WO2005033791A1 - 波長変換レーザ装置および画像表示装置 - Google Patents

波長変換レーザ装置および画像表示装置 Download PDF

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WO2005033791A1
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wavelength conversion
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Yasuharu Koyata
Yoshihito Hirano
Masao Imaki
Kouhei Teramoto
Shigenori Shibue
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Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
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    • H01S5/2036Broad area lasers

Definitions

  • the present invention relates to a laser device, and more particularly to wave conversion for shortening a wavelength of laser light.
  • a wavelength change layer made of a nonlinear nonlinear material is reflected inside or inside an optical resonator of a semiconductor laser or a solid-state laser, and the laser light m) generated by the optical resonator is emitted.
  • (Non-linear) ⁇ By propagating through the material, the second harmonic that has been converted to half the wavelength (twice the frequency) of the wave is tn-forced.
  • a wavelength conversion laser device for example, there is a device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-121829.
  • the semiconductor laser and the laser beam are supplied, and ⁇ f reflectors are formed on one end surface thereof to form an optical resonator.
  • the high-frequency conversion to high frequency can be achieved by inserting a wavelength converter into the optical resonator to increase the light intensity. Efficiency can be obtained.
  • a wavelength conversion laser device is composed of a semiconductor laser and a skin length change, and a narrow stripe type semiconductor laser having a small light emitting area emits a watt-class high-output laser light wave. Since it cannot be obtained, there is a limit in increasing the output of a wavelength conversion laser device.
  • a broad-area semiconductor laser with a large light-emitting area and a high output in the watt class has a lateral mode (horizontal-lateral mode) in the horizontal direction with respect to the active layer. It is not mode controlled and oscillates in multi-transverse mode with low beam quality. When such a broad-area semiconductor laser is used, a laser beam with low beam quality is used.
  • the wavelength conversion laser device of Toru has a problem in that a high-output watt-class and high-efficiency laser cannot be obtained.
  • An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the Wei's wave: exchange laser device. Disclosure of the invention
  • the wavelength conversion laser device is characterized in that the optical resonator has such a shape that the optical resonator loss in a required horizontal horizontal mode is lower than the optical resonator loss in another horizontal horizontal mode.
  • the semiconductor laser includes an optical resonator including a pair of opposing reflectors each having a surface, and a wavelength converter that converts the wavelength of the laser light into a harmonic.
  • the horizontal cavity mode is controlled by the optical resonator to perform mode control. It oscillates in high-transverse mode with one-m quality.
  • a watt-class high-output and high-beam-quality laser lightwave has sufficient coupling efficiency or angular phase matching with wavelength conversion, and high-efficiency wavelength conversion can be obtained.
  • FIG. 1 (a) is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 1 of the present invention
  • FIG. 1 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of the wavelength conversion laser device according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2A is a vertical sectional view showing the configuration of the wavelength conversion laser device according to Embodiment 1 of the present invention,
  • FIG. 2B is a horizontal sectional view showing the configuration of the wavelength conversion laser device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 (a) is a vertical sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 2 of the present invention
  • FIG. 3 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 2 of the present invention
  • FIG. 4 (a) is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 3 of the present invention
  • FIG. 4 (b) is a horizontal sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 3 of the present invention
  • FIG. 5 (a) is a vertical sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 3 of the present invention
  • FIG. 5 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 3 of the present invention.
  • FIG. 6 (a) is a vertical sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 4 of the present invention.
  • FIG. 6 (b) is a horizontal sectional view showing a configuration of a wave: conversion laser device according to Embodiment 4 of the present invention
  • FIG. 7A is a vertical sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 5 of the present invention.
  • FIG. 7 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of the wave: ⁇ conversion laser device according to Embodiment 5 of the present invention.
  • FIG. 8 (a) is a vertical sectional view showing a configuration of a wave: exchange laser device according to Embodiment 5 of the present invention
  • FIG. 8 (b) is a horizontal sectional view showing a configuration of a wave conversion laser device according to Embodiment 5 of the present invention
  • FIG. 9A is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 9 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 10 (a) is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention
  • FIG. 10 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 11 (a) is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 11 (b) is a horizontal sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 12 (a) is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 12 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 13 (a) is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 7 of the present invention.
  • FIG. 13 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 7 of the present invention.
  • FIG. 14A is a vertical sectional view showing a configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 7 of the present invention.
  • FIG. 14 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of the wave conversion laser device according to Embodiment 7 of the present invention.
  • FIG. 15 (a) is a vertical sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 8 of the present invention.
  • FIG. 15 (b) is a horizontal sectional view showing the configuration of a wavelength conversion laser device according to Embodiment 8 of the present invention.
  • the wavelength conversion laser device includes a semiconductor laser and a wavelength shifter arranged in an optical resonator.
  • the laser light (3 ⁇ 4 ⁇ wave) laser-oscillated by the optical resonator is converted into a higher harmonic wave by a male and output.
  • the laser beam (substrate) and the vertical and transverse modes of the harmonics are controlled by the optical waveguide structure and the laser beam
  • FIGS. 1 and 2 are diagrams showing a wave-converting laser device according to Embodiment 1 of the present invention.
  • the cross-sectional structure of the switching laser device is shown in (a) a vertical direction and (b) a 7-square direction with respect to the active layer of the semiconductor laser.
  • an active layer 1a made of, for example, an InGaAs-based compound semiconductor tunnel is formed.
  • the active layer 1a has a layer thickness of 1 ⁇ m gi and constitutes a slab light guide for controlling the vertical and transverse modes of laser light (3 ⁇ 4 ⁇ waves).
  • the pn age is formed at the interface of the active layer la.
  • the active layer has a width of 200, which is a so-called prode area type, and has high output characteristics with an output of 5 W or more.
  • the length of the semiconductor laser 1 in the longitudinal direction of the optical resonator is 4 mm, and the semiconductor laser 1 has a gain band of 3 nm Si with a wavelength of 946 nm as a center.
  • the wavelength change 2 is made of, for example, an MgO: LiNbO3 crystal having a periodically poled structure, and the crystal axis in the z-axis direction is aligned with the horizontal direction of the active layer 1a.
  • the wave; ⁇ variable »2 has the same thickness and width as the active layer 1a of the half laser 1 and has a wide slab light guide « 2a, and the laser beam (3 ⁇ 4 ⁇ 3 ⁇ 4) and the harmonic transverse transverse mode But Is controlled.
  • the length of the wavelength change in the vertical direction of the optical resonator is 10 mm, and the period 3 ⁇ 4K key shown in a striped pattern in the figure is 4.6 mm in the vertical direction. Has a dislocation cycle of.
  • Reference numeral 3 denotes a first reflector
  • reference numeral 4 denotes a second reflector. These constitute an optical resonator of a semiconductor laser, and a male wave 2 is arranged in the optical resonator.
  • the first reflector 3 is a coating film which is formed on one end surface of the semiconductor laser 1 and which is almost totally reflected at a wavelength of 946 °.
  • the second reflector 4 is formed integrally with the wave: ⁇ converter 2, and is a distributed reflection Bragg grating reflector (almost totally reflected at a wavelength of 946 nm and having a high ratio at a wavelength of 473 nm). Hereinafter, it is abbreviated as a grating). Further, the second reflector 4 has a radius of curvature of 180 mm in the horizontal direction in order to control the horizontal and transverse modes of the semiconductor laser 1. Further, the first reflector 3 and the second reflector 4 have a reflection spectrum with a wavelength width of 0.02 nm @ centering on a wavelength of 946 nm for selecting an oscillation wavelength.
  • Fig. 5 schematically shows the horizontal cross section of the fundamental wave beam reciprocating in the optical resonator.
  • a forward current i f is applied to the semiconductor laser 1 from an electrode (not shown), and electrons and holes are emitted to the active layer 1a.
  • the first reflector 3 and the second reflector 4 are arranged to face each other to form an optical resonator.
  • a laser having a wavelength of 946 nm corresponds to the reflection spectrum in the first reflector 3 and the second reflector 4.
  • Light is amplified.
  • the amplification loss of the laser light is reduced by the absorption loss of the semiconductor laser 1, the 3 ⁇ 4i loss of the first reflector 3 and the second reflector 4, and the loss of the optical resonator consisting of the loss due to wavelength conversion and scattering of the wave. Exceeding this leads to laser oscillation.
  • the vertical transverse mode of the laser beam (3 ⁇ 4 * i skin) is controlled by the active layer 1a.
  • Wave 2 the vertical and horizontal modes of laser light and harmonics are controlled by the slab light guide 2a.
  • laser light (3 ⁇ 4 ⁇ wave)
  • the horizontal and transverse modes of harmonics are not controlled by the active layer 1a or the slab optical waveguide 2a.
  • the horizontal transverse mode of the laser beam (S * r ⁇ ) is controlled by a first reflector 3 and a second reflector 4 having a radius of curvature of 180 mm.
  • the spatial mode of the optical resonator is defined by the width of the active layer and the radius of curvature of the second reflector 4, and the laser beam (-) that has a horizontal transverse mode with low optical loss causes laser oscillation.
  • the wavefront of the laser beam (fundamental wave) in the second reflector 4 is approximately t ⁇ on the reflection surface.
