WO2005106072A2 - Verfahren und vorrichtung zur thermischen vakuumbeschichtung - Google Patents

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WO2005106072A2
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hollow body
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coating
hollow
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Lutz Gottsmann
Ulf Seyfert
Bernd-Dieter Wenzel
Reinhard JÄGER
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Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh
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    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases

Definitions

  • the invention relates to a method and a device for the thermal vacuum coating of a continuously transported substrate by evaporating solid and / or liquid coating materials and vapor deposition of the vaporous coating material on the substrate, the substrate moving in a heated evaporation channel of an evaporation device, the evaporation channel is arranged in a vacuum chamber and is connected to an evaporation device, and the evaporation device and the evaporation device are the essential parts of a coating device.
  • PVD physical vapor deposition
  • Such systems are used in particular for the coating of band-shaped steel substrates with a bandwidth on the centimeter scale up to the meter scale.
  • the coating device For the economical use of a system according to the continuous coating process, there is a need for the coating device to be continuously stocked with coating material without interrupting the continuous substrate transport.
  • temperatures are used in the vapor deposition channel which are suitable for influencing the mechanical properties of the substrate. For this reason, a precise coordination between the temperature in the vapor deposition channel and the transport speed of the substrate is necessary and must be observed.
  • the substrate can heat up to the point where it is damaged, and its physical properties can increase up to Change useless.
  • the tearing of the substrate tape is associated with a considerable amount of time and cost for the repair due to the usual system size and the special process conditions.
  • the object is achieved in a method according to the invention in that the vapor deposition channel is separated into an outer space and an inner space when the substrate is below a minimum transport speed or when the substrate is at a standstill by inserting at least one position-changing hollow body such that the substrate is located in the inner space ,
  • the substrate located in the evaporation channel is thermally protected by the hollow body arranged between the substrate and the hot evaporation channel surface, and the substrate is in such a malfunction no thermal see exposure to stress.
  • Another particular advantage of inserting a hollow body according to the invention into the space between the vaporization channel surface and the substrate is that the vapor-like coating material flowing in, for example, through nozzles in the channel surface essentially flows on the hollow body and not on the substrate separates. In this way, an uncontrolled coating of the substrate in the event of a malfunction can also be prevented. Furthermore, because of the good closure of the substrate with the hollow body inserted, it is possible to close the substrate protection device according to the invention for conditioning the evaporator system, since this can prevent contamination of the layer on the substrate section located within the vapor deposition channel.
  • two hollow bodies are inserted in a movement directed towards one another and the two end faces of the two hollow bodies directed towards one another lie against one another in the inserted state.
  • the hollow body or bodies moves in the vacuum chamber surrounding the vaporization duct.
  • the vaporization channel has an opening on the inlet side for introducing the hollow body.
  • the hollow body is in the ready position as well as in the use position and in every intermediate position in the vacuum chamber, so that influencing of the process parameters, such as pressure within the vacuum chamber, is avoided.
  • this embodiment of the invention is suitable for ensuring that the substrate can be protected particularly quickly.
  • the hollow body is inserted parallel to the transport direction of the band-shaped substrate.
  • the hollow body thus rests in the ready position in the immediate vicinity of the vapor deposition channel and is already positioned so precisely in this position relative to the moving substrate that only a parallel displacement of the hollow body is required.
  • the protection of the substrate is thus produced after a simple linear movement of the protective body has been carried out.
  • the hollow body is cooled using a suitable method, since the heat energy absorbed by the hollow body is thus dissipated.
  • the cooling is therefore particularly preferably carried out actively by means of a cooling liquid. This cooling can be done independently be guaranteed by the duration of the stay of the hollow body in the hot evaporation channel.
  • the loading of the coating chamber with coating material is expediently prevented by closing a valve in the event of a fault.
  • the vaporous coating material which is already in the vaporization channel and the feed line separates essentially completely on the cold surface of the hollow body pushed into the vaporization channel. Since the remaining surfaces of the vapor deposition channel continue to be heated until the remaining vaporous coating material is essentially completely deposited, the coating material will essentially only deposit on the hollow body.
  • an inventive device for substrate coating according to the features of claim 7.
  • the substrate when the substrate falls below a minimum transport speed or when the substrate is at a standstill, at least one hollow body which can be inserted into the vapor deposition channel surrounds the substrate.
  • the substrate resting in the evaporation channel is thus thermally protected by the hollow body arranged between the substrate and a heating device.
  • the substrate is thus exposed to lower thermal loads in such a malfunction.
  • the inflowing vapor-like coating material essentially deposits on the hollow body.
  • the hollow body is a prismatic or cylindrical hollow body.
  • the substrate is for its continuous transport passed through the hollow body, is provided so that through the hollow body a vollumfängli ⁇ cher protective body.
  • the hollow body during regular, continuous substrate transport with at least the minimum speed in a standby position outside the vapor deposition channel and within the vacuum chamber and, moreover, if necessary, when the substrate is below the minimum transport speed or when it is at a standstill in an operating position is essentially arranged in the vaporization duct.
  • the hollow body can always remain completely arranged in the vacuum chamber and close in the insertion area with the wall of the vaporization duct.
  • the hollow bodies are essentially arranged in an application position in the coating chamber, the hollow bodies form an optically sealed separation into an inner and outer part of the vapor deposition channel, whereby the described advantages with regard to the separation of the vapor deposition channel reinforce the existing substrate and also have the system engineering outlay for the substrate protection device optimized.
  • the hollow body wall can expediently be made from a high-temperature steel or a high-temperature alloy. In any case, the hollow body wall has sufficient thermal and thus also mechanical stability even in the event of a fault up to a temperature range of 800 ° C., preferably up to 1000 ° C.
