WO2004002912A1

WO2004002912A1 - ガラス線材の製造方法及び装置

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Publication number: WO2004002912A1
Application number: PCT/JP2003/008273
Authority: WO
Inventors: Tomohiro Ishihara
Original assignee: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Priority date: 2002-06-28
Filing date: 2003-06-30
Publication date: 2004-01-08

Abstract

本発明の課題は、ガラス母材から線材化されたガラス線材における生成OH基に起因する特性劣化を抑制し、高品質の光ファイバを安定的に製造できるようにしたガラス線材の製造方法及び装置を提供することである。本発明のガラス線材の製造方法は、ガラス母材を線材化させる線引き工程において、加熱炉10に挿入されたガラス母材1の周辺雰囲気の比湿を0.05g/kg以下に保持する。これにより、加熱中にガラス母材1周囲の雰囲気中におけるH2O分子もしくはOH基がガラス母材1内部に溶解、拡散することを防止することができ、製造された光ファイバに残存するOH量を低減することができる。

Description

明細書ガラス線材の製造方法及び装置く技術分野 >

本発明は、ガラス線材の製造方法及ぴ装置、より詳細には、光ファイバ母材などの透明ガラス母材を加熱炉におレ、て加熱し、線引き工程によってガラス線材化して光ファイバを得るためのガラス線材の製造方法及ぴ装置に関する。ぐ背景技術 >

光ファイバの製造においては、まず、例えば O V D法や V A D法によってガラス微粒子を堆積させたガラス微粒子堆積体を作製する。例えば、 ¥ 0法ゃ0 D法による製造方法においては、 S i C 1 ₄等のガラス原料、 G e C l ₄等のドーパント、 H₂などの燃料ガス、及び 0₂などの助燃性ガスをパーナから噴出させ、火炎加水分解反応によって S i 0₂のガラス微粒子を生成させて、出発棒に堆積させることにより、ガラス微粒子堆積体を得ている。

得られたガラス微粒子堆積体は、次工程において脱水焼結炉によつて脱水焼結され、透明ガラス化したガラス母材（光ファイバプリフォーム）となる。得られたガラス母材は、線引きを行うための加熱炉 (線引き炉) に入れられて、さらに高温に加熱され、線引きすることによって線材化され光ファイバとなる。なお、脱水焼結して透明ガラス化したガラス母材を線引きする前に、一定の外径に加熱して延伸する延伸工程や、熱処理によって内部歪みを取り除くためのァニールェ程を実施し、これら工程を経て線引き用のガラス母材を得るようにしたプロセスもある。

線引き工程においては、ガラス母材を線引き炉内に挿入し、石英ガラスが溶融する 2 0 0 0 °C前後に線引き炉の温度をセットする。炉内ではガラス母材の先端が溶融して粘度が下がり自重によって落下する。この落下したガラスを引き取りながら、その周囲に樹脂を被覆してボビンに卷き取る。この際、線引き炉の加熱温度、及び引き取りの速度によってガラス線材の外径を制御する。例えば、線引きしたガラス線材の外径をレーザ等で測定しながら線引きの条件を制御して、光ファイバ規格の 1 2 5 μ πιの外径となるように線引きする。

光ファイバの伝送特性において、水分子の存在が影響を与えると考えられている。例えば、線引き工程の加熱雰囲気下において、ガラス母材の周辺に存在する水分子 Η₂0が、加熱によってガラス中に溶解し、拡散していき、ガラスの S i— O - S i結合部分と反応して S i— O Hとなる。

ガラス母材内部に溶解して拡散した O H基は、波長 1 . 3 8 /z mに光吸収ピークを有しており、光ファイバ内で伝送される光の伝送損失の原因となる。従って、線引き工程におけるガラス母材周辺の水分は、ガラス母材内部に拡散して、線引き後の光ファイバ内に残留し、光ファイバの特性劣化の要因となる。波長 1 . 3 8 x mを含む帯域は、安価で優れた増幅特性を有するラマン増幅器の光源波長と一致しているため、この波長における伝送損失低減は高速光通信技術において重要な問題となる。

光ファイバの製造工程においては、ガラス微粒子堆積体の脱水焼結工程や、上述した延伸工程、及びァニール工程における加熱雰囲気下においても、水分子自体や生成した O H基のガラス母材への溶解■拡散が問題となるが、ガラス径が最も小さくなる線引き工程の場合、水分子もしくは O H基がガラス中心部まで浸透しゃすいため、特性劣化の要因となりやすい。

