to light through a radical or cationic process.
  • the invention involves a system of adhesion of this photopolymer on metal or epoxy composite loaded with glass or other, for example carbon or aramid.
  • the invention provides for the use of a highly viscous and non-tacky resin at an ambient temperature and which can be implemented by casting at a temperature below 80 ° C.
  • a regular endless deposit is obtained. of this composition on a known diameter support, which can be fixed or rotated according to the viscosity characteristics of the composition.
  • This deposit may have a thickness of +/- 1/100 on cylindrical tables up to 4 meters long and 800 mm in diameter on average.
  • Several layers with one or two photopolymerization steps can be made with two types of photoinitiators at different wavelengths at two levels in relief height or two module levels between lamination zones and impression zone. There is thus the possibility of making a full underlayer of higher modulus, possibly diffusing the light or absorbent to influence the shape of the relief.
  • the invention provides the possibility of a deposit of a mask endlessly by a digital method, to direct drawing by jet of wax or ink, or ablated following pattern after a uniform deposit of the mask.
  • the etching may be direct with an IR laser to ablate what is not the relief or the direct creation of the relief by photochemical light in visible or ultraviolet light with leaching of the residual resin thermally or solvent, the light is advantageously d preferably a wavelength between 395 and 410 nm, with cationic polymerization with or without sensitizer at the chosen wavelength or radical, for a positive relief pattern.
  • This case also makes it possible to work with liquid resins at ambient temperatures.
  • the use of a violet to blue laser light diode makes it possible to limit the cost of purchasing and maintaining the laser system on specific equipment.
  • the invention makes it possible to obtain a precise relief in depth, of shape adjusted for example in slope for a good mechanical anchoring. It is possible to adjust the land anchorage by a slope by the introduction of specific ingredients, the reflectivity / absorption of the substrate or, in the case of a laser beam, by adjusting this beam.
  • the invention provides equipment to perform endless all stages except the final cleaning.
  • the production time on this equipment is less than 4 hours, the light-curing portion remaining less than half an hour.
  • the invention thus provides a process that does not require a final machining, however, in ensuring a dimensional tolerance with etching +/- 2 / l00 th and smooth surface promoting the anti-adhesion vis-à-vis the scrap fibers paper.
  • embossing rolls whose outer layer embossed to produce the impression in the substance to be deformed is formed by a resin based on epoxy, urethane or similar, which makes the embossing rollers according to the invention perfectly appropriate when it comes to frequently renew collections and make limited edition prints.
  • the embossing relief can be easily achieved using UV-visible laser or for example by non-coherent UV-visible light.
  • the invention is applicable to the embossing of paper or wallpaper, cellulose wadding, films and leathers, multi-layered complex packaging, marking and grooving of paper and packaging, gilding and processes. assimilated and the like.
  • the invention provides considerable advantages, such as the speed and simplicity of embossing rolls and the reduction of energy and handling.
  • the application of a coating layer of uniform thickness as described and shown in the figures, on a rotating cylinder makes it possible to obtain a cylindrical piece provided with a photopolymer layer having a thickness between 0.1 and 3 mm. It is possible to introduce reinforcements of yarn or fabric of glass or glass and aramid during impregnation, by draping or winding in multiple layers.
  • the photopolymer layer is crosslinkable especially in ultraviolet light at wavelengths between 350 mm and 405 mm, with an insolation time between 10 seconds and 1 minute.
  • This mode of crosslinking can be used in rotation or in rotation and longitudinal displacement of the support of the cylindrical part or in rotation of the cylindrical part and longitudinal displacement of the irradiation system. It is possible to use a mask to create a relief image directly on the composite structure. After exposure to light through a mask, cleaning with solvent or heating to reduce the viscosity of the non-crosslinked material is provided by driving this material under a jet of compressed air or by suction with a suitable pump. Post-insolation to reach desired mechanical properties is possible.
  • the photopolymer layer, reinforced or not, and calibrated can be made on a cylinder or on a metal sleeve or on a composite sleeve fitted on a cylinder.

