WO2007017271A3 - Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmaerzeugungsverfahren - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaerzeugungsvorrichtung mit einer ersten und einer zweiten Elektrode (3, 4), die voneinander beabstandet sind, zur Erzeugung eines Plasmas (13) zwischen den beiden Elektroden (3, 4), einem Dielektrikum (8), das zwischen den beiden Elektroden (3, 4) angeordnet ist, einem Gaseinlass (10) in dem Raum zwischen den beiden Elektroden (3, 4) zur Zufuhr eines plasmaerzeugenden Gases (12), wobei eine der beiden Elektroden (3, 4) mindestens eine Öffnung (5) als Gasauslass aus dem Raum zwischen den beiden Elektroden (3,4) aufweist, durch den das zwischen den beiden Elektroden (3, 4) erzeugbare Plasma (13) parallel zur Richtung des von den beiden Elektroden (3, 4) zwischen den beiden Elektroden (3, 4) erzeugbaren elektrischen Feldes austreibbar ist, wobei über den Querschnitt der mindestens einen Öffnung (5) ein Gitter, Netz und/oder Gewebe (1) angeordnet ist.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101765902B (zh) * 2007-08-31 2011-09-21 东芝三菱电机产业系统株式会社 介质阻挡放电气体的生成装置
DE102008024486B4 (de) * 2008-05-21 2011-12-15 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Plasmastempel, Plasmabehandlungsvorrichtung, Verfahren zur Plasmabehandlung und Herstellungsverfahren für einen Plasmastempel
DE102009006484A1 (de) 2009-01-28 2010-07-29 Ahlbrandt System Gmbh Vorrichtung zum Modifizieren der Oberflächen von Bahn-, Platten- und Bogenware mit einer Einrichtung zur Erzeugung eines Plasmas
WO2011110191A1 (en) * 2010-03-10 2011-09-15 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e. V. Method and arrangement for treating an object with a low- temperature plasma
CN102519917B (zh) * 2011-12-13 2014-03-12 清华大学 一种基于介质阻挡放电的固体样品剥蚀方法及装置
JP5911178B2 (ja) * 2013-05-07 2016-04-27 株式会社イー・スクエア プラズマ表面処理装置
JP6224266B2 (ja) 2014-10-29 2017-11-01 東芝三菱電機産業システム株式会社 放電発生器とその電源装置
CN104936371B (zh) * 2015-06-09 2017-07-07 北京三十四科技有限公司 一种空心电极介质阻挡结构

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4332866A1 (de) * 1993-09-27 1995-03-30 Fraunhofer Ges Forschung Oberflächenbehandlung mit Barrierenentladung
US20030052096A1 (en) * 2001-07-02 2003-03-20 Plasmasol, Llc Novel electrode for use with atmospheric pressure plasma emitter apparatus and method for using the same
WO2004051702A2 (en) * 2002-12-02 2004-06-17 Sem Technology Co., Ltd Apparatus for treating surfaces of a substrate with atmospheric pressure plasma

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4486286A (en) * 1982-09-28 1984-12-04 Nerken Research Corp. Method of depositing a carbon film on a substrate and products obtained thereby
JPH0521393A (ja) * 1991-07-11 1993-01-29 Sony Corp プラズマ処理装置
DE19532412C2 (de) * 1995-09-01 1999-09-30 Agrodyn Hochspannungstechnik G Vorrichtung zur Oberflächen-Vorbehandlung von Werkstücken
US6083363A (en) * 1997-07-02 2000-07-04 Tokyo Electron Limited Apparatus and method for uniform, low-damage anisotropic plasma processing
US20050011447A1 (en) * 2003-07-14 2005-01-20 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for delivering process gas to a process chamber

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4332866A1 (de) * 1993-09-27 1995-03-30 Fraunhofer Ges Forschung Oberflächenbehandlung mit Barrierenentladung
US20030052096A1 (en) * 2001-07-02 2003-03-20 Plasmasol, Llc Novel electrode for use with atmospheric pressure plasma emitter apparatus and method for using the same
WO2004051702A2 (en) * 2002-12-02 2004-06-17 Sem Technology Co., Ltd Apparatus for treating surfaces of a substrate with atmospheric pressure plasma

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