WO2005062335A3 - Vorrichtung zur erzeugung angeregter und/oder ionisierter teilchen in einem plasma und verfahren zur erzeugung ionisierter teilchen - Google Patents

Vorrichtung zur erzeugung angeregter und/oder ionisierter teilchen in einem plasma und verfahren zur erzeugung ionisierter teilchen Download PDF

Info

Publication number
WO2005062335A3
WO2005062335A3 PCT/EP2004/011119 EP2004011119W WO2005062335A3 WO 2005062335 A3 WO2005062335 A3 WO 2005062335A3 EP 2004011119 W EP2004011119 W EP 2004011119W WO 2005062335 A3 WO2005062335 A3 WO 2005062335A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
producing
ionised particles
plasma
excited
particles
Prior art date
Application number
PCT/EP2004/011119
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2005062335A2 (de
Inventor
Alexander Gschwandtner
Josef Mathuni
Alexander Mattheus
Stephan Schneider
Juergen Sellmaier
Heinz Steinhardt
Original Assignee
R3T Gmbh Rapid Reactive Radica
Alexander Gschwandtner
Josef Mathuni
Alexander Mattheus
Stephan Schneider
Juergen Sellmaier
Heinz Steinhardt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by R3T Gmbh Rapid Reactive Radica, Alexander Gschwandtner, Josef Mathuni, Alexander Mattheus, Stephan Schneider, Juergen Sellmaier, Heinz Steinhardt filed Critical R3T Gmbh Rapid Reactive Radica
Priority to EP04765827A priority Critical patent/EP1709663A2/de
Publication of WO2005062335A2 publication Critical patent/WO2005062335A2/de
Publication of WO2005062335A3 publication Critical patent/WO2005062335A3/de
Priority to US11/450,871 priority patent/US7665416B2/en

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32192—Microwave generated discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Es wird eine Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/ oder ionisierter Teilchen in einem Plasma mit einem Generator (11) zur Erzeugung einer elektromagnetischen Welle und einer Anregungskammer (20) mit einer Plasmazone, in der die angeregten und/ oder ionisierten Teilchen gebildet werden, beschrieben. Mindestens eine Anregungskammer ist in einem Isolatormaterial (18) außermittig zu einem ringzylindrischen Außenleiter (17) angeordnet.
PCT/EP2004/011119 2003-12-12 2004-10-05 Vorrichtung zur erzeugung angeregter und/oder ionisierter teilchen in einem plasma und verfahren zur erzeugung ionisierter teilchen WO2005062335A2 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP04765827A EP1709663A2 (de) 2003-12-12 2004-10-05 Vorrichtung zur erzeugung angeregter und/oder ionisierter teilchen in einem plasma und verfahren zur erzeugung ionisierter teilchen
US11/450,871 US7665416B2 (en) 2003-12-12 2006-06-12 Apparatus for generating excited and/or ionized particles in a plasma and a method for generating ionized particles

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10358329.7 2003-12-12
DE10358329A DE10358329B4 (de) 2003-12-12 2003-12-12 Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma und Verfahren zur Erzeugung ionisierter Teilchen

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US11/450,871 Continuation US7665416B2 (en) 2003-12-12 2006-06-12 Apparatus for generating excited and/or ionized particles in a plasma and a method for generating ionized particles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2005062335A2 WO2005062335A2 (de) 2005-07-07
WO2005062335A3 true WO2005062335A3 (de) 2005-10-20

Family

ID=34638647

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2004/011119 WO2005062335A2 (de) 2003-12-12 2004-10-05 Vorrichtung zur erzeugung angeregter und/oder ionisierter teilchen in einem plasma und verfahren zur erzeugung ionisierter teilchen

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7665416B2 (de)
EP (1) EP1709663A2 (de)
DE (1) DE10358329B4 (de)
WO (1) WO2005062335A2 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004039468B4 (de) * 2004-08-14 2008-09-25 R3T Gmbh Rapid Reactive Radicals Technology Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
DE102006006289A1 (de) * 2006-02-10 2007-08-23 R3T Gmbh Rapid Reactive Radicals Technology Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6439714A (en) * 1987-08-06 1989-02-10 Mitsubishi Electric Corp Plasma device
JPS6471098A (en) * 1987-09-10 1989-03-16 Mitsubishi Electric Corp Plasma device
EP0334184A2 (de) * 1988-03-16 1989-09-27 Hitachi, Ltd. Mikrowellenionenquelle
JPH0729889A (ja) * 1993-07-08 1995-01-31 Anelva Corp マイクロ波プラズマ処理装置
DE19608949A1 (de) * 1996-03-08 1997-09-11 Ralf Dr Spitzl Vorrichtung zur Erzeugung von leistungsfähigen Mikrowellenplasmen
DE19847848C1 (de) * 1998-10-16 2000-05-11 R3 T Gmbh Rapid Reactive Radic Vorrichtung und Erzeugung angeregter/ionisierter Teilchen in einem Plasma
WO2003015122A1 (de) * 2001-08-07 2003-02-20 Schott Glas Vorrichtung zum beschichten von gegenständen