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Abstract

L'invention concerne un dispositif de gaufrage, tel qu'un cylindre ou manchon du type comportant sur sa surface périphérique externe un motif de gaufrage en relief et en creux, destiné à être reproduit sur une substance plane et déf ormable. Le dispositif est caractérisé en ce que le cylindre ou manchon (2) porte un revêtement de photopolymère (6) dont la surface extérieure présente le motif de gaufrage à relief (4). L'invention est utilisable pour le gaufrage sur des substances planes et déf ormables.

Description

"Dispositif de gaufrage, tel qu'un cylindre ou manchon" .
L'invention concerne un dispositif de gaufrage, tel qu'un cylindre ou manchon, du type comportant sur sa surface périphérique externe un motif de gaufrage en relief et en creux, destiné à être reproduit sur une substance plane et déformable, ainsi qu'un procédé pour la fabrication d'un tel dispositif de gaufrage. On connaît déjà des dispositifs de ce type, qui comportent des cylindres gaufreurs métalliques pourvus d'un motif en relief, la gravure étant réalisée selon la technique de moletage et il s'agit donc d'un relief obtenu par déformation plastique du métal du cylindre. II est également connu d'utiliser à la place du moletage purement mécanique la technologie de moletage de type mécano-chimique.
Il est encore connu de prévoir sur le cylindre un revêtement dur polymérique et de réaliser le relief à l'aide d'un laser.
Or, dans le domaine d'application de gaufrage, le renouvellement des collections et les tirages en série limités engendrent un besoin grandissant de dessins faisant naître des nouvelles exigences, à savoir un coût réduit et une plus grande rapidité de réalisation des dessins de gaufrage. Inversement, la durée de vie attendue en terme de métrage réalisé peut être réduite.
Les dispositifs de gaufrage connus, en raison de leur procédé de fabrication coûteux et complexe, ne sont pas en mesure à satisfaire à ces exigences.
L'invention a pour but de palier ces inconvénients des dispositifs de gaufrage connus.
Pour atteindre ce but, le dispositif de gaufrage selon 1 ' invention est caractérisé en ce que le cylindre porte un revêtement de photopolymère dont la surface extérieure comporte le motif de gaufrage. L'invention sera mieux comprise et d'autres buts, caractéristiques, détails et avantages de celle-ci apparaîtront plus clairement au cours de la description explicative qui va suivre faite en référence aux dessins schématiques annexés donnés uniquement à titre d'exemple illustrant plusieurs modes de réalisation de l'invention et dans lesquels :
- les figures 1 à 4 illustrent quatre modes de réalisation du procédé de fabrication d'un dispositif de cylindre de gaufrage selon l'invention ; et la figure 5 est une vue en perspective d'un dispositif de cylindre de gaufrage selon l'invention.
La figure 5 montre un dispositif de cylindre de gaufrage 1 comportant un cylindre 2 qui pourrait être en métal, par exemple en acier, ou en un matériau composite, entouré d'un revêtement 3 dont la surface extérieure comporte un motif de zones en relief 4 régulièrement réparti sur la périphérie. Il est avantageux que le revêtement 3 comporte une première couche de base de résine 5 recouvrant le cylindre et une couche extérieure de résine principale 6 qui donne le relief. La couche primaire de base a pour fonction de protéger le métal du cylindre 2 contre des agressions extérieures et d'augmenter l'adhésion de la couche principale 6 sur le cylindre. La couche de résine de base recouvrant le cylindre a été réticulée par exposition à la lumière ultraviolette et/ou visible et la couche de résine principale 6 servant de photorésist est appliquée sur la couche primaire 5 et ensuite imagée à l'aide d'un masque, par exemple un film réalisé in situ ou d'un CTP. Bien entendu, la résine principale pourrait aussi être appliquée directement sur le métal en choisissant une composition de résine appropriée.
En se référant aux figures 1 à 4, on décrira ci- après quatre modes d'application de la couche de résine principale 6, l'application pouvant se faire directement sur le cylindre 2 ou sur une couche intermédiaire telle que la couche primaire 5.