  • the hollow body has an inner hollow body wall and an outer hollow body wall spaced apart from it, so that an intermediate space is enclosed.
  • the space between the two walls is formed on the hollow body to the full extent.
  • cooling of the hollow body can be made possible by the space between the inner hollow body perwand and the outer wall of the hollow body is filled with a cooling liquid.
  • the coolant absorbs the heat transferred to the walls.
  • the cooling liquid is exchanged particularly advantageously and the absorbed heat is thus carried out.
  • Water or any other liquid with a high heat capacity is used as the liquid.
  • water is used as the liquid because water is cheaply available.
  • the liquid is passed through the space for effective cooling.
  • the flow direction and the flow rate can be predetermined by the installation of walls in the intermediate space and a resulting channel environment. The smaller the channel cross section, the higher the flow rate with a constant flow volume.
  • cold liquid enters the gap and warm liquid exits.
  • the cooling can also not be active during the standby position of the hollow body, i.e. the liquid rests in the space. At the time of use, the cooling is then activated by passing the liquid through it. Alternatively, the cooling can be continuously active to ensure the function and rapid use.
  • the hollow body is mounted on rollers and / or rails so that the hollow body can be moved in a defined manner and damage to the vacuum chamber or the vapor deposition is reliably prevented during the movement.
  • the guide is designed to be vacuum-compatible and thermally stable under the operating conditions.
  • the substrate protection device comprises at least one drive.
  • the drive is preferably arranged outside the vacuum chamber and in this case acts on the hollow body via one or more transmission elements.
  • Ropes, tapes, belts, chains, toothed belts or the like are provided as transmission means. Doing so the direction of action of the force changed over the pulleys.
  • the driving force is transmitted to the hollow body, for example by means of a telescopic device, by means of a device with a rack guide or the like.
  • the transmission means and possibly the deflections are designed to be vacuum-compatible and thermally stable under the operating conditions.
  • FIG. 1 is a schematic representation of a vertical cross section through a coating device according to the invention with a substrate protection device
  • Fig. 2 shows the coating device according to Fig. 1 with the substrate protection device in the operating position
  • Fig. 3 is a schematic representation of a vertical cross section through a hollow body.
  • the 1 shows a coating device 1 according to the invention with a vacuum chamber 2 and an evaporation channel 3 arranged therein.
  • the evaporation channel 3 has a height of approximately 4 meters and is arranged at the middle height of the approximately 10 meter high vacuum chamber 2.
  • the vapor deposition channel 3 has the shape of an upright, elongated, hollow cuboid and is open at the base at the upper and lower ends.
  • the outside of the vaporization duct 3 is provided in its entirety with a heating device 4, which is designed as an electrical resistance heater for radiant heating.
  • At the middle of the vacuum chamber 2 or the vaporization channel 3 is on two opposite sides, on both sides of the
  • a nozzle 5 mounted essentially horizontally in the operating position, which with the respective narrow ends open into the vaporization duct 3.
  • the other end of the nozzles 5 is connected to an evaporation device which serves to evaporate the coating material.
  • a belt-shaped substrate 6 is transported through the vacuum chamber 2 and through the vapor deposition channel 3.
  • the substrate 6 is aligned in such a way that the surfaces are oriented transversely to the nozzle, the nozzle being directed in each case to the center of the surface of the substrate.
  • the substrate can already be coated in a previous coating run.
  • the hollow body according to the invention is also located in the vacuum chamber 2 as a substrate protection device.
  • This consists of two linearly movable units.
  • Each unit comprises a hollow cuboid 7, which is open on the sides of the base areas for the passage of the substrate strip 6.
  • the dimensions of the base area of a hollow cuboid 7 are smaller than the dimensions of the base area of the vapor deposition channel 3, and the height of a hollow cuboid 7 slightly exceeds half the height of the vapor deposition channel 3.
  • the hollow cuboids 7 are directed towards one another, are mounted so as to be movable in parallel around the substrate belt 6 and in the direction of transport of the substrate belt 6.
  • a hollow cuboid 7 is held above and below the vaporization channel 3 (FIG. 1).
  • the two hollow cuboids 7 In the operational position, i.e. H. after the two hollow cuboids have been introduced into the vapor deposition channel, the two hollow cuboids 7 abut one another with their opposite end faces at the level of the nozzles 5. In the contact plane of the two hollow cuboids 7, they lie in a vapor-tight manner on one another, so that the vapor deposition channel 3 is divided into an internal vapor deposition channel 11 and an external vapor deposition channel 12 (FIG. 2).
  • the cooling water supply to the hollow cuboid 7 takes place, for example, via meandering hose connections, not shown, which adapt to the differences in distance of the hollow cuboid 7 by opening their bending radius.
  • Fig. 3 shows a hollow cuboid in cross section.
  • the hollow cuboid 7 forms an intermediate space 10 between an outer hollow body wall 8 and an inner hollow body wall 9, which serves as a channel system. Water as cooling liquid 13 is passed through the channel system at a defined flow rate.
  • Each hollow cuboid 7 is guided on guide rails, not shown.
  • the hollow cuboid 7 has a cross strut 14 on the base side opposite the other hollow cuboid. Due to the length of the hollow cuboid, which is greater than half the length of the vaporization channel by at least one cross section of the cross strut, the cross struts of the suspension project out of the vaporization channel 3.
  • a drive also not shown, is mounted with a shaft reaching into the vacuum chamber 2.
  • the drive shafts are connected to the two hollow blocks 7 by means of traction means guided over deflection rollers.
  • the coating method is a continuous thermal vacuum coating of the band-shaped substrate by evaporating solid coating material and vapor deposition of the vaporous coating material on the continuously transported substrate in the evaporation channel 3.
