WO2006070624A1

WO2006070624A1 - スチレン生成が抑制されるスチレン系エラストマー組成物

Info

Publication number: WO2006070624A1
Application number: PCT/JP2005/023227
Authority: WO
Inventors: Koichiro Ohara
Original assignee: Kaneka Corp
Current assignee: Kaneka Corp
Priority date: 2004-12-27
Filing date: 2005-12-19
Publication date: 2006-07-06
Anticipated expiration: 2007-06-27
Also published as: JPWO2006070624A1

Abstract

　混練時等の高温処理時のスチレン生成が抑制されるスチレン系エラストマー組成物を提供する。スチレン系エラストマー、並びに、リン系酸化防止剤、若しくは、リン系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物、又は、スチレン系エラストマー、並びに、リン－フェノール複合系酸化防止剤、若しくは、リン－フェノール複合系複合系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を含有してなるスチレン系エラストマー組成物。

Description

明細書

スチレン生成が抑制されるスチレン系エラストマ一組成物

技術分野

[0001] 本発明は、混練時等の高温処理時におけるスチレン系単量体の生成が抑制されるスチレン系エラストマ一組成物に関するものである。

背景技術

[0002] スチレン系エラストマ一をはじめとする、一般的なエラストマ一は、溶融成形可能なゴム状物質であり、射出成形、押出し成形、カレンダー成形等、通常用いられる成形法により成形することができる。また、具体的用途としてはエラストマ一材料、シール剤、改質剤、制振剤、粘着剤のベースポリマー、榭脂改質剤の成分として用いることができる。

[0003] スチレン系エラストマ一は、上記の様な用途に用いられる場合、通常は成形後の耐候性や耐熱性等の物性が良好であることが求められる。そのためにエラストマ一に対してその使用目的にあわせた安定剤を添加する例が報告されている。

[0004] 例えば、特許文献 1には、エラストマ一にフエノール系化合物と耐候剤（紫外線吸収剤や光安定剤）を加えて耐候性を向上させたエラストマ一組成物が開示されてヽる。

[0005] またエラストマ一の例ではな、が、特許文献 2には、シアンィ匕ビュル系単量体、芳香族ビニル系単量体、及び、メタクリル酸メチル等のこれらと共重合可能な他の単量体力ゝら構成されるゴム強化熱可塑性榭脂にフエノール系抗酸化剤とホスファイト系抗酸化剤をともに混合することにより透明性、耐薬品性、色調安定性及び加工時の熱安定性が均衡した榭脂組成物を作る方法が開示されている。

[0006] エラストマ一組成物に安定剤を添加する場合にはそれぞれの用途に適した品質となるよう、組成物毎に詳細なポリマー比率及び安定剤の配合比率の下で混合される。従来これらのエラストマ一組成物ゃ榭脂組成物は、工業製品等の工業用途において用いられることが多ぐこの場合においては、最終工業製品が耐候性や耐熱性等の物性のスペックを確保している限り、ベース榭脂そのものの劣化などが問題となることはほとんど無力つた。 [0007] しかしながら、昨今の巿場ニーズから、近年、スチレン系エラストマ一組成物の用途は広範囲にわたっており、工業用用途のみならず例えば食品容器や食品の包装等の食品関連用途としても用いられるようになって!/、る。食品関連用途にお!、ては工業製品等において重視された耐候性や耐熱性等の物性よりもむしろ安全性等が厳しく求められることから、ベース榭脂の劣化や分解等による樹脂からの化学物質の揮発や溶出は大きな問題となっている。そのような背景の下、残留モノマーに対する規制なども厳しくなりつつあり、特にエラストマ一組成物中に含まれる環境ホルモンの疑いのあるスチレンモノマーの揮発や溶出が問題となりつつある。このようなスチレンモノマーは混練時などの高温処理時に発生することが多いため、エラストマ一糸且成物中の残留スチレン濃度を低減するために、混練時など高温処理時のスチレン系単量体の生成が抑制されるスチレン系エラストマ一組成物を得るための技術確立が望まれていた。

特許文献 1 :特開 2001— 98163号公報

特許文献 2：特開 2002— 317093号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0008] 本発明は、混練時等の高温処理時のスチレン生成が抑制され、食品関連用途等にも好適に使用できる、スチレン系エラストマ一組成物を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0009] 本発明者らは、スチレン生成が抑制される、スチレン系エラストマ一組成物について鋭意検討した結果、本発明を完成した。すなわち本発明は次の発明に関する。

(1)スチレン系エラストマ一、並びに、リン系酸化防止剤、又は、リン系酸化防止剤及びフエノール系酸ィ匕防止剤を含有してなるスチレン系エラストマ一組成物。

(2)スチレン系エラストマ一、並びに、リンフエノール複合系酸ィ匕防止剤、又は、リンーフエノール複合系酸ィ匕防止剤及びフエノール系酸ィ匕防止剤を含有してなるスチレン系エラストマ一糸且成物。

(3)スチレン系エラストマ一がスチレン系単量体単位力なるブロック及び脂肪族ォレフィン系化合物単量体単位力なるブロックよりなるブロック共重合体である上記スチレン系エラストマ一糸且成物。

(4)ブロック共重合体中の脂肪族ォレフインィ匕合物よりなるブロックがイソブチレン単量体単位を主体とするブロックである上記スチレン系エラストマ一組成物。

(5)スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン系酸ィ匕防止剤を 0. 1から 5重量部含有する上記スチレン系エラストマ一組成物。

(6)スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン系酸ィ匕防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリン系酸ィヒ防止剤とフエノール系酸ィヒ防止剤とをこれらの合計部数が 5重量部以下となる量で含有する上記スチレン系エラストマ一組成物。

(7)スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン一フエノール複合系酸ィ匕防止剤を 0. 1から 5重量部含有する上記スチレン系エラストマ一組成物。

(8)スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン一フエノール複合系酸ィ匕防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が 5重量部以下となる量で含有する上記スチレン系エラストマ一糸且成物。

