WO2004038458A3 - Appareil permettant de produire une lumiere approximativement collimatee et procede permettant de faire durcir une couche photopolymerisable au moyen de cet appareil - Google Patents

Appareil permettant de produire une lumiere approximativement collimatee et procede permettant de faire durcir une couche photopolymerisable au moyen de cet appareil Download PDF

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Rifat Iqbal
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Cet appareil permettant de produire une lumière approximativement collimatée, comporte une source lumineuse allongée, par exemple, un ou plusieurs portants (12), et une structure de panneau en nid d'abeilles à alvéoles ouvertes (14) placé contiguë de la source lumineuse. Le panneau en nid d'abeilles (14) définit plusieurs passages parallèles se déployant au travers de la structure, par lesquels passent les rayons lumineux approximativement parallèles à ces passages alors que les rayons lumineux inclinés à angle aigu vers les passages sont interceptés par les parois des cellules. De la sorte, la lumière, émanant de la source lumineuse (12) et traversant le panneau (14), sort sous la forme d'un faisceau en général parallèle aux passages. L'appareil peut également être équipé d'un système de lentilles (A, B).
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8441730B2 (en) 2006-11-14 2013-05-14 Xiper Innovations, Inc. Non-attenuating light collimating articles for graphic arts
JP5987522B2 (ja) * 2012-07-23 2016-09-07 ウシオ電機株式会社 テンプレート洗浄用光照射装置、ナノインプリント装置、テンプレート洗浄方法およびパターン形成方法
JP2014122970A (ja) * 2012-12-20 2014-07-03 Dainippon Printing Co Ltd パターン位相差フィルムの製造方法、露光装置及びマスク
WO2015080538A2 (fr) * 2013-11-29 2015-06-04 성낙훈 Dispositif de génération de source de lumière linéaire et dispositif d'exposition le comprenant
KR101634715B1 (ko) * 2014-09-12 2016-06-29 금호전기주식회사 노광장치
KR101678515B1 (ko) * 2016-04-25 2016-11-22 금호전기주식회사 노광장치
KR102476093B1 (ko) * 2020-09-11 2022-12-12 주식회사 지엠지 주변 노광장치

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0294122A1 (fr) * 1987-06-01 1988-12-07 Sar Realisations Limited Système de présentation avec écran translucide et procédé pour sa fabrication
EP0571088A2 (fr) * 1992-04-24 1993-11-24 Sharp Kabushiki Kaisha Dispositif d'éclairage et appareil d'affichage d'image par projection qui l'utilise
WO1995031672A1 (fr) * 1994-05-13 1995-11-23 Alliedsignal Inc. Systeme d'eclairage comprenant un reseau de microprismes
US5513037A (en) * 1991-09-05 1996-04-30 Hitachi, Ltd. Rear-projection screen and a rear projection image display employing the rear-projection screen
EP0768565A2 (fr) * 1995-10-12 1997-04-16 Nashua Corporation Ecran à diffusion de la lumière
US5825442A (en) * 1995-03-31 1998-10-20 Sony Corporation Liquid crystal display device and method for making same having a diffuser made of spherical particles in a transparent body
US20010017674A1 (en) * 2000-02-02 2001-08-30 Akira Yamaguchi Illuminating device and liquid-crystal display apparatus
WO2002039183A1 (fr) * 2000-11-10 2002-05-16 Durand Technology Limited Materiaux d'enregistrement optique

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0294122A1 (fr) * 1987-06-01 1988-12-07 Sar Realisations Limited Système de présentation avec écran translucide et procédé pour sa fabrication
US5513037A (en) * 1991-09-05 1996-04-30 Hitachi, Ltd. Rear-projection screen and a rear projection image display employing the rear-projection screen
EP0571088A2 (fr) * 1992-04-24 1993-11-24 Sharp Kabushiki Kaisha Dispositif d'éclairage et appareil d'affichage d'image par projection qui l'utilise
WO1995031672A1 (fr) * 1994-05-13 1995-11-23 Alliedsignal Inc. Systeme d'eclairage comprenant un reseau de microprismes
US5825442A (en) * 1995-03-31 1998-10-20 Sony Corporation Liquid crystal display device and method for making same having a diffuser made of spherical particles in a transparent body
EP0768565A2 (fr) * 1995-10-12 1997-04-16 Nashua Corporation Ecran à diffusion de la lumière
US20010017674A1 (en) * 2000-02-02 2001-08-30 Akira Yamaguchi Illuminating device and liquid-crystal display apparatus
WO2002039183A1 (fr) * 2000-11-10 2002-05-16 Durand Technology Limited Materiaux d'enregistrement optique

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CALIXTO S ET AL: "ULTRAVIOLET SELF-GENERATING RELIEF MICRO-OPTICAL ELEMENTS THROUGH CROSSLINKING PHOTOPOLYMERIZATION OF LIQUID RESINS", EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL APPLIED PHYSICS, EDP SCIENCES, LES ULIS, FR, vol. 8, no. 1, October 1999 (1999-10-01), pages 29 - 35, XP000948512, ISSN: 1286-0042 *

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