WO2007108060A1

WO2007108060A1 - 干渉計測方法およびこれを用いる干渉計測装置

Info

Publication number: WO2007108060A1
Application number: PCT/JP2006/305341
Authority: WO
Inventors: Fumiyuki Takahashi; Hiroyuki Tsukahara
Original assignee: Fujitsu Limited
Priority date: 2006-03-17
Filing date: 2006-03-17
Publication date: 2007-09-27
Also published as: JP4680296B2; JPWO2007108060A1

Abstract

　光学薄膜が成膜された光学窓越しの干渉計測を行う場合において，光学薄膜からの反射光が少ない波長を計測光として使用することにより，コントラストの高い干渉縞を取得する干渉計測装置は，広帯域な波長分布特性を有する光を出力する照明装置と，前記照明装置から出力される光を入力し，中心波長の異なる複数の波長フィルタを切り替え可能で，少なくとも一の波長光を選択出力する，波長フィルタ選択手段と，前記波長フィルタ選択手段により選択された波長光を参照光と，前記計測対象向かう照射光とに分岐し，更に前記照射光による前記計測対象からの反射光と前記参照光による干渉光を生成出力するハーフミラーを有し，前記波長フィルタ選択手段は，前記ハーフミラーからの干渉光における干渉縞のコントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択するように構成される。

Description

明細書

干渉計測方法およびこれを用いる干渉計測装置

技術分野

[0001] 本発明は，干渉計測方法及びこれを用いる干渉計測装置に関し，特に光学窓のついたパッケージで保護された光学部品の表面形状を，干渉法を使用して高精度に計測する方法及びこれを用いる干渉計測装置に関する。

背景技術

[0002] 微細構造を有し，並進移動や傾き等の変位を伴う MEMS (Micro

Electro Mechanical Systems)として，光学部品の例では波長多重通信に使用される光フィルタ，光クロスコネクタ一等がある。

[0003] 図 1は，光学窓 11のついたパッケージ 100で保護された MEMS光学部品 10の断面を示す図である。力かる光学部品 10の加工精度や，動的特性を評価するために，干渉計測装置を用いることが知られている。（例えば，特許文献 1, 2)。

[0004] かかる特許文献 1, 2に示される干渉計測装置を用いる方法は，物体反射光と参照光を干渉させる干渉光学系を有し，前記干渉光学系により生成される干渉縞を観察するものである。

[0005] 図 2A,図 2Bは，かかる干渉計測方法を使用して MEMSを計測する従来の方法を説明する図である。

[0006] 図 2Aはガラス越し計測を前提としない干渉光学系を示す図である。まずレンズ 2を通して照射光 Loをノヽーフミラー 4に入力する。ハーフミラー 4で，入射した照射光 Lo を参照ミラー 8と計測対象 10に向かう 2つの方向に分ける。

[0007] 参照ミラー 8と計測対象 10からそれぞれ反射した光はハーフミラー 4で再び重なり干渉縞が発生し，計測光 Lrとしてレンズ 15を通して出力される。ここで，干渉計測にはレーザとそれ以外の光源が使用されるが，レーザは可干渉距離が非常に長く，不要な部分での干渉が生じるなどの理由から，レーザ以外の光源が使用されることが多い。

[0008] レーザ以外の光源では可干渉距離が比較的短いため，干渉縞を発生させるには参照ミラー 8側と計測対象 10側の光学距離がおよそ等しくなくてはならない。ところが図 2Aに示すように計測対象 10の前に光学窓 11がある場合，計測対象 10側の光学距離は，（n-l)dだけ増える。なお， nは，光学窓材料の屈折率であり， dは光学窓の厚みである。

[0009] したがって，ハーフミラー 4からの参照ミラー 8側と計測対象 10側で光学距離が異なつてしま!、干渉縞が生じなくなる。

[0010] このために，図 2Bに示すように，参照ミラー 8側にも両者の光学距離を同じにするために，補償ガラス 7を挿入し，参照ミラー 8側と計測対象 10側で光学距離が異なつてしまうという問題を回避することが考えられる。

[0011] ここで，図 2Aにおいては，問題点として光学距離の差のみを注目している。しかし ,光学窓 11越しの干渉計測では光学窓 11に成膜した光学薄膜 (反射防止膜等)からの反射光が原因で干渉縞コントラストが落ちて干渉計測が困難となる問題が生じることも考慮しなければならな、。