(9)リン系酸ィ匕防止剤がホスファイト系酸ィ匕防止剤である上記スチレン系エラストマ一組成物。

(10)フエノール系酸ィ匕防止剤がヒンダードフエノール系酸ィ匕防止剤である上記スチレン系エラストマ一糸且成物。

(11)混練時の温度が 150°C以上 300°C以下、混練時間 5分以上 30分以内の条件において製造される事を特徴とする上記スチレン系エラストマ一組成物。

発明の効果

[0010] 本発明のスチレン系エラストマ一糸且成物を用いる事により、混練時等の高温処理時のスチレン生成が抑制され、スチレン系エラストマ一糸且成物中の残留スチレン濃度を低減することができる。

発明を実施するための最良の形態

[0011] 以下に本発明を詳細に説明する。本発明における「スチレン系エラストマ一」とは、スチレン及びその誘導体のモノマー（以後「スチレン系単量体」と呼ぶ）を重合して得られる重合体ブロックを構成単位として含むブロック共重合体である。スチレン系エラストマーの原料として使用されるスチレン系単量体としては特に限定されないが、スチレン、 o—、 m—又は p—メチルスチレン、 α—メチルスチレン、 β—メチルスチレン、 2, 6 ジメチルスチレン、 2, 4 ジメチルスチレン、 α—メチルー ο—メチルスチレン、 α—メチルー m—メチルスチレン、 α—メチルー ρ—メチルスチレン、 β —メチル —ο—メチルスチレン、 j8—メチルー m—メチルスチレン、 j8—メチルー p—メチルスチレン、 2, 4, 6 トリメチルスチレン、 α—メチルー 2, 6 ジメチルスチレン、 α—メチルー 2, 4 ジメチルスチレン、 13ーメチルー 2, 6 ジメチルスチレン、 13 メチル - 2, 4ージメチノレスチレン、 ο—、 m—又は ρ—クロロスチレン、 2, 6 ジクロロスチレン、 2, 4 ジクロロスチレン、 α—クロロー o クロロスチレン、 α—クロロー m—クロ口スチレン、ひ一クロロー p—クロロスチレン、；8—クロロー o クロロスチレン、 β —クロ口一 m—クロロスチレン、 β—クロ口一 ρ クロロスチレン、 2, 4, 6 トリクロロスチレン、 α—クロロー 2, 6 ジクロロスチレン、 α クロロー 2, 4 ジクロロスチレン、 β —クロロ一 2, 6 ジクロロスチレン、 j8—クロ口一 2, 4 ジクロロスチレン、 o—、 m—又は p—t—ブチノレスチレン、 o—、 m—又は p—メトキシスチレン、 o—、 m—又は p—クロ口メチルスチレン、 o—、 m—又は p ブロモメチルスチレン、シリル基で置換されたスチレン誘導体等が挙げられる。更に好ましいスチレン系単量体としては、スチレン、 a ーメチルスチレン、 p—メチルスチレン力なる群力選ばれた 1種以上の単量体を使用することが好ましぐコストの面からスチレン、 aーメチルスチレン、あるいはこれらの混合物を用いることが特に好まし、。

[0012] 本発明におけるスチレン系エラストマ一は、スチレン系単量体とスチレン系単量体以外の単量体をブロック共重合させて得られたものである。このようなスチレン系単量体以外の単量体としては特に限定されな!、が、カチオン重合可能な単量体成分であることが好ましぐ好適な例としては脂肪族ォレフイン類、ジェン類、ビュルエーテル類、シラン類、ビュルカルバゾール、 13 ビネン、ァセナフチレン等の単量体が挙げられる。これらは 1種又は 2種以上組み合わせて使用される。

[0013] 上記脂肪族ォレフイン系単量体としては、エチレン、プロピレン、 1ーブテン、 2—メチルー 1ーブテン、 3—メチルー 1ーブテン、イソブチレン、ペンテン、へキセン、シク口へキセン、 4ーメチルー 1 ペンテン、ビュルシクロへキセン、オタテン、ノルボルネン等が挙げられる。

[0014] 上記ジェン系単量体としては、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタジェン、シクロへキサジェン、ジシクロペンタジェン、ジビュルベンゼン、ェチリデンノルボルネン等が挙げられる。

[0015] 上記ビュルエーテル系単量体としては、メチルビ-ルエーテル、ェチルビ-ルエーテル、（n—、イソ）プロピルビュルエーテル、（n—、 sec—、 tert—、イソ）ブチルビ- ノレエーテノレ、メチノレプロぺニノレエーテノレ、ェチノレプロぺニノレエーテノレ等が挙げられる。

[0016] 上記シラン化合物としては、ビュルトリクロロシラン、ビュルメチルジクロロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリメチルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジメチルシラン、 1, 3 ジビ二ルー 1, 1, 3, 3 テトラメチルジシロキサン、トリビュルメチルシラン、 γ—メタクリロィルォキシプロピルトリメトキシシラン、 γ—メタクリロイルォキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。

[0017] この中でも、本発明におけるスチレン系エラストマ一については、スチレン系単量体と脂肪族ォレフイン系単量体を共重合させて得られるブロック共重合体であるが好ましぐスチレン系単量体単位力なるブロック及び脂肪族ォレフイン系化合物単量体単位力もなるブロックよりなるブロック共重合体がより好ま、。また物性等が良好なことから、上記脂肪族ォレフイン系単量体単位からなるブロックがイソブチレン単量体単位を主体とするブロックであることが好まし、。

[0018] スチレン系単量体からなるブロック及びイソブチレン単量体単位を主体とするブロックからなるスチレン系エラストマ一の中でも特に、例えば α—クロルイソプロピルべンゼン、 1, 4 ビス —クロル—イソプロピル)ベンゼン等を開始剤兼連鎖移動剤とし、 BC1や TiClなどのルイス酸を触媒としてリビングカチオン重合を行うィ-ファー

