WO2005015596A3 - Procede de croissance localisee de nanofils ou nanotubes - Google Patents

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Pierre Legagneux
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Abstract

L'invention concerne un procédé de croissance localisée de nanofils ou nanotubes caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: la réalisation de surfaces élémentaires conductrices à la surface d'une couche isolante sur un substrat conducteur ou à la surface d' un substrat isolant; la réalisation d'au moins une couche de structure nanoporeuse à la surface de la couche isolante ou du substrat isolante; la croissance de nanofils à l'intérieur d'une partie au moins des nanopores de la couche poreuse, en regard d'au moins une partie des surfaces élémentaires conductrices. Avantageusement la réalisation de la couche de structure nanoporeuse à la surface de la couche isolante ou du substrat isolant peut comprendre: le dépôt d'une couche précurseur d'une couche de structure poreuse présentant des nanopores; le bombardement ionique de la couche précurseur de manière à obtenir la couche de structure poreuse. Application: Structure à émission de champ, pour écrans plats.
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