WO2004015477A1 - Optische komponente umfassend ein material mit einem nulldurchgang der thermischer längsausdehnung - Google Patents

Optische komponente umfassend ein material mit einem nulldurchgang der thermischer längsausdehnung Download PDF

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WO2004015477A1
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optical component
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thermal expansion
max
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Timo Laufer
Jean-Noel Fehr
Harald Kirchner
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Carl Zeiss Smt Ag
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    • G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators

Definitions

  • Optical component comprising a material with a zero crossing of the thermal longitudinal expansion
  • the invention relates to an optical component which heats up to a maximum temperature T max as a result of electromagnetic radiation impinging on the optical component, ie the electromagnetic radiation which impinges on the optical surface of the optical component and is emitted by a light source, the optical component comprises a material which has a temperature-dependent thermal expansion coefficient ⁇ (T).
  • T temperature-dependent thermal expansion coefficient
  • the relevant mirror surface is understood as the optical surface, for example in the case of mirrors, such as are used in particular in lithography projection objectives.
  • the relevant mirror surface is the surface of a mirror on which the imaging rays of, for example, the projection lens strike.
  • optical components are of particular interest in the field of X-ray lithography. This applies in particular to lithography with soft X-rays, the so-called EUV lithography in the wavelength range 10 to 30 nm. In the field of X-ray lithography, mirrors with a high reflectivity in the X-ray range are used as optical components
  • Such mirrors can be operated near the vertical incidence as so-called normal incidence mirrors, or in grazing incidence as so-called grazing incidence mirrors.
  • Grazing-incidence mirrors are mirrors in which the rays of a bundle of rays incident on the mirror strike at angles ⁇ > 70 ° relative to the surface normal.
  • X-ray mirrors with a high reflectivity in the X-ray range which are operated as normal-incidence mirrors, comprise a substrate material and a multi-layer system based thereon, for example a Mo / Si multiple system or a Mo / Be multiple system or a MoRu / Be multiple layer system.
  • a multi-layer system based thereon for example a Mo / Si multiple system or a Mo / Be multiple system or a MoRu / Be multiple layer system.
  • layer systems made of other materials can also be used.
  • mirrors that are operated in grazing incidence are also conceivable.
  • Such mirrors also comprise a substrate material. However, a simpler one is applied to the substrate material
  • the layer applied can be, for example, a ruthenium, palladium or rhodium layer.
  • Image quality can be achieved.
  • Projection systems are used is the subject of EP 0 955 565.
  • the mirrors known from EP 0 955 565 have a metallic substrate as the substrate material. Due to the good thermal conductivity of the metals, the back of the
  • Metal substrates preferably through a cooling device in the mirrors dissipated heat efficiently dissipated. This heat dissipation minimizes the imaging errors due to mirror deformations.
  • a disadvantage of the solution according to EP 0 955 565 is that the image errors introduced due to heat are minimized by actively dissipating the heat introduced into the optical component, for example by the cooling device. This involves a lot of effort. Furthermore, additional components are always a risk of failure.
  • the object of the invention is to overcome the disadvantages of the prior art, in particular to provide a possibility with which image errors due to the heating of the respective optical component are minimized, this goal being achieved with the least possible technical outlay.
  • Component comprises a material that has a temperature-dependent thermal expansion coefficient ⁇ (T), the temperature-dependent thermal expansion coefficient ⁇ (T) or the derivative of the temperature-dependent thermal expansion coefficient d (T) / dT after the temperature near a temperature T 0 the sign of positive to changes negatively or from negative to positive and the temperature T 0 is approximately the maximum temperature T max to which the optical component, ie the optical component
  • a material with an approximately linear temperature dependence ⁇ (T) m - (TT 0 ) of the temperature-dependent thermal is particularly preferably used as the material, in particular as the substrate material
  • Substrate materials with such a profile of the temperature-dependent thermal expansion coefficient are, for example, glass ceramics or Ti-doped quartz glasses. Glass ceramics or Ti-doped quartz glass as the substrate material have the advantage that layer systems can be applied to this substrate material without an amorphous intermediate layer, in contrast to, for example, metallic substrate materials. Another advantage of such substrate materials is the low temperature expansion.
  • T temperature-dependent thermal expansion coefficient
  • the temperature To of the zero crossing point depends on the TiO 2 content.
  • Point is referred to as a so-called zero expansion point or zero crossing point.
  • glass-ceramics comprise microcrystallites with negative thermal expansion, which in an amorphous material with positive
  • the invention also provides an illumination system and a projection objective and a projection exposure system, which comprises at least one such optical component.
  • FIG. 1 a shows the schematic course of the thermal expansion coefficient ⁇ (T) as a function of the temperature for a TiO 2 -doped glass in the temperature range of approximately 20 ° C. to 70 ° C. which is interesting for EUV lithography
  • Figure 1 b shows the schematic course of the thermal
  • Substrate material was chosen.
  • FIG. 3 shows a projection objective with 6 mirrors, of which at least one mirror is an optical component according to the invention
  • Figure 4 shows an EUV projection exposure system with a light source, a
  • Substrate material is a temperature-dependent function ⁇ (T).
  • Longitudinal expansion coefficient thus has a zero crossing at a temperature T 0 . If the temperature T is greater than T 0 , the temperature-dependent thermal coefficient of longitudinal expansion is positive, ie the material expands when the temperature rises. For temperatures T less than T 0 , the temperature-dependent coefficient of thermal expansion is negative, ie the material contracts when the temperature rises.
  • Zerodur® (Zerodur®, brand of Schott-Glas, Mainz).
  • the slope for the Zerodur ® material is negative and lies in the range -0.5 * 10 "9 K " 2 ⁇ m ⁇ -1, 0 * 10 "8 K " 2 .
  • the material preferably has a low pitch m of, for example, -1.5 * 10 "9 K " 2 .