Le procédé illustré sur la figure 1 prévoit l'application de la résine indiquée en 8 sur la surface périphérique du cylindre 2, l'uniformité de l'épaisseur de la couche est assurée à l'aide d'une racle 9 qui s'étend sur toute la longueur du cylindre. La résine est fournie par un dispositif d'alimentation en résine, notée 10, qui est déplaçable dans la direction axiale du cylindre 2, comme cela est indiqué par la flèche Fl. Le dispositif d'alimentation comporte essentiellement un réservoir 11 et un élément tubulaire 12 de sortie de la résine 8, les moyens de déplacement de l'ensemble 10 formé par le réservoir 11 et le tube 12 pouvant être de toute nature connue en soi .
Il ressort de la figure que, pour la réalisation du revêtement 6, on applique la résine 8 à la face du cylindre 2 juste au-dessus de la racle 9, en faisant tourner le cylindre dans la direction de la flèche F2 et en déplaçant le dispositif d'alimentation 10 en direction axiale tel qu'indiqué par la flèche Fl. C'est la racle 9 en définissant entre elle et la surface périphérique une fente d'une largeur prédéterminée et uniforme sur la longueur du cylindre qui assure une épaisseur uniforme du revêtement qui sera ultérieurement traité pour avoir le motif de gaufrage.
La figure 2 illustre un autre mode de réalisation du procédé selon l'invention, dont la particularité réside dans le fait qu'il utilise, à la place de la racle 9 du premier mode de réalisation, un galet presseur 14 qui se déplace parallèlement à l'axe du cylindre dans les deux sens, comme cela est indiqué par la flèche F3. Par contre, le dispositif d'alimentation en résine 10 qui est de la même nature qu'à la figure 1 se déplace comme auparavant, conformément à la flèche Fl. Les mouvements rectiligne axial de la racle 14, rotatif du cylindre 2 et rectiligne axial du dispositif d'alimentation 10 ont pour résultat que la résine est déposée et uniformisée quant à l'épaisseur de la couche de résine sur la surface périphérique du cylindre selon la ligne hélicoïdale 15 représentée sur la figure 2. La figure 3 montre un troisième mode de réalisation de l'invention qui utilise comme organe d'égalisation de l'épaisseur de la couche de résine sur le cylindre 2 un autre cylindre rotatif 17 qui sert de contre-cylindre dont l ' axe de rotation est parallèle à l ' axe de rotation du cylindre porteur de la couche de gaufrage mais qui est latéralement déplaçable de façon que l ' écart Δl des axes des cylindres 2 et 17 soit variable. Le déplacement relatif du contre-cylindre 17 permet d'établir entre ce cylindre et le cylindre 2 porteur de la couche de résine une fente 18 d'une largeur prédéterminée, qui détermine l'épaisseur de la couche de résine, le dispositif d'alimentation en résine 10 appliquant la résine sur la surface périphérique du cylindre 2 à un endroit juste en amont de la fente. Il est à noter que le cylindre 17 tourne dans le sens de la flèche F4, c'est-à-dire dans le même sens que le cylindre 2.
La figure 4 illustre encore un autre mode de réalisation du procédé selon l'invention, qui se distingue de celui montré sur la figure 3 par la nature du dispositif d'application de la résine. Dans le cas de la figure 4, la résine est appliquée à la surface périphérique du cylindre 2 par barbotage dans un bain de résine 20 qui s'étend sur toute la longueur du cylindre et dans lequel s'engage une partie de la périphérie à une profondeur prédéterminée si bien que, lors du passage de la périphérie du cylindre par ce bain, de la résine adhère à cette surface, l'épaisseur de la couche de résine appliquée étant déterminée par la largeur 1 de la fente 18 existant entre le cylindre 2 et le contre- cylindre 17.
