WO2007117519A3 - Procédé de calcul des paramètres de déformation pour un dispositif tracé dans un système lithographique - Google Patents

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Abstract

La présente invention concerne un procédé de calcul des paramètres des déformations que doit subir un dispositif tracé pour diminuer les écarts des dimensions entre un tracé reporté sur le dispositif et le tracé coté. Le procédé consiste notamment à comparer les écarts tridimensionnels entre des éléments du tracé reporté et les éléments correspondants du tracé de référence. Le procédé consiste ensuite à calculer les forces de déformation à appliquer au dispositif tracé pour atténuer les écarts de cotes, les forces respectant des contraintes prédéterminées. En l'occurrence, le totalisation d'une grandeur des forces est est sensiblement nulle, la totalisation du moment des forces étant également sensiblement nulle.
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