  • To temperatures greater than To the temperature-dependent thermal expansion coefficient is negative in the temperature range of about 20 ° C to 70 ° C that is interesting for EUV lithography, i.e.
  • the material contracts, for temperatures T less than To the temperature-dependent thermal expansion coefficient is positive, that is, the material stretches out when the temperature rises.
  • T 0 can therefore be set as required.
  • the zero passage in the materials shown in FIGS. 1a and 1b lies at the temperature To at which the temperature-dependent coefficient of thermal expansion changes the sign from positive to negative with increasing temperature or vice versa from negative to positive.
  • the maximum temperature TM 3X of the respective optical component, which is preferred Substrate material for a mirror is the temperature to which the optical component, ie the optical surface of the optical component, heats up due to absorbed heat radiation.
  • the heating can be caused, for example, by EUV radiation incident on the optical component, which radiation is emitted by a light source or arranged on the substrate material
  • Actuators or sensors are caused. Due to this heat radiation, the optical component heats up to a temperature T max .
  • the maximum temperature T max occurs in the mirror center of the relevant mirror surface.
  • the relevant mirror surface is the surface on which the imaging rays strike, for example in a projection lens, and is partially reflected, which traverses the projection lens from the object plane to the image plane, as shown in FIG. 3. (If, for example, a ring field illuminated in the object plane is mapped into a reduced ring field in the image plane, as described in US Pat. No. 6,353,470, the relevant mirror surface, which is also referred to as the used area, is elliptical, for example for the first mirror, as in FIG. 2a shown.
  • Minimal image defects are also found when using materials that do not have a zero crossing of the temperature-dependent thermal expansion coefficient, but a minimum in the course of the temperature-dependent thermal expansion coefficient ⁇ (T) at a temperature To as shown in FIG. 1c.
  • the derivative of the thermal expansion coefficient according to the temperature d (T) / dT has a zero crossing or a change of sign.
  • T 0 of such a material can be set, there are minimal image errors when used as substrate material for a mirror, if T 0 so is chosen so that the zero crossing of the derivative d ⁇ (T) / dT lies at the maximum temperature T max which results from the heating of the optical component, ie the optical surface of the optical component, for example the mirror surface of a substrate material.
  • Figure 2b shows the deformation of a
  • Substrate surface in the area of the relevant mirror surface at which the zero crossing of the temperature-dependent thermal expansion coefficient ⁇ (T) of the substrate material was chosen to be T 0 30 ° C.
  • Deformation is represented by contour lines in FIGS. 2a and 2b.
  • the variation is the peak-to-valley (PV) value on the mirror surface.
  • the peak-to-valIey ⁇ (pV) value is the difference between maximum deformation and minimum deformation.
  • the peak-to-valley value (pV) value due to thermal expansion at thermal load is for the exemplary embodiment according to FIG. 2a
  • the image errors due to such Deformations induced by heating can be significantly reduced by a suitable choice, for example, of the substrate material with a zero crossing of the temperature-dependent thermal expansion coefficient at the maximum mirror temperature. In the exemplary embodiment according to FIGS. 2a and 2b, these are reduced by a factor of 10, for example.
  • FIGS. 2c and 2d show the deformations that occur due to the heating of the substrate surface of the second mirror of an EUV projection objective, for example according to US Pat. No. 6,353,470, for materials with different zero crossing of the temperature-dependent thermal expansion coefficient.
  • TM 3 X 27.5 ° C.
  • the peak-to-valley (pV) value is the same as in FIGS. 2a and 2b described, defined.
  • the optical surface of the substrate is the substrate surface that forms the mirror surface or, in the case of this, has a coating on which the electromagnetic radiation, for example the EUV radiation, strikes and is reflected.
  • the optical surface of the substrate therefore corresponds in its geometric shape to the mirror surface.
  • the first mirror is an elliptical mirror, the long axis of the ellipse being 160 mm long and the short axis of the ellipse being 120 mm long.
  • the second mirror according to FIGS. 2c and 2d is a circular mirror with a radius of 165 mm.
  • FIG. 3 shows an EUV projection lens as is known from US Pat. No. 6,353,470.
  • the EUV projection lens comprises a total of six mirrors.
  • An object in an object plane 2 is imaged into a reduced image in an image plane 4 by the 6-mirror projection objective.
  • the aperture B of the projection object is formed on the second mirror S2.
  • the system is centered around the optical axis HA and has an intermediate image Z in the light path from the fourth mirror S4 to the fifth mirror S5.
  • the mirrors S1, S2, S3, S4, S5 and S6 of the projection lens are designed as normal incidence mirrors with a substrate material and a multi-layer system composed of Mo / Si alternating layers applied thereon.
  • the substrate material of at least one mirror or a plurality of mirrors S1, S2, S3, S4, S5, S6 is a substrate material according to the invention whose temperature-dependent thermal expansion coefficient ⁇ (T) is one .
  • T temperature-dependent thermal expansion coefficient
  • Temperature range is the maximum that is achieved by heating the optical component.
  • FIG. 4 shows an EUV projection exposure system, comprising a light source 100 and an illumination system 101 for illuminating a field in a plane 102, in which a mask carrying a structure is arranged, and a projection objective 104, comprising six mirrors, for imaging the
  • Each of the optical components of the EUV projection exposure system i. H.
  • the optical components of the lighting system or the mirrors of the projection objective or also the reticle or the reflection mask can be constructed according to the invention, i. H. have a substrate material or a coating, the temperature-dependent thermal
  • Component occurring maximum temperature T max corresponds to due to heating.
  • the invention specifies optical components, in particular mirrors for EUV projection lenses, which have minimal image errors due to appropriate material selection.