  • the broad-area type semiconductor laser 1 has high output characteristics, widens the beam diameter in the horizontal direction, reduces the power density of the laser beam ⁇ ), and reduces the optical damage and the rise in the wave: 3 ⁇ 42. Since it can be prevented, it is important to increase the output of harmonics.
  • Half: Both the laser 1 and the wavelength shifter 2 have an optical waveguide, and the waveguide modes of the optical waveguide consisting of the half laser 1 and the wavelength shifter 2 are matched in the vertical direction, and a pair is set in the horizontal direction.
  • a spatial mode consisting of an optical resonator with a reflector, reduces the supply loss of the laser skin that propagates between the semiconductor laser 1 and the wavelength converter 2, and increases the efficiency of wavelength conversion in the wavelength converter 2. That is T ability. '
  • S ⁇ 2 since S ⁇ 2 has slab light guide ⁇ g ⁇ 2a, it expands the beam diameter in the horizontal direction within the wavelength shift 2 to reduce the power density of laser light and harmonics. Heat generation due to light absorption is reduced, and the leak area is increased, preventing an increase. For this reason, the shift of the phase matching wavelength due to the temperature rise is reduced, and from this, it is a power feature to increase the efficiency of the wavelength conversion at the wavelength of 2.
  • the wave has a periodically poled structure, and the propagating harmonics are quasi-phase-matched, and it is a power function to increase the efficiency of wavelength conversion at the wavelength change Ml 2.
  • the phase difference between the wave and the second harmonic is different, and the second harmonic generated at each point propagates with a phase shift between each harmonic.
  • the bow of the synthesized harmonics decreases and repeats increasing and decreasing with the period of the coherent length. Therefore, in the periodic polarization reversal structure, the sign of the nonlinear number of the nonlinear fresh material, that is, the ferroelectric The direction of the spontaneous polarization is inverted with the period of the coherent length.
  • the wavelength of the translucent is ⁇ 1
  • the wavelength of the second harmonic; 2 the refractive index of the nonlinear optical material for the fundamental wave is nl
  • the refractive index for the second harmonic is ⁇ 2
  • the phase irregularity ⁇ * Ak 2kl—k2
  • the coherent length lc is expressed by the following equation 1.
  • the phase of the second harmonic is inverted at such a period of coherent length, and the phase of the synthesized harmonic is complemented.
  • the quasi-phase matching is achieved, and the bow increases incrementally and can efficiently generate the second harmonic.
  • a periodic pattern electrode is formed on the substrate surface of a non-linear material, and the polarization is reversed by applying a height exceeding the ferroelectric dielectric field by an electric field application method, and semiconductor processing technology is applied. In this way, they are manufactured at intervals of coherent length on the order of microns.
  • IiNb03 crystal with a large non-linear number is used as the non-linear ⁇ material, it is difficult for quasi-phase matching to perform highly efficient wavelength conversion by d33, which is a silent component of the non-linear number.
  • the Iib03 crystal is susceptible to optical damage, the power density of the waves is limited, and there is a limit to increasing the output.
  • MgO-doped MgO: Lib03 crystal is used, the resistance to optical damage is increased, and high output is realized.
  • the polarization is defined in the horizontal direction of the laser light that reciprocates in the optical resonator, the Z- axis direction where the nonlinear light ⁇ 3 ⁇ 4 of the MgO : LiNb03 crystal is the largest in the polarization direction of the laser light) It is the ability to match the crystal axes of the waves and to increase the efficiency of the wavelength conversion at the wave: 53 ⁇ 42.
  • the longitudinal mode interval of the laser light depends on the length of the optical resonator and is sufficiently small as 0.013 nm.
  • the oscillation wavelength of the laser light is as follows. Yo The longitudinal mode near the wavelength of 946 nm is selected within the wavelength width of the reflection spectrum of the second reflector 4.
  • the second reflector 4 is composed of a grating for selecting the longitudinal mode, and the phase matching wavelength of the wavelength 2 and the oscillation wavelength of the laser light are matched to reduce the phase irregularity of the harmonic, and the It is possible to increase the efficiency of the wavelength conversion in.
  • the longitudinal mode interval is sufficiently small, it is possible to control the oscillation wavelength of the laser light (3 ⁇ 4 ⁇ wave) to be sufficiently the phase matching wavelength.
  • the first reflector 3 and the second reflector 4 are formed in the semiconductor laser 1 and the light guide of the skin length change 2, the first reflector 3 and the second reflector
  • the ability to reduce the diffraction loss of the laser light i that is reflected by the optical waveguide by the optical device 3 and reciprocates in the optical resonator, and that the high-power oscillated laser light (3 ⁇ 4 ⁇ wave) increases the harmonic output.
  • the laser light (transfiguration) is confined inside the optical resonator without being output to the outside of the optical resonator due to the total reflection of the first reflector 3 and the second reflector 4.
  • only the wavelength-converted harmonics are output to the outside due to the high transmittance of the second reflector 4.
  • the wavelength change occurs inside the photo-healer in which the high-power laser light (3 ⁇ 4 * wave) is confined. With the arrangement of 2, the high-efficiency wavelength-converted harmonics are emitted with high output.
  • the coating film and the grating may be exchanged.
  • the first reflector 3 is formed integrally with the semiconductor laser 1 and is almost totally reflected at a wavelength of 946 nm. It is a coating film that is formed, is almost totally reflected at a wavelength of 946 nm, and has a high transmittance at a wavelength of 473 nm.
  • the coating film as the second reflector 4 is formed on the curved end face of the wavelength converter 2 and has a radius of curvature of 180 mm in the horizontal direction in order to control the horizontal and transverse modes of the laser beam. ing.
  • the coating film of the first reflector 3 and the grating of the second reflector 4 have a wavelength of 946 nm for selecting the longitudinal mode of the laser beam (3 ⁇ 4 ⁇ ⁇ ).
  • the heart has a reflection spectrum with a wavelength width of 0.02 nm US. Even in the configuration shown in FIG. 2, FIG. The same effect as ⁇ can be obtained.
  • the mode control of the horizontal and transverse modes is performed by the optical resonator.
  • the beam oscillated in the transverse mode with high beam quality.
  • the watt-class high-output and high-beam-quality laser light ( ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ) has a sufficient supply efficiency with respect to the wavelength conversion, and a high-efficiency wave-to-conversion is obtained.
  • Embodiment 2
  • the wavelength conversion laser device according to the second embodiment of the present invention has substantially the same configuration and operation as the wavelength conversion laser device according to the first embodiment, but differs from the embodiment in the optical resonator. .
  • FIG. 3 is a Hi diagram showing a wavelength conversion laser device according to a second embodiment of the present invention. It should be noted that the cross-sectional keys of the wave switching laser device are shown in (a) vertical direction and (b) horizontal direction with respect to the active layer of the semiconductor laser. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
  • the first reflector 3 is formed integrally with the semiconductor laser 1, and is a grating that is almost totally reflected at a wavelength of 946 nm.
  • the second reflector 4 has “f It is a coating film that is formed and has almost total reflection at a wavelength of 946 nm and has a high 3 ⁇ 41 ratio at a wavelength of 473 nm.
  • the grating of the first reflector 3 controls the horizontal mode in the horizontal direction Therefore, as in the first embodiment, the vertical transverse mode of the laser beam (transformation) is determined by the semiconductor laser 1 and the light guide structure of the tJ long-term change 2 as in the first embodiment.
  • the horizontal transverse mode is controlled by a first reflector 3 and a second reflector 4 having a radius of curvature of 170 mm.
  • the spatial mode of the optical return is defined by the width of the active layer and the radius of curvature of the first reflector 3, and laser light (3 ⁇ 4 * wave) having a horizontal transverse mode with low optical resonator loss is generated by the laser. Oscillates and
  • the wavefront of the laser beam () at the reflector 3 of 1 is substantially parallel to the reflection surface.
  • the first reflector 3 may be constituted by a coating film having a radius of curvature of 170 mm
  • the second reflector 4 may be constituted by darting.
  • the conversion laser device has almost the same configuration and operation as the wavelength conversion laser device of Embodiment 1 and Embodiment 2, but it is In addition, it is provided with a means for adjusting the angle & f eye alignment.
  • FIGS. 4 and 5 are configuration diagrams showing a wavelength conversion laser device according to Embodiment 3 of the present invention.
  • the cross-sectional structure of the wavelength conversion laser device is shown in (a) perpendicular direction and (b) ⁇ direction with respect to the active layer of the semiconductor laser.
  • the same indicates the same or corresponding part.
  • the half laser # 1 is a prod area type having an active layer width of 100 Hm and has high output characteristics.
  • the second reflector 4 has a radius of curvature of 16 mm in the 7K flat direction in order to control the grating flat / lateral mode.
  • the periodically poled structure with a wavelength change of 2 has a poling period of about 4.6 m.
  • the surface of the laser light wave in the horizontal direction is almost TO. It is formed in a shape.
  • the problem of angular phase matching is that when the harmonics are eye-matched and the wave is propagated to the male skin, the permissible amount of the propagation angle is limited.
  • a good wave of laser light is needed.
  • the ⁇ ⁇ ⁇ beam is in the horizontal direction. If the propagation angle differs by ⁇ between the center and the periphery of the beam, the polarization inversion period ⁇ changes to ⁇ / cos S, and the wavelength leakage rate decreases at the periphery of the beam.