  • the solid coating material is heated in a vacuum and transported through the nozzle 5 on both sides of the substrate into the heated and evacuated evaporation channel 3.
  • a vapor-tight valve provided on the evaporator device, the inflow of vaporous coating material can be regulated and also interrupted.
  • the band-shaped substrate 6 made of steel is transported in the evaporation channel 3, the transport speed varying. iert and in the embodiment is between 30 meters per minute and 200 meters per minute.
  • the substrate transport is monitored with sensors via a computer-aided control unit. As soon as a disturbance occurs in the substrate transport and the substrate 6 does not emerge from the hot evaporation channel 3 or does not emerge quickly enough, a disturbance is registered.
  • the two drive outside i.e. above and below the evaporation channel 3 in the vacuum chamber 4, aged hollow cuboid 7 as a thermal protective curtain and into the evaporation channel 3.
  • the two hollow guaders 7 lie so close to one another that no vaporous coating material penetrates into the vapor deposition inner chamber.
  • the intermediate space 10 is filled with cooling water 11, which is passed through the intermediate space 10.
  • a control unit also prevents further loading of the vapor deposition channel 3 with pressing vapor coating material.
  • the vaporous coating material located in the vaporization channel 3 and in the transport lines present between evaporation and vaporization means separates on the cooled, outer hollow body wall 8 and on the cooled, inner hollow body wall 9. At least the vapor deposition inner chamber is then essentially free of condensate of the coating material.

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur thermischen Vakuumbeschichtung bei kontinuierlichem Transport eines bandförmigen Substrats (6) in einem mit dampfförmigem Beschichtungsmaterial beschickten Bedampfungskanal (3). Der Erfindung liegt die Aufgabenstellung zugrunde, für die bekannten Beschichtungsverfahren und Beschichtungsvorrichtungen die Möglichkeit eines schnell einsetzbaren Schutzes für das Substrat gegen eine Beschädigung während des Beschichtungsprozess anzugeben. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass der Bedampfungskanal bei Unterschreiten einer Mindesttransportgeschwindigkeit oder bei Stillstand des Substrats durch Einschub wenigstens eines lageveränderlichen Hohlkörpers (7) in einen äußeren Raum des Bedampfungskanals und einen inneren Raum des Bedampfungskanals getrennt wird, so dass sich das Substrat im inneren Raum befindet.

Description

Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Vakuumbeschichtung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur thermischen Vakuumbeschichtung eines kontinuierlich transportierten Substrats durch Verdampfen von festen und/oder flüssigen Beschichtungsmaterialen und Dampf bscheidung des dampfför- migen Beschichtungsmaterials auf dem Substrat, wobei sich das Substrat in einem beheizten Bedampfungskanal einer Bedampfungs- einrichtung bewegt, der Bedampfungskanal in einer Vakuumkammer angeordnet und mit einer Verdampfungseinrichtung verbunden ist und die Bedampfungseinrichtung sowie die Verdampfungseinrich- tung die wesentlichen Teile einer Beschichtungseinrichtung sind.
Es sind verschiedene Beschichtungsverfahren zur physikalischen Dampfabscheidung (PVD) im Vakuum bekannt. Die dazu genutzten Beschichtungsanlagen werden unterschieden in Anlagen nach einem statischen oder einem kontinuierlichen Verfahren. Im Gegensatz zum statischen Verfahren wird beim kontinuierlichen Verfahren ein Substrat fortwährend durch die Beschichtungseinrichtung hindurch transportiert . Entsprechend wird dem Bedampfungskanal der Beschichtungseinrichtung kontinuierlich Beschichtungsmate- rial in Form von Dampf zugeführt.
Derartige Anlagen dienen insbesondere der Beschichtung von bandförmigen Stahlsubstraten mit einer Bandbreite im Zentimetermaßstab bis in den Metermaßstab. Zur wirtschaftlichen Nutzung einer Anlage nach dem kontinuierlichen Beschichtungsver- fahren besteht hierbei die Notwendigkeit der kontinuierlichen Bevorratung der Beschichtungseinrichtung mit Beschichtungsmate- rial ohne den kontinuierlichen Substrattransport zu unterbrechen. In üblichen Beschichtungsverfahren werden Temperaturen im Bedampfungskanal gefahren, die geeignet sind, die mechanischen Eigenschaften des Substrats zu beeinflussen. Aus diesem Grund ist eine genaue Abstimmung zwischen der Temperatur im Bedamp- fungskanal und der Transportgeschwindigkeit des Substrats erforderlich und einzuhalten. Kommt es zu einer Störung des Transports, beispielsweise einer Verringerung der Transportgeschwindigkeit oder gar einem Stillstand des Substrat im Bedampfungskanal bei gleich bleibender Oberflachentemperatur des Be- dampfungskanals , kann sich das Substrat soweit erwärmen, dass es beschädigt wird, seine physikalischen Eigenschaften können sich dabei bis zur Unbrauchbar eit verandern. Insbesondere das Reißen des Substratbandes ist aufgrund der üblichen Anlagengroße und der besonderen Prozessbedingungen mit einem erheblichen Zeit- und Kostenaufwand für die Instandsetzung verbunden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, für die bekannten Beschichtungsverfahren und Beschichtungsvorrichtungen die Möglichkeit eines schnell einsetzbaren Schutzes für das Substrat gegen eine Beschädigung während des Beschichtungspro- zesses, insbesondere wahrend sich ändernder Parameter des Be- schichtungsprozesses, wie beispielsweise der Substratgeschwindigkeit, anzugeben.