[0012] なお，ここでは説明のため計測対象である光学部品は通信用であり使用波長が赤外であるとして説明する。このような場合，光学窓 11に成膜する反射防止膜は通信に使用される赤外光を反射しないように設計されている。しかし，それ以外の波長域につヽては無関心である場合がある。

[0013] 例えば，図 2Cに示す波長域と反射率の関係を示すグラフにおいて，目的の波長領域 (この場合赤外) Iでは，反射率を低く抑えているが，それ以外の波長域 (可視光領域) IIで反射率は考慮されてヽず，反射光 LrOを生じる特性を持つ反射防止膜 11 aが成膜された光学窓 11を通して計測対象を計測しなければならない場合が生じる

[0014] 図 3Aに示すように，計測対象 10からの反射光 Lrlと参照ミラー 8からの参照光 Lr2 がハーフミラー 4で干渉し，干渉光 Lrが出力される。通常干渉計測は，可視光領域 II の波長域で行うため，図 3Bに，図 3Aの〇で囲んだ部分を拡大して示すように，光学窓 11の反射防止膜 1 laにより，照射光の一部 LrOが反射してしまう。

[0015] すなわち，図 3Bに示すように，光学窓 11に反射防止膜 11aが生膜されていて，上記のように，赤外光を反射しないように設計されているが，可視光域 Πでの反射は考慮されていない。したがって，反射防止膜 11a面で，可視光領域 Πでの反射光 Lroが生じる。このような，計測対象 10以外力もの反射光 Lroは，干渉縞のコントラスト悪ィ匕の原因となる。

[0016] 図 4は，光学窓 11越しによる干渉計測における問題点を更に説明する図である。いま，図 4aに示すように，可視光域 IIにおける波長えとえで干渉計測を行った場合，

1 2

波長えでは反射率が低く不要反射が少ない。このために，コントラストの高い干渉縞

2

が取得できる（図 4b,図 4c)。一方，波長えを使用した場合，光学窓 11の反射防止

1

膜 11aによる反射光 Lroが多くなり干渉縞コントラストが低下する（図 4d,図 4e)。

[0017] このように，干渉縞のコントラストが低下すると，計測対象 10である MEMSの高さの計測結果にノイズが増え，コントラスト低下の程度によっては計測自体が不可能となる場合がある。

特許文献 1 :反射防止膜特開 2002— 5619号公報

特許文献 2：特開 2004— 177225号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0018] したがって，本発明の目的は，力かる反射防止膜による不要反射波によって起きる干渉縞のコントラストの低下による問題を解決する干渉計測方法およびこれを用いる干渉装置を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0019] かかる目的を達成する本発明の第 1の側面は，光学薄膜が形成された光学窓で保護された計測対象の表面形状を計測する干渉計測装置であって，広帯域な波長分布特性を有する光を出力する照明装置と，前記照明装置力出力される光を入力し ,中心波長の異なる複数の波長フィルタを切り替え可能で，少なくとも一の波長光を選択出力する，波長フィルタ選択手段と，前記波長フィルタ選択手段により選択された波長光を参照光と，前記計測対象向かう照射光とに分岐し，更に前記照射光による前記計測対象からの反射光と前記参照光による干渉光を生成出力するハーフミラーを有し，

前記波長フィルタ選択手段は，前記ハーフミラーからの干渉光における干渉縞のコントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択するように構成されたことを特徴とする。

[0020] 前記第 1の側面において，前記波長フィルタ選択手段は，複数の波長光を選択出力し，前記複数の波長光における干渉光の干渉縞の平均的コントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択するように構成してもよ、。

[0021] また，前記第 1の側面において，前記波長フィルタ選択手段は，現在選択中の波長フィルタで取得した干渉縞コントラストを空間的に平均した値が所定の閾値以下である場合，別の波長フィルタを選択し，干渉縞コントラストが所定の閾値以上となる波長フィルタの組み合わせを選択するように構成してもよ、。

[0022] 前記第 1の側面において，さらに，分光器を備え，前記参照光を遮蔽した状態で，前記光学窓からの反射特性を評価し，前記波長フィルタ選択手段は，前記分光器により評価される反射特性に基づき，最適な波長フィルタの選択を行うように構成してもよい。

