WO2006115182A1 - 超音波モータおよび超音波モータの製造方法 - Google Patents

超音波モータおよび超音波モータの製造方法 Download PDF

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Masaya Iwaki
Koji Akashi
Norimichi Anazawa
Ken-Ichi Kobayashi
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Holon Co Ltd
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    • Y10T29/42—Piezoelectric device making

Definitions

  • the present invention relates to an ultrasonic motor having a stator having a piezoelectric element for applying a predetermined ultrasonic voltage to move the rotor in a certain direction, and a rotor fixed to the stator by a frictional force, and
  • the present invention relates to a method for manufacturing an ultrasonic motor.
  • ultrasonic motors have been increasingly used to drive stages. This is thought to be due to the fact that the ultrasonic motor has two major features, that is, its ability to achieve a minute drive of lnm and its high position holding capability when stopped. There is no knock lash like the ball screw screw stage drive mechanism.
  • An ultrasonic motor is composed of a stator that generates vibrations of a predetermined phase and a rotor that moves due to the vibrations.
  • the stator and the rotor are held in place with high accuracy by the frictional force.
  • the generated friction powder adheres to the LSI mask mounted on the stage composed of the ultrasonic motor and becomes a contaminant, leading to a serious failure of the LSI mask.
  • the present invention improves the wear resistance of the contact portion and makes the hardness different by irradiating ions on at least one contact portion of the stator and rotor constituting the ultrasonic motor.
  • the purpose is to reduce dust generation.
  • the present invention improves the wear resistance of the contact portion of the stator and rotor when the ultrasonic motor is driven by irradiating at least one contact portion of the stator and rotor constituting the ultrasonic motor with ions. In addition, it is possible to reduce dust generation by making the hardness of the two different.
  • the present invention aims to reduce dust generation by improving the wear resistance and different hardness by irradiating at least one contact portion of the stator and rotor constituting the ultrasonic motor with ions. Is possible.
  • FIG. 1 shows an explanatory diagram of the present invention.
  • FIG. 1 (a) schematically shows an example of ion irradiation of the rotor 1.
  • FIG. 1 (a) schematically shows an example of ion irradiation of the rotor 1.
  • a rotor 1 is obtained by removing the rotor 1 constituting the ultrasonic motor.
  • the rotor 1 is an ultra-drive that drives the stage mechanism 4 in Fig. 4 (a) described later. This is rotor 1 of the sonic motor.
  • the rotor 1 is also formed of a ceramic force such as alumina, and the portion of the rotor 1 that contacts the stator 2 (the portion that is irradiated with ions) is processed extremely flat.
  • the rotor 1 and the stator 2 have a force that generates a ceramic isotropic force.
  • Altic (Al O—TiC) ceramics for higher wear resistance
  • Altic means Al O is 20 wt% or more and 80 wt% or less
  • an ion implantation region (depth direction) is set to a region of about several hundred nm force several tens; z m, and ions are implanted into the region.
  • the ion to be implanted is not limited as long as it has improved wear resistance, but one or more of nitrogen, carbon, boron, titanium, argon, chromium, nickel, copper, indium, silver, molybdenum, or a compound thereof.
  • nitrogen or argon the wear resistance of the contact portion of the rotor 1 and the stator 2 could be improved.
  • FIG. 1 (b) schematically shows an example of ion irradiation of the stator 2.
  • the stator 2 is obtained by taking out the stator 2 constituting the ultrasonic motor.
  • the ultrasonic motor for driving the stage mechanism 4 in FIG. This is the stator 2.
  • the stator 2 is usually made of alumina, and the portion in contact with the rotor 1 (the portion irradiated with ions) is covered with a very smooth force.
  • An ion implantation region (depth direction) is set to a region of about several hundreds of nanometers and several tens of meters, and ions are implanted into the region where the illustrated stator 2 is in contact with the mouth 1.
  • the ions to be implanted are, for example, one or more of nitrogen, carbon, boron, titanium, argon, chromium, nickel, copper, indium, silver, molybdenum, or a compound thereof. If it improves, it will not be restricted to this.
  • FIG. 1 (c) shows an example of an ion irradiation apparatus.
  • the ion irradiation device 21 is a device for driving ions into the contact portion of the rotor 1 in FIG. 1 (a) or the stator 2 in FIG. 1 (b). And the force such as irradiation room is also constructed.
  • the preliminary exhaust chamber 22 is a chamber in which the rotor 1 and the stator 2 in the atmosphere (in the clean room) are placed and preliminarily evacuated, and is preliminarily evacuated from the atmosphere to a predetermined pressure with an oil-free pump. After preliminary evacuation, the rotor 1 or the stator 2 is transported into the sample chamber of the main body of the ion irradiation device 21 and fixed to the stage 25 by a robot mechanism (not shown).
  • the ion source 23 generates ions.