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine optische Komponente, insbesondere für elektromagnetische Strahlung einer Wellenlänge λ ≤ 193 nm, insbesondere im Bereich 5 nm ≤ λ ≤ 20 nm, die sich durch Absorbtion auf eine Maximaltemperatur Tmax erwärmt, umfassend wenigstens ein Material umfasst, das einen temperaturabhängigen thermischen Längsausdehnungskoeffizienten von α ( T0 ) = 0 bei einer vorgegebenen Temperatur T0 aufweist. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die vorgegebene Temperatur T0 derart gewählt wird, dass die Temperatur T0 ungefähr der Maximaltemperatur Tmax , auf die die optische Komponente erwärmt wird, entspricht.

Description

Optische Komponente umfassend ein Material mit einem Nulldurchgang der thermischer Längsausdehnung
Die Erfindung betrifft eine optische Komponente, die sich durch von auf die optische Komponente auftreffender elektromagnetischer Strahlung, d. h. der elektromagnetischen Strahlung die auf die optische Fläche der optischen Komponente auftrifft und von einer Lichtquelle emittiert wird, auf eine Maximaltemperatur Tmax erwärmt, wobei die optische Komponente ein Material umfasst, das einen temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α (T) aufweist. Als optische Fläche wird in vorliegender Anmeldung beispielsweise bei Spiegeln, wie sie insbesondere in Lithographie-Projektionsobjektiven verwendet werden, die relevante Spiegelfläche verstanden. Die relevante Spiegelfläche ist die Fläche eines Spiegels, auf die die abbildenden Strahlen beispielsweise des Projektionsobjektives auftreffen.
Derartige optische Komponenten sind insbesondere im Bereich der Röntgenlithographie von besonderem Interesse. Insbesondere gilt dies für die Lithographie mit weichen Röntgenstrahlen, die sogenannte EUV-Lithographie im Wellenlängenbereich 10 - 30 nm. Als optische Komponenten finden im Bereich der Röntgenlithographie Spiegel mit einer hohen Reflektivität im Röntgenbereich
Verwendung. Derartige Spiegel können nahe dem senkrechten Einfall betrieben werden als sogenannte normal-incidence-Spiegel, oder im streifenden Einfall als sogenannte grazing-incidence-Spiegel. Als grazing-incidence Spiegel werden Spiegel bezeichnet, bei denen die auf den Spiegel einfallenden Strahlen eines Strahlbüschels unter Winkeln α > 70° relativ zur Oberflächennormalen auftreffen.
Röntgenspiegel mit einer hohen Reflektivität im Röntgenbereich, die als normal- incidence Spiegel betrieben werden, umfassen ein Substratmaterial und darauf aufgebaut ein Vielfach-Schichtsystem, beispielsweise ein Mo/Si-Vielfachsystem oder ein Mo/Be-Vielfachsystem bzw. ein MoRu/Be-Vielfach-Schichtsystem. Mit derartigen Systemen können im EUV-Bereich Spitzenreflektivitäten von über 50 % und sogar von über 60 % erreicht werden.
Je nach Wellenlänge des zu reflektierenden Lichtes können aber auch Schichtsysteme aus anderen Materialien eingesetzt werden.
Neben den Röntgenspiegeln, die als normal-incidence-Spiegel betrieben werden, sind auch Spiegel, die im streifenden Einfall betrieben werden, sogenannte grazing-incidence-Spiegel, denkbar. Derartige Spiegel umfassen ebenfalls ein Substratmaterial. Auf das Substratmaterial aufgebracht ist jedoch ein einfacheres
Schichtsystem. Die aufgebrachte Schicht kann beispielsweise eine Ruthenium-, Palladium- oder Rhodium-Schicht sein.
Für Röntgenspiegel, die im Bereich der EUV-Lithographie, insbesondere in Projektionsobjektiven Verwendung finden, ist es wünschenswert, wenn hohe
Abbildungsgüten erreicht werden.
Da die Röntgenstrahlung, wie zuvor aufgezeigt, weder unter normalem Einfall (normal-incidence) noch unter streifendem Einfall (grazing incidence) vollständig reflektiert wird, wird in die Spiegel Energie eingetragen, so dass die Spiegel bzw. die jeweiligen optischen Komponenten sich erwärmen. Die Temperaturerwärmung der jeweiligen optischen Komponenten führt wiederum dazu, daß aufgrund thermischer Ausdehnung die Abbildungsqualität beeinflußt wird.
Die Minimierung thermischer Effekte bei optischen Komponenten, die in EUV-
Projektionssystemen Verwendung finden, ist Gegenstand der EP 0 955 565.
Zur Unterdrückung der thermischen Effekte weisen die aus der EP 0 955 565 bekannten Spiegel als Substratmaterial ein metallisches Substrat auf. Aufgrund der guten Wärmeleitfähigkeit der Metalle wird über die Rückseite der
Metallsubstrate vorzugsweise durch eine Kühlvorrichtung die in den Spiegeln eingetragene Wärme effizient abgeführt. Durch diese Wärmeabfuhr werden die Abbildungsfehler aufgrund von Spiegeldeformationen minimiert.
Nachteilig an der Lösung gemäß der EP 0 955 565 ist, daß die Minimierung der aufgrund von Wärme eingetragenen Bildfehler dadurch geschieht, daß die in die optische Komponente eingetragene Wärme beispielsweise durch die Kühleinrichtung aktiv abgeführt wird. Dies ist mit einem hohen Aufwand verbunden. Des weiteren sind zusätzliche Komponenten stets ein Ausfallrisiko.