  • the beam of the laser beam spreads in the horizontal direction and is silently inclined by 0.1 deg.
  • the period change job is formed in a curved surface shape that is almost equal to the wavefront of the laser beam in the horizontal direction, the polarization reversal period almost matches the beam spread of the wave, and the harmonics are sufficiently quasi-phased. It is possible to increase the efficiency of wave: 1 conversion by matching.
  • the semiconductor laser 1 is a broad area type having an active layer width of 120 dm and has high output characteristics.
  • the second reflector 4 has a radius of curvature of 14 mm in the horizontal direction in order to control the horizontal mode in the _K horizontal direction.
  • the periodic polarization inversion structure of Namibe 2 has a rotation period of about 46 m , but due to the adjustment of the angle phase matching, it has a curved surface shape that is almost TO in the horizontal direction of the laser beam (3 ⁇ 4 ⁇ wave). Is formed.
  • the laser beam (transfiguration) beam expands in the «7 ⁇ plane and tilts 0.06 deg silently.
  • the same operation and effect as in FIG. 4 can be obtained.
  • the wavelength conversion laser device has substantially the same configuration and operation as the wavelength conversion laser device according to the third embodiment, but has an optical waveguide element in which a reflector of an optical resonator is formed. It is provided with.
  • FIG. 6 is a Hi diagram showing a wavelength conversion laser device according to the haze form 4 of the present invention. Incidentally, with respect to (a) vertical direction and (b) horizontal direction with respect to the active layer of the semiconductor laser, The cross section ⁇ i of the wavelength conversion laser device is illustrated. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
  • reference numeral 6 denotes a light-guiding element, which is provided with a slab light-guiding element 6a having almost the same thickness as that of the slab light-guiding element 2a of the wavelength changing unit 2.
  • the length of the wavelength shifter 6 is 5 mm
  • the second reflector 4 is a grating formed with "" ⁇ ⁇ in the light guide, and has a radius of curvature of 130 mm in the horizontal direction. ing.
  • the operation of the wave switching laser apparatus according to the fourth embodiment as described above is the same as that according to the third embodiment, and the same effect as that of the third embodiment can be obtained.
  • the second reflector 4 is formed as an independent light guide, and the second reflector 4 of a different design can be selected or replaced, the degree of freedom of design in the wavelength conversion laser device is increased. The effect is higher.
  • the first reflector 3 is used as a dray- ing formed in an optical waveguide element having a slab light guide having substantially the same thickness as the active layer 1a of the semiconductor laser 1. The same effects as those described above can be obtained. '' Embodiment 5.
  • the wavelength conversion laser device has substantially the same configuration and operation as the wave conversion laser device of the haze type 3, except that the wavelength conversion is performed between the semiconductor laser and the wavelength conversion device. It has a reflector for reflecting waves.
  • FIG. 7 and 8 are configuration diagrams showing a wave: »laser device according to Embodiment 5 of the present invention.
  • the cross section of the wavelength conversion laser device is shown in the (a) vertical direction and (b) 7K square direction with respect to the active layer of the half-split laser.
  • the same indicates the same or corresponding part.
  • reference numeral 7 denotes a third reflector, which is a coating film formed between the half laser 1 and the wave shield 2 and almost totally reflected at a wavelength of 473 nm.
  • the third reflector 7 is an optical waveguide element woven between the half laser 1 and the wavelength change 2. 6, which is nearly total reflection at a wavelength of 473 nm.
  • the laser light reciprocates in the optical resonator, so that the laser light propagates from the wavelength 2 in the direction of the semiconductor laser 1.
  • the harmonic wave propagating in the direction of the semiconductor laser from the wavelength change is turned back by the third reflector 7 and emitted from the second reflector, thereby further increasing the output of the harmonic wave.
  • the third reflector 7 cuts off the incidence of harmonics on the semiconductor laser 1 to prevent rise and optical damage caused by absorption of the harmonics into the active layer 1a of the semiconductor laser 1. That is power river ability.
  • the wave conversion laser device has substantially the same configuration and operation as the wave conversion laser device of the fifth embodiment, but has a vertical axis between the semiconductor laser and the wave laser. It is provided with a right-and-left mode conversion means.
  • FIG. 9, FIG. 10, FIG. 11 and FIG. 12 are configuration diagrams showing a strict switching laser device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • the sectional structure of the wavelength conversion laser device is shown in (a) vertical direction and (b) horizontal direction with respect to the active layer of the semiconductor laser.
  • the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
  • the thickness of the slab optical waveguide of the semiconductor laser 1 and that of the wavelength modulator 2 are different, and 8 is a transverse mode conversion means, and the thickness of the slab optical waveguide formed on the optical waveguide is gradually changed.
  • the horizontal mode conversion means 8 includes a cylindrical lens having a curved surface only in the vertical direction.
  • a transverse index converter 8 is provided with a grating index type lens having a refractive index distribution that gradually decreases in the vertical direction.
  • the thickness of the active layer 1 a of the half laser 1 as the transverse mode conversion means 8 is gradually changed.
  • the transverse mode conversion means 8 adjusts the beam diameter, the spread angle, and the plane of the laser beam (3 ⁇ 4 ⁇ 3 ⁇ 4) incident on the slab optical waveguides of the semiconductor laser 1 and the wavelength converter 2 to adjust the semi-separated laser 1. It is effective to reduce the coupling loss of the laser beam that propagates between the wave carrier and the wave carrier 2 and to increase the efficiency of the wave conversion during the wavelength change.
  • the wavelength conversion laser device according to the seventh embodiment of the present invention has substantially the same configuration and operation as the wavelength conversion laser device of the fifth embodiment. It is provided with.
  • FIGS. 13 and 14 are configuration diagrams showing a wavelength conversion laser device according to a seventh embodiment of the present invention.
  • the sectional views of the wavelength conversion laser device are shown in the (a) vertical direction and (b) 7j square direction with respect to the active layer of the half laser.
  • the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
  • reference numeral 9 denotes a control means, which is a Peltier eave (thermoelectric element) which is evoked in contact with the wavelength converter 2 and changes i3 ⁇ 4 of the wavelength converter 2 and keeps it constant.
  • the phase matching wavelength shifts in wavelength due to the change in refractive index and the wavelength.
  • the wavelength of the second reflector 4 integrally formed with the wavelength converter 2 also changes, and the reflection spectrum shifts in wavelength due to the change and the change in the refractive index in the grating.
  • the oscillation wavelength of the laser beam (wave) dependent on the reflection spectrum shifts.
  • the wavelength shift ratio with respect to the change in the phase matching wavelength and the oscillation wavelength is different, it is necessary to adjust the phase matching wavelength and the oscillation wavelength so that they substantially match by controlling the wave ⁇ male 2. is there.
  • the longitudinal mode of the laser beam (3 ⁇ 4 ⁇ >) is discrete
  • the longitudinal mode interval in this embodiment is sufficiently small, so that the oscillation wavelength is set to the phase matching wavelength. It can be adjusted so that it almost matches.
  • the medullary control means 9 is elaborated in contact with the half laser 1, the wave antenna 2, and the light guide element 6, and changes the temperature and keeps the Peltier element (thermoelectric element) constant. ).
  • the control means 9 Even when the surroundings move, the refractive index of these semiconductor lasers 1, the wavelength fluctuation 2 and the light guiding element 6 can be kept constant by the control means 9. It is the ability to stabilize high output and high efficiency characteristics as a wavelength conversion laser device by suppressing the change of the wavelength and the change in temperature.
  • the wavelength conversion ratio can be kept almost constant without any control.
  • the two-phase matching wavelength of the wavelength change ⁇ and the oscillation wavelength of the laser beam (3 ⁇ 4 ⁇ : wave) are matched to reduce the amount of phase mismatch of harmonics, It is Rikikawano to improve the efficiency of wavelength conversion in Modification 2.
  • the wavelength conversion laser device includes a semiconductor laser and a wavefront change arranged outside the optical resonator.
  • the laser light (transition) laser-oscillated by the optical resonator is wavelength-converted to a higher harmonic wave by the oscillator and output.
  • the vertical and horizontal modes of laser light (basic and harmonics) are controlled by an optical waveguide structure, and the horizontal and horizontal modes of laser light m are controlled by an optical amplifier.
  • FIG. 15 is a schematic diagram showing a wavelength conversion laser device according to an eighth embodiment of the present invention.
  • the cross-sectional structure of the wave-converting laser device is shown in the vertical direction (a) and in the horizontal direction (b) with respect to the activity of the half laser.
  • f ⁇ are the same or The corresponding parts are shown.
  • a first reflector 3 is formed on one end face of the semiconductor laser 1 by a coating film which is almost totally reflected at a wavelength of 946 nm
  • a second reflector 4 is formed by a semiconductor laser 1. It is a grating that is formed in number f and partially radiates at a wavelength of 946 nm, and has a radius of curvature in the horizontal direction in order to control the horizontal mode in the horizontal direction of the second reflector 4.
  • the wavelength converter 2 is arranged outside the optical resonator in contact with one end face of the semiconductor laser 1.
  • the amplification gain of the laser beam exceeds the optical resonator loss including absorption in the semiconductor laser 1 and transmission loss in the first reflector 3 and the second reflector 4. And laser oscillation.
  • the vertical and horizontal modes of the laser lightwave are controlled by the active layer 1a.