3 4

法 (例えば米国特許第 4276394号公報に開示されている方法)を用いて、分子量が制御されたイソプチレンの重合体を形成させ、引き続きスチレン系単量体を添加して共重合させることで製造されるスチレン系エラストマ一が好適に適用できる。

[0019] またスチレン系単量体を重合することにより得られる重合体ブロックは、スチレン系単量体以外の単量体を含んでいても含んでいなくても良ぐ通常、スチレン系単量体を 60重量％以上、好ましくは 80重量％以上含有する単量体成分から構成される。スチレン系単量体以外の単量体としてはカチオン重合可能な単量体であれば特に制限はないが、例えば上記の脂肪族ォレフイン類、ジェン類、ビュルエーテル類、シラン類、ビュルカルバゾール、 13 ビネン、ァセナフチレン等の単量体が挙げられる。

[0020] スチレン系単量体を主体として構成される重合体ブロックとスチレン系単量体以外の単量体を主体として構成される重合体ブロックの割合に関しては、特に制限はな、力各種物性の面から、スチレン系単量体を主体として構成される重合体ブロックが 5から 60重量％、スチレン系単量体以外の単量体を主体として構成される重合体ブロックが 95から 40重量％であることが好ましぐスチレン系単量体を主体として構成される重合体ブロックが 15から 50重量％、スチレン系単量体以外の単量体を主体として構成される重合体ブロックが 85から 50重量％であることが特に好ましい。

[0021] またスチレン系エラストマ一の分子量にも特に制限はないが、流動性、加工性、物 '性等の面力ら、数平均分子量で 30000〜500000であること力 S好ましく、 50000〜4 00000であることが特に好ま U、。スチレン系エラストマ一の数平均分子量が上記範囲より低い場合には機械的な物性が十分に発現されない傾向にあり、一方、上記範囲を超える場合には流動性、加工性の面で不利となるおそれがある。なおここでいう数平均分子量はクロ口ホルムを移動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用した GP C測定を行ない、ポリスチレン換算の分子量として求めたものである。このような GPC 測定は例えば Waters社製 GPCシステム（カラム：昭和電工 (株）製 ShodexK— 804 (ポリスチレンゲル) )等を用いて測定することができる。

[0022] スチレン系エラストマ一の重合は、通常、溶媒中でカチオン重合により行われる。用いる重合溶媒は特に限定されないが、炭素数 3〜8の 1級及び Z又は 2級のモノハロゲン化炭化水素と脂肪族及び Z又は芳香族炭化水素との混合溶媒が好ま、。ハロゲン化炭化水素としては塩化メチル、塩化メチレン、 1 クロロブタン、クロ口べンゼン、脂肪族炭化水素としてはへキサン、ヘプタン、オクタン、シクロへキサン、メチルシクロへキサン、ェチルシクロへキサン、芳香族炭化水素としてはトルエン、キシレンなどを用いることができる。 [0023] カチオン重合の際に用いられる開始剤は特に限定されないが、次のような化合物等が好ましい。（1—クロル— 1—メチルェチル）ベンゼン [C H C (CH ) Cl]、 1, 4—

6 5 3 2

ビス（1—クロル— 1—メチルェチル）ベンゼン [1, 4-Cl (CH ) CC H C (CH ) CI]

3 2 6 4 3 2

、 1, 3 ビス（1—クロル— 1—メチルェチル）ベンゼン [1, 3— Cl(CH ) CC H C (C

3 2 6 4

H ) Cl]、 1, 3, 5 トリス（1—クロル— 1—メチルェチル）ベンゼン [1, 3, 5— (C1C (

3 2

CH ) ) C H ]、 1, 3 ビス（1 クロルー1 メチルェチル）—5—(t—ブチル）ベン

3 2 3 6 3

ゼン [1, 3— (C (CH ) C1) — 5— (C (CH ) ) C H ]。

3 2 2 3 3 6 3

[0024] これらの中でも特に好ましいのは（1 クロル 1ーメチルェチル）ベンゼン [C H C

6 5

(CH ) CI]、ビス（1 クロル 1ーメチルェチル）ベンゼン [C H (C (CH ) CI) ]で

3 2 6 4 3 2 2 ある [なおビス（1—クロル一 1—メチルェチル）ベンゼンは、ビス（ ex—クロ口イソプロピル）ベンゼン、ビス（2—クロロー 2—プロピル）ベンゼンあるいはジクミルク口ライドとも呼ばれる]。

[0025] スチレン系エラストマ一を重合する際には、さらにルイス酸触媒を共存させるのが好まし、。このようなルイス酸としてはリビングカチオン重合に使用できるものであれば良ぐ上述のィ-ファー法でも使用される BC1、 TiClの他に TiBr , BF , BF -OEt

3 4 4 3 3 2

、 SnCl、 SbCl、 SbF、 WC1、 TaCl、 VC1、 FeCl、 ZnBr、 A1C1、 AlBr等の金

4 5 5 6 5 5 3 2 3 3 属ハロゲンィ匕物； Et A1C1、 EtAlCl等の有機金属ハロゲンィ匕物を好適に使用するこ

2 2

とができる。中でも触媒としての能力、工業的な入手の容易さを考えた場合、 TiCl、

4

BC1、 SnClが好ましい。ルイス酸の使用量は、特に限定されないが、使用する単量

3 4

体の重合特性あるいは重合濃度等を鑑みて設定することができる。通常は一般式（1 )で表される化合物に対して 0. 1〜： L00モル当量使用することができ、好ましくは 1〜 60モル当量の範囲である。

[0026] スチレン系エラストマ一の重合に際しては、必要に応じて電子供与体成分を共存させることもできる。この電子供与体成分は、カチオン重合に際して、成長炭素カチォンを安定ィ匕させる効果があるものと考えられており、電子供与体の添加によって分子量分布の狭い構造が制御された重合体が生成する。使用可能な電子供与体成分としては特に限定されないが、例えば、ピリジン類、アミン類、アミド類、スルホキシド類、エステル類、または金属原子に結合した酸素原子を有する金属化合物等を挙げることができる。