  • the ion pump 24 is a pump that exhausts the inside of the ion irradiation device 21 to a clean high vacuum.
  • the stage 25 is a moving table for fixing ions to the rotor 1, the stator 2, and the like and irradiating ions to an arbitrary place by scanning.
  • the oil-free pump 26 is an oil-free pump that evacuates from atmospheric pressure to a predetermined pressure, and is a molecular pump or the like.
  • the rotor 1 in Fig. 1 (a) or the stator 2 in Fig. 1 (b) is preliminarily removed.
  • the sample is transported and fixed on the stage 25 in the sample chamber of the ion irradiation device 21.
  • the contact portion of the rotor 1 in FIG. 1 (a) or the stator 2 in FIG. 1 (b) fixed on the stage 25 is discharged from the ion source 23.
  • the ions are accelerated at a predetermined high pressure and ion implantation is performed for a predetermined time at the contact portion of the rotor 1 or the stator 2 (detailed in the flowchart of FIG. 2). Transfer the rotor 1 or stator 2 to the preliminary exhaust chamber 22, take it out into the atmosphere (in a clean room), and complete a series of ion irradiation.
  • FIG. 2 shows a flowchart for explaining ion irradiation according to the present invention.
  • S1 is rotor processed.
  • the rotor 1 shown in FIG. 1A is processed as the rotor 1 constituting the ultrasonic motor.
  • S2 sets the rotor in the irradiation chamber. This is because the rotor 1 in FIG. 1 (a) that was covered in S1 is placed in the preliminary exhaust chamber 22 of the ion irradiation device 21 in FIG. Move to the stage 25 in the irradiation chamber and fix it.
  • S3 exhausts. After setting the stage 25 in the irradiation chamber in S2, exhaust the ion pump 24 sufficiently.
  • S4 sets irradiation conditions. This is because, for example, the irradiation conditions for ion irradiation are as follows: • Irradiation ion acceleration voltage: IKeV to several hundred KeV
  • Ion species Ions of nitrogen, carbon, boron, titanium, argon, chromium, nickel, copper, indium, silver, molybdenum or their compounds
  • ion irradiation is performed. This is automatically controlled by a computer based on the conditions set in S4, and ion contact is applied to the contact part of rotor 1 or stator 2 fixed on stage 25. Shoot.
  • S6 takes out the rotor 1. This is because the rotor 1 that has completed the ion irradiation in S5 is taken out (the rotor 1 is once put into the preliminary exhaust chamber from above the stage 25 in FIG. 1 (c), and then only the preliminary exhaust chamber is equal to the atmospheric pressure. And take it out outside (clean room)).
  • the rotor 1 of FIG. 1 (a) (or the stator 2 of FIG. 1 (b)) is set in the irradiation chamber, irradiated with ions, and taken out to remove the rotor constituting the ultrasonic motor. 1 or the contact portion of the stator 2 can be irradiated with ions.
  • FIG. 3 shows an explanatory diagram of the present invention.
  • Fig. 3 (a) shows an example of a qualitative relationship curve of the relative wear amount with respect to the ion implantation amount.
  • the horizontal axis represents the ion implantation amount
  • the vertical axis represents the relative wear amount.
  • FIG. 3 (b) shows an example of a qualitative relationship curve of relative hardness with respect to relative wear.
  • the horizontal axis represents the relative hardness, and the vertical axis represents the relative wear amount.
  • This is a qualitative representation of rotor 1 as shown in Fig. 3 (a) by measuring the relationship between the relative amount of wear and the relative hardness at that time.
  • the amount of wear of the stator 2 and the rotor 1 can be reduced by irradiating at least the contact portion of the stator 2 and the rotor 1 with different hardnesses.
  • the hardness is Vickers hardness (Hv), which can be measured according to JIS R 1601-1999, and the wear amount is the arithmetic average height (Ra ) In accordance with JIS B 0601-2001.
  • FIG. 4 shows an example stage of the present invention.
  • FIG. 4 (a) schematically shows a state in which an ultrasonic motor is attached to the stage mechanism 4.
  • FIG. 4 When high frequency voltages of SIN cot and COS cot shown in the figure are applied to the piezoelectric ceramic, when the piezoelectric ceramic expands and the stator 2 is fixed, the rotor 1 that is in contact with the flat frictional force is moved to the right or left. It can be moved (a known movement method).
  • FIG. 4B shows a cross-sectional view of a part of the rotor 1 and the stator 2 taken out.
  • ions 11 are implanted in the portion where the rotor 1 contacts the stator 2, and the wear resistance of the portion is improved, so that dust generation from the contact portion is reduced. It is possible to do this.
  • the present invention relates to an ultrasonic motor for reducing dust generation by irradiating at least one contact portion of a stator or rotor constituting an ultrasonic motor with ions to improve wear resistance or different hardness. And an ultrasonic motor manufacturing method.
  • FIG. 1 is an explanatory diagram of the present invention.
  • ⁇ 2 Ion irradiation explanation flow of the present invention.
  • FIG. 3 An illustration of the present invention.
  • FIG. 4 is an example stage of the present invention. Explanation of symbols