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19727857C1 (de) * 1997-06-30 1999-04-29 Fraunhofer Ges Forschung Plasmarektor mit Prallströmung zur Oberflächenbehandlung
DE19856307C1 (de) * 1998-12-07 2000-01-13 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Erzeugung eines freien kalten Plasmastrahles
DE10116502B4 (de) * 2001-04-03 2004-02-19 Viöl, Wolfgang, Prof. Dr. Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung eines Plasmastrahls
DE10145131B4 (de) * 2001-09-07 2004-07-08 Pva Tepla Ag Vorrichtung zum Erzeugen eines Aktivgasstrahls
JP2005519742A (ja) 2002-03-13 2005-07-07 スリニバサン，ゴパラクリスナン 物質の分子工学および合成のためのプロセスおよび合成装置
US6991219B2 (en) * 2003-01-07 2006-01-31 Ionbond, Llc Article having a hard lubricious coating
JP5404984B2 (ja) * 2003-04-24 2014-02-05 東京エレクトロン株式会社 プラズマモニタリング方法、プラズマモニタリング装置及びプラズマ処理装置
US20050001499A1 (en) * 2003-07-01 2005-01-06 Litton Systems, Inc. Permanent magnet rotor for brushless D.C. motor
JP2005235464A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Toshio Goto プラズマ発生装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6439714A (en) * 1987-08-06 1989-02-10 Mitsubishi Electric Corp Plasma device
JPS6471098A (en) * 1987-09-10 1989-03-16 Mitsubishi Electric Corp Plasma device
EP0334184A2 (de) * 1988-03-16 1989-09-27 Hitachi, Ltd. Mikrowellenionenquelle
JPH0729889A (ja) * 1993-07-08 1995-01-31 Anelva Corp マイクロ波プラズマ処理装置
DE19608949A1 (de) * 1996-03-08 1997-09-11 Ralf Dr Spitzl Vorrichtung zur Erzeugung von leistungsfähigen Mikrowellenplasmen
DE19847848C1 (de) * 1998-10-16 2000-05-11 R3 T Gmbh Rapid Reactive Radic Vorrichtung und Erzeugung angeregter/ionisierter Teilchen in einem Plasma
WO2003015122A1 (de) * 2001-08-07 2003-02-20 Schott Glas Vorrichtung zum beschichten von gegenständen

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 013, no. 232 (E - 765) 29 May 1989 (1989-05-29) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 013, no. 288 (E - 781) 30 June 1989 (1989-06-30) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 1995, no. 04 31 May 1995 (1995-05-31) *

Also Published As

Publication number Publication date
DE10358329A1 (de) 2005-07-07
US20060290301A1 (en) 2006-12-28
EP1709663A2 (de) 2006-10-11
US7665416B2 (en) 2010-02-23
DE10358329B4 (de) 2007-08-02
WO2005062335A2 (de) 2005-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1548808A4 (de) Hochfrequenzplasmagenerator und hochfrequenzplasmaerzeugungsverfahren
AU2001271903A1 (en) Multiple chamber airbag and method of producing the same
EP3620605A3 (de) Verfahren und vorrichtung zum bohren, frakturieren und brechen mithilfe pulsierende elektrik
EP1361782A4 (de) Plasmaeinrichtung und plasmeerzeugungsverfahren
WO2002027755A3 (en) Chamber configuration for confining a plasma
AU2002307011A1 (en) Electrical stimulation apparatus and method
WO2001013100A3 (en) Method and apparatus for multiple frequency multipole
WO2000017937A3 (de) Verfahren zum herstellen eines halbleiterbauelements
AU2003236309A8 (en) Plasma etching method
EP1695368A4 (de) Korona-entladungselektrode und betriebsverfahren dafür
AU2002356897A1 (en) Non-thermal plasma slit discharge apparatus
AU2002229972A1 (en) Cryptographic key generation apparatus and method
EP1398826A4 (de) Mikrowellen-plasmaverarbeitungseinrichtung, plasmaverarbeitungsverfahren und mikrowellenstrahlungsglied
AU2002326159A1 (en) Plasma treating apparatus and plasma treating method
EP1347673A4 (de) Plasmaerzeugungsvorrichtung mit mikrowelle
EP1615482A4 (de) Laserplasmaherstellungsverfahren und einrichtung
WO2004109741A3 (en) Ion extraction
EP1350829A4 (de) Fluoreszenzmaterial, verfahren zu dessen herstellung sowie plasmaanzeigevorrichtung
EP1426431A4 (de) Plasmaanzeigevorrichtung, fluoreszenzmaterial und verfahren zur herstellung eines fluoreszenzmaterials
WO2008112189A3 (en) Electric-field-enhancement structures including dielectric particles, apparatuses including same, and methods of use
WO2007017271A3 (de) Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmaerzeugungsverfahren
CA2314922A1 (en) Device for producing excited/ionized particles in a plasma
GB0109541D0 (en) Production method of anisotropic conductive film and anisotropic conductive film produced by this method
WO2005119838A3 (en) Nano-antenna apparatus and method
WO2005062335A3 (de) Vorrichtung zur erzeugung angeregter und/oder ionisierter teilchen in einem plasma und verfahren zur erzeugung ionisierter teilchen

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2004765827

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2004765827

Country of ref document: EP