[0023] さらに，前記において，前記分光器における反射特性の評価を制御 PCに入力し，この PCにより，前記反射特性の評価データに基づき，前記波長フィルタ選択手段に最適な波長選択フィルタを選択させるように構成してもよ、。

[0024] また，前記第 1の側面において，前記複数の波長フィルタは，それぞれ中心波長の異なる波長カットフィルタであって，前記波長フィルタ選択手段により選択された波長カットフィルタにより波長成分の除去された光を前記ハーミラーに入力するように構成してちよい。

[0025] さらにまた，前記第 1の側面において，前記照明装置は，それぞれ中心波長の異なる発光を出力する複数の発光ダイオードを有し，前記波長フィルタ選択手段は，前記少複数の発光ダイオードの少なくとも一つの発光ダイオードを選択駆動して，前記選択駆動される発行ダイオードからの対応する一の波長光を選択出力するように構成してちよい。

[0026] 上記目的を達成する本発明の第 2の側面は，光学薄膜が形成された光学窓で保護された計測対象の表面形状を計測する干渉計測方法であって，広帯域な波長分布特性を有する光を波長フィルタ選択手段に入力し，前記波長フィルタ選択手段により，少なくとも一つの波長光を選択出力し，前記選択された波長光を参照光と，前記計測対象向かう照射光とに分岐し，更に前記照射光による前記計測対象力の反射光と前記参照光による干渉光を生成し，前記波長フィルタ選択手段は，前記ハーフミラーからの干渉光における干渉縞のコントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択することを特徴とする。

図面の簡単な説明

[図 1]図 1は，光学窓のついたパッケージで保護された MEMS光学部品の断面を示す図である。

[図 2A]図 2Aは，ガラス越し計測を前提としない干渉光学系を示す図である。

[図 2B]図 2Bは，参照ミラー側と計測対象側で光学距離が異なってしまうという問題を回避する構成を示す図である。

[図 2C]図 2Cは，可視光領域と，反射防止膜の波長域を示す図である。

[図 3A]図 3Aは，光学窓越しによる干渉計測における問題点を説明する図（その 1)である。

[図 3B]図 3Bは，図 3Aの〇で囲んだ部分の拡大図である。

[図 4]図 4は，光学窓越しによる干渉計測における問題点を説明する図（その 2)である。

[図 5A]図 5Aは，本発明の基本的概念構成を示す図である。

[図 5B]図 5Bは，波長と反射率分布の関係グラフにおいて，特定波長の選択を説明する図である。

[図 5C]図 5Cは，波長と反射率分布の関係グラフにおいて，複数の波長域の選択を説明する図である。

[図 5D]図 5Dは，波長と反射率分布の関係グラフにおいて，不要反射の多い波長領域のカットを説明する図である。

[図 6]図 6は，図 5A〜5Dを用いて説明した本発明原理に従う，本発明の実施例の干渉計測装置を示す図である。

[図 7]図 7は，挟帯域波長選択フィルタの選択方法の一例フローである。

[図 8]図 8は， 2つの波長の干渉縞をそれぞれ独立して取得する場合の構成を示す図である。

[図 9]図 9は，光路上に複数の波長カットフィルタを配置できるそれぞれフィルタを有する多連のフィルタチェンジャを示す図である。

[図 10]図 10は，照明光源として LED (発光素子)を用いる例を説明する図である。発明を実施するための最良の形態

[0028] 以下に，図面に従い，本発明の実施の形態例を説明する。なお，実施の形態例は ,本発明の理解のためのものであり，本発明の技術的範囲はこれに限定されるものではない。

[0029] 図 5Aは，本発明の基本的概念構成を示す図である。

[0030] 本発明では，図 2Bに示した干渉計測装置における照明光 Loの照明装置 1と，ハ一フミラー 4との間に，中心波長の異なる複数の波長フィルタ 25を切り替えることが可能な波長フィルタ選択手段 (フィルタチェンジャー） 23を備える。

[0031] それら複数の波長フィルタ 25のうち不要反射が少なく干渉縞コントラストが高くなる波長フィルタを自動的に選んで干渉計測を行う。これにより，先に述べた問題点を解決する。