Landscapes

  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)

Abstract

【目的】本発明は、所定の超音波電圧を印加して一定方向にロータを移動させるための圧電素子を有するステータと、摩擦力で前記ステータに固定する前記ロータとを有する超音波モータおよび超音波モータの製造方法に関し、超音波モータを構成するステータ、ロータの少なくとも一方の接触部分にイオン照射して耐摩耗性を向上や硬さを異ならせるなどし発塵の低減を図ることを目的とする。 【構成】ステータとロータの接触部分のいずれか一方あるいは両方にイオン照射して当該接触部分の耐磨耗性を向上させたことを特徴とする超音波モータである。

Description

明 細 書
超音波モータおよび超音波モータの製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、所定の超音波電圧を印加して一定方向にロータを移動させるための圧 電素子を有するステータと、摩擦力でステータに固定するロータとを有する超音波モ ータおよび超音波モータの製造方法に関するものである。
背景技術
[0002] 近年、半導体分野では、ステージの駆動に、超音波モータの利用が多くなつてきた 。これは、超音波モータがその性質上、 lnmという微細な駆動を実現できること、およ び停止時の位置保持能力が高いという 2つの大きな特徴を持っているからであると考 えられている。ボールスクリューネジのステージ駆動機構のような、ノ ックラッシュがな い。
[0003] 超音波モータは、所定の位相の振動を生成するステータと、その振動により移動す るロータとから構成されて 、る。ステータとロータとは摩擦力によって所定位置に精度 良好に保持される。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] 超音波モータの原理機構から、ステータに所定位相の振動を与えてロータを移動さ せたときに摩擦粉が発生し、当該摩擦粉がロータとステータとの間に入り込み、移動 精度劣化を生じさせてしまうと 、う問題があった。
[0005] また、発生した摩擦粉は、超音波モータで構成するステージに搭載した LSIマスク などに付着して汚染物となり、当該 LSIマスクの重大障害につながるという問題があ つた o
課題を解決するための手段
[0006] 本発明は、これらの問題を解決するため、超音波モータを構成するステータ、ロー タの少なくとも一方の接触部分にイオン照射して当該接触部分の耐摩耗性を向上や 硬さを異ならせるなどし発塵の低減を図ることを目的としている。 発明の効果
[0007] 本発明は、超音波モータを構成するステータ、ロータの少なくとも一方の接触部分 にイオン照射したことにより、超音波モータを駆動させた際のステータ、ロータの接触 部分の耐摩耗性を向上させ、また、両者の硬度を異ならせることにより、発塵の低減 を図ることができる。
発明を実施するための最良の形態
[0008] 本発明は、超音波モータを構成するステータ、ロータの少なくとも一方の接触部分 にイオン照射したことにより、耐摩耗性を向上や硬さを異ならせることにより、発塵の 低減を図ることが可能となる。
実施例 1
[0009] 図 1は、本発明の説明図を示す。
図 1の（a)はロータ 1のイオン照射の例を模式的に示す。
[0010] 図 1の（a)において、ロータ 1は、超音波モータを構成するロータ 1を取り出したもの であって、ここでは、後述する図 4の（a)のステージ機構 4を駆動する超音波モータの ロータ 1である。ロータ 1は、アルミナ等のセラミックス力も形成され、ロータ 1のうちステ ータ 2に接触する部分 (イオン照射する部分）は、極めて平坦に加工されている。
[0011] ロータ 1およびステータ 2は、セラミックス等力も形成される力 特に、アルミナ (Al O
2 3
)やアルチック (Al O—TiC)からなるセラミックスで形成することでより耐摩耗性を高
2 3
くすることができる。ここで、アルチックとは、 Al Oは 20重量％以上、 80重量％以下
2 3
および TiCを 20重量％以上、 80重量％以下の範囲で有するセラミックスを言う。
[0012] 図示のロータ 1がステータ 2に接触する部分に、イオン打ち込み領域 (深さ方向）とし て約数百 nm力 数十; z m程度の領域とし、当該領域内にイオンを打ち込む。打ち込 むイオンとしては、耐摩耗性が向上するものあればいいが、窒素、炭素、ホウ素、チタ ン、アルゴン、クロム、ニッケル、銅、インジウム、銀、モリブデンあるいはその化合物 のいずれか 1つ以上であって、例えば窒素またはアルゴンを用いることにより、ロータ 1、ステータ 2の接触部分の耐摩耗性を向上させることができた。