  • the laser beam (3 ⁇ 4 ⁇ wave) and the vertical and transverse modes of the harmonics are controlled by the slab optical waveguide 2a.
  • the horizontal transverse mode of laser light (S * wave) and harmonics is not controlled by the active layer 1a or the slab optical waveguide 2a.
  • the horizontal and transverse modes of the laser light ( ⁇ ) are controlled by a first reflector 3 and a second reflector 4 having a radius of curvature.
  • the spatial mode of the optical resonator is defined by the radius of curvature of the second reflector 4, and a laser beam having a horizontal transverse mode with a low optical resonator loss) oscillates, and the second reflector 4
  • the wavefront of the laser beam (transfiguration) is almost ⁇ on the reflecting surface.
  • the broad area type half laser 1 has high output characteristics, reduces the power density of the laser light beam by expanding the beam diameter in the horizontal direction, and causes optical damage and temperature rise in wavelength modification 2. Therefore, it is important to increase the output of harmonics.
  • both the semiconductor laser 1 and the wave laser 2 have a light-guiding structure, and the semiconductor laser 1 and the wave;
  • Semiconductor laser as a spatial mode consisting of an optical resonator with an optical reflector 1 Reduces the coupling loss of laser light (3 ⁇ 4 «) propagating between
  • Tng is to improve the efficiency of wavelength conversion in 2.
  • the polarization is defined in the plane direction of the laser light fef that reciprocates in the optical resonator. For this reason, the crystal axis in the z-axis direction where the nonlinearity of the wavelength converter 2 is the largest with respect to the polarization direction of the laser light is made to coincide with each other, and the efficiency of the wave; Capability.
  • wave strict exposure 2 has a periodically poled structure, and the transmitted harmonics are quasi-phase-matched, and it is possible to increase the efficiency of wave rectification in wavelength conversion 2.
  • the periodically poled structure is formed in the horizontal direction along the optical propagation direction with a laser beam (approximately ⁇ ? On the wavefront of ⁇ ). It is f ability to improve the efficiency.
  • the longitudinal mode interval of the laser beam depends on the length of the optical cavity and is 0.13 nm.
  • a longitudinal mode near a wavelength of 946 nm is selected within the wavelength width of the radiation spectrum of the first reflector 3 and the second reflector 4.
  • the second reflector 4 is composed of a grating, and the phase combination wavelength of the wavelength shift 2 and the oscillation wavelength of the laser beam (S * wave) are matched so that the phase of the harmonic Reducing the amount of mismatch, the wave: the wave in the heat exchanger 2: «High efficiency of the heat exchange is the power ability.
  • An image device uses the wavelength conversion laser device according to Embodiments 1 to 8 as a light source for generating an image.
  • the laser light from the high-brightness light source is modulated by the light modulating means and projected to generate an image on the screen.
  • a wave that outputs 3 W at a wavelength of 473 nm as a blue light source among three primary colors a »conversion laser device
  • a wave that outputs 2 W at a wavelength of 532 nm as a green light source ⁇ a conversion laser device Is used.
  • a semiconductor laser device is used as a red light source among the three primary colors.
  • liquid crystal or digital reflection eaves DMD Digital Micromirror Device
  • the liquid crystal material is sandwiched between glass substrates or the like to form an element, and an external electric field is applied to the element to cause the change in the liver arrangement of the liquid crystal.
  • an external electric field is applied to the element to cause the change in the liver arrangement of the liquid crystal.
  • Micro Electro Mechanical Systems Micromirrors manufactured by Micro Electro Mechanical Systems are arranged two-dimensionally, and each mirror is shaken to drive ONZOFF to generate an image.
  • a wave-converting laser device as a light source for generating an image has advantages such as monochromaticity and brightness of a laser beam as compared with the lamp device of (1). It is the ability to improve the efficiency of use.
  • the wavelength conversion laser device has advantages such as higher efficiency and longer life than the conventional lamp device, and is a power source for energy saving and longer life in the image display device.

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Abstract

ワット級の高出力でかつ高効率な波長変換レーザ装置を実現する。レーザ光の所要の水平横モードに対する光共振器損失が他の水平横モードに対する光共振器損失よりも低くなるような形状の反射面をもつ一対の対向する反射器から構成される光共振器を備える半導体レーザと、前記レーザ光が高調波に波長変換される波長変換器とを備える。

Description

明 細 書
波長変換レーザ装置および爾織示装置 漏分野
この発明は、 レーザ装置に係るものであり、 特にレーザ光を短波長化する波 変換 に関するものである。
近年、 例えば光情幸 理分野等の光源として、 緑色、 青色といった可視光レ一ザの 石體開発が進められている。 可概レ一ザの一種として、 波厳換腿を删して近 赤外レーザ光を短波長化する波: ¾換レーザ装置が知られてレ、る。
Η¾に波長変換レーザ装置では、 非線形鮮材料からなる波長変灘が半導体レ一 ザあるいは固体レーザの光共振器の内部あるい〖 部に耀され '光共振器により発 生したレーザ光 m) が非線形) ^材料を伝搬することにより、 波に対して 半分の波長 (2倍の周波数) に波長変換された第 2高調波が tn力される。
このような波長変換レーザ装置としては、 例えば日本特訟開昭 6 3 - 1 2 1 8 2 9号公報に開示されているものがある。 特に実施例 3および第 3図に開示された波長 変換レーザ装置においては、 半導体レーザと波 «翻が給され それらの片端面 に反射器が^ f本形成されて光共振器が構成されている。 半導体レーザの如く小型で低 出九 連^ ¾振の励!^を使用する場合にも、 波長変雄を光共振器内に挿入して光 強度を高めることによって、 高周波への高レゝ変換効率が得られるものである。
しかしながら、 このような «の波長変換レーザ装置では、 半導体レ一ザおよ 皮 長変 §により構成されており、 発光面積の小さな狭ストライプ型半導体レーザでは ワット級の高出力なレーザ光 波) が得られないため、 波長変換レーザ装置の高 出力化には限界がある。 一方、 発光面積が大きくワット級に高出力化されたブロード エリア型半導体レーザでは、 活性層に対して水平方向の横モード (水平横モード) に ついてモード制御されておらず、 ビーム品質の低いマルチ横モードで発振する。 この ようなブロードエリァ型半導体レーザを用いる場合には、 ビーム品質の低いレーザ光
(¾*波) は、 波長変 §との結合効率あるいは角度位相整合が十分でなぐ 高効率 な波長変換レーザ装置が得られないという問題がある。
以上のように、 徹の波長変換レ一ザ装置では、 ワット級の高出力でかつ高効率な ものが得られないという点で問題があった。
この発明は、 魏の波: «換レ一ザ装置の^ る上記のような問題を解決すること を目的とするものである。 発明の開示
この発明に係る波長変換レ一ザ装置は、 レーザ光の所要の水平横モ一ドに対する光 共振器損失が他の水平横モ一ドに対する光共振器損失よりも低くなるような形状の反 射面をもつ一対の対向する反射器から構成される光共振器を備える半導体レーザと、 前記レーザ光が高調波に波長変換される波長変 §とを備えるものである。
このように、 この波長変換レーザ装置では、 発光面積が大きくワット級に高出力化 されたブロードエリァ型半導体レーザにおいて、 光共振器によって水平横モ一ドにつ いてモ一ド制御することにより、 ビ一ム品質の高 横モードで発振する うにした。 これにより、 ワット級の高出力でかつビーム品質の高いレーザ光 波) は、 波長 変 «との結合効率あるいは角度位相整合が十分となり、 高効率な波長変換が得られ るのである。 図面の簡単な説明
図 1 ( a) はこの発明の実施の形態 1による波^変換レーザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 1 (b) はこの発明の実施の形態 1による波 換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、 図 2 (a) はこの発明の実施の形態 1による波 換レーザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 2 (b) はこの発明の実施の形態 1による波長変換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、
図 3 (a) はこの発明の実施の形態 2による波長変換レ一ザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 3 (b) はこの発明の実施の形態 2による波長変換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、
図 4 (a) はこの発明の実施の形態 3による波長変換レーザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 4 (b) はこの発明の実施の形態 3による波長変換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、
図 5 (a) はこの発明の実施の形態 3による波長変換レーザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 5 (b) はこの発明の実施の形態 3による波長変換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、 '
図 6 (a) はこの発明の実施の形態 4による波長変換レーザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 6 (b) はこの発明の実施の形態 4による波: ¾換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、
図 7 ( a) はこの発明の実施の形態 5による波長変換レ一ザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 7 (b) はこの発明の実施の形態 5による波:^変換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、
図 8 (a) はこの発明の実施の形態 5による波: ¾換レーザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、 図 8 (b) はこの発明の実施の形態 5による波 »換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、
図 9 ( a) はこの発明の実施の形態 6による波長変換レーザ装置の構成を示す垂直 方向断面図、
図 9 (b) はこの発明の実施の形態 6による波長変換レーザ装置の構成を示す水平 方向断面図、
図 1 0 ( a) はこの発明の実施の形態 6による波長変換レーザ装置の構成を示す垂 直方向断面図、
図 1 0 (b) はこの発明の実施の形態 6による波長変換レーザ装置の構成を示す水 平方向断面図、
図 1 1 (a) はこの発明の実施の形態 6による波長変換レーザ装置の構成を示す垂 直方向断面図、
図 1 1 (b) はこの発明の実施の形態 6による波長変換レーザ装置の構成を示す水 平方向断面図、
図 1 2 (a) はこの発明の実施の形態 6による波^変換レーザ装置の構成を示す垂 直方向断面図、
図 1 2 (b) はこの発明の実施の形態 6による波長変換レーザ装置の構成を示す水 平方向断面図、
図 1 3 (a) はこの発明の実施の形態 7による波^変換レーザ装置の構成を示す垂 直方向断面図、
図 1 3 (b) はこの発明の実施の形態 7による波長変換レーザ装置の構成を示す水 平方向断面図、
図 1 4 ( a) はこの発明の実施の形態 7による波長変換レーザ装置の構成を示す垂 直方向断面図、
図 1 4 (b) はこの発明の実施の形態 7による波 変換レーザ装置の構成を示す水 平方向断面図、 図 1 5 (a) はこの発明の実施の形態 8による波長変換レーザ装置の構成を示す垂 直方向断面図、
図 1 5 (b) はこの発明の実施の形態 8による波長変換レーザ装置の構成を示す水 平方向断面図、
である。 ' 発明を実施するための最良の形態
実施の形態 1.