Ein weiterer Nachteil der Verwendung von Metallen als Substratmaterial ist darin zu sehen, daß es notwendig ist, um eine möglichst glatte Oberfläche zu erreichen, das Metallsubstrat mit einem dünnen Film einer amorphen Substanz als Zwischenschicht zu beschichten. Diese Zwischenschicht wird poliert, um hinreichend geringe Rauhigkeiten zu erreichen. Erst auf dieser Schicht werden die optischen Schichten der EUV-Komponente, beispielsweise die Vielfach-
Schichtsysteme für die normal-incidence-Spiegel oder aber auch die optischen Beschichtungen für die grazing-incidence-Spiegel, aufgebracht.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile des Standes der Technik zu überwinden, insbesondere eine Möglichkeit anzugeben, mit der Bildfehler aufgrund der Erwärmung der jeweiligen optischen Komponente minimiert werden, wobei dieses Ziel mit möglichst geringem technischen Aufwand erreicht werden soll.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß die optische
Komponente ein Material umfasst, das einen temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α(T) aufweist, wobei der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient α(T) oder die Ableitung des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten d (T)/dT nach der Temperatur nahe einer Temperatur T0 das Vorzeichen von positiv nach negativ oder von negativ nach positiv wechselt und die Temperatur T0 ungefähr der Maximaltemperatur Tmax , auf die die optische Komponente, d. h. die optische
Fläche der optischen Komponente durch die auftreffende Strahlung erwärmt wird, entspricht. Unter „ungefähr der Maximaltemperatur entspricht" wird in vorliegender Anmeldung verstanden, dass gilt
Tmax- 3K < To < Tmax + 3K bevorzugt
Tmax- 2K < T0 < Tmax + 2K
ganz besonders bevorzugt
Tmax" 1 K < To < Tmax + 1 K,
d. h. die Temperatur To der Temperatur Tmax ± 3K entspricht.
Wird das Material des Spiegels, insbesondere das Substratmaterial, wie oben beschrieben gewählt, so ist keinerlei aufwendige Kühlung wie im Stand der Technik, beispielsweise der EP 0 955 565, mehr nötig, um Bildfehler aufgrund der
Erwärmung der optische Komponente durch die eingetragene Energie gering zu halten.
Besonders bevorzugt findet als Material, insbesondere als Substratmaterial, ein Material Verwendung mit einer näherungsweise linearen Temperaturabhängigkeit α(T) = m - (T-T0) des temperaturabhängigen thermischen
Langsausdehnungskoeffizienten in einem Temperaturbereich nahe der Temperatur T0. Hierbei bezeichnet m die Steigung des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten. Substratmaterialien mit einem derartigen Verlauf des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten sind beispielsweise Glaskeramiken oder Ti-dotierte Quarzgläser. Glaskeramiken bzw. Ti-dotiertes Quarzglas als Substratmaterial haben den Vorteil, dass auf dieses Substratmaterial Schichtsysteme ohne eine amorphe Zwischenschicht im Gegensatz beispielsweise zu metallischen Substratmaterialien aufgebracht werden können. Ein weiterer Vorteil derartiger Substratmaterialien ist die niedrige Temperaturausdehnung.
Der Verlauf des temperaturabhängigen thermischen
Langsausdehnungskoeffizienten in Abhängigkeit von der Temperatur und die Möglichkeit diesen durch Veränderungen der Materialeigenschaften zu beeinflussen ist für ein Ti-dotiertes Quarzglas in
"Ultra low expansion glasses and their structure in the SiO2-TiO2 - System" von P.C.Schultz, H.T.Smyth, Amorphous Materials, September 1970, Seiten 453 - 461
und in dem Patent US 2326056 beschrieben. Der Offenbarungsgehalt dieser Schriften wird in den Offenbarungsgehalt der vorliegenden Anmeldung vollumfänglich miteinbezogen.
Wie aus diesen Schriften bekannt ist, ändert für derartige Materialien der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient (T) in dem für die EUV-Lithographie interessanten Temperaturbereich von etwa 20° C bis 70° C, mit steigender Temperatur das Vorzeichen. Dieses Verhalten ist in anderen Temperaturintervallen anders. Hier kann selbst die Steigung das Vorzeichen wechseln.
Der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient ist gemäß "Ultra low expansion glasses and their structure in the Siθ2-TiO2 - System" von P.C.Schultz, H.T.Smyth, Amorphous Materials, September 1970, Seiten 453 - 461 definiert als die Änderung der Längsausdehnung eines Körpers ΔL bezogen auf eine Referenzlänge L bei einer Temperatur T, wobei in "Ultra low expansion glasses and their structure in the Siθ2-TiO2 - System" von P.C.Schultz, H.T.Smyth, Amorphous Materials, September 1970, Seiten 453 - 461 die Temperatur T=25°C beträgt. Es gilt gemäß P.C.Schultz, H.T.Smyth, Amorphous Materials, September 1970, Seiten 453 - 461 somit die Abhängigkeit α(T) = dAUdl.
Der temperaturabhängige thermische Längenausdehungskoeffizient weist somit bei einer Temperatur T0 einen Wert α (T0) = 0 auf, den sogenannten zero- expansion point bzw. den zero crossing point. Die Temperatur To des zero- crossing points ist abhängig vom TiO2-Gehalt.
Der temperaturabhängige thermische Längenausdehungskoeffizient α(T) von . Glaskeramiken weist für bestimmte Zusammensetzungen für steigende Temperaturen, in dem für EUV-Lithographie interessanten Temperaturbereich von 20°C bis 70°C, einen Vorzeichenwechsel von positiv nach negativ auf, d. h. auch dieses Material zeigt bei einer Temperatur T0 einen Wert α (To) = 0 auf. Dieser
Punkt wird als sogenannter zero-expansion point bzw. zero crossing point bezeichnet.
Diese Verhalten resultiert daraus, daß die Glaskeramiken Mikrokristallite mit negativer Wärmeausdehnung umfassen, die in ein amorphes Material mit positiver
Wärmeausdehnung eingebettet sind. Die negative Wärmeausdehnung der Kristallite hebt bei der Temperatur T0 am zero-crossing point die positive Wärmeausdehnung des Glases auf und umgekehrt. Auf Grund der Rauheitswerte der Glaskeramik bzw. des TiO2 -dotierten Glases kann auf die Oberfläche eines derartigen Glases bzw. einer derartigen Glaskeramik direkt ein Schichtsystem, umfassend eine Vielzahl von Schichten, die beispielsweise ein Mehrschichtsystem für einen normal-incidence-Spiegel ausbilden, aufgebaut werden. Ebenso ist es möglich, auf eine Glaskeramik bzw. ein Glas als Substratmaterial eine Beschichtung für einen grazing-incidence-EUV- Spiegel aufzubringen. Eine Zwischenschicht, die zum Erreichen der optischen Oberflächenqualität wie in der EP 0955565 beschrieben zwischen dem Substratmaterial und der Beschichtung aufgebracht wird, ist nicht nötig.