[0013] なお、ロータ 1、ステータ 2の接触部分は、ロータ 1、ステータ 2の表面をォージェ電 子分光分析 (AES)により、表面力 深さ方向へのイオン照射の有無を確認すること ができる。
[0014] 図 1の (b)はステータ 2のイオン照射の例を模式的に示す。
図 1の (b)において、ステータ 2は、超音波モータを構成するステータ 2を取り出した ものであって、ここでは、後述する図 4の（a)のステージ機構 4を駆動する超音波モー タのステータ 2である。ステータ 2は、通常、アルミナで作成され、ロータ 1に接触する 部分 (イオン照射する部分）は極めて滑ら力にカ卩ェされている。図示のステータ 2が口 ータ 1に接触する部分に、イオン打ち込み領域 (深さ方向）として約数百 nm力 数十 m程度の領域とし、当該領域内にイオンを打ち込む。打ち込むイオンとしては、例 えば窒素、炭素、ホウ素、チタン、アルゴン、クロム、ニッケル、銅、インジウム、銀、モ リブデンあるいはその化合物のいずれか 1つ以上であって、これ以外でも、耐摩耗性 が向上するものあればこれに限られることはない。
[0015] 図 1の（c)はイオン照射装置の例を示す。
図 1の（c)において、イオン照射装置 21は、イオンを図 1の（a)のロータ 1、あるいは 図 1の（b)のステータ 2の接触部分に打ち込む装置であって、予備排気室 22および 照射室など力も構成されるものである。
[0016] 予備排気室 22は、大気中（クリーンルーム中）にあるロータ 1、ステータ 2を入れて予 備真空排気する部屋であって、オイルフリーポンプで大気中から所定圧力まで予備 真空排気する。予備真空排気した後、ロータ 1あるいはステータ 2は、図示外のロボッ ト機構により、イオン照射装置 21の本体の試料室内に搬送し、ステージ 25に固定す る。
[0017] イオン源 23は、イオンを発生するものである。
イオンポンプ 24は、イオン照射装置 21の内部をクリーンな高真空に排気するボン プである。
[0018] ステージ 25は、イオン照射するロータ 1、ステータ 2などを固定し、走査などして任 意の場所にイオン照射するための移動台である。
[0019] オイルフリーポンプ 26は、オイルフリーのポンプであって、大気圧から所定圧力ま で真空引きするポンプであり、モレキュラーポンプなどである。
[0020] 以上の構成のもとで、図 1の（a)のロータ 1あるいは図 1の（b)のステータ 2を予備排 気室 22に入れて予備排気した後、イオン照射装置 21の試料室内のステージ 25上に 搬送して固定する。そして、イオンポンプ 24で十分な真空排気した後、ステージ 25 上に固定した図 1の（a)のロータ 1あるいは図 1の（b)のステータ 2の接触部分につい て、イオン源 23から放出されたイオンを所定高圧で加速してロータ 1あるいはステー タ 2の接触部分に所定時間、イオン打ち込みを行う（図 2のフローチャートで詳述する ) oイオン打ち込みを終了した後、ステージ 25上に固定したロータ 1あるいはステータ 2を予備排気室 22に搬送し、大気中（クリーンルーム中）に取り出し、一連のイオン照 射を完了する。
[0021] 次に、図 2のフローチャートの順番に従い、図 1の（c)のイオン照射装置を用いたと きの図 1の（a)のロータ 1あるいは図 1の（b)のステータ 2のイオン照射するときの手順 を詳細に説明する。
[0022] 図 2は、本発明のイオン照射説明フローチャートを示す。
図 2において、 S1は、ロータ加工する。これは、超音波モータを構成するロータ 1と して、例えば図 1の（a)のロータ 1を加工する。
S2は、ロータを照射室にセットする。これは、 S1でカ卩ェした図 1の（a)のロータ 1に ついて、図 1の (c)のイオン照射装置 21を構成する予備排気室 22に入れて予備排 気した後、本体側の照射室内のステージ 25上に移動して固定しセットする。
[0023] S3は、排気する。 S2で照射室内のステージ 25にセットした後、イオンポンプ 24で 十分に排気する。
[0024] S4は、照射条件をセットする。これは、イオン照射する照射条件として、例えば •照射イオン加速電圧 ： IKeV〜数百 KeVの所定電圧
'イオン照射密度 ：10〜102°ionsZcm2
•イオン種 ：窒素、炭素、ホウ素、チタン、アルゴン、クロム、ニッケル、 銅、インジウム、銀、モリブデンあるいはその化合物のイオン
•照射方法 ：全面照射ある!、は走査照射
•打ち込みの深さ (計算値）：数百 nm〜数十 μ m程度
S5は、イオン照射する。これは、 S4でセットした条件をもとに、コンピュータが自動 制御し、ステージ 25上に固定したロータ 1あるいはステータ 2の接触部分にイオン照 射する。