Die Aufgabe wird in einem erfindungsgemäßen Verfahren dadurch gelost, dass der Bedampfungskanal bei Unterschreiten einer Min- desttransportgeschwmdigkeit oder bei Stillstand des Substrats durch Einschub wenigstens eines lageveranderlichen Hohlkörpers derart in einen äußeren Raum und einen inneren Raum getrennt wird, dass sich das Substrat im inneren Raum befindet.
Somit wird in dem Falle, in dem das Substrat längere Zeit als konzipiert der Strahlungswarme des beheizten Bedampfungskanals ausgesetzt ist, das im Bedampfungskanal befindliche Substrat durch den zwischen dem Substrat und der heißen Bedampfungska- naloberflache angeordneten Hohlkörper thermisch geschützt und das Substrat ist in einem solchen Storungsfall keinen thermi- sehen Belastungen ausgesetzt. Mit dem Einschieben eines Hohlkörpers wird außerdem ein sehr schnell zur Verfügung stehender Schutz des Substrates ermöglicht, der mittels geeigneter Bewe- gungs- und Temperaturerfassung auch automatisiert werden kann.
Ein weiterer besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Einschu- bes eines Hohlkörpers in den Raum zwischen der Bedampfungska- naloberflache und dem Substrat besteht darin, dass sich das beispielsweise durch Düsen in der Kanaloberfläche einströmende, dampfartige Beschichtungεmaterial im Wesentlichen auf dem Hohl- körper und nicht auf dem Substrat abscheidet. Auf diese Weise kann auch eine unkontrollierte Beschichtung des Substrates in einem Störungsfall verhindert werden. Des Weiteren ist es möglich, aufgrund des guten Abschlusses des Substrates mit eingeführtem Hohlkörper, zur Konditionierung des Verdampfersystems die erfindungsgemäße SubstratSchutzeinrichtung zu schließen, da dadurch eine Kontaminierung der Schicht auf dem innerhalb des Bedampfungskanals befindlichen Substratabschnittes verhindert werden kann.
In einer besonders vorteilhaf en Ausführungsform des Verfahrens ist vorgesehen, dass zwei Hohlkörper in einer zueinander gerichteten Bewegung eingeschoben werden und die zwei zueinander gerichteten Stirnseiten der beiden Hohlkörper im eingeschobenen Zustand aneinander liegen.
Durch die Einführung von zwei Hohlkörpern in den Bedampfungska- nal, sind vergleichsweise kurze Verfahrwege der Hohlkörper möglich, was einerseits den Vorteil des schnell zur Verfügung stehenden Substratschutzes erhöht und andererseits den zusätzlichen Platzbedarf für das Bereitstellen des Hohlkörpers in einer Bereitschaftsposition verringert, insbesondere da die Ausmaße einer Bedampfungsanläge üblicherweise sehr erheblich sind. Auch kann die zur Bewegung der Hohlkörper erforderliche Kraft, die mittels geeigneter Übertragungsmittel im Inneren der Bedamp¬ fungseinrichtung aufzubringen ist, deutlich verringert werden. Beispielsweise kann bei der üblichen vertikalen Anordnung einer Bedampfungskammer durch eine entsprechende Kraftumlenkung die Gewichtskraft des einen Hohlkörpers zur Bewegung des anderen Hohlkörpers genutzt werden.
Zweckmäßig ist es auch, wenn der oder die Hohlkörper in der den Bedampfungskanal umgebenden Vakuumkammer verfährt . Der Bedampfungskanal weist eintrittsseitig eine Öffnung zur Einführung des Hohlkörpers auf. Der Hohlkörper befindet sich dadurch sowohl in der Bereitschaftsposition als auch in der Einsatzposition sowie in jeder Zwischenposition in der Vakuumkammer, so dass eine Beeinflussung der Prozessparameter wie Druck innerhalb der Vakuumkammer vermieden wird. Außerdem ist diese Ausgestaltung der Erfindung geeignet, einen besonders schnell einsetzbaren Schutz des Substrates zu gewährleisten.
In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, dass der Hohlkörper parallel zur Transportrichtung des bandförmigen Substrats eingeschoben wird. Der Hohlkörper ruht somit in Bereitschaftsposition in unmittelbarer Nähe des Bedampfungskanals und ist relativ zum bewegten Substrat bereits in dieser Lage so genau positioniert, dass lediglich eine Parallelverschiebung des Hohlkörpers erforderlich ist. Somit wird der Schutz des Substrats schon allein nach der Durchführung einer einfachen linearen Bewegung des Schutzkörpers hergestellt .
Darüber hinaus ist es dienlich, wenn der Hohlkörper mit einem geeigneten Verfahren gekühlt wird, da somit die von dem Hohlkörper aufgenommene Wärmeenergie abgeführt wird. Damit ist insbesondere gewährleistet, dass sich während des Verweilens des Hohlkörpers im heißen Bedampfungskanal das dampfförmige Be- schichtungsmaterial stets auf dem Hohlkörper abscheidet und dessen Aufheizen verzögert oder gar verhindert wird, so dass keine rückläufige Verdampfung des kurzfristig auf dem eingefahrenen, relativ kalten Hohlkörper abgeschiedenen Materials erfolgt. Besonders bevorzugt geschieht die Kühlung deshalb aktiv mittels einer Kühlflüssigkeit. Diese Kühlung kann unabhängig von der Dauer des Verweilens des Hohlkörpers in dem heißen Bedampfungskanal gewährleistet werden.