Neben den optischen Komponenten stellt die Erfindung auch ein Beleuchtungssystem sowie ein Projektionsobjektiv und eine Projektionsbelichtungsanlage zur Verfügung, die wenigstens eine solche optische Komponente umfaßt.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben werden.
Es zeigen:
Figur 1 a den schematischen Verlauf des thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α(T) in Abhängigkeit von der Temperatur für ein TiO2 - dortiertes Glas in dem für die EUV-Lithographie interessanten Temperaturbereich von etwa 20°C bis 70°C
Figur 1 b den schematischen Verlauf des thermischen
Langsausdehnungskoeffizienten α(T) in Abhängigkeit von der Temperatur für eine Glaskeramik in dem für die EUV-Lithographie interessanten Temperaturbereich von etwa 20°C bis 70°C Figur 1 c den schematischen Verlauf des thermischen
Ausdehungskoeffizienten α(T) in Abhängigkeit von der Temperatur für ein Material, bei dem die Steigung dα/dT im Temperaturverlauf das Vorzeichen wechselt in dem für die EUV-Lithographie interessanten Temperaturbereich von etwa 20°C bis 70°C
Figuren 2a die Verformung der Spiegeloberfläche des Spiegelsubstrates für den und 2b ersten Spiegel eines Mikrolithographieprojektionsobjektives mit sechs Spiegeln gemäß Figur 3 mit einer Maximaltemperatur Tmaχ = 30 °C, wobei T0 = 20° C (Figur 2a) und T0 = 30° C (Figur 2b) für das
Substratmaterial gewählt wurde
Figuren 2c die Verformung der Spiegeloberfläche des Spiegelsubstrates für den und 2d zweiten Spiegel eines Mikrolithographieprojektionsobjektives mit sechs Spiegeln gemäß Figur 3 mit einer Maximaltemperatur Tmax =
27 °C, wobei T0 = 23° C (Figur 2c) und T0 = 27° C (Figur 2d) für das
Substratmaterial gewählt wurde.
Figur 3 ein Projektionsobjektiv mit 6 Spiegeln, wovon wenigstens ein Spiegel eine optische Komponente gemäß der Erfindung ist
Figur 4 eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Lichtquelle, einem
Beleuchtungssystem sowie einem Projektionsobjektiv
Der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient eines
Substratmaterials ist eine temperaturabhängige Funktion α (T).
Für die Materialen, die bei den erfindungsgemäßen optischen Komponenten zum Einsatz gelangen, gibt es mehre Möglichkeit des Verlaufes von α(T). Diese sind in den Figuren 1a bis 1 c dargestellt. Bei dem in Figur 1a gezeigten Material wechselt der temperaturabhängige Längsausdehnungskoeffizient in dem für EUV-Lithographie interessanten Temperaturbereich von etwa 20° C bis 70° C das Vorzeichen von negativ nach positiv mit steigender Termperatur. Der temperaturabhängige thermische
Längsausdehnungskoeffizient weist somit einen Nulldurchgang bei einer Temperatur T0 auf. Ist die Temperatur T größer als T0 , so ist der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient positiv, d. h. das Material dehnt sich bei Temperaturerhöhung aus. Für Temperaturen T geringer als T0 ist der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient negativ, d. h. das Material zieht sich bei Temperaturerhöhung zusammen. Bei dem in Figur 1a dargestellten Material kann es sich beispielsweise um Ti-Iegiertes Quarzglas handeln. Im Bereich des Nulldurchganges bei der Temperatur T0 kann der temperaturabhängige Verlauf des thermischen Langsausdehnungskoeffizienten durch die lineare Beziehung α (T) = m- (T - T0) - wie in Fig. 1a gezeigt, beschrieben werden. Die Steigung m liegt im Bereich 1 ,5 *10"9K"2 < m < 1* 10" 7K"2, je nach Zusammensetzung des Glases. Entscheidend für die Erfindung ist nicht der absolute Wert der Steigung, sondern der Nulldurchgang des thermischen Langsausdehnungskoeffizienten bei der Temperatur To und die Einstellbarkeit von T0 in einen Temperaturbereich ΔT von beispielsweise ΔT = 50 K durch die
Materialzusammensetzung. Bevorzugt wird eine Materialzusammensetzung, als weitere Eigenschaft eine geringe Steigung von beispielsweise m = 1 ,5 *10"9K"2 aufweisen.
Einen umgekehrten Verlauf für α (T) erhält man für das Glaskeramikmaterial
Zerodur® (Zerodur ®, Marke der Fa. Schott-Glas, Mainz). Für Zerodur® kann im Bereich des Nulldurchganges der Verlauf durch α(T) = m- (T - T0) angenähert werden. Die Steigung für das Material Zerodur ® ist negativ und liegt im Bereich -0,5 *10"9K"2 < m < -1 ,0* 10"8K"2. Bevorzugt weist das Material eine niedrige Steigung m von beispielsweise -1 ,5 *10"9K"2 auf. Für Temperaturen größer als To ist der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient in dem für EUV-Lithographie interessanten Temperaturbereich von etwa 20° C bis 70°C negativ, d. h., das Material zieht sich zusammen, für Temperaturen T kleiner als To ist der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient positiv, d. h., das Material dehnt sich bei Temperaturerhöhung aus. Durch geeignete Wahl der Materialzusammensetzung der Glaskeramik kann der Nulldurchgang bzw. der zero-crossing point in einem Temperaturbereich von ΔT von beispielsweise ΔT = 50 K verschoben werden.