[0025] S6は、ロータ 1を取り出す。これは、 S5でイオン照射を終了したロータ 1を取り出す ( 図 1の（c)のステージ 25上から予備排気室に一旦、ロータ 1を入れた後、当該予備排 気室のみ大気圧に等しく空気を入れ、外部（クリーンルーム）中に取り出す)。
[0026] S7は、完成する。
以上の手順によって、図 1の（a)のロータ 1 (ある 、は図 1の（b)のステータ 2)を照射 室にセットしてイオン照射し、取り出すことにより、超音波モータを構成するロータ 1あ るいはステータ 2の接触部分にっ 、てイオン照射することが可能となる。
[0027] ここで、本発明のロータ 1およびステータ 2のイオン照射の有無による耐磨耗性の評 価試験を行った。アルミナカゝら形成したロータ 1およびステータ 2を準備し、ステータ 表面に以下の照射条件にてイオン照射した。
[0028] ·照射イオン加速電圧 : 80KeV
'イオン照射密度 ： 5 X 1016ions/cm2
•イオン種 ：窒素
•照射方法 ：走査照射
'打ち込みの深さ（計算値）：63. 4 m
そして、回転速度 50mmZs、ロータ 1に対するステータ 2の押圧力 3Nとして lOKm の走行距離で駆動試験を行った。その後、ロータ 1およびステータ 2の各試料の表面 における 2 m2の領域、 10ケ所の算術平均高さ Raを JIS B 0601— 2001に準拠 して測定し、その平均値を算出した。その結果、ステータ 2の接触部分にイオン照射 した場合、ロータ 1およびステータ 2にイオン照射しない場合に比べ、磨耗量を約 45 %以下まで低減することができた。
[0029] 図 3は、本発明の説明図を示す。
図 3の（a)は、イオン打ち込み量に対する相対的磨耗量の定性的な関係曲線の一 例を示す。横軸はイオン打ち込み量を表し、縦軸は相対的磨耗量を表す。実験では 、イオン打ち込み量が小、中、大としたとき、相対的磨耗量について図示のように徐 々に小さくなる場合と、徐々に小さくなつた後に大きくなつてしまう場合とがあった。し たがって、相対的磨耗量が可及的に小さい、最適なイオン打ち込み量を実験で求め て決定すればよい。なお、各相対的磨耗量とは図 3 (a)においてイオン打ち込み量が 0の場合の相対的磨耗量を 1としたときの値である。
[0030] 図 3の (b)は、相対的磨耗量に対する相対的硬さの定性的な関係曲線の一例を示 す。横軸は相対的硬さを表し、縦軸は相対的磨耗量を表す。これは、ロータ 1につい て、図 3の (a)で、相対的磨耗量と、そのときの相対的硬さとの関係を測定して定性的 に表したものである。
[0031] 従って、相対的硬さが硬くなるに従い、ここでは、相対的磨耗量が小さくなるという 結果が得られた。
[0032] また、前記ステータ 2と前記ロータ 1の少なくとも接触部分にイオン照射したことによ り両者の硬度を異ならせることで、ステータ 2、ロータ 1の磨耗量を低減することができ る。なお、ここでいう硬度とは、ビッカース硬度（Hv)であり、 JIS R 1601— 1999に 準拠して測定することができ、また、磨耗量は、上述の実験例に示す算術平均高さ（ Ra)を JIS B 0601— 2001に準拠して測定することで求めることができる。
[0033] 図 4は、本発明のステージ例を示す。
図 4の (a)は、ステージ機構 4に超音波モータを取り付けた様子を模式的に示す。 圧電セラミックに図示の SIN co t, COS co tの高周波電圧を印加すると、当該圧電セ ラミックが伸張してステータ 2を固定すると、平坦に摩擦力で接しているロータ 1を右 方向あるいは左方向に移動させることが可能となる (公知の移動方法)。
[0034] 図 4の（b)は、ロータ 1とステータ 2の一部を取り出した断面図を示す。ここで、本 願発明では、ロータ 1がステータ 2と接触する部分に、イオン 11を打ち込んであり、当 該部分の耐摩耗性が向上しているので、当該接触する部分からの発塵を低減するこ とが可能となる。
産業上の利用可能性
[0035] 本発明は、超音波モータを構成するステータ、ロータの少なくとも一方の接触部分 にイオン照射して耐摩耗性を向上や硬さを異ならせるなどにより、発塵の低減を図る 超音波モータおよび超音波モータの製造方法に関するものである。
図面の簡単な説明
[0036] [図 1]本発明の説明図である。 圆 2]本発明のイオン照射説明フロ [図 3]本発明の説明図である。
[図 4]本発明のステージ例である。 符号の説明
1：ロータ
2:ステータ
3:圧電セラミック
4:ステージ機構
11:イオン
21:イオン照射装置
22:予備排気室
23:イオン源
24:イオンポンプ
25:ステージ
26:オイルフリーポンプ