上記のような問題に対して、例えば、特開平 1 1— 1 7 1 5 7 5号公報では、光ファイバの作製工程においてガラス中の O H分子量を低減する技術が開示されている。し力、しながら、上記公報には光ファイバの線引き工程において、ガラス母材の周囲の雰囲気中における水分量を表す条件、例えば比湿条件との関係を示す記载はなく、これを示唆する記載もない。

また、線材化の技術としては、目的とする線材に要求される特性などに応じて、また、作業性や生産性などを考慮して種々の技術が開発され、提案されている例えば、光ファイバプリフォームを溶融紡糸して光ファイバとする方法において、ガラス中の原子、分子レベルの欠陥生成を抑え、かつ熱的ゆらぎを小さくして低損失で信頼性の高い光ファイバを得る方法として、溶融紡糸炉の直下に内側に炉心管を有し該炉心管内を光ファイバが通過できるようにした加熱炉を設置して光フアイバを加熱しつつ線引きし、かつ炉心管内の雰囲気を不活性ガス雰囲気、酸素ガスを含む雰囲気又は水素ガスを含む雰囲気のいずれかの雰囲気とする方法がある（特開平 4一 5 9 6 3 1号公報）。

一方、光ファイバの伝送損失を大きくする因子の一つにガラス中に含まれる O H基があり、伝送損失を低減させるためにはガラス中の O H基の量をできるだけ少なくすることが必要である。

前記特開平 4— 5 9 6 3 1号公報の方法では、溶融紡糸炉を出たファイバを加熱炉内で熱処理する際に、加熱炉内に外気が混入し、外気中の水分子がガラス線材 (光ファイバ) 中へ拡散し、 O H基による伝送損失悪化が生じるという問題点があった。

<発明の開示 >

本発明は、ガラス母材から線材化されたガラス線材における生成 O H基に起因する特性劣化を抑制し、高品質の光ファイバを安定的に製造できるようにしたガラス線材の製造方法及び装置を提供することを目的とするものである。

上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造方法は、ガラス母材を第 1加熱炉を用いて加熱し、線引きによってガラス線材化するガラス線材の製造方法であって、前記第 1加熱炉内部における前記ガラス母材の周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下に保持して線引きすることを特徴としている。また、上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造方法は、ガラス母材を第 1加熱炉による第 1加熱処理により溶融して線材化し、得られたガラス線材を第 1加熱処理よりも低い温度で第 2加熱炉により第 2加熱処理した後、ガラス線材外周に被覆を施すガラス線材の製造方法において、前記第 2加熱処理の際のガラス線材周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下に保持することを特徴としている。また、上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造方法は

、ガラス母材を第 1加熱炉による第 1加熱処理により溶融して #泉材化し、得られたガラス線材を第 1加熱処理よりも低い温度で第 2加熱炉により第 2加熱処理した後、ガラス線材外周に被覆を施すガラス線材の製造方法において、前記第 1加熱処理及び前記第 2加熱処理の際のガラス線材周囲の雰囲気の比湿を、それぞれ 0 . 0 5 g / k g以下に保持することを特徴としている。

また、本発明に係るガラス線材の製造方法において、前記第 1加熱炉の内部圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くすることが好ましい。

また、本発明に係るガラス線材の製造方法において、前記第 1加熱炉の内部空間から前記第 1加熱炉の外部空間に連通するガス流路に設けたパージボックスに不活性ガスを導入し、前記パージポックス内部の圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くすることが好ましい。

また、本発明に係るガラス線材の製造方法において、前記第 1加熱炉内部に不活性ガスを導入し、前記不活性ガスの導入量を制御して前記第 1加熱炉の内部圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くするとともに、前記第 1加熱炉の内部空間から前記第 1加熱炉の外部空間に連通するガス流路に設けたパージポッタスに不活性ガスを導入し、前記パージポックス内部の圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くすることが好ましい。

また、本発明に係るガラス線材の製造方法において、前記第 2加熱炉の内部圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持することが好ましい。

また、本発明に係るガラス線材の製造方法において、前記第 2加熱炉の内部と外部とを繋ぐガス流路の一部に、不活性ガス用パージボックスを設置し、該パージポックス内の圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持することが好ましい。

また、本発明に係るガラス線材の製造方法において、前記第 2加熱炉の内部に不活性ガスを導入し、該不活性ガスの導入量を制御することで前記第 2加熱炉の内部圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持すると共に、前記第 2加熱炉の内部と外部とを繋ぐガス流路の一部に、不活性ガス用パージポックスを設置し、該パージボックス内の圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持することが好ましい。

また、上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造装置は、炉心管と、前記炉心