T0 kann also je nach Anforderung eingestellt werden. Die Erfinder haben nun herausgefunden, daß eine optische Komponente dann einen minimalen Bildfehler aufweist, wenn der Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten (T0)=0 so gewählt wird, dass T0 ungefähr der Maximaltemperatur T max der optischen Fläche des jeweiligen optischen Elementes entspricht. Unter „ungefähr der Maximaltemperatur Tmax der optischen
Komponente" wird verstanden, dass To im Bereich
Tmax - 3K < To < Tmax + 3K insbesondere Tmax- 2K ≤ T0 < Tmax + 2K besonders bevorzugt
Tmax" K < To < Tmax + 1 K
liegt.
Der Nuildurchgang bei den in Figur 1a und 1b gezeigten Materialien liegt bei der Temperatur To bei der der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient das Vorzeichen von positiv nach negativ mit steigender Temperatur oder umgekehrt von negativ nach positiv wechselt. Die Maximaltemperatur TM3X der jeweiligen optischen Komponente, die bevorzugt ein Substratmaterial für einen Spiegel ist, ist die Temperatur auf die sich die optische Komponente, d. h. die optische Fläche der optischen Komponente, aufgrund von absorbierter Wärmestrahlung erwärmt. Die Erwärmung kann beispielsweise durch auf die optische Komponente einfallenden EUV-Strahlung, die von einer Lichtquelle ausgestrahlt wird oder an dem Substratmaterial angeordnete
Aktuatoren oder Sensoren hervorgerufen werden. Aufgrund dieser Wärmestrahlung heizt sich die optische Komponente auf eine Temperatur Tmax auf. Die optimale Temperatur T0 des Nulldurchganges des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α(T), bei der die geringsten Bildfehler beispielsweise bei Verwendung als Substratmaterial für Spiegel auftreten, ist somit dann, wenn TQ gleich Tmaxist, d. h. T0 = Tmax . Bei einem
Spiegel tritt die Maximaltemperatur Tmax in der Regel in der Spiegelmitte der relevanten Spiegelfläche auf. Die relevante Spiegelfläche ist die Fläche, auf die beispielsweise in einem Projektionsobjektiv die abbildenden Strahlen auftreffen, und teilweise reflektiert werden, die das Projektionsobjektiv von der Objektebene zur Bildebene durchlaufen, wie in Figur 3 gezeigt. (Wird beispielsweise ein in der Objektebene ausgeleuchtetes Ringfeld in ein verkleinertes Ringfeld in der Bildebene abgebildet, wie in der US 6,353,470 beschrieben, so ist die relevante Spiegelfläche, die auch als genutzter Bereich bezeichnet wird, beispielsweise für den ersten Spiegel ellipsenförmig, wie in Figur 2a gezeigt.
Minimale Bildfehler werden aber auch gefunden, wenn man Materialien verwendet, die keinen Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten aufweisen, aber ein Minimum im Verlauf des temperaturabhängigen thermischen L ngsausdehnungskoeffizienten α(T) bei einer Temperatur To wie in Figur 1c gezeigt. Bei einem derartigen Material weist die Ableitung des thermischen Langsausdehnungskoeffizienten nach der Temperatur d (T)/dT einen Nulldurchgang bzw. ein Vorzeichenwechsel auf. Kann T0 eines derartigen Materials eingestellt werden, so ergeben sich minimale Bildfehler bei Verwendung als Substratmaterial für einen Spiegel, wenn T0 so gewählt wird, dass der Nulldurchgang der Ableitung dα(T)/dT bei der Maximaltemperatur Tmax die sich aufgrund der Erwärmung der optischen Komponente, d. h. der optischen Fläche der optischen Komponente, beispielsweise der Spiegeloberfläche eines Substratmaterials ergibt, liegt.
Nachfolgend sollen spezielle Ausführungsbeispiele angegeben werden.
Figur 2a zeigt die Verformung einer Substratoberfläche für ein Material mit einem Nulldurchgang T0 = 20° C des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten und Figur 2b die Verformung einer
Substratoberfläche im Bereich der relevanten Spiegelfläche bei der der Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α(T) des Substratmaterials zu T0 = 30° C gewählt wurde. Die maximale Temperatur Tmax, auf die die Substratoberfläche, im Bereich der relevanten Spiegelfläche, beispielsweise des ersten Spiegels eines
Projektionsobjektes wie z. B. in der US 6,353,470 gezeigt, aufgrund von absorbierter Wärmestrahlung erwärmt wird, beträgt 30° C. Wie aus den Figuren 2a und 2b zu erkennen ist, ist die Deformation durch Erwärmen für den Spiegel mit dem Substratmaterial mit T0 = 20° C größer als für den Spiegel mit dem Substratmaterial T0 = 30° C. Die auf den Spiegeln auftretenden Variation der
Deformation sind in den Figuren 2a und 2b durch Höhenlinien dargestellt. Die Variation ist der peak-to-valley(PV)-Wert an der Spiegeloberfläche. Der peak-to- valIey~(pV)-Wert ist die Differenz zwischen maximaler Deformation und minimaler Deformation. Die peak-to-valley-Wert-(pV)-Wert auf Grund thermischer Ausdehnung bei Wärmelast beträgt für das Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2a
1 ,7 nm und gemäß Figur 2b 0,16 nm. Der peak-to-valley-(pV)-Wert bei dem Material, dessen Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen L ngsausdehnungskoeffizienten der maximalen Temperatur To = Tmaχ entspricht ist somit signifikant geringer als bei dem Material mit To sehr viel kleiner als Tmax beispielweise einer Temperatur T 0 < T MAX - 10K. Die Bildfehler aufgrund solcher durch Erwärmung induzierter Deformationen können durch geeignete Wahl beispielsweise des Substratmaterials mit einem Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten bei der maximalen Spiegeltemperatur deutlich verringert werden. In dem Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2a und 2b werden diese beispielsweise um einen Faktor 10 verringert. Dem Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2a und 2b wurde als Substratmaterial Ti-dotiertes Quarzglas, mit α(T) = 1 ,5 ppb/K2 • (T - T0) zugrundegelegt. Als Energieeintrag, der zur Erwärmung der
Substratoberfläche führt wurden beim Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2a und 2b 0,8 W angenommen. Nimmt man einen gleichmäßigen Energieeintrag in die optische Oberfläche des Spiegelsubstrates an so erwärmt sich das Spiegelsubstrat auf die zuvor erwähnte Maximaltemperatur von Tmax= 30 ° C. Die maximale Temperatur TmaX = 30°C tritt hierbei in der Spiegelmitte, der relevanten Spiegelfläche auf.