この発明の実施の形態 1に係る波 «換レーザ装置は、 半導体レーザおよび光共振 器内に配置された波長変擺を備えるものである。 光共振器によりレーザ発振したレ 一ザ光(¾φ波)は、波 雄で高調波に波長変換されて出力される。 レーザ光(基 皮) および 調波の垂直横モードは光導蘭構造により制御され レ一ザ光
の水平横モードは光共振器により制御される。
図 1および図 2は、 この発明の実施の形態 1による波: ¾換レーザ装置を示 成 図である。 なお、 半導体レーザの活性層に対して (a) 垂直方向および (b) 7平方 向について、 皮 換レ一ザ装置の断面構造を図示している。
図 1において、 半導体レーザ 1において、 例えば InGaAs系化合物半導術昆晶から なる活性層 1 aが形成されている。活性層 1 aは、層厚が 1 ^m gi であり、 レーザ 光 (¾Φ波) の垂直横モードを制御するスラブ光導猶を構成する。 活性層 l aの境 界面には pn齢が形成されている。活性層幅は 200 で、いわゆるプロ—ドエリ ァ型であり、 出力 5 W以上の高出力特性を有する。 また、光共振器の縦軸方向におけ る半導体レーザ 1の長さは 4 mmであり、 半導体レーザ 1は波長 946 nmを中心に 3 nm禾 Si の利得帯域をもつ。波長変麵 2は、例えば周期分極反転構造を有する MgO: LiNbO3結晶からなり、 活性層 1 aの水平方向に対して z軸方向の結晶軸が一致して , いる。 波;^変 »2は、 半 本レーザ 1の活性層 1 aと同 の厚さで幅の広いスラ フ光導 «2 aを有しており、 レーザ光 (¾φ¾) および 調波の垂直横モードが制 御される。 また、 光共振器の縦軸方向における波長変涯の長さは 10 mmで、 図に おいて縞状に図示している周期分 ¾K転鍵は、縦軸方向に 4.6
Figure imgf000008_0001
の分観転周期 を持つ。なお、半導体レーザ 1の活 'ί'ίϋ ΐ aと波錢鶴 2のスラブ光導猶 2 aは、 端面で齢されている。 3は第 1の反射器、 4は第 2の反射器であり、 これらが半導 体レーザの光共振器を構成しており、 光共振器内に波 «雄2を配置している。 第 1の反射器 3は半導体レーザ 1の片端面に^ #:形成され 波長 946麵に対してほば 全反射するコ一ティング膜である。 第 2の反射器 4は波:^変換器 2に一体形成され、 波長 946 nmに対してはほば全反射するとともに波長 473 nmに対しては高い画率 を有する分布反射ブラッググレーティング反射器(以下、グレーティングと略称する) である。 また、 第 2の反射器 4は半導体レーザ 1の水平横モードを制御するため、 水 平方向に 180 mmの曲率半径を有している。さらに、第 1の反射器 3および第 2の反 射器 4は、発振波長の選択のため、波長 946 nmを中心に 0.02 nm @ の波長幅で反 射スぺクトルを有している。 5は光共振器内を往復する基本波ビームの水平方向断面 を模式的に表わしたものである。
次に動作について説明する。
図示を省略している電極から半導体レーザ 1に順方向電流を i fと、 活性層 1 aに 電子と正孔が ¾Λされ 電子と正孔カ稱結合して発光する。 第 1の反射器 3と第 2の 反射器 4が対向して配置され 光共振器が構成される。 ここで、 ¾λ電流を増加して 反^布を形成すると誘導放出が生じ、 第 1の反射器 3および第 2の反射器 4におけ る反射スぺクトルに対応して、 波長 946 nmのレーザ光が増幅される。 半導体レーザ 1における吸収損失、 第 1の反射器 3および第 2の反射器 4における ¾i損失、 なら びに波 における波長変換や散乱による損失等からなる光共振器損失を、 レー ザ光の増幅利得が上回るとレーザ発振に至る。
' このとき、 半導体レーザ 1では、 レ一ザ光 (¾*i皮) の垂直横モードが活性層 1 a により制御されている。 波 «廳2では、 レーザ光 およぴ 調波の垂直 横モードがスラブ光導猶 2 aにより制御されている。 一方、 レーザ光(¾Φ波) お よび 調波の水平横モードは、 活性層 1 aやスラブ光導蘭 2 aでは制御されない。 レーザ光 (S*r^) の水平横モードは、第 1の反射器 3および 180 mmの曲率半径を 有している第 2の反射器 4により制御されている。 ここで、 光共振器の空間モードは 活性層幅および第 2の反射器 4の曲率半径で規定され、 光 «器損失の低い水平横モ —ドをもつレーザ光 ( - がレ一ザ発振し、第 2の反射器 4におけるレーザ光(基 本波) の波面は反射面にほぼ t亍となる。
ここで、 ブロードエリア型半導体レーザ 1は高出力特性を有しており、 水平方向に ビーム径を広げてレーザ光 ^ ) のパワー密度を低減し、 波: ¾ 2における 光損傷およ Ό¾¾上昇を防ぐことができるため、 高調波を高出力化することカ坷能で ある。 半^:レーザ 1と波長変 «2はともに光導 ネ驗を有しており、 垂直方向 に半 レ一ザ 1と波長変観 2で成り立つ光導波路の導波モードを整合させ、 水平 方向に一対の反射器による光共振器で成り立つ空間モードとして半導体レーザ 1と波 長変換器 2の間を伝搬するレーザ光 皮) の給損失を低減し、 波長変換器 2に おける波長変換を高効率化することが T能である。 '
特に波: S¾ § 2がスラブ光導 ¾g§2 aを有していることにより、 波長変 «2内 において水平方向にビーム径を広げてレーザ光 および高調波のパワー密度 を低減しているため、 光吸収による発熱が減るとともに漏面積も広くなり上昇を防 ぐことができる。 このため、 温度上昇による位相整合波長のずれが減り、 このことか らも、 波厳 « 2における波長変換を高効率化すること力河能である。
また、 波 は周期分極反転構造を有しており、 伝搬する高調波は擬似位相 整合し、 波長変 Ml 2における波長変換を高効率化すること力河能である。
ところで、 非線形)1 ^才料の屈折率は波長分散があるため、 波と第 2高調波の 位相藤が異なり、各点で発生した第 2高調波は各高調波間で位相がずれて伝搬する。 位相差が πとなる距離であるコヒ一レント長 lcを超えて伝搬すると合成した高調波の 弓艘は減少し、 コヒーレント長の周期で増減を繰り返すことになる。 そこで、 周期分 極反転構造においては、 非線形鮮材料の非線形 数の符号、 すなわち強誘電体 の自発分極の向きをコヒーレント長の周期で反転させている。 ここで、 翻皮の波長 を λ 1、 第 2高調波の波長を; 2、 非線形光学材料の基本波に対する屈折率を nl、 第 2高調波に対する屈折率を η2とすると、 波の波数ベクトル kl= (2πη1/λ ί)お よび第 2高調波の波数べクトル k2= (2ττη2/λ2) ,位相不整^ *Ak=2kl— k2として、 コヒーレント長 lcは次の数式 1で表される。 lc = π/Ak = λ ΐ/4/ (nl 一 n2) ( 1 ) このようなコヒ一レント長の周期で第 2高調波の位相が反転し、 合成した高調波の位 相を補 itl"る擬似位相整合となり、 その弓艘は加算的に増大して効率良く第 2高調波 を発生させることが きる。 .