[0027] 実際の重合を行なうに当たっては、各成分を、冷却下、例えば 100°C以上 0°C未満の温度で混合する。エネルギーコストと重合の安定性を釣り合わせるために、特に好まし、温度範囲は一 30°C〜一 80°Cである。

[0028] 重合によって得られた反応液は、無機塩基性水溶液あるいは水を用いる方法でルイス酸触媒を失活させ、更に水洗や濾過処理などにより触媒残渣等の不純物を除去する。これにより、スチレン系エラストマ一溶液を得ることができる。

[0029] このようにして得られたスチレン系エラストマ一溶液から、引き続き蒸発操作により重合溶媒及び未反応モノマーを除去してスチレン系エラストマ一を単離する。蒸発方式としては薄膜蒸発方式、フラッシュ蒸発方式、クラム化方式、押出しスクリューを備えた横形蒸発方式などを用いることができる。スチレン系エラストマ一は粘着性を有するため、上記蒸発方式の中でも、スチレン系エラストマ一を水とのスラリー状態で取出して得られるクラム化方式や押出しスクリューを備えた横形蒸発方式等を用いることで、特に効率的な蒸発が可能である。

[0030] 蒸発操作により溶剤を除去した重合体は、引き続き押出し機に供給されペレツトイ匕される。押出し機出口は直径 2mn！〜 8mm程度の単一または複数の孔をもつダイスで構成し、押出されたスチレン系エラストマ一はストランド状で冷却され、その後カットすること〖こより円柱状のペレットとなる。円柱状ペレットは脱揮機構を有する押出機と水中カットシステムにより、更なる溶媒及びスチレン系単量体の除去がなされ、球状ペレットとして得られる。

[0031] 本発明のスチレン系エラストマ一組成物は、このペレットにリン系酸化防止剤、リン系酸ィ匕防止剤及びフエノール系酸ィ匕防止剤、リンフエノール複合系酸ィ匕防止剤、又は、リンフエノール複合系及びフエノール系酸ィ匕防止剤を添加し混練等によって混合することにより得ることができる。そのような混練は、例えば 250°Cの設定温度にてミル混練機 (東洋製作所製)を用いて 10分間混合することにより行なうことができる

[0032] 本発明で使用されるリン系酸ィ匕防止剤としてはホスファイト系酸ィ匕防止剤、ホスファフエナントレン系酸ィ匕防止剤等が挙げられる。ホスファイト系酸ィ匕防止剤としては例えばトリフエ-ルホスフアイト、ジフエ-ルイソデシルホスファイト、フエ-ルジイソデシルホスファイト、 4, 4，ーブチリデン—ビス（3—メチルー 6— t—ブチルフエ-ルジトリデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（ォクタデシルホスフアイト）、トリス（ノ -ルフエ-ル）ホスファイト、トリス（モノ及び Z又はジノユルフェ-ル）ホスフアイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジフォスファイト、トリス（2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（2, 6 ジ一 t—ブチル —4—メチルフエ-ル）ホスファイト、 2, 2—メチレンビス（4, 6 ジ一 t—ブチルフエ- ル）ォクチルフォスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフアイト、ビス（2, 6 ージー t ブチル 4 メチルフエ-ル）ペンタエリスリトールージーホスフアイト等が挙げられ、ホスファフェナントレン系酸化防止剤としては 9, 10 ジヒドロー 9 ォキサ — 10 ホスファフェナントレン一 10—オキサイド、 10— (3, 5— t—ブチル 4 ヒドロキシベンジル） 9, 10 ジヒドロ一 9—ォキサ 10 ホスファフェナントレン一 10 オキサイド、 10 デシロキシ 9, 10 ジヒドロー 9 ォキサ 10 ホスファフェナントレン等が挙げられる。中でもコストや取扱容易性等の面力ホスファイト系酸ィ匕防止剤が好ましぐサイクリックネオペンタンテトライルビス (ォクタデシルホスフアイト） ( 例えば旭電ィ匕製のアデカスタブ PEP— 8等）、又は、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフアイトやビス（ 2, 6 ジー t ブチル 4 メチルフエ-ル）ペンタエリスリトールージーホスファイトが特に好ましい。

フエノール系酸化防止剤としては、モノフエノール系酸化防止剤、ビスフエノール系酸化防止剤、高分子型フエノール系酸ィ匕防止剤等が挙げられる。モノフエノール系酸化防止剤としては、 n—ォクタデシルー 3— (3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオナート、 2, 6 ジー tーブチルー p クレゾール、ブチル化ヒドロキシァ-ノール、 2, 6 ジ— t—ブチル—4 ェチルフエノール、ステアリル— 13 - (3, 5—ジー t ブチル 4 ヒドロキシフエ-ル）プロピオネート等が挙げられる。ビスフエノール系酸化防止剤としては、 2, 2，ーメチレンビス（4ーメチルー 6 t—ブチルフエノール）、 2, 2，ーメチレンビス（4ーェチルー 6 t—ブチルフエノール）、 4, 4'ーチオピス（3—メチルー 6— t ブチルフエノール）、 4, 4，ーブチリデンビス（3—メチル — 6— t ブチルフエノール）、 3, 9 ビス [1, 1—ジメチルー 2— [ j8— (3— t—ブチルー 4ーヒドロキシー5 メチルフエ-ル）プロピオ-ルォキシ]ェチル ]—2, 4, 8, 10 ーテトラオキサスピロ [5, 5' ]ゥンデカン等が挙げられる。高分子型フエノールとしては、（1, 1, 3 トリス（2—メチル 4 ヒドロキシ一 5— t—ブチルフエ-ル）ブタン、ぺンタエリスリトールテトラキス [3— (3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）]プ口ピオネート、 1, 3, 5 トリメチノレ一 2, 4, 6 トリス（3, 5 ジ一 t—ブチノレ一 4 ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス [メチレン一 3— (3' , 5，一ジ一 t—ブチル 4， —ヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]メタン、ビス [3, 3，一ビス（4，一ヒドロキシ一 3， —t ブチルフエ-ル）ブチリックアシッド]グリコールエステル、 1, 3, 5 トリス（3，， 5 ，一ジ t—ブチル 4，一ヒドロキシベンジル） S トリァジン一 2, 4, 6— (1H, 3H , 5H)トリオン、トコフエロール類等が挙げられる。これらのフエノール系酸化防止剤の中でも特にヒンダードフエノール系酸ィ匕防止剤が取扱性、反応性などが良好な点で好ましぐ具体的には（1, 1, 3 トリス（2—メチルー 4ーヒドロキシー5 t—ブチルフエ-ル）ブタン、 n—ォクタデシル一 3— (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ -ル）プロピオナート、ペンタエリスリトールテトラキス [3— (3, 5—ジ—tーブチルー 4 ーヒドロキシフエ二ル) ]プロピオネートが好ましい酸ィ匕防止剤として挙げられる。巿販のものとしては、住友化学製のスミライザ一 GMや GS、チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製ィルガノックス（Irganox) 1010、旭電化社製のアデカスタブ AO— 30等あげられる。