Figur 2c und 2d zeigen die Deformationen, die auf Grund der Erwärmung der Substratoberfläche des zweiten Spiegels eines EUV-Projektionsobjektives bspw. gemäß der US 6,353,470 für Materialien mit unterschiedlichem Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten auftreten. Der Energieeintrag in den zweiten Spiegel eines Mikrolithographie-
Projektionsobjektives ist im allgemeinen geringer als in den ersten Spiegel und wird mit 0,5 W über die gesamte optische Oberfläche des Substrates angenommen. Legt man wieder Ti- dotiertes Quarzglas als Substratmaterial zugrunde so ergibt sich eine Erwärmung auf eine Maximaltemperatur TM3X = 27,5° C. Bei Verwendung eines Substratmaterials mit einem Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten mit To = 23° C beträgt der peak-to-valley-(pV)-Wert 0,34 nm (Figur 2c) und bei Verwendung eines Substratmaterials mit einem Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten bei To = Tmax = 27° C 0,11 nm (Figur 2d). Der peak-to valley-(pV)-Wert ist wie bei den Figuren 2a und 2b beschrieben, definiert. Als optische Oberfläche des Substrates wird in dieser Anmeldung die Substratfläche bezeichnet, die die Spiegeloberfläche ausbildet oder im Falle diese eine Beschichtung trägt, auf die die elektromagnetische Strahlung, beispielsweise die EUV-Strahlung auftrifft und reflektiert wird. Die optische Oberfläche des Substrates stimmt daher in ihrer geometrischen Form mit der Spiegeloberfläche überein.
Wie in den Figuren 2a und 2b gezeigt ist der erste Spiegel ein ellipsenförmiger Spiegel, wobei die lange Achse der Ellipse eine Ausdehnung von 160 mm und die kurze Achse der Ellipse eine Ausdehnung von 120 mm hat. Der zweite Spiegel gemäß Figur 2c und 2d ist ein kreisförmiger Spiegel mit einem Radius von 165 mm.
In Figur 3 ist ein EUV-Projektionsobjektiv wie aus der US 6,353,470 bekannt gezeigt. Das EUV-Projektionsobjektiv umfaßt insgesamt sechs Spiegel. Einen ersten Spiegel S1 , einen zweiten Spiegel S2, einen dritten Spiegel S3, einen vierten Spiegel S4, einen fünften Spiegel S5 sowie einen sechsten Spiegel S6. Ein Objekt in einer Objektebene 2 wird durch das 6-Spiegel-Projektions-objektiv in ein verkleinertes Bild in einer Bildebene 4 abgebildet. Die Blende B des Projektionsobjektes wird auf dem zweiten Spiegel S2 ausgebildet. Das System ist um die optische Achse HA zentriert und weist ein Zwischenbild Z im Lichtweg vom vierten Spiegel S4 zum fünften Spiegel S5 auf.
Die Spiegel S1 , S2, S3, S4, S5 und S6 des Projektionsobjektives sind als normal- incidence-Spiegel ausgestaltet mit einem Substratmaterial sowie einem darauf aufgebrachten Vielfach-Schichtsystem aus Mo/Si-Wechselschichten. Das Substratmaterial wenigstens eines Spiegels oder mehrere Spiegel S1 , S2, S3, S4, S5, S6 ist ein erfindungsgemäßes Substratmaterial dessen temperaturabhängiger thermischer Längsausdehnungskoeffizient α(T) einen. Nulldurchgang bei einer Temperatur T0 , die ungefähr Tmax entspricht, aufweist. Neben dem Substratmaterial kann der erfindungsgemäße Gedanke der Einstellung des Nulldurchganges des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten auf die maximale Temperatur, die aufgrund der Erwärmung der optischen Komponente auftritt, auch auf die Beschichtungen übertragen werden. Einzige Bedingung hierfür ist, dass der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient α(T) oder dessen Ableitung nach der Temperatur dα(T)/dT des Beschichtungsmaterials einen Nulldurchgang bzw. einen Vorzeichenwechsel bei einer Temperatur T0 aufweist, der in einem
Temperaturbereich liegt, der durch das Aufheizen der optischen Komponente maximal erreicht wird.
In Figur 4 ist eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage gezeigt, umfassend eine Lichtquelle 100 sowie ein Beleuchtungssystem 101 zur Ausleuchtung eines Feldes in einer Ebene 102, in der eine Struktur tragende Maske angeordnet ist sowie einem Projektionsobjektiv 104, umfassend sechs Spiegel, zur Abbildung der
Struktur tragenden Maske in der Ebene 102 auf ein lichtempfindliches Substrat in einer Ebene 106. Betreffend das EUV-Beleuchtungssystem wird auf die EP-A- 1 123 195. verwiesen, deren Offenbarungsgehalt vollumfänglich in die vorliegende Anmeldung mitaufgenommen wird. Betreffend das 6-Spiegel-Objektiv wird auf die US 6,353,470 verwiesen.