Zur Unterbrechung einer weiteren Beschickung des Bedampfungskanals mit dampfförmigem Beschichtungsmaterial wird zweckmäßiger- weise im Störungsfall die Beschickung der Beschichtungskammer mit Beschichtungsmaterial durch Schließen eines Ventils unterbunden. Das bereits im Bedampfungskanal und der Zuleitung befindliche, dampfförmige Beschichtungsmaterial scheidet sich infolge der Unterbrechung der Zufuhr im Wesentlichen vollständig auf der kalten Oberfläche des in den Bedampfungskanal eingeschobenen Hohlkörpers ab. Da die übrigen Oberflächen des Bedampfungskanals weiterhin bis zur im Wesentlichen vollständigen Abscheidung des restlichen dampfförmigen Beschichtungsmaterials geheizt werden, wird sich das Beschichtungsmaterial im wesent- liehe nur auf dem Hohlkörper abscheiden.
Anordnungsseitig wird die Aufgabe durch eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Substratbeschichtung gemäß der Merkmale des Anspruches 7 gelöst. Gemäß Anspruch 7 umgibt bei einem Unterschreiten einer Mindesttransportgeschwindigkeit des Substrats oder bei dessen Stillstand wenigstens ein in den Bedampfungskanal einführbarer Hohlkörper das Substrat. Somit wird das im Bedampfungskanal ruhende Substrat durch den zwischen dem Substrat und einer Heizeinrichtung angeordneten Hohlkörper thermisch geschützt. Das Substrat ist somit in solch einem Störungsfall thermisch geringeren Belastungen ausgesetzt. Zudem scheidet sich das einströmende dampfartige Beschichtungsmaterial im Wesentlichen auf dem Hohlkörper ab.
Zur Gewährleistung einer möglichst wenig aufwändigen und zudem, durch ein lediglich einteiliges Funktionselement, sicheren Funktionsweise ist es vorteilhaft, dass der Hohlkörper ein prismatischer oder zylindrischer Hohlkörper ist. Das Substrat ist für seinen kontinuierlichen Transport durch den Hohlkörper hindurchgeführt, so dass durch den Hohlkörper ein vollumfängli¬ cher Schutzkörper bereitgestellt wird. In einer weiteren besonderen Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Hohlkörper bei regelmäßigem, kontinuierlichem Sub- strattransport mit wenigstens der Mindestgeschwindigkeit in einer Bereitschaftsposition außerhalb des Bedampfungskanals und innerhalb der Vakuumkammer und darüber hinaus gegebenenfalls bei Unterschreiten der Mindesttransportgeschwindigkeit des Substrats oder bei dessen Stillstand in einer Einsatzposition im wesentlichen im Bedampfungskanal angeordnet ist. Dabei kann der Hohlkörper stets gänzlich in der Vakuumkammer angeordnet verbleiben und im Einführbereich mit der Wand des Bedampfungskanals abschließen.
Sofern entsprechend einer anderen Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Beschichtungseinrichtung zwei Hohlkörper in einer Einsatzposition im Wesentlichen in der Beschichtungskammer an- geordnet sind, bilden die Hohlkörper eine optisch dichte Trennung in einen inneren und äußeren Teil des Bedampfungskanals, wodurch sich die beschriebenen Vorteile hinsichtlich der Abtrennung des im Bedampfungskanals befindlichen Substrats verstärken und darüber hinaus der anlagentechnische Aufwand für die Substratschutzeinrichtung optimieren lassen.
Zweckmäßiger Weise kann die Hohlkörperwand aus einem Hochtemperaturstahl oder einer Hochtemperaturlegierung gefertigt. In jedem Fall weist die Hohlkörperwand eine selbst im Störfall ausreichende thermische und somit auch mechanische Stabilität bis zu einem Temperaturbereich von 800 °C, vorzugsweise bis 1000°C, auf.
Um eine thermische Isolierung der beiden Räume zueinander zu erzielen weist der Hohlkörper eine innere Hohlkörperwand und eine dazu beabstandete äußere Hohlkörperwand, so dass ein Zwi- schenraum umschlossen wird. Der Zwischenraum ist dabei zwischen den beiden Wänden vollumfänglich an dem Hohlkörper ausgebildet.
Auf diese Weise kann eine Kühlung des Hohlkörpers ermöglicht werden, indem der Zwischenraum zwischen der inneren Hohlkör- perwand und der äußeren Hohlkörperwand mit einer Kühlflüssigkeit angefüllt ist. Die Kühlflüssigkeit nimmt die auf die Wände übertragene Wärme auf. Besonders vorteilhaft wird die Kühlflüssigkeit ausgetauscht und somit die aufgenommene Wärme aufge- führt .
Als Flüssigkeit wird Wasser oder jede andere Flüssigkeit mit hoher Wärmekapazität verwendet. Insbesondere wird Wasser als Flüssigkeit verwendet, da Wasser günstig verfügbar ist. Zur effektiven Kühlung wird die Flüssigkeit durch den Zwischenraum hindurchgeleitet. Zusätzlich können durch den Einbau von Wänden in den Zwischenraum und einer daraus resultierenden Kanalumgebung die Durchflussrichtung und die Fließgeschwindigkeit konstruktiv vorgegeben sein. Je kleiner der Kanalquerschnitt, desto höher ist die Fließgeschwindigkeit bei konstant gehaltenem Durchflussvolumen. Zur Kühlung tritt kalte Flüssigkeit in den Zwischenraum ein und warme Flüssigkeit tritt wieder aus. Die Kühlung kann während Bereitschaftsposition des Hohlkörpers auch nicht aktiv sein, d.h. die Flüssigkeit ruht in dem Zwischenraum. Im Einsatzzeitpunkt wird sodann die Kühlung dadurch akti- viert, dass die Flüssigkeit durchgeleitet wird. Alternativ kann die Kühlung zur Gewährleistung der Funktion und einer raschen Einsetzbarkeit fortwährend aktiv sein.
