WO2006136334A3 - Materiau de depot electrolytique, procede permettant de former une couche anticorrosion de tio2 sur un substrat electroconducteur et substrat metallique recouvert d'une couche de tio2 - Google Patents

Materiau de depot electrolytique, procede permettant de former une couche anticorrosion de tio2 sur un substrat electroconducteur et substrat metallique recouvert d'une couche de tio2 Download PDF

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Subbian Karuppuchamy
Naoki Suzuki
Seishiro Ito
Matthias Schweinsberg
Hans Dolhaine
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Henkel Kgaa
Subbian Karuppuchamy
Naoki Suzuki
Seishiro Ito
Matthias Schweinsberg
Hans Dolhaine
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Abstract

La présente invention concerne un matériau de dépôt électrolytique destiné au dépôt électrochimique d'une couche anticorrosion de TiO2 sur un substrat électroconducteur, lequel matériau comprend un composé titane, un agent complexant, de l'eau et, facultativement, un accélérateur, des solvants organiques, des agents de tamponnage et un ou plusieurs additifs, caractérisé en ce que le composé titane est un sulfate de titanyle et/ou un oxalate de titanyle, en ce que l'agent complexant est choisi dans le groupe composé de l'acide gluconique, des gluconates, des acides polyhydroxy-polycarboniques, de l'éthylènediaminetétraacétate, du méthylglycinediacétate, de l'iminodisuccinate, de l'acide nitrilotriacétique et du nitrilotriacétate, de la triéthanolamine, de l'acide phosphonique et des phosphonates, de l'acide poly-aspartique et des polyaspartates, de l'acide polyacrylique et des polyacrylates, et en ce que l'accélérateur est choisi dans le groupe composé des hydroxylamines et de leurs dérivés, des nitrates, du H2O2 et des peroxydes organiques. L'invention se rapporte en outre à un procédé permettant de former une couche anticorrosion de TiO2 sur un substrat électroconducteur, et à un substrat métallique recouvert d'une couche de TiO2.
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