Jede der optischen Komponenten der EUV-Projektionsbelichtungsanlage, d. h. die optischen Komponenten des Beleuchtungssystems bzw. die Spiegel des Projektionsobjektives oder auch das Retikel bzw. die Reflektionsmaske, können erfindungsgemäß aufgebaut sein, d. h. ein Substratmaterial oder aber auch eine Beschichtung besitzen, deren temperaturabhängiger thermischer
Längsausdehnungskoeffizient α(T) oder dessen Ableitung nach der Temperatur dα(T)/dT einen Nulldurchgang bzw. einen Vorzeichenwechsel bei einer Temperatur T0 aufweist, wobei die Materialien derart ausgewählt werden, daß der
Nulldurchgang des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α (T) oder deren Ableitung nach der Temperatur dα(T)/dT so gewählt wird, daß die Temperatur T0 der auf der jeweiligen
Komponente auftretenden Maximaltemperatur Tmax aufgrund von Erwärmung entspricht.
Mit der Erfindung werden erstmals optische Komponenten, insbesondere Spiegel für EUV-Projektionsobjektive angegeben, die durch entsprechende Materialauswahl minimalste Bildfehler aufweisen.

Claims

Patentansprüche
1. Optische Komponente, die sich auf eine Maximaltemperatur Tmax erwärmt, wobei die optische Komponente ein Material umfasst, das einen temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten (T) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der temperaturabhängige thermische Längsausdehnungskoeffizient α(T) oder die Ableitung des temperaturabhängigen thermischen
Langsausdehnungskoeffizienten d (T)/dT nach der Temperatur nahe einer Temperatur T0 das Vorzeichen von positiv nach negativ oder von negativ nach positiv mit steigender Temperatur wechselt und die Temperatur T0 ungefähr der Maximaltemperatur Tmax , auf die die optische Komponente d.h. die optische Fläche aus der optischen Komponente erwärmt wird, entspricht.
2. Optische Komponente nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass für To gilt:
Tma " 3K < To < Tmax + 3K insbesondere
Figure imgf000019_0001
besonders bevorzugt Tmax- 1K < T0 < Tmax + 1K
3. Optische Komponente gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Komponente eine optische Komponente für elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge λ ≤ 193 nm, insbesondere im Bereich 5 nm < λ < 20 nm ist.
4. Optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Material einen temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α(T) mit annähernd linearer
Temperaturabhängigkeit α (T) = m . (T -T0) in einem Temperaturbereich nahe der Temperatur T0 aufweist und α die Steigung des temperaturabhängigen thermischen
Langsausdehnungskoeffizienten ist.
5. Optische Komponente gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Betrag der Steigung m des temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten des Materials im Bereich | m | < 1 • 10~ 6K~ 2 , insbesondere | m | < 1 • \Q~η K~ 2 , bevorzugt | m | < 1
• 10~ 8i - 2 , insbesondere bevorzugt l m | < 2 • 10-9(<:- 2 liegt.
6. Optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Komponente ein Material, das einen temperaturabhängigen thermischen Langsausdehnungskoeffizienten α(T) aufweist, umfasst, wobei der temperaturabhängige thermische Längsausdehungskoeffizient α(T) oder die die Ableitung des temperaturabhängigen thermischen Längsausdehnungskoeffizeinten dα(T)/dT nach der Temperatur nahe einer Temperatur T0 das Vorzeichen von positiv nach negativ oder von negativ nach positiv mit steigender
Temperatur wechselt und die Temperatur T0 ungefähr der
Maximaltemperatur Tmax , auf die die optische Komponente erwärmt wird, entspricht, und das Material ein Substratmaterial ist.
7. Optische Komponente gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Komponente eine Beschichtung umfasst, die auf das Substratmaterial aufgebracht ist.
8. Optische Komponente gemäß Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Substratmaterial eines der nachfolgenden Materialien ist: eine Glaskeramik
Ti-dotiertes Quarzglas
9. Optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Komponente eine Retikelmaske für die EUV-Lithographie ist.
10. Optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Komponente ein Spiegel mit einem Substratmaterial und einer Beschichtung, die wenigstens eine Schicht umfasst, ist.
11. Optische Komponente nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Schicht eine Ruthenium-, Palladium- oder Rhodium- Schicht umfasst.
12. Optische Komponente nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung eine Vielzahl von Schichten umfasst, die ein Mehrschichtsystem ausbilden, wobei die Schichtpaare eines der nachfolgenden Materialien Mo/Si
Mo/Be MoRu/Be
umfaßt.
13. Beleuchtungssystem für Wellenlängen < 193 nm, insbesondere für die
EUV-Lithographie zur Ausleuchtung einer Ebene mit einem Feld, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine optische Komponente des Beleuchtungssystems eine optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 13 ist.
14. Projektionsobjektiv für Weilenlängen < 193 nm zur Abbildung eines Objektes in einer Objektebene in ein Bild in einer Bildebene, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine optische Komponente des Projektionsobjektives eine optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12 ist.
15. Projektionsobjektiv gemäß Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Projektionsobjektiv eine Vielzahl von Spiegeln aufweist und wenigstens ein Spiegel eine optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12 ist.
16. Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Strahlungsquelle einem Beleuchtungssystem, das die von der Quelle erzeugte Strahlung teilweise sammelt und zur Ausleuchtung einer Ebene mit einem Ringfeld weiterleitet einer Struktur tragenden Maske auf einem Trägersystem, wobei diese
Maske in der Ebene des Ringfeldes liegt einem Projektionsobjektiv, welches den beleuchteten Teil der Struktur tragenden Maske in ein Bildfeld abbildet ein lichtsensitives Substrat auf einem Trägersystem, wobei das lichtsensitive Substrat in der Ebene des Bildfeldes der • Projektionseinrichtung liegt, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine optische Komponente der EUV-Projektionsbelichtungsanlage eine optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12 umfaßt.
17. Verfahren zur Herstellung von mikroelektronischen Bauteilen, insbesondere Halbleiterchips, mit einer Projektionsbelichtungsanlage gemäß Anspruch 15.
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