Il ressort des différentes possibilités de mise en œuvre de l'invention que la réalisation de la couche de gaufrage est obtenue par voie liquide ou pâteuse à chaud avant la réticulation destinée à produire le motif de gaufrage. De façon générale, on utilise un type de résine qui est à base de pokyester, polyéther, polyuréthane, ou autre, ou combinaisons, uréthane ou similaire. Les groupes réactifs sont époxy, (ME) acrylates, oxetanes, vinyléther, permettant une photopolymêrisation par voie radicalaire ou cationique. La résine sera choisie de façon qu'elle soit compatible avec une température de 1400C au moins après la réticulation complète, un double système de réticulation devant être possible et une postcuisson envisageable si nécessaire. La possibilité d'incorporation de charges et/ou de flexibilisants dans la résine pour modifier la rhéologie et les propriétés physiques est prévue. La résine est avantageusement utilisable dans un composite structural à base de fibres de verre ou de carbone, et une combinaison avec des couches d'autres matériaux ou des renforts fibreux par intermédiaire d'adhésif spécialisé doit être possible. Concernant les propriétés physiques de la résine pure, elle a une ténacité la plus élevée possible. Le module de Young est compris entre 800 et 2000 et, de préférence supérieur à 1 500 MPa. La résistance à l'usure est élevée, comme la résistance aux chocs et surcharges mécaniques. Une autre exigence concerne l'absence de génération d'électricité statique par contact ou par frottement. La résine doit assurer une anti-adhérence en surface, c'est-à-dire, il faut qu'il y ait absence d'accumulation de particules en contact lors du fonctionnement .
Concernant la composition photopolymère à appliquer en revêtement au cylindre métallique ou au manchon composite cylindrique, dont la photopolymérisation pourra être réalisée grâce à un système radicalaire (UV ou visible) ou cationique, elle a une viscosité permettant une enduction entre 400C et 600C. La composition de revêtement sera déposée à une épaisseur de 0,1 à 2 mm, réticulable dans sa masse déposée en sans fin. La composition pourrait être appliquée en une épaisseur supérieure réticulable en deux fois ou plus et il faut alors prévoir un système favorisant l'accrochage entre les couches. Le relief de la couche de gaufrage est développable au moyen par exemple d'un masque et de lumière ultraviolette d'une longueur d'onde par exemple de 370 nm. Le relief a une profondeur de 0,2 à 1,2 mm ou plus si sur deux niveaux. Un relief à plus d'un niveau est réalisable au moyen de couches superposées contenant des photoinitiateurs absorbant dans des régions différentes, des masses complémentaires par niveau et des filtres intercalés . Le relief est développable à un stade intermédiaire de réticulation de la résine, par exemple inférieur à une minute d'exposition.
La composition a une dureté supérieure à 75 shore D et un module élastique supérieur à 1000 MPa à la température ambiante et restant supérieur à 500 MPa jusqu'à 800C. La composition a des caractéristiques élastiques et mécaniques compatibles avec des charges supérieures à 100 Kg/cml et des vitesses supérieures à 100 m/mn. La résine est résistante aux chocs et à 1 ' abrasion et peut reproduire un gaufrage mais également complexage ou contrecollage localement sur un non tissu multicouche emmêlé ou non en s 'appuyant sur une contrepartie élastomère d'une dureté entre 50 et 70 Shore A. La surface après photopolymérisation et nettoyage présente suffisamment d'anti-adhérence vis-à-vis des peluches de papier pour empêcher un encrassement ultérieur en fonctionnement.
On donnera ci-après, à titre d'exemple non limitatif des formules photopolymères utilisables dans le cadre de l'invention pour des compositions de faible à haute viscosité, à base de résine à propriété dynamique et tenue abrasive, applicable au gaufrage, mais applicable également pour des renforts composites avec tissu ou non tissé de verre. Selon une formule, la composition comporte 100 parties en poids de polyuréthane acrylate, oligomère type polyêther, polyester uréthane diacrylate aliphatique tel que commercialisés sous la dénomination CN981 par la société Cray Valley, 25 parties en poids d'un monomètre triacrylate : Tris(2-hydroxy éthyl) Isocyanurate triacrylate, type SR 368 commercialisé par Cray Valley, et un photoinitiateur type acyle phosphine comme BaPO, irgacure 819, TPO Darocure, à raison de 0,05% à 2% en poids du photopolymère. Cette formule est rëticulable en épaisseur de 0,1 à 3 mm en lumière UV avec un pic autour de 380 nm. Selon une autre formule, on additionne à la formule qui vient d'être donnée respectivement de 3 à 10 parties en poids en silice de pyrogénation submicroscopique (200 m2/g) .