[0034] またリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤としては旭電ィ匕社製のアデカスタブ AO— 51や 6— [3— (3— t—ブチル—4 ヒドロキシ— 5—メチルフエ-ル）プロポキシ ]—2 , 4, 8, 10—テトラ一 t—ブチルジベンズ [d, f] [l. 3. 2]ジォキサホスフエピン、住友化学社製のスミライザ一 GP等が挙げられ、特に 6— [3—（3— t プチルー 4ーヒドロキシ 5 メチルフエ-ル）プロポキシ ] 2, 4, 8, 10—テトラー tーブチルジベンズ[ d, f] [l. 3. 2]ジォキサホスフエピンが好適に用いられる。

[0035] リン系酸ィ匕防止剤を用いる場合、酸ィ匕防止剤の含有量はスチレン系エラストマ一 1 00重量部に対して、 0. 1〜5重量部であるのが好ましぐ 0. 2〜1. 0重量部であるの力り好ましぐ 0. 2〜0. 5重量部であるのが特に好ましい。 0. 1重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性が有り、一方、 5重量部より多いと強度などの機械物性が低下する可能性がある。

[0036] またリン系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸ィ匕防止剤を併用する場合には、スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン系酸ィ匕防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリン系酸ィヒ防止剤とフエノール系酸ィヒ防止剤とをこれらの合計部数が 5重量部以下で含有するのが好ましぐリン系酸化防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリン系酸化防止剤とフエノール系酸化防止剤との合計部数が 0. 5重量部以下含有するのがより好ましい。リン系酸ィ匕防止剤の含有量が 0. 1重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性があり、またリン系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸ィ匕防止剤との合計部数が 5重量部を超えると、強度などの機械物性が低下するおそれがある。

[0037] リンフエノール複合系酸ィ匕防止剤を用いる場合、酸化防止剤の含有量はスチレン系エラストマ一 100重量部に対して、 0. 1〜5重量部であるのが好ましぐ 0. 2〜1 . 0重量部であるのがより好ましぐ 0. 2〜0. 5重量部であるのが特に好ましい。 0. 1 重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性が有り、一方、 5重量部より多いと強度などの機械物性が低下する可能性がある。

[0038] またリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸ィ匕防止剤を併用する場合には、スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン一フエノール複合系酸ィ匕防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸ィ匕防止剤との合計部数が 5重量部以下で含有するのが好ましぐリンーフエノール複合系酸ィヒ防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリンフエノール複合系酸化防止剤とフノール系酸化防止剤とをこれらの合計部数が 0. 5重量部以下で含有するのがより好ましい。リンフエノール複合系酸ィ匕防止剤の添加量が 0. 1重量部より少ないとスチレン系単量体が生成する可能性があり、またリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤とフノール系酸ィヒ防止剤との合計部数が 5重量部を超えると強度などの機械物性が低下するおそれがある。

[0039] 本発明のスチレン系エラストマ一糸且成物を用いる事により、混練時等の高温処理時のスチレン生成を抑制する事ができる。ここで「スチレン生成」とは、文字通りスチレンそのものが生成する場合を意味するのみならず、スチレン以外のスチレン系単量体を重合用単量体として用いた場合には、そのスチレン系単量体が生成する場合をも意味する。

[0040] また、本発明でいう「スチレン濃度」の語についても、厳密にスチレンモノマーのみの濃度を意味するものではなぐスチレン以外のスチレン系単量体を重合用単量体として用いた場合には用いたスチレン系単量体全体の組成物中における濃度を意味する。

[0041] 本発明においては、スチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度が低いスチレン系エラストマ一組成物を得ることができる。従来のスチレン系榭脂 'エラストマ一組成物では組成物中のスチレン濃度は数 ppm〜数十 ppmであったのに対し、本発明においては lppm以下、より有利には 0. 5ppm以下、更に有利には 0. 25ppm以下といった低スチレン濃度のスチレン系エラストマ一組成物を得ることができる。

[0042] 本発明のスチレン系エラストマ一組成物は、 150°C以上 300°C以下の温度で混練することにより製造されることが好ましぐ 200°C以上 280°C以下で混練するのがより好ましぐ 250°C以上 270°Cで混練するのが特に好ましい。温度が 150°Cより低いとスチレン系エラストマ一が溶解しにくい場合が有り、スチレン系エラストマ一に対し均一に酸ィ匕防止剤を混合することが難しくなる。一方、 300°Cを超えるとスチレン系エラストマーが分解する恐れがある。また混練の時間は 5分以上 30分以内で行なうことが好ましぐ 5分以上 15分以内で行なうことがより好ましぐ特に約 10分混練するのが好ましい。混練時間が 5分より短いと均一に攪拌するのが難しい場合があり、一方、混合は通常 30分も行なえば十分であることから、生産性を考えると 30分を超えて混練を行なうのは好ましくな、場合が多、。