Claims

請求の範囲
[1] 所定の超音波電圧を印カロして一定方向にロータを移動させるための圧電素子を有 するステータと、摩擦力で前記ステータに固定する前記ロータとを有する超音波モー タにおいて、
前記ステータと前記ロータの接触部分の 、ずれか一方ある 、は両方にイオン照射 して当該接触部分の耐磨耗性を向上させたことを特徴とする超音波モータ。
[2] 前記ステータと前記ロータの接触部分にイオン照射して当該接触部分の硬度を異 ならせて耐磨耗性を向上させたことを特徴とする請求項 1記載の超音波モータ。
[3] 前記イオン照射として、窒素、炭素、ホウ素、チタン、アルゴン、クロム、ニッケル、銅 、インジウム、銀、モリブデンあるいはその化合物のいずれか 1つ以上をイオン照射し たことを特徴とする請求項 1あるいは請求項 2記載の超音波モータ。
[4] 前記ロータおよびステータは、アルミナあるいはアルチック（Al O — TiC)からなる
2 3
ことを特徴とする請求項 1から請求項 3のいずれかに記載の超音波モータ。
[5] 所定の超音波電圧を印カロして一定方向にロータを移動させるための圧電素子を有 するステータと、摩擦力で前記ステータに固定する前記ロータとを有する超音波モー タの製造方法において、
前記ステータと前記ロータの接触部分の 、ずれか一方ある 、は両方にイオン照射 し、当該接触部分の耐磨耗性を向上させる超音波モータの製造方法。
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