[0032] 例えば照明装置 1から出射する広帯域な波長分布を持った照射光 Loのうち図 5B に示す波長と反射率分布の関係グラフにおける可視光城 Π中の選択された特定の波長域 A (好ましくは，反射率が最も低くなる波長領域)を取り出す波長フィルタ 25を ,波長フィルタ選択手段 23により選択して干渉計測を行う。

[0033] これにより，図 4b,図 4cに示したように，コントラストが良好な干渉縞画像を得ることが可能となる。また単一波長の光を使った干渉ではなく，複数の波長域 A, Bを選択使用して，干渉を行うような場合，図 5Cに示すように，波長と反射率分布グラフにおいて，使用する複数の波長域 A, Bにより平均的にコントラストが向上するような波長フィルタのペアを自動的に選ぶようにする。

[0034] 図 5Cの例は 2波長 A, Bの場合である。また例えば垂直走査干渉法のように，白色光源のような広帯域の波長域を持つ照明光を使用する場合，図 5Dに示すように不要反射の多い波長領域 X, Y, Zをカットするフィルタを使用することで干渉縞コントラストを改善することも可能となる。 [0035] 上記の様な本発明原理により，主に可視光を反射する特性を持った光学薄膜 11a (図 3B参照）が成膜された光学窓越しであっても，コントラストの高い干渉縞が取得可能となる。

[実施例]

図 6は，上記図 5A〜5Dを用いて説明した本発明原理に従う，本発明の実施例の干渉計測装置を示す図である。

[0036] キセノン光源などの広帯域な波長分布を持つ照明装置 1から出射した光をライトガイド 2で，波長フィルタ選択手段（フィルタチェンジャ） 23により選択された一のフィルタ 25に導き，計測に使用する波長を選択する。

[0037] 選択した波長光をハーフミラー 4により計測対象 10方向に導き，干渉対物レンズ 9 で計測対象 10と参照ミラー 8の干渉縞を発生させる。干渉対物レンズ 9は計測対象 1 0と参照ミラー 8に計測光を集光させるための結像レンズ 5と，計測光を計測対象 10と参照ミラー 8の方向に分割するためのハーフミラー 6,参照ミラー 8,光学窓 11による光学距離の増加を補償するための光学距離補償板 7,計測光を一時的に参照側光路で遮蔽する光路遮蔽板 36から構成される。

[0038] 計測対象 10と参照ミラー 8および光学窓 11から反射した光は再びノヽーフミラー 6で重なり干渉が生じる。結像レンズ 15で結像させた干渉縞を CCDカメラ 16で撮像し P C (パーソナルコンピュータ） 17に記録する。 PC 17では CCDカメラ 16で撮像した干渉縞画像から干渉縞の解析を行い計測対象 10の表面形状を算出する。

[0039] 干渉縞力高精度に高さを算出する方法として公知の技術である位相シフト法を行う場合，ピエゾステージ 18で計測対象 10を垂直方向に一定距離動力しつつ複数の干渉縞画像を取得し，その複数の干渉縞画像から計測対象 10の表面形状を求める

[0040] 計測視野や計測対象の姿勢は粗動ステージ 20を用いて調整することができる。

[0041] フィルタチェンジャ 23には，あら力じめ中心波長の異なる複数の挟帯域波長選択フイノレタ 25をセッ卜してお

[0042] 図 7は力かる挟帯域波長選択フィルタ 25の選択方法の一例フローである。最初に使用する波長選択フィルタ 25を光路 3上にセットする (ステップ Sl)。干渉縞画像を取得し (ステップ S 2) ,視野の所定領域あるいは全体における干渉縞コントラストの平均 Εを算出する (ステップ S3)。

[0043] 干渉縞コントラストの空間平均 Εがあら力じめ設定した閾値 Τ以下の場合 (ステップ S 4, NO) ,フィルタチェンジャ 23にセットされている別の波長選択フィルタ 25に変更して (ステップ S6, NO, S7) ,初めと同様に干渉縞コントラスト平均 Eを閾値 Tと比較する。

[0044] もし干渉縞コントラスト平均 Eが閾値 Tより大きい場合 (ステップ S4, YES)にはコントラストが干渉縞解析に十分であるとして取得した干渉画像から計測対象 10の表面形状を算出する (ステップ S5)。閾値 Tとして例えば 0. 1を設定すれば計測可能な干渉縞が得られると考えられる。