[0043] 本発明に力かるスチレン系エラストマ一組成物には、要求される物性に応じて、充填材等の添加剤や、他の熱可塑性榭脂、熱可塑性エラストマ一、ライオト口ピック液晶榭脂、液状榭脂、熱硬化性榭脂、架橋ゴムなどを配合することができる。好適な充填材としては、クレー、珪藻土、シリカ、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、金属酸化物、マイ力、グラフアイト、水酸ィ匕アルミニウム等の麟片状無機充填材、各種の金属粉、木片、ガラス粉、セラミックス粉、カーボンブラックなどが挙げられる。 [0044] 他の熱可塑性榭脂としては、（i)汎用熱可塑性榭脂、（ii)汎用エンジニアリングブラスチック、および (iii)特殊エンジニアリングプラスチックなどがあげられる。

[0045] (i)汎用熱可塑性榭脂としては、ポリオレフイン系榭脂、芳香族ビニル化合物系榭脂、ポリ塩ィ匕ビ二ル系榭脂、ポリアクリル系榭脂、ポリエーテル系榭脂などがあげられる。

[0046] ポリオレフイン系榭脂としては、 aーォレフインの単独重合体、ランダム共重合体、ブロック共重合体およびそれらの混合物、または α—ォレフィンと他の不飽和単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体およびこれら重合体の酸ィ匕、ハロゲン化またはスルホンィ匕したものなどがあげられる。具体的には、ポリエチレン、エチレンプロピレン共重合体、エチレンプロピレン非共役ジェン共重合体、エチレンーブテン共重合体、エチレン一へキセン共重合体、エチレンオタテン共重合体、その他のエチレン αォレフィン系共重合体、エチレン酢酸ビュル共重合体、エチレンビニルアルコール共重合体、エチレンェチルアタリレート共重合体、塩素化ポリエチレンなどのポリエチレン系榭脂、ポリプロピレン、プロピレンーェチレンランダム共重合体、プロピレンエチレンブロック共重合体、塩素化ポリプロピレンなどのポリプロピレン系榭脂、ポリブテン、ポリイソブチレン、ポリメチルペンテン、環状ォレフインの（共)重合体などがあげられる。

[0047] 芳香族ビ-ルイ匕合物系榭脂としては、ポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン、ポリー α—メチルスチレン、ポリ ρ—メチルスチレン、スチレン無水マレイン酸共重合体などがあげられる。

[0048] ポリ塩ィ匕ビ二ル系榭脂としては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩ィ匕ビユリデン、塩素化ポリ塩化ビュルなどがあげられる。

[0049] ポリアクリル系榭脂としては、アクリロニトリル一スチレン榭脂 (AS)、アクリロニトリル

—ブタジエン一スチレン榭脂（ABS)、アクリロニトリル一ブタジエン一 at—メチルスチレン (耐熱 ABS)、ポリメチルメタタリレート、メチルメタタリレート一スチレン共重合体などがあげられる。

[0050] ポリエーテル系榭脂としては、ポリエチレンォキシド、ポリプロピレンォキシド、ポリテトラヒドロフランなどがあげられる。 [0051] (ii)汎用エンジニアリングプラスチックとしては、ポリアミド系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリアセタール系榭脂、ポリフエ二レンエーテル系榭脂、ポリメチルペンテン、超高分子量ポリエチレンなどがあげられる。

[0052] ポリアミド系榭脂としては、ナイロン一 6、ナイロン一 66、ナイロン一 11、ナイロン一 1 2、ナイロン 46、ナイロン 610、ナイロン 612などがあげられる。

[0053] ポリエステル系榭脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアリレート、無定形ポリエチレンテレフタレート、結晶性ポリエチレンテレフタレートなどがあげられる。

[0054] ポリカーボネート系榭脂としては、 2, 2 ビス（4ーヒドロキシフエ-ル）プロパン（ビスフエノール A)、ビスエノール Aの芳香族水素の一部または全部を、アルキル基、ハロゲン原子で置換したもの、ヒドロキノン、ビス（4—ヒドロキシフエ-ル)スルホンなどに基づいて形成されるポリカーボネート系榭脂などがあげられる。

[0055] ポリアセタール系榭脂としては、ポリオキシメチレンなどがあげられる。

[0056] ポリフエ-レンエーテル系榭脂としては、ポリ（2, 6 ジメチルー 1, 4 フエ-レン）エーテル、ポリ（2—メチルー 6 ェチルー 1, 4 フエ-レン）エーテル、ポリ（2, 6— ジブチル一 1, 4 フエ-レン）エーテル、ポリ（2, 6 ジフエ-ル一 1, 4 フエ-レン )エーテル、ポリ（2, 6 ジメトキシ一 1, 4 フエ-レン）エーテル、ポリ（2, 6 ジクロ口一 1, 4 フエ二レン）エーテノレなどがあげられる。

[0057] (iii)特殊エンジニアリングプラスチックとしては、ポリスルホン系榭脂、ポリスルフイド系榭脂、ポリイミド系榭脂、ポリアミドイミド系榭脂、ポリエーテルイミド系榭脂、フッ素系榭脂、熱可塑性ポリウレタン系榭脂、ポリエーテルスルホン系榭脂、ポリエーテルケトン系榭脂、サーモト口ピック液晶榭脂などがあげられる。

[0058] ポリスルホン系榭脂としては、ポリ（エーテルスルホン）、ポリ（4, 4' ビスフエノールエーテルスルホン）などがあげられる。

[0059] ポリスルフイド系榭脂としては、ポリフエ-レンスルフイド、ポリ（4, 4，ージフエ-レンスルフイド）などがあげられる。

[0060] ポリエーテルケトン系榭脂としては、ポリエーテルエーテルケトンなどがあげられる。

[0061] サーモト口ピック液晶榭脂としては、 p ヒドロキシ安息香酸、ビフエノールおよびテレフタル酸の共重合体、 p ヒドロキシ安息香酸および 6—ヒドロキシ - 2-ナフトェ酸の共重合体、ポリエチレンテレフタレート（PET)および p ヒドロキシ安息香酸の共重合体などがあげられる。