Zweckmäßig ist es, dass der Hohlkörper auf Rollen und/oder Schienen gelagert ist, damit der Hohlkörper definiert bewegt werden kann und eine Beschädigung der Vakuumkammer oder des Bedampfungs anals während der Bewegung sicher verhindert wird. Die Führung ist unter den Betriebsbedingungen vakuumtauglich und thermisch stabil ausgebildet. Zur Bewegung des Hohlkörpers ist es besonders zweckmäßig, dass die Substratschutzvorrichtung wenigstens einen Antrieb umfasst. Der Antrieb ist vorzugsweise außerhalb der Vakuumkammer angeordnet und wirkt in diesem Fall über ein oder mehrere Transmissionsglieder auf den Hohlkörper.
Als Transmissionsmittel sind beispielsweise Seile, Bänder, Gurte, Ketten, Zahnriemen oder dergleichen vorgesehen. Dabei wird die Wirkrichtung der Kraft über Umlenkrollen richtungsverän- dert . Alternativ wird die Antriebskraft auf den Hohlkörper beispielsweise mittels einer teleskopisierbaren Vorrichtung, mittels einer Vorrichtung mit einer Zahnstangenführung oder der- gleichen übertragen. Die Transmissionsmittel und gegebenenfalls die Umlenkungen sind unter den Betriebsbedingungen vakuumtauglich und thermisch stabil ausgebildet.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbei- spiels näher erläutert werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigen
Fig. 1 die sche atische Darstellung eines vertikalen Querschnitts durch eine erfindungsgemäße Beschichtungseinrichtung mit einer Substratschutzeinrichtung,
Fig. 2 die Beschichtungseinrichtung nach Fig. 1 mit der Substratschutzeinrichtung in Betriebsposition und
Fig. 3 die schematische Darstellung eines vertikalen Querschnitts durch einen Hohlkörper.
Zum Gegenstand:
Fig. 1 zeigt eine erfindungsgemäße Beschichtungseinrichtung 1 mit einer Vakuumkammer 2 und einem darin angeordneten Bedampfungskanal 3. Der Bedampfungskanal 3 weist eine Höhe von etwa 4 Metern auf und ist auf mittlerer Höhe der etwa 10 Meter hohen Vakuumkammer 2 angeordnet . Der Bedampfungskanal 3 hat die Form eines hoch stehenden, länglichen, hohlen Quaders und ist an dem oberen und unteren Ende grundflächig geöffnet. Die Außenseite des Bedampfungskanals 3 ist vollumfänglich mit einer Heizeinrichtung 4 versehen, die als elektrische Widerstandsheizung zur Strahlungsheizung ausgebildet ist.
Auf Höhe der Mitte der Vakuumkammer 2 bzw. des Bedampfungska- nals 3 ist auf zwei gegenüberliegenden Seiten, beidseitig des
Substrates, eine in Betriebslage im Wesentlichen horizontal ausgerichtete Düse 5 montiert, die mit dem jeweils engen Enden in den Bedampfungskanal 3 münden. Das jeweils andere Ende der Düsen 5 ist mit einer Verdampfungseinrichtung, welche der Verdampfung des Beschichtungsmaterials dient, verbunden.
Durch die Vakuumkammer 2 und durch den Bedampfungskanal 3 wird ein bandförmiges Substrat 6 transportiert. Das Substrat 6 ist derart ausgerichtet, dass die Flächen quer zu der Düse orientiert sind, wobei die Düse jeweils auf die Flächenmitte des Substrats gerichtet ist. Das Substrat kann in einem vorangegangenen Beschichtungsdurchlauf bereits beschichtet sein.
Ebenfalls in der Vakuumkammer 2 befindet sich der erfindungsgemäße Hohlkörper als Substratschutzeinrichtung. Diese besteht aus zwei linear verfahrbaren Einheiten. Jede Einheit umfasst einen Hohlquader 7, der an den Seiten der Grundflächen zum Hindurchführen des Substratbandes 6 geöffnet ist. Die Abmessungen der Grundfläche eines Hohlquaders 7 sind kleiner als die Abmessungen der Grundfläche des Bedampfungskanals 3 , und die Höhe eines Hohlquaders 7 überragt die halbe Höhe des Bedampfungskanals 3 leicht. Ferner sind die Hohlquader 7 aufeinander gerichtet, um das Substratband 6 herum und zur Transportrichtung des Substratbandes 6 parallel verfahrbar gelagert.
In Bereitschaftsposition ist jeweils ein Hohlquader 7 oberhalb und unterhalb der Bedampfungskanal 3 gehaltert (Fig. 1) . In der Einsatzposition, d. h. nachdem die beiden Hohlquader in den Bedampfungskanal eingeführt sind, stoßen die beiden Hohlquader 7 mit ihren gegenüberliegenden Stirnseiten auf Höhe der Düsen 5 aneinander. In der Berührungsebene der beiden Hohlquader 7 liegend diese dampfdicht aufeinander, so dass der Bedampfungskanal 3 in einen Bedampfungsinnenkanal 11 und in einen Bedampfungsau- ßenkanal 12 geteilt ist (Fig. 2).
Die Kühlwasserversorgung des Hohlquaders 7 erfolgt beispielsweise über nicht näher dargestellte, mäanderförmig gelegte Schlauchverbindungen, die sich durch Öffnen ihrer Biegeradius an die Distanzunterschiede des Hohlquaders 7 anpassen. Fig. 3 zeigt einen Hohlquader im Querschnitt. Der Hohlquader 7 bildet zwischen einer äußeren Hohlkörperwand 8 und einer inneren Hohlkörperwand 9 umfänglich einen Zwischenraum 10 aus, der als Kanalsystem dient. Durch das Kanalsystem hindurch wird Was- ser als Kühlflüssigkeit 13 mit einer definierten Durchflussgeschwindigkeit geleitet.