[0045] 全ての波長選択フィルタ 25に対して閾値 T以上のコントラストが得られない場合 (ステツプ S6, YES)には，フィルタチェンジャー 23にセットした波長選択フィルタ 25では計測が不可能として， PC17のモニター力も作業者にメッセージを送る。

[0046] 図 7に示した波長選択の方法の他に，光路遮蔽板 36で一時的に計測対象 10と光学窓 11からの反射光のみを，ハーフミラー 12及び結像レンズ 13で分光器 14に集光し，光学窓 11の分光特性を評価した結果力最良な波長選択フィルタ 25の組み合わせを決定するようにしてもょ、。

[0047] また，その他の波長選択方法として，光学窓 11からの反射特性がデータとしてあら力じめ分力つている場合には， PC 17に特性データを入力し，そのデータを基に最適な波長選択フィルタを選択してもよヽ。

[0048] 図 5Cに示したように複数波長の選択を行う場合には，図 8,図 9の構成の光学系を使用する。すなわち， 2つの波長の干渉縞をそれぞれ独立して取得する場合は図 8 の構成が使用でき，ハーフミラー 35を含む光学系により中心波長 Aの波長選択フィルタ 25で干渉縞を取得後，別の中心波長 Bに変更して再度干渉縞を取得する。

[0049] 2つの異なる波長が混じった光源が必要な場合は図 8において，光源 1の他に別の光源 1— 2,ライトガイド 2— 2,フィルタチェンジャ 23— 2,波長選択フィルタ 23— 2を用意し，ハーフミラー 34, 35を使用して複数波長が混じった計測光を作る。

[0050] 2以上の波長を使用する場合も上記 2つの波長の場合と同様に光源，あるいは波長選択フィルタの変更回数を増やせばょヽ。

[0051] 図 5Dに示したように広帯域波長のうち複数の波長帯域 X, Υ, Zをカットしたい場合は一つの光源に対して同時に複数の波長をカットする必要がある。この場合は図 9に示すように光路 3上に複数の波長カットフィルタを配置できるそれぞれフィルタ 27を有する多連のフィルタチェンジャ 26を使用すればよい。図 9は同時に 3つの波長域を力ットすることができる伊 1である。

[0052] PC17は計測対象の位置や姿勢を変えるための粗動ステージコントローラ 21,高精度位相シフト法を行う際に使用するピエゾステージコントローラ 19により，それぞれ粗銅ステージ 20及びピエゾステージ 18を制御する。さらに，必要な波長を選択するためのフィルタチェンジャコントローラ 24,波長選択フィルタ 25を切り替える場合に変化する光量を適切に保っための照明コントローラ 22をそれぞれ制御しながら計測を行

[0053] また，波長選択フィルタ 25は可視光帯域のみでなく，例えば計測光に赤外や紫外領域の帯域の光を使用してもよい。

[0054] ここで，上記説明では波長選択を行うために，照明光源として広帯域波長分布の照明装置 1の光源と波長選択フィルタ 25を使用する例を説明したが，図 10に示すように，照明光源として中心波長の異なる発光素子として LED28を複数個用意し，波長を切り替えたい場合には使用する LED28を LEDコントローラ 29で発光させて切り替えるようにしてもよい。選択された波長の LEDの発光は，ステージコントローラ 31によりハーフミラー 4に合わせされる。

産業上の利用可能性

[0055] 上記に説明したように，光学薄膜が成膜された光学窓越しの干渉計測を行う場合において，光学薄膜からの反射光が少ない波長を計測光として使用することにより，コントラストの高、干渉縞を取得することができ，その結果計測ノイズが減少した高精度な表面形状計測が可能となり，産業上寄与するところ大である。

Claims

請求の範囲

[1] 光学薄膜が形成された光学窓で保護された計測対象の表面形状を計測する干渉計測装置であって，

広帯域な波長分布特性を有する光を出力する照明装置と，

前記照明装置から出力される光を入力し，中心波長の異なる複数の波長フィルタを切り替え可能で，少なくとも一の波長光を選択出力する，波長フィルタ選択手段と，前記波長フィルタ選択手段により選択された波長光を参照光と，前記計測対象向力う照射光とに分岐し，更に前記照射光による前記計測対象からの反射光と前記参照光による干渉光を生成出力するハーフミラーを有し，