Selon une autre formule, le système photopolymère notamment pour accrochage sur support rigide comporte 50 parties en poids d'un oligomère polyuréthane du type CN981, 50 parties en poids d'un oligomère ëpoxy acrylate, bis phénol A acrylate difonctionnel du type CN 104 de Cray Valley, 10 parties en poids d'un monomère trifonctionnel du type SR 368, et un monomère triacrylate, promoteur d'adhésion du type acide comme le SR9051 de Cray Valley, qui assure un accrochage sur base métallique ou composite époxy réticulé thermiquement .
Une autre formule comporte 50 parties en poids de CN981, 50 parties en poids de CN104, 20 parties en poids de SR368, 5 parties en poids de SR 9051 et un photoinitiateur commercialisé sous la dénomination BAPO à hauteur de 0,05% en poids de la photocomposition.
Dans le cadre de l'invention, on utilise également une résine avec renfort de tissé de verre mono ou bidirectionnel, réticulable par radiation en 0,3 à 2 mm d'épaisseur, utilisable en manchon composite pour support de formes imprimantes sans fin ou d'élastomère en remplacement de cylindres en application industrielle. Une autre formule pourrait alors comprendre 50 parties en poids de CN981, 50 parties en poids de CN104, du monomère tricyclodécane diméthanol diacrylate du type commercialisé par la société Sartomer sous la dénomination 833S et 0,1% en poids de la photocomposition du photoinitiateur BAPO.
Il ressort de la description de l ' invention qui vient d'être faite, que celle-ci implique la mise au point d'une photocomposition de module déterminée et ajustée en fonction des exigences de l'application. Le photopolymère formulé assure un bon compromis vis-à-vis des charges statiques et d1 anti-adhérence vis-à-vis du substrat à gaufrer. Il est suffisamment transparent à la lumière et peut réagir sur des profondeurs de 0,4 à 2 mm à la lumière par le biais d'un processus radicalaire ou cationique. L'invention implique un système d'adhêrisation de ce photopolymère sur métal ou sur composite époxy chargé de verre ou autre, par exemple le carbone ou aramide. L'invention prévoit l'utilisation d'une résine très visqueuse et non pégueuse à une température ambiante et pouvant se mettre en œuvre par coulée à une température inférieure à 800C. Grâce à l'invention, on obtient un dépôt régulier sans fin de cette composition sur un support de diamètre connu, qui peut être fixe ou en rotation suivant les caractéristiques de viscosité de la composition. Ce dépôt peut avoir une épaisseur de +/- 1/100 sur des tables cylindriques jusqu'à 4 mètres de long et 800 mm de diamètre en moyenne. Plusieurs couches à une ou deux étapes de photopolymérisation peuvent être réalisées avec deux types de photoamorceurs à différentes longueurs d'ondes à deux niveaux en hauteur de relief ou deux niveaux de module entre zones de contre-collage et zone d'empreinte. Il y a ainsi la possibilité de faire une sous-couche pleine de plus haut module, éventuellement diffusant la lumière ou absorbante pour influencer la forme du relief. L'invention prévoit la possibilité d'un dépôt d'un masque en sans fin par un procédé digital, à dessin direct par jet de cire ou encre, ou ablaté suivant motif après un dépôt uniforme du masque. La gravure peut être directe avec un laser IR pour ablater ce qui n'est pas le relief ou la création directe du relief par voie photochimique en lumière visible ou ultraviolette avec lessivage de la résine résiduelle par voie thermique ou solvant, la lumière étant avantageusement d'une longueur d'onde de préférence entre 395 et 410 nm, avec polymérisation cationique avec ou sans sensibilisateur à la longueur d'onde choisie ou radicalaire, pour un dessin en relief positif . Ce cas permet en outre de travailler avec des résines liquides à des températures ambiantes. L'utilisation d'une diode laser de lumière violette à bleue permet de limiter le coût d'achat et d'entretien du système laser sur un équipement spécifique. L'invention permet l'obtention d'un relief précis en profondeur, de forme ajustée par exemple en pente pour un bon ancrage mécanique. Il est possible d'ajuster l'ancrage du relief par une pente grâce à l'introduction d'ingrédients spécifiques, de la réflectivité/absorption du substrat ou, dans le cas d'un faisceau à laser, par ajustement de ce faisceau.