[0062] これらの中でコスト、榭脂組成物の物性バランスの点力ポリエチレン系榭脂、ポリプロピレン系榭脂、またはこれらの混合物が好ましく使用できる。

[0063] 熱可塑性エラストマ一としては、スチレンブタジエンスチレンブロック共重合体（ SBS)、スチレンイソプレンスチレンブロック共重合体（SIS)、スチレンーェチレン Zブチレンスチレンブロック共重合体（SEBS)、スチレンエチレン Zプロピレンースチレンブロック共重合体（SEPS)、およびこれらの水添系エラストマ一、ポリオレフイン系、ポリジェン系、ポリ塩化ビュル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、フッ素系、シリコーン系、アイオノマー系などの各種エラストマ一などがあげられる。

[0064] ライオト口ピック液晶榭脂としては、ァラミド、ポリ p フエ-レンベンゾビスチアゾール、ポリテレフタロイルフドラジドなどがあげられる。

[0065] 液状榭脂としては、シリコーン系榭脂、変性シリコーン (MS)系榭脂、ポリイソブチレン (PIB)系榭脂、ポリサルファイド系榭脂、変性ポリサルファイド系榭脂、ポリウレタン系榭脂、ポリアクリル系榭脂、ポリアクリルウレタン系榭脂などがあげられる。

[0066] 熱硬化性榭脂としては、不飽和ポリエステル系榭脂、エポキシ系榭脂、ヒドロシリル化架橋系榭脂、フエノール系榭脂、アルキッド系榭脂、ジァリルフタレート系榭脂、ュリア系榭脂、ポリウレタン系榭脂、メラミン系榭脂などがあげられる。

[0067] 架橋ゴムとしては、天然ゴム系、ポリブタジエン系ゴム（PBD)、スチレンーブタジェン系ゴム（SBR)、水添スチレン一ブタジエン系ゴム、アクリロニトリル一ブタジエン系ゴム、ブチノレゴム、塩素化ブチノレゴム、クロ口プレン系ゴム、アタリノレゴム、ウレタンゴム、イソプレン系ゴム、エチレンプロピレンゴム、フッ素系ゴム、シリコーン系ゴムなどがあげられる。

実施例

[0068] 以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではなぐ本発明の範囲内において適宜変更可能である。

[0069] (スチレン濃度の測定方法）

スチレン系エラストマ一のペレットとリン系酸ィ匕防止剤、リン系酸化防止剤及びフエノール系酸化防止剤、リン—フエノール複合系酸ィ匕防止剤、又は、リン—フエノール複合系酸化防止剤及びフエノール系酸化防止剤を、 250°Cの設定温度にてミル混練機 (東洋製作所製)を用いて 10分間混練して組成物を調製し、混練前のペレット及び混練後の組成物中のスチレン濃度を測定した。測定方法 ¾JIS K6869に準じ、混練前のペレット又は混練後の組成物をクロ口ホルムに溶解させ、ガスクロマトグラフィ一にてスチレン濃度を測定した。

[0070] (製造例 1)

攪拌機付き 200L反応容器に、 1—クロロブタン (モレキュラーシーブスで乾燥したもの） 69. 4kg、へキサン（モレキュラーシーブスで乾燥したもの） 36. 5kg、 1, 4—ビス ( _α—クロル—イソプロピル）ベンゼン 65. 3g及びジメチルァセトアミド 49. 2gを加えた。反応容器を一 70°Cに冷却した後、イソブチレン 12. 8kgを添加した。さらに四塩化チタン 1. 5kgを加えて重合を開始し、—70°Cで溶液を攪拌しながら 90分反応させた。次いで反応溶液にスチレン 5. 5kgを添加し、さらに 60分反応を続けた後、反応溶液を大量の水中へあけて反応を停止させた。さらに水相中の電気伝導度が 50 μ S以下となるまで水洗を繰り返し行った。得られたドープは蒸発機により溶剤を留去したのち、押出機を用いてペレツトイ匕した。

[0071] (製造例 2)

ドープを得るまでは製造例 1と同様であるが、得られたドープと同量の水と少量の乳ィ匕剤を加え、撹拌下で懸濁させたところに蒸気により加熱し溶剤を留去した。組成物は水中でクラムとなって得られ、脱水機により固液分離した後、乾燥しクラム榭脂を得た。

[0072] (実施例 1)

製造例 1で作成したペレットを熱風乾燥により乾燥し、ペレット中のスチレン濃度が 0 . 2ppm以下となるようにした。このペレット 100重量部に対しリン一フエノール複合系酸ィ匕防止剤 (スミライザ一 GP、住友化学社製) 0. 2重量部とフエノール系酸ィ匕防止剤（Irganoxl010、チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製） 0. 5重量部を添加し、ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練した。混練後のスチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度を測定したところ、 0. 2ppm以下であった。

[0073] (実施例 2)

実施例 1と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット 100重量部に対しホスファイト系酸ィ匕防止剤（アデカスタブ PEP— 8、旭電化社製) 0. 2重量部とフエノール系酸ィ匕防止剤（Irganoxl010、チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製） 0. 5重量部を添加し、ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練した。混練後のスチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度を測定したところ、 0. 2ppm以下であった。

[0074] (実施例 3)

実施例 1と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット 100重量部に対しリン―フエノール複合系酸化防止剤 (スミライザ一 GP、住友化学社製) 0. 2重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマー糸且成物中のスチレン濃度は 0. 2ppm以下であった。

[0075] (実施例 4)