Jeder Hohlquader 7 ist an nicht näher dargestellten Führungsschienen geführt. Zur Aufhängung weist der Hohlquader 7 auf der dem anderen Hohlquader gegenüberliegenden Grundseite eine Quer- strebe 14 auf. Aufgrund der Länge der Hohlquader, welche um mindestens einen Querschnitt der Querstrebe größer ist als die halbe Länge des Bedampfungskanals, stehen die Querstreben der Aufhängung aus der Bedampfungskanal 3 heraus hervor.
Außerhalb der Vakuumkammer 2 ist ein ebenfalls nicht näher dar- gestellter Antrieb mit einer in die Vakuumkammer 2 reichenden Welle montiert. Die Antriebswellen sind mittels über Umlenkrollen geführten Zugmittel mit den beiden Hohlquadern 7 verbunden.
Zum Verfahren:
Das Beschichtungsverfahren ist eine kontinuierliche thermische Vakuumbeschichtung des bandförmigen Substrats durch Verdampfen von festem Beschichtungsmaterial und Dampfabscheidung des dampfförmigen Beschichtungsmaterials auf dem kontinuierlich transportierten Substrat in der Bedampfungskanal 3.
Dazu wird das feste Beschichtungsmaterial im Vakuum erhitzt und durch die Düse 5 beidseitig des Substrats in den geheizten und evakuierten Bedampfungskanal 3 transportiert. Mittels eines an der Verdampfereinrichtung vorhandenen dampfdichten Ventils kann der Zustrom dampfförmigen Beschichtungsmaterials reguliert und auch unterbrochen werden.
In dem Bedampfungskanal 3 wird das bandförmige Substrat 6 aus Stahl transportiert, wobei die Transportgeschwindigkeit vari- iert und im Ausführungsbeispiel zwischen 30 Meter pro Minute und 200 Meter pro Minute liegt.
Der Subε rattransport wird mit Sensoren über eine computergestützte Steuereinheit überwacht. Sobald im Substrattransport eine Störung auftritt und das Substrat 6 nicht oder nicht schnell genug wieder aus dem heißen Bedampfungskanal 3 heraustritt, wird eine Störung registriert.
In diesem Fall fahren die beiden außerhalb, d.h. oberhalb und unterhalb des Bedampfungskanal 3 in der Vakuumkammer 4 ge al- terten Hohlquader 7 als ein thermischer Schutzvorhang in den Bedampfungskanal 3 ein und zusammen. In der Kontaktebene liegen die beiden Hohlgjuader 7 so dicht aufeinander, dass kein dampfförmiges Beschichtungsmaterial in die Bedampfungsinnenkammer eindringt. Während des Beschichtungsprozesses ist der Zwischen- räum 10 mit Kühlwasser 11 gefüllt, welches durch den Zwischenraum 10 durchgeleitet wird.
Auch wird durch eine Steuereinheit die weitere Beschickung des Bedampfungskanals 3 mit nachdrängendem dampfförmigem Beschichtungsmaterial unterbunden. Das in dem Bedampfungskanal 3 und in den zwischen Verdampfungs- und Bedampfungseinric tung vorhandenen Transportlinien befindliche dampfförmige Beschichtungsmaterial scheidet sich auf der gekühlten, äußeren Hohlkörperwand 8 und auf der gekühlten, inneren Hohlkörperwand 9 ab. Zumindest die Bedampfungsinnenkammer ist danach im Wesentlichen frei von Kondensat des Beschichtungsmaterials.
Bei einer Störung wird das Heizen des Bedampfungskanals fortgesetzt. So scheidet sich das dampfförmige Beschichtungsmaterial im Wesentlichen vollständig auf der inneren und äußeren Hohlkörperwand 8, 9 der Hohlquader 7 ab. Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Vakuumbeschichtung
Bezugszeichenliste
1 Beschichtungseinrichtung 2 Vakuumkammer 3 Bedampfungskanal 4 Heizeinrichtung 5 Düse 6 Substrat 7 Hohlkörper, Hohlquader 8 äußere Hohlkörperwand 9 innere Hohlkörperwand 10 Zwischenraum 11 Bedampfungsinnenkanal 12 Bedampfungsaußenkanal 13 Kühlflüssigkeit 14 Querstrebe

Claims

Verfahren und Vorrichtung zur thermischen VakuumbeschichtungPatentansprüche
1. Verfahren zur thermischen Vakuumbeschichtung eines kon- tinuierlich transportierten Substrats durch Verdampfen von festen und/oder flüssigen Beschichtungsmaterialen und Dampfabscheidung des dampfförmigen Beschichtungsmaterials auf dem Substrat, wobei sich das Substrat in einem beheizten Bedampfungskanal einer Bedampfungseinrich- tung bewegt, dadurch gekennzeichnet, dass der Bedampfungskanal (3) bei Unterschreiten einer Mindesttrans- portgeschwindigkeit oder bei Stillstand des Substrats durch Einschub wenigstens eines lageveränderlichen Hohlkörpers (7) derart in einen äußeren Raum (3) und einen inneren Raum getrennt wird, dass sich das Substrat im inneren Raum befindet .
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zwei Hohlkörper (7) in einer zueinander gerichteten Bewegung eingeschoben werden und die zwei zueinander ge- richteten Stirnseiten der beiden Hohlkörper (7) im eingeschobenen Zustand aneinander liegen.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2 , dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) in einer den Bedampfungskanal (3) umgebenden Vakuumkammer (2) verfährt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) parallel zur Transportrichtung des Substrats (6) eingeschoben wird.
5. erfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) gekühlt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass bei Unterschreiten einer Mindest- transportgeschwindigkeit des Substrats oder bei dessen Stillstand die Beschickung des Bedampfungskanals (3) mit dampfförmigem Beschichtungsmaterial unterbunden wird.
7. Beschichtungseinrichtung insbesondere zur thermischen Vakuumbeschichtung von kontinuierlich transportiertem Substrat, bestehend aus einer Bedampfungseinrichtung, eine Vakuumkammer und einen in der Vakuumkammer angeordneten, das Substrat umschließenden Bedampfungskanal (3) umfassend, und einer mit dem Bedampfungskanal verbundenen Verdampfungseinrichtung dadurch gekennzeichnet, dass bei Unterschreiten einer Mindesttransportgeschwindigkeit des Substrats (6) oder bei dessen Stillstand wenigstens ein in den Bedampfungskanal (3) einführbarer Hohlkörper (7) das Substrat (6) umgibt.
8. Beschichtungseinrichtung nach Anspruch 7, dadurch ge- kennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) ein prismatischer oder zylindrischer Hohlkörper ist.
9. Beschichtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) bei kontinuierlichem Substrattransport mit wenigstens der Mindestgeschwindigkeit in einer Bereitschaftsposition außerhalb des Bedampfungskanals (3) und innerhalb der Vakuumkammer angeordnet ist.
10. Beschichtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) bei Unterschreiten einer Mindesttransportgeschwindigkeit des Substrats (6) oder bei dessen Stillstand in einer Einsatzposition im Wesentlichen im Bedampfungskanal (3) angeordnet ist.
11. Beschichtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass zwei Hohlkörper (7) in einer Einsatzposition im Wesentlichen im Bedampfungska- nal (3) angeordnet sind, wobei die beiden Hohlkörper (7) mit ihren gegenüberliegenden Stirnseiten aneinander liegen.
12. Beschichtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) aus Hochtemperaturstahl oder einer Hochtemperaturlegierung besteht .
13. Beschichtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) eine innere Hohlkörperwand (9) und eine dazu beabstandete äu- ßere Hohlkörperwand (8) aufweist, die einen Zwischenraum umschließen.
14. Beschichtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) auf Rollen und/oder Schienen gelagert ist.
15. Beschichtungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) mittels eines Antriebs verfahrbar ist.
16. Beschichtungseinrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (7) über Transmissi- onsmittel mit dem Antrieb verbunden ist.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7465475B2 (en) * 2004-11-09 2008-12-16 Eastman Kodak Company Method for controlling the deposition of vaporized organic material
DE102013112068B4 (de) 2013-11-01 2018-09-27 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Substratbehandlungsanlage
DE102014112536A1 (de) * 2014-09-01 2016-03-03 Von Ardenne Gmbh Substratbehandlungsanlage und Heizeinrichtung
EP3308383A1 (de) * 2015-05-18 2018-04-18 Mustang Vacuum Systems, Inc. Vorrichtung und verfahren zur verdampfung und abscheidung von materialien unter verwendung eines seilfilaments
US20170144181A1 (en) * 2015-11-23 2017-05-25 United Technologies Corporation Tooling for vapor deposition
WO2019116082A1 (en) * 2017-12-14 2019-06-20 Arcelormittal Vacuum deposition facility and method for coating a substrate
WO2019116081A1 (en) * 2017-12-14 2019-06-20 Arcelormittal Vacuum deposition facility and method for coating a substrate
KR102292575B1 (ko) * 2019-12-16 2021-08-24 주식회사 포스코 연속 코팅 장치
DE102020126101A1 (de) 2020-10-06 2022-04-07 Thyssenkrupp Steel Europe Ag Beschichtungsvorrichtung zum Ablagern eines Beschichtungsmaterials auf einem Substrat

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3598957A (en) * 1968-09-13 1971-08-10 Tokyo Shibaura Electric Co Vacuum deposition apparatus
US3763821A (en) * 1971-12-21 1973-10-09 Cit Alcatel Vacuum deposition apparatus

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7205670A (de) * 1972-03-16 1973-09-18
DE2951802A1 (de) * 1979-12-21 1981-07-09 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Vorrichtung und verfahren zum vollautomatischen lackieren von bandfoermigen materialien
JPS5927531A (ja) * 1982-08-04 1984-02-14 Nec Corp 気相成長用試料台
JPS6021378A (ja) 1983-07-15 1985-02-02 Nisshin Steel Co Ltd 真空蒸着装置
FR2611746B1 (fr) * 1987-03-06 1989-06-30 Centre Nat Etd Spatiales Dispositif d'evaporation sous vide d'un metal en continu
DE10152655B4 (de) * 2000-10-17 2013-10-02 Samsung Display Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung einer organischen Elektrolumineszenz-Vorrichtung
KR20040026733A (ko) * 2002-09-25 2004-04-01 주식회사 피앤아이 표면개질된 모재와의 접착력이 향상된 후막 형성 방법 및그의 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3598957A (en) * 1968-09-13 1971-08-10 Tokyo Shibaura Electric Co Vacuum deposition apparatus
US3763821A (en) * 1971-12-21 1973-10-09 Cit Alcatel Vacuum deposition apparatus

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN Bd. 008, Nr. 111 (E-246), 24. Mai 1984 (1984-05-24) & JP 59 027531 A (NIPPON DENKI KK), 14. Februar 1984 (1984-02-14) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN Bd. 009, Nr. 134 (C-285), 8. Juni 1985 (1985-06-08) & JP 60 021378 A (NITSUSHIN SEIKOU KK; others: 01), 2. Februar 1985 (1985-02-02) *

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