周期分極反転艦では、 非線形 材料の基板表面に周期パターン電極を形成し、 電界印可法により強誘電体の保 it€界を超える高 を加えて分極を反転させており、 半導体プロセス技術を応用することによりミクロンオーダーであるコヒーレント長の 間隔で製作している。
非線形^^材料に非線形)^数の大きい IiNb03結晶を用いた場合、擬似位相整 合では非線形 ¾ ^数の默成分である d33による高効率な波長変換が難される。 ところが、 Ii b03結晶は光損傷が生じやすいため、 波のパワー密度は制限され て高出力化には限界がある。 MgOをドープした MgO: Li b03結晶を用いた場合、 光損傷に対する耐性が増大し、 高出力化が^ Γ能となる。
また、 光共振器内を往復するレーザ光 波) 平方向に偏光が規定されるた め、 レーザ光 波)の偏光方向に対して MgO : LiNb03結晶の非線形光 ^¾が 最大である Z軸方向の結晶軸を一致させ、 波: 5¾腿 2における波長変換を高効率化 すること力河能である。
レ一ザ光 (mm の縦モード間隔は光共振器の長さに依存し、 0.013 nmと十分 に小さくなつている。 レーザ光 (翻皮) の発振波長としては、 第 1の反射器 3およ び第 2の反射器 4の反射スぺクトルの波長幅内で波長 946 nm付近の縦モードが選択 される。 縦モード選択のために第 2の反射器 4はグレーティングから構成しており、 波 変 «2の位相整合波長とレーザ光 の発振波長を一致させて高調波の 位相不整 を低減し、 ^m 2における波長変換を高効率化することが 能で ある。 ここで、 縦モード間隔が十分に小さいので、 レーザ光 (¾Φ波) の発振波長を 位相整合波長の十^ くに制御することが きるのである。
第 1の反射器 3および第 2の反射器 4は、 半導体レーザ 1およ 皮長変 « 2の光 導碰に "^本形成されているため、 第 1の反射器 3および第 2の反射器 3により光導 に反射されて光共振器内を往復するレーザ光 i の回折損失を低減し、 高 出力で発振したレ一ザ光 (¾Φ波) により高調波を高出力化することカ坷能である。 ここで、 レーザ光 (翻皮) は第 1の反射器 3および第 2の反射器 4の全反射によ り光共振器の外部には出力されず光共振器の内部に閉じ込められ、 第 2の反射器 4の 高い透過率のために波長変換された高調波のみが外部に出力される。 高出力なレーザ 光 (¾*波) が閉じ込められた光癒器の内部に波長変 «2を配置しているため、 高効率で波長変換された高調波が高出力で出射されるのである。
このように、 波:^変換器 2において 長 946 nmのレーザ光 (¾*|皮) が 効率に 波厳換され ?皮長 473 nmの高調波が 3 Wの高出力で出射される。
また、 図 2に示すように、 第 1の反射器 3および第 2の反射器 4において、 コ―テ イング膜とグレーティングを入れ替えても良い。 図 2において、 第 1の反射器 3は半 導体レーザ 1に一体形成され、波長 946 nmに対してほば全反射するダレ一ティング、 第 2の反射器 は波長変腿 2の端面に ~#形成され、 波長 946 nmに対してほぼ全 反射するとともに波長 473 nmに対して高い透過率を有するコーティング膜である。 また、 第 2の反射器 4であるコーティング膜は波長変換器 2の曲面形状の端面に形成 され レーザ光 波) の水平横モードを制御するため、水平方向に 180 mmの曲 率半径を有している。 さらに、 第 1の反射器 3のコーティング膜および第 2の反射器 4のグレーティングはレーザ光 (¾φ^) の縦モード選択のため、 波長 946 nmを中 心に 0.02 nm禾 USの波長幅で反射スぺクトルを有している。このような図 2に示した 構成においても、 図 1の:!^と同様の効果が得られる。
以上のように、 この発明の雄の形態 1による波長変換レーザ装置では、 発光面積 が大きくヮット級に高出力化されたブロードエリア型半 レーザにおいて、 光共振 器によって水平横モードについてモ一ド制御することにより、 ビーム品質の高い横モ ードで発振するようにした。 これにより、 ワット級の高出力でかつビーム品質の高い レーザ光(¾Φ¾) は、 波長変 §との給効率が十分となり、 高効率な波^変換が 得られるので、 ヮット級の高出力でかつ高効率な波長変換レーザ装置の実現できる効 果がある。 実施の形態 2.
この発明の実施の形態 2に係る波 換レーザ装置は、 実施の形態 1による波長変 換レ一ザ装置とほぼ同様の構成および動作をもつが、 光共振器について実施の形態が 異なるものである。
図 3は、 この発明の実施の形態 2による波長変換レーザ装置を示 Hi成図である。 なお、半^ ί本レーザの活性層に対して(a)垂直方向および(b)水平方向について、 波厳換レ一ザ装置の断面鍵を図示している。 また、 図中、 同一符号は同一または 相当部分を示す。
図 3において、 第 1の反射器 3は半導体レーザ 1に一体形成され、 波長 946 nmに 対してほば全反射のグレーティング、 第 2の反射器 4は波長変 § 2の片端面に" f本 形成され 波長 946 nmに対してほば全反射するとともに波長 473 nmに対して高い ¾1率を有するコーティング膜である。 また、 第 1の反射器 3のグレーティングは水 平方向の横モードを制御するため、 水平方向に 170 mmの曲率半径を有している。 実施の形態 1と同様に、 レーザ光 (翻皮) の垂直横モードは半導体レーザ 1およ tJ¾長変婦 2の光導腾構造により制御されている。一方、水平横モードは 170 mm の曲率半径を有している第 1の反射器 3および第 2の反射器 4により制御されている。 ここで、 光共歸の空間モードは活性層幅および第 1の反射器 3の曲率半径で規定さ れ、 光共振器損失の低い水平横モードをもつレ一ザ光 (¾*波) がレーザ発振し、 第
1の反射器 3におけるレーザ光 ( の波面は反射面にほぼ平行となる。
さらに、図示は省略するが、第 1の反射器 3を 170 mmの曲率半径を有するコーテ イング膜とし、 第 2の反射器 4をダレ一ティングとして構成しても良い。
以上のような実施の形態 2による波厳換レーザ装置の動作は、 実施の形態 1によ るものと同様であり、 力つそれと同様の効果が得られる。 実施の形態 3.
この発明の実施の形態 3に係る波: ¾換レーザ装置は、 実施の形態 1およ^!施の 形態 2の波長変換レーザ装置とほぼ同様の構成および ¾3作をもつが、 波厳雄にお いて角度ィ &f目整合の調整手段を備えるものである。
図 4および図 5は、 この発明の実施の形態 3による波長変換レーザ装置を示す構成 図である。 なお、 半導体レーザの活性層に対して (a) 垂直方向および(b) τΚ平方 向について、 波長変換レーザ装置の断面構造を図示している。 また、 図中、 同一 は同一または相当部分を示す。
図 4において、図 1と異なる雄の形態として、半 #ί本レーザ 1は、活性層幅 100 H mのプロ一ドエリア型で高出力特性を有する。 また、第 2の反射器 4のグレーティン グ 平横モードを制御するため、 7K平方向に 16 mmの曲率半径を有している。 さ らに、波長変 » 2の周期分極反転構造は約 4.6 mの分極反転周期を持つが、角度 位相整合の調整のため、 平方向でレ一ザ光 波) の波面にほぼ TOとなる曲面 形状に形成されている。
ところで、 角度位相整合の問題は、 高調波を 目整合させて波: ¾雄に¾*?皮を 伝搬させる場合、 伝搬角度の許容量が制限されることであり、 小さなビーム拡がりで ビーム品質の良い 波のレーザ光が必要となる。 例えば実施の形態 1における図 1 に示したような平面形状の周期分極反転髓では、 ≠ ビームが水平方向におい て曲面状に拡がってビームの中心部と周辺部で伝搬角度が δ異なると分極反転周期 Λ が Λ/cos Sに変化し、 ビームの周辺部で波長変漏率が低下してしまう。
ここで、 図 4に示す実施の形態 3による波長変婦 2では、 レーザ光 (鉢波) の ビーム〖¾Κ平方向に拡がり、 默 0.1 deg傾斜する。 しかし、 周期分贩転職が水 平方向でレーザ光 の波面にほぼ となる曲面形状に形成されているので、 波のビーム拡がりに対して分極反転周期はほぼ一致して高調波が十分に擬似位相 整合し、 波長変 における波: 1¾換を高効率化することが 能である。
また、 図 5に示すように、 図 3と異なる実施の形態として、 半導体レーザ 1は、 活 性層幅 120 dmのブロードエリア型で高出力特性を^る。 第 2の反射器 4のダレ 一ティング « _K平方向の横モードを制御するため、 水平方向に 14 mmの曲率半径を 有している。さらに、波厳鐘 2の周期分極反転構造は約 46 mの分 転周期 を持つが、 角度位相整合の調整のため、 水平方向でレーザ光 (¾Φ波) の波面にほぼ TOとなる曲面形状に形成されている。 波長変涯 2では、 レーザ光 (翻皮) のピ ーム «7Κ平方向に拡がり、默 0.06 deg傾斜する。 しかし、 このような図 5の構成に おいても、 図 4の場合と同様の動作および効果が得られる。
以上のように、 この発明の難の形態 3による波長変換レーザ装置では、 角度位相 整合の調整のため、 レーザ光 ^rn の波面にほぼ pfi1な曲面形状に周期分極反転 構造が形成されているので、 角度位相整合が十分となり、 高効率な波 «換の得られ る効果力 sある。 離の形態 4.