製造例 2で作成したクラム榭脂を用いる以外は実施例 1と同様に、クラム榭脂 100 重量部に対しリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤 (スミライザ一 GP、住友化学社製） 0. 2重量部とフエノール系酸化防止剤（Irganoxl010、チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製) 0. 5重量部を添加し、ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練した。混練後のスチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度を測定したところ、 0. 2ppm 以下であった。

[0076] (実施例 5)

製造例 2で作成したクラム榭脂を用いる以外は実施例 2と同様に、クラム榭脂 100 重量部に対しホスファイト系酸ィ匕防止剤（アデカスタブ PEP— 8、旭電化社製) 0. 2 重量部とフエノール系酸化防止剤（Irganoxl010、チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製) 0. 5重量部を添加し、ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練した。混練後のスチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度を測定したところ、 0. 2ppm以下であった。 [0077] (実施例 6)

製造例 2で作成したクラム榭脂を用いる以外は実施例 3と同様、クラム榭脂 100重量部に対しリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤 (スミライザ一 GP、住友化学社製) 0. 2重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマ一糸且成物中のスチレン濃度は 0. 2ppm以下であった。

[0078] (実施例 7)

実施例 1と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット 100重量部に対しホスファイト系酸ィ匕防止剤（アデカスタブ PEP— 8、旭電化社製) 0. 2重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度は 0. 2ppm以下であった。

[0079] (比較例 1)

実施例 1と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット 100重量部に対しフエノール系酸ィ匕防止剤（アデカスタブ AO— 30、旭電化社製) 0. 2重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度は 5ppmであった。

[0080] (比較例 2)

実施例 1と同様にペレットを乾燥し、得られたペレット 100重量部に対しフエノール系酸化防止剤 (スミライザ一 GS、住友化学社製) 0. 2重量部のみ添加した。ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練したところ、混練後のスチレン系エラストマ一組成物中のスチレン濃度は 5ppmであった。

[0081] (比較例 3)

製造例 2で作成したクラム榭脂を用いて、クラム榭脂 100重量部に対しフエノール系酸化防止剤（Irganoxl010、チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製） 0. 5重量部のみ添加した、ミル混練機を用いて 250°C X 10分間混練した。混練後のスチレン系エラストマー組成物中のスチレン濃度を測定したところ、 3ppmであった。

[0082] 以上の実施例、比較例の結果力も分力るようにホスファイト系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸ィ匕防止剤を併用した場合 (実施例 2、 5)、リンフエノール複合系酸ィ匕防止剤を単独で用いた場合 (実施例 3、 6)、及び、リンフエノール複合系酸ィ匕防止剤とフェノール系酸ィ匕防止剤を併用した場合 (実施例 1、 4)にはいずれも混練時のスチレン発生が抑制され、混練後の残留スチレン濃度が低いものが得られた。一方フエノール系酸ィ匕防止剤を単独で用いた場合 (比較例 1、 2)においては混練後の残留スチレン濃度は顕著に増加していた。以上のことから、本願発明にかかる組成物では、混練時等の高温処理時のスチレン系単量体の生成が効果的に抑制されることが示された。

産業上の利用可能性

本発明の製造法により得られたスチレン系エラストマ一組成物は種々の用途に使用できる。具体的には、食品容器や食品包装等の食品関連用途、日用雑貨、玩具' 運動用具用途、文具用途、自動車内外装用途、土木 ·建築用途、家電機器用途、衣料 ·履物用途、医療用途、衛生用品、包装輸送資材、電線用途等に利用可能である。特に残留スチレン濃度が低いことから食品容器や食品包装用の用途に適している

Claims

請求の範囲

[1] スチレン系エラストマ一、並びに、リン系酸化防止剤、又は、リン系酸化防止剤及びフエノール系酸ィ匕防止剤を含有してなるスチレン系エラストマ一組成物。

[2] スチレン系エラストマ一、並びに、リン—フエノール複合系酸ィ匕防止剤、又は、リンフエノール複合系酸ィ匕防止剤及びフエノール系酸ィ匕防止剤を含有してなるスチレン系エラストマ一糸且成物。

[3] スチレン系エラストマ一がスチレン系単量体単位力もなるブロック及び脂肪族ォレフイン系単量体単位力なるブロックよりなるブロック共重合体である請求項 1又は 2記載のスチレン系エラストマ一組成物。

[4] ブロック共重合体中の脂肪族ォレフイン系単量体単位力なるブロックがイソブチレン単量体単位を主体とするブロックである請求項 3記載のスチレン系エラストマ一組成物。

[5] スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン系酸ィ匕防止剤を 0. 1から 5重量部含有する請求項 1、 3又は 4のいずれかに記載のスチレン系エラストマ一組成物。

[6] スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン系酸ィ匕防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリン系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸ィ匕防止剤とをこれらの合計部数が 5 重量部以下となる量で含有する請求項 1、 3又は 4のいずれかに記載のスチレン系ェラストマー組成物。

[7] スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン—フエノール複合系酸ィ匕防止剤を 0. 1力 5重量部含有する請求項 2〜4の!、ずれかに記載のスチレン系エラストマ一組成物。

[8] スチレン系エラストマ一 100重量部に対して、リン—フエノール複合系酸ィ匕防止剤を 0. 1重量部以上含有し、且つリンフエノール複合系酸ィ匕防止剤とフエノール系酸ィ匕防止剤とをこれらの合計部数が 5重量部以下となる量で含有する請求項 2〜4のいずれかに記載のスチレン系エラストマ一組成物。

[9] リン系酸ィ匕防止剤がホスファイト系酸ィ匕防止剤である請求項 1、 3〜6のいずれかに記載のスチレン系エラストマ一組成物。

[10] フエノール系酸ィ匕防止剤がヒンダードフエノール系酸ィ匕防止剤である請求項 1〜4、 6又は 8のいずれかに記載のスチレン系エラストマ一組成物。

混練時の温度が 150°C以上 300°C以下、混練時間 5分以上 30分以内の条件において製造される事を特徴とする、請求項 1〜： L0のいずれかに記載のスチレン系エラストマー糸且成物。