前記波長フィルタ選択手段は，前記ハーフミラーからの干渉光における干渉縞のコントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択する，ように構成されたことを特徴とする干渉計測装置。

[2] 請求項 1において，

前記波長フィルタ選択手段は，複数の波長光を選択出力し，

前記複数の波長光における干渉光の干渉縞の平均的コントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択する，ことを特徴とする干渉計測装置。

[3] 請求項 1において，

前記波長フィルタ選択手段は，現在選択中の波長フィルタで取得した干渉縞コントラストを空間的に平均した値が所定の閾値以下である場合，別の波長フィルタを選択し，干渉縞コントラストが所定の閾値以上となる波長フィルタの組み合わせを選択することを特徴とする干渉計測装置。

[4] 請求項 1において，

さらに，分光器を備え，前記参照光を遮蔽した状態で，前記光学窓からの反射特性を評価し，前記波長フィルタ選択手段は，前記分光器により評価される反射特性に基づき，最適な波長フィルタの選択を行うことを特徴とする干渉計測装置。

[5] 請求項 4において，

前記分光器における反射特性の評価を制御 PCに入力し，該 PCにより，前記反射特性の評価データに基づき，前記波長フィルタ選択手段に最適な波長選択フィルタを選択させることを特徴とする干渉計測装置。

[6] 請求項 1において，

前記複数の波長フィルタは，それぞれ中心波長の異なる波長カットフィルタであつて，

前記波長フィルタ選択手段により選択された波長カットフィルタにより波長成分の除去された光を前記ハーミラーに入力することを特徴とする干渉計測装置。

[7] 請求項 1において，

前記照明装置は，それぞれ中心波長の異なる発光を出力する複数の発光ダイォ一ドとを有し，

前記波長フィルタ選択手段は，前記少複数の発光ダイオードの少なくとも一つの発光ダイオードを選択駆動して，前記選択駆動される発行ダイオードからの対応する一の波長光を選択出力することを特徴とする干渉計測装置。

[8] 光学薄膜が形成された光学窓で保護された計測対象の表面形状を計測する干渉計測方法であって，

広帯域な波長分布特性を有する光を波長フィルタ選択手段に入力し，前記し波長フィルタ選択手段により，少なくとも一の波長光を選択出力し，前記選択された波長光を参照光と，前記計測対象向かう照射光とに分岐し，更に前記照射光による前記計測対象からの反射光と前記参照光による干渉光を生成し，

前記波長フィルタ選択手段は，前記ハーフミラーからの干渉光における干渉縞のコントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択する，ことを特徴とする干渉計測方法。

[9] 請求項 8において，

前記波長フィルタ選択手段により，複数の波長光を選択出力し，

前記複数の波長光における干渉光の干渉縞の平均的コントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択する，

ことを特徴とする干渉計測方法。

[10] 請求項 8において，

前記波長フィルタ選択手段により，現在選択中の波長フィルタで取得した干渉縞コントラストを空間的に平均した値が所定の閾値以下である場合，別の波長フィルタを選択し，干渉縞コントラストが所定の閾値以上となる波長フィルタの組み合わせを選択することを特徴とする干渉計測方法。

[11] 光学薄膜が形成された光学窓で保護された光学部品の表面形状を計測する工程を有してなり、該光学部品を製造する方法であって，該表面形状を計測する工程は，広帯域な波長分布特性を有する光を波長フィルタ選択手段に入力し，前記し波長フィルタ選択手段により，少なくとも一の波長光を選択出力し，前記選択された波長光を参照光と，前記光学部品に向かう照射光とに分岐し，更に前記照射光による前記光学部品からの反射光と前記参照光による干渉光を生成し，

前記波長フィルタ選択手段は，前記ハーフミラーからの干渉光における干渉縞のコントラストが所定閾値以上若しくは最大となる波長フィルタの組み合わせを選択する，ことを特徴とする光学部品の製造方法。

[12] 請求項 11において，

ことを特徴とする光学部品の製造方法。

[13] 請求項 11において，

前記波長フィルタ選択手段により，現在選択中の波長フィルタで取得した干渉縞コントラストを空間的に平均した値が所定の閾値以下である場合，別の波長フィルタを選択し，干渉縞コントラストが所定の閾値以上となる波長フィルタの組み合わせを選択することを特徴とする光学部品の製造方法。