この発明の実施の形態 4に係る波長変換レーザ装置は、 実施の形態 3の波長変換レ 一ザ装置とほぼ同様の構成および動作をもつが、 光共振器の反射器を形成した光導波 路素子を備えるものである。
図 6は、 この発明の霞の形態 4による波 Λ換レーザ装置を示 Hi成図である。 なお、半導体レーザの活性層に対して(a)垂直方向および(b)水平方向について、 波長変換レ一ザ装置の断面^ iを図示している。 また、 図中、 同一符号は同一または 相当部分を示す。
図 6において、 6は光導霞素子であり、 波長変腿 2のスラブ光導蘭 2 aとほ ぼ同じの厚さのスラブ光導蘭 6 aを備えている。また、波長変 « 6の長さは 5 mm で、さらに、第 2の反射器 4は光導猶軒に""■{本形成されたグレーティングであり、 水平方向に 130 mmの曲率半径を有している。
以上のような実施の形態 4による波厳換レ一ザ装置の動作は、 実施の形態 3によ るも と同様であり、 カゝっそれと同様の効果が得られる。 それに加えて、 第 2の反射 器 4を独立した光導? «軒に形成し、 異なる設計の第 2の反射器 4を選択あるいは 交換できるようにしたので、 波長変換レーザ装置における設計の自由度の高くなる効 果がある。
さらに、 図示は省略するが、 第 1の反射器 3を、 半導体レーザ 1の活性層 1 aとほ ぼ同じの厚さのスラブ光導 を備える光導波路素子に^:形成されたダレ一ティン グとして構成しても良ぐ 上記のものと同様の効果が得られる。 ' 実施の形態 5.
この発明の実施の形態 5に係る波長変換レーザ装置は、 霞の形態 3の波厳換レ 一ザ装置とほぼ同様の構成および ¾作をもつが、 半導体レーザと波長変攝の間に高 調波を反射させる反射器を備えるものである。
図 7および図 8は、 この発明の実施の形態 5による波: »換レ一ザ装置を示す構成 図である。 なお、 半割本レーザの活性層に対して (a) 垂直方向および(b) 7K平方 向について、 波長変換レ一ザ装置の断面職を図示している。 また、 図中、 同一 は同一または相当部分を示す。
図 7において、 7は第 3の反射器であり、 半 レーザ 1と波避擺 2の間に形 成され、 波長 473 nmに対してほぼ全反射するコーティング膜である。 また、 図 8に おいて、 第 3の反射器 7は半 本レーザ 1と波長変観 2の間に纖した光導路素子 6に形成され、 波長 473 nmに対してほぼ全反射するダレ一ティングである。
光 «器内に波長変 » 2を配置した構成では、 レーザ光 (翻皮) が光共振器内 を往復するため、 波„ 2から半導体レーザ 1の方向に伝搬するレ一ザ光
も波長変騰 2により高調波に波長変換される。 そこで、 波長変観から半導体 レーザの方向に伝搬する高調波を第 3の反射器 7で折り返し、 第 2の反射器から出射 させることにより、 高調波をさらに高出力化すること力河能である。 さらに、 半導体 レーザ 1への高調波の入射を第 3の反射器 7で遮断して、 高調波が半 ¾f本レーザ 1の 活性層 1 aに吸収されることに起因する 上昇や光損傷を防ぐこと力河能である。 実施の形態 6.
この発明の実施の形態 6に係る波 «換レーザ装置は、 実施の形態 5の波 変換レ 一ザ装置とほぼ同様の構成および ¾!作をもつが、 半導体レーザと波厳麵の間に垂 直横モード変換手段を備えるものである。
図 9、 図 1 0、 図 1 1および図 1 2は、 この発明の実施の形態 6による波厳換レ —ザ装置を示す構成図である。 なお、 半導体レーザの活性層に対して (a) 垂直方向 および(b) 水平方向について、 波長変換レーザ装置の断面構造を図示している。 ま た、 図中、 同一符号は同一または相当部分を示す。
図 9において、 半導体レーザ 1と波長変雄 2のスラブ光導鍵の厚さが異なって おり、 8は横モード変換手段であり、 光導 素子に形成されているスラブ光導蘭 の厚さが徐々に変化している。 図 1 0においては、 横モ一ド変換手段 8として、 垂直 方向にのみ曲面を有している円柱レンズを備えている。 図 1 1においては、 横モード 変換手段 8として、 垂直方向に徐々に減少する屈折率分布を有しているグレーテツド ィンデックス型のレンズを備えている。 図 1 2においては、 横モ一ド変換手段 8とし て、 半 本レーザ 1の活性層 1 aの厚さが徐々に変化している。
半 #f本レーザ 1と波 2のスラブ光導 各の厚さおよび屈折率分布が異なる と、 半導体レーザ 1におけるレーザ光の垂直横モ一ドと波長変 « 2におけるレ一ザ 光の垂直横モードとのモード不整合が生じる。 そこで、 横モード変換手段 8により、 半導体レーザ 1と波長変換器 2のスラブ光導波路に入射するレーザ光 (¾Φ¾) のビ 一ム径、 拡がり角およ ϋ¾面をそれぞれ調整して半離レーザ 1と波搬擺 2の間 を伝搬するレーザ光 皮) の結合損失を低減し、 波長変涯における波: ¾換を 高効率化することが Γ能である。 実施の形態 7.
この発明の実施の形態 7に係る波長変換レーザ装置は、 実施の形態 5の波長変換レ 一ザ装置とほぼ同様の構成および ¾!作をもつが、 半導体レーザと波長変雄の ffi制 御手段を備えるものである。
図 1 3、 図 1 4は、 この発明の実施の形態 7による波長変換レーザ装置を示す構成 図である。 なお、 半 本レーザの活性層に対して (a) 垂直方向および(b) 7j平方 向について、 波長変換レーザ装置の断面職を図示している。 また、 図中、 同一符号 は同一または相当部分を示す。
図 1 3において、 9は 制御手段であり、 波長変 » 2に接して言躍され、 波長 変灘 2の i¾ を変化させるとともに一定に保つペルチェ軒 (熱電素子) である。
制御手段 9が波長変擴 2の^ J を変化させると、 屈折率の変化および删 長 により位相整合波長が波長シフトする。 一方、 波長変換器 2に一体形成された第 2の 反射器 4の も変化し、 グレーティングにおける屈折率の変化および麵 長により 反射スペクトルが波長シフトする。 そして、 この反射スペクトルに依存するレーザ光 ' (»波) の発振波長が波長シフトする。 ここで、 位相整合波長と発振波長における ®t変化に対する波長シフト割合が異なるので、 波 «雄 2の? 制御により、 位 相整合波長と発振波長がほぼ一致するように調整すること力河能である。 このような 調整により、 高調波の位相不整合量を低減し、 波長変 » 2における波長変換を高効 率化することカ坷能である。なお、 レーザ光 (¾«)の縦モードは離散的であるが、 この実施の形態における縦モ一ド間隔は十分に小さいので、 発振波長が位相整合波長 とほぼ一致するように調 することが、できるのである。
さらに、 図 1 4において、 髓制御手段 9は、 半 本レーザ 1、 波 »観 2、 光 導 素子 6に接して言躍され、 これらの? を変化させるとともに一定に保つペル チェ素子 (熱電素子) である。
図 1 4に示した構成によれば、 周囲 が 動する にも、 制御手段 9によ り半導体レーザ 1、 波長変騰 2および光導碰素子 6の ¾を一定に保つことで、 これらの屈折率の変化および麵讓を抑え、 波長変換レーザ装置としての高出力'高 効率特性を安定化することが T能である。
ところで、 位相整合波長と発振波長における 変化に対する波長シフト割合をほ ぼ等しく設 £1 "れば、 制御しなくても波長変翻率がほぼ一定に保たれる。 この ために、 図 1 4に示した構成において、 光導蘭素子 6の材料を適切に選択し、 各素 子における? S変化による屈折率の変化および熱膨張の影響が相殺されるようにする こと力何能である。 これにより、 周囲 が 動する:^にも、 制御しなくても 波長変 βの 2位相整合波長とレーザ光 (¾φ:波) の発振波長を一致させて高調波の 位相不整合量を低減し、 波長変 «2における波長変換を高効率化すること力河能で ある。 実施の形態 8.