L ' invention prévoit un équipement permettant de réaliser en sans fin toutes les étapes sauf le nettoyage final. Le temps de réalisation sur cet équipement est inférieur à 4 heures, la partie photopolymérisation restant inférieure à une demi-heure.
L'invention propose ainsi un procédé qui ne nécessite pas un usinage final, en garantissant cependant une tolérance dimensionnelle avec gravure de +/- 2/l00eme et une surface lisse favorisant l 'anti-adhérence vis-à- vis des débris de fibres papier.
Il ressort de la description de l'invention, qui précède, que celle-ci permet la réalisation de cylindres de gaufrage dont la couche extérieure à relief destinée à produire l'empreinte dans la substance à déformer est formée par une résine à base d'époxy, d'urêthane ou similaire, ce qui rend les cylindres de gaufrage selon l'invention parfaitement appropries lorsqu'il s'agit de renouveler fréquemment des collections et réaliser des tirages en série limitée. Le relief de gaufrage peut être réalisé aisément à l'aide de laser UV-visible ou par exemple par la lumière UV-visible non cohérente. L'invention est applicable au gaufrage de papier ou de papier peint, de tissu en ouate de cellulose, de films et cuirs, d'emballages complexes multicouches, au marquage et rainurage de papier et d'emballages, à la dorure et à des procédés assimilés et analogue.
L'invention procure des avantages considérables, tels que la rapidité et la simplicité de la réalisation des cylindres de gaufrage et la réduction d'énergie et de manutention. L'application d'une couche d'enduction d'épaisseur uniforme telle que décrite et représentée sur les figures, sur un cylindre en rotation permet d'obtenir une pièce cylindrique pourvue d'une couche de photopolymère d'une épaisseur entre 0,1 et 3 mm. II est possible d'introduire des renforts de fil ou tissu en verre ou verre et aramide en cours d'imprégnation, par drapage ou bobinage en couches multiples. La couche de photopolymère est réticulable notamment en lumière ultraviolette à des longueurs d'onde comprises entre 350 mm et 405 mm, avec un temps d'insolation entre 10 secondes et 1 minute. Ce mode de rëticulation peut être utilisé en rotation ou en rotation et déplacement longitudinal du support de la pièce cylindrique ou en rotation de la pièce cylindrique et déplacement longitudinal du système d'irradiation. Il est possible d'utiliser un masque pour créer une image en relief directement sur la structure composite. Après exposition à la lumière à travers un masque, un nettoyage avec solvant ou en chauffant pour diminuer la viscosité de la matière non réticulée est prévu en chassant cette matière sous jet d'air comprimé ou par aspiration avec une pompe adaptée. Une post-insolation pour atteindre des propriétés mécaniques souhaitées est possible. La couche photopolymère renforcée ou non, et calibrée peut être faite sur un cylindre ou sur un manchon métallique ou sur un manchon composite emmanché sur un cylindre.

Claims

REVENDICATIONS
1. Dispositif de gaufrage, tel qu'un cylindre ou manchon, du type comportant sur sa surface périphérique externe un motif de gaufrage en relief et en creux, destiné à être reproduit sur une substance plane et déformable, caractérisé en ce que le cylindre ou manchon
(2) porte un revêtement de photopolymère (6) dont la surface extérieure présente le motif de gaufrage à relief (4) .
2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de revêtement de photopolymère (6) est réalisée sur une couche primaire de base (5) interposée entre le revêtement de gaufrage et le cylindre de support (2) .
3. Dispositif selon l'une des revendications 1 ou 2 , caractérisé en ce que le revêtement de photopolymère (6) est une photocomposition d'un module déterminé et ajusté pour ne pas générer des charges électriques statiques et pour être anti-adhérente vis-à-vis du substrat à gaufrer.
4. Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce que la photocomposition comporte une résine ayant un module de Young comprise entre 800-2000 MPa, de préférence supérieur à 1500 MPa.
5. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le revêtement de gaufrage (6) présente une dureté supérieure à 75 Shore D.
6. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le revêtement de gaufrage présente un module élastique supérieur à 800 MPa à des températures ambiantes et supérieur à 500 MPa à une température de 800C.
7. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le revêtement de gaufrage a des caractéristiques élastiques et mécaniques compatibles avec des charges supérieures à 100 kg/CML et une vitesse
Figure imgf000015_0001
8. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le revêtement photopolymère (6) a une épaisseur de 1 à 3 mm réticulable dans la masse, le relief ayant une profondeur comprise entre 0,2-1,2 mm.
9. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que le revêtement de gaufrage (6) comporte un relief de gaufrage (4) à plus d'un niveau obtenu avantageusement par superposition de plusieurs couches .
10. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que le revêtement de gaufrage (6) est choisi de façon à permettre le dépôt d'un masque par jet d'encre ou de cire, soit la création d'un masque ablatë, soit encore la création directe du relief par voie photochimique en lumière visible ou ultraviolette .
11. Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que le revêtement de gaufrage (6) est adapté pour l'utilisation d'une lumière d'une longueur d'onde entre 395 et 410 nm, avec polymérisation cationique avec ou sans sensibilisateur à la longueur d'onde choisie ou radicalaire, pour un dessin en relief positif.
12. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce que le revêtement de gaufrage (6) comporte un relief dont les flancs sont en pente pour assurer un bon ancrage mécanique .
13. Procédé de réalisation d'un dispositif de gaufrage selon l'une des revendications 1 à 12, caractérisé en ce que l'on applique la matière (8) formant le revêtement de gaufrage (6) sur la face cylindrique extérieure d'un cylindre de support (2) entraîné en rotation et utilise un organe (9, 14, 17) d'uniformisation de l'épaisseur de la matière appliquée sur la surface périphérique du cylindre de support (2) et encore que l'on réalise le motif de gaufrage en relief et creux par exposition du revêtement de photopolymère à de la lumière à l'aide d'un masque.
14. Procédé selon la revendication 13 , caractérisé en ce que l'on utilise pour l'application de la matière (8) du revêtement de gaufrage un dispositif d'application (10) déplaçable parallèlement à l'axe du cylindre de support .
15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que l'organe d'uniformisation de l'épaisseur du revêtement est une racle (9) s 'étendant le long du cylindre (2), parallèlement à l'axe de celui-ci, à une distance prédéterminée de la surface du cylindre, correspondant à l'épaisseur de la couche de matière (6) appliquée.
16. Procédé selon l'une des revendications 13 ou 14, caractérisé en ce que l'organe d'uniformisation de l'épaisseur de la couche de matière de revêtement de gaufrage appliquée est un galet (14) dont l'axe de rotation est parallèle à l'axe de rotation du cylindre et qui est déplaçable en translation axiale le long du cylindre, parallèlement à l'axe de celui-ci, à une distance de la surface périphérique du cylindre correspondant à l'épaisseur de la couche de revêtement de gaufrage (6) .
17. Procédé selon l'une des revendications 13 ou 14, caractérisé en ce que l'organe d'uniformisation de 1 ' épaisseur de la couche du revêtement de gaufrage est un cylindre (17) dont l'axe de rotation est parallèle à l'axe de rotation du cylindre de support (2) et qui est disposé de façon qu'une fente (18) soit formée entre les deux cylindres dont la largeur correspond à l'épaisseur de la couche de revêtement de gaufrage (6) .
18. Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce que la matière de revêtement de gaufrage est appliquée à la surface du cylindre de support (2) par barbotage dans un bain (20) de matière de revêtement et en ce que l'épaisseur de la matière appliquée est uniformisée à l'aide d'un cylindre (17) dont l'axe de rotation est parallèle à l'axe du cylindre de support (2) et qui est disposé de façon qu'une fente (18) soit formée entre les deux cylindres dont la largeur correspond à l'épaisseur de la couche de revêtement.
19. Procédé selon l'une des revendications 17 ou 18, caractérisé en ce que la largeur de la fente (18) est variable par variations de la distance Δl des axes de rotation des deux cylindres.
20. Procédé selon l'une des revendications 13 à 19, caractérisé en ce que l'on utilise pour la réalisation du revêtement de gaufrage (6) une résine réticulable à base d'époxy, d'uréthane ou analogue.
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