この発明の実施の形態 8に係る波長変換レーザ装置は、 半導体レーザおよび光共振 器外に配置された波 変観を備えるものである。 光共振器によりレーザ発振したレ 一ザ光(翻皮)は、波錢麵で高調波に波長変換されて出力される。 レーザ光(基 本 およぴ 調波の垂直横モードは光導鹏構造により制御され、 レーザ光 m の水平横モードは光 «器により制御される。
図 1 5は、この発明の実施の形態 8による波長変換レーザ装置を示 1冓成図である。 なお、 半 本レ一ザの活 'ί'媚に対して(a〉垂直方向および (b)水平方向について、 波: «換レーザ装置の断面構造を図示している。 また、 図中、 同一 f ^は同一または 相当部分を示す。
図 1 5において、 第 1の反射器 3は半導体レーザ 1の片端面に "^本形成され 波長 946 nmに対してほば全反射するコーティング膜、 第 2の反射器 4は半導体レーザ 1 に^ f本形成され 波長 946nmに対して部分皮射するグレーティングである。 また、 第 2の反射器 4のダレ一ティング 平方向の横モードを制御するため、 水平方向に 曲率半径を有している。 波長変雄 2は、 半導体レーザ 1の片端面に接して、 光共振 器外に配置している。
次に動作について説明する。
実施の形態 1と同様に、 半 ί本レーザ 1における吸収、 第 1の反射器 3および第 2 の反射器 4における透過損失等からなる光共振器損失を、 レーザ光の増幅利得が上回 るとレーザ発振に至る。 このとき、 半導体レーザ 1では、 レーザ光 波) の垂直横モ一ドが活性層 1 a により制御されている。 波長変 § 2では、 レーザ光 (¾Φ波) および 調波の垂直 横モードがスラブ光導波路 2 aにより制御されている。 一方、 レーザ光 (S*波) お よび 調波の水平横モ一ドは、 活性層 1 aやスラブ光導蘭 2 aでは制御されない。 レーザ光 (¾Φ¾) の水平横モードは、 第 1の反射器 3および曲率半径を有している 第 2の反射器 4により制御されている。 ここで、 光共振器の空間モードは第 2の反射 器 4の曲率半径で規定され、 光共振器損失の低い水平横モードをもつレーザ光 波) がレーザ発振し、 第 2の反射器 4におけるレーザ光 (翻皮) の波面は反射面に ほぼ 亍となる。
ここで、 ブロードエリア型半 {本レーザ 1は高出力特性を有しており、 水平方向に ビーム径を広げてレーザ光 波) のパワー密度を低減し、 波長変纏 2における 光損傷および温度上昇を防ぐことができるため、 高調波を高出力化すること力河能で ある。 また、 半導体レーザ 1と波厳 «2はともに光導蘭構造を有しており、 垂 直方向に半導体レーザ 1と波;^麵 2で成り立つ光導震の導波モードを整合させ、 水平方向に一対の反射器による光共振器で成り立つ空間モードとして半導体レ一ザ 1 と波長変 2の間を伝搬するレーザ光 (¾«) の結合損失を低減し、 ^
2における波長変換を高効率化することが T肯 gである。
光共振器内を往復するレーザ光 fef平方向に偏光が規定される。 このた め、 レーザ光 の偏光方向に対して波長変換器 2の非線形 ¾ ^数が最大で ある z軸方向の結晶軸を一致させ、 波 婦 2における波;^変換を高効率化するこ とカ坷能である。 また、 波厳露 2は周期分極反転構造を有しており、 伝搬する高 調波は擬似位相整合し、 波長変 » 2における波厳換を高効率化することが可能で ある。さらに、周期分極反転構造は光伝 »向に沿って水平方向でレーザ光 ( ^ の波面にほぼ ¥ ?に形成されており、 角度位相整合が十分となり、 波長変 l 2〖こお ける波長変換を高効率化することが f能である。
レーザ光(S*t皮) の縦モード間隔は光共振器の長さに依存し、 0.13 nmである。 レ一ザ光 (»波) の発振波長としては、 第 1の反射器 3および第 2の反射器 4の^ 射スぺクトルの波長幅内で波長 946 nm付近の縦モードが選択される。 縦モ一ド選 のために第 2の反射器 4はグレーティングから構成しており、 波長変揚 2の位相鳖 合波長とレーザ光 (S*波)の発振波長を一致させて高調波の位相不整合量を低減し、 波: ¾換器 2における波: «換を高効率化すること力河能である。 実施の形態 9.
この発明の実施の形態 9に係る画 ¾ 装置は、 実施の形態 1〜実施の形態 8の波 長変換レーザ装置を、 画像を生成するための光源として用いるものである。
この発明の画鐘示装置では、高輝度の光源からのレ一ザ光を光変調手段で変調し、 投射してスクリーン上に画像を生成する。 ここで、 例えば 3原色のうち青色の光源と して波長 473 nmで 3 Wを出力する波: »換レーザ装置を、 緑色の光源として波長 532 nmで 2 Wを出力する波:^変換レーザ装置を用いる。 なお、 3原色のうち赤色の 光源として半 ¾ ^レーザ装置を用いる。
また、 «調手段として液晶またはディジタル反射軒 DMD (Digital Micromirror Device) を用いる。 光変調手段に液晶を用いた液晶:^:のディスプレイ装置では、 液 晶材料をガラス基板などで挟んで素子とし、 外部から電界を加えて液晶の肝配列の 変化とともに引き起こされる素子の)^的性質の変化を利用して画像を生 β¾Τる。 ま た、 光変調手段に DMDを用いたマイクロミラ一^の画 it¾示装置では、 MEMS
(Micro Electro Mechanical Systems) により製造したマイクロミラ一を 2次元 状に並べ、 各ミラ一を振ることにより ONZOFF駆動して画像を生成する。
画像を生成するための光源として波 «換レ一ザ装置を用いると、 ί¾¾のランプ装 置に比べてレーザ光の単色性および 輝度といった利点があり、 光変調手段による画 像の生成において光エネルギーの利用効率を向上させることカ坷能である。 また、 波 換レーザ装置には従来のランプ装置に比べて高効率および長寿命といった利点が あり、 画像表示装置における省エネルギー化および長寿命化力河能である。

Claims

請 求 の 範 囲
1. レーザ光の所要の水平横モードに対する光共振器損失が他の水平横モ—ド〖こ対 する光共振器損失よりも低くなるような形状の反射面をもつ一対の対向する反射器か ら構成される光共振器を備える半導体レーザと、
前記レーザ光が高調波に波: ^変換される波:^変^^と
を備えることを特徴とする波^変換レーザ装置。
2。 前記一対の対向する反射器における反射面の形状が、 鎌己レーザ光の波面とほ ぼ ffi1であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の皮長変換レーザ装置。
3. 前記一対の対向する反射器の 1つが、 嫌 3半導体レーザに 形成された分布 ブラッググレーティング反射器であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の波 錢換レ一ザ装置。
4 , 前記一対の対向する反射器の 1つが、 前記波: ¾雄における爾 3光共振 の 外側に凸の曲面形状をもつ片端面に一体形成されているコーティング膜であることを 特徴とする請求の範囲第 1項に記載の波長変換レーザ装置。
5 , 編己一対の対向する反射器の 1つが、 鎌己波 « §に一体形成されている分 布ブラッググレーティング反射器であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記载の 波錢換レ—ザ装置。
6. 前記レーザ光の垂直横モ一ドを制御するための光導波路構造を備えるブロード エリァ型半導体レーザを備えることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の波 換 レーザ装置。
7. 前記レ一ザ光の垂直横モードおよび鎌己高調波の垂直横モードを制御するため の光導波路構造を備える波«擴を備えることを特徴とする請求の範囲第 1項に言 S 載の波 換レーザ装置。
8 · 周期分 転構造を備える擬似位相整合型の波長変 βを備えることを特徴と する請求の範囲第 1項に記載の波厳換レ一ザ装置。
9. 嫌己周期分極反転 の形状が、 觸 3レーザ光の波面とほぼ TOであることを 難とする請求の範囲第 8項に記載の波 «換レーザ装置。
1 0. 前記レーザ光の偏光方向に Z軸の結晶軸がほぼ一致している MgO: IiNbO3 結晶からなる波: S¾«を備えることを とする請求の範囲第 1項に記載の波 ¾ 換レーザ装置。
1 1. tQ 光共振器内に配置されている波長変 »を備えることを樹敫とする請求 の範囲第 1項に記載の波 »換レーザ装置。
1 2. 嫌3光共振器、 嫌3半導体レーザ、 および前記波長変^ §が^本化されてい ,ることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の波長変換レーザ装置。
1 3. 前記半導体レーザと前記波長変換器の間に前記高調波を反射する反射器を備 えることを舰とする請求の範囲第 1項に記載の波長変換レーザ装置。
1 . 前記半導体レーザにおけるレーザ光の垂直横モードと前記波長変換器におけ るレーザ光の垂直横モードとのモード不整合を低減させる横モード変換手段を備える ことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の波長変換レーザ装置。
1 5. IS半導体レーザの? および ΙίίΙ己波 ¾ §の を制御する 制御手 段を備えることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の波: ¾換レーザ装置。
1 6. 前記半導体レーザの前記レーザ光の発振波長における温^ ¾化に対する波長 シフト割合と、 嫌 B波 の前記レーザ光の位相整合波長における? ^化に対 する波長シフト割合とがほぼ一致していることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載 の波長変換レーザ装置。
1 7. レ一ザ光の所要の水平横モードに対する光共振器損失が他の水平横モ—ドに 対する光共振器損失よりも低くなるような形状の反射面をもつ一対の対向する反射器 から構成される光共振器を備える半導体レーザと、
編己レーザ光が 1¾調波に波: »換される波: 5¾»と
を備える波碰換レーザ装置を、
画像を生成するための光源として用いることを特徴とする画 it ^装置。
1 8. 前記画像を生成するための光源が、 3原色のうち緑色の光源であることを特 徵とする請求の範囲第 1 7項に記載の画練示装置。
1 9. 鎌己画像を生成するための光源が、 3原色のうち青色の光源であることを特 徵とする請求の範囲第 1 7項に記載の爾鐘示装置。
2 0. 画像を生成するための光変調手段として液晶を用いることを特徴とする請求 の範囲第 1 7項に記載の画餘示装置。
2 1. 画像を生成するための光変調手段としてディジ夕ル反射素子を用いることを 稱敷とする請求の範囲第 1 7項に記載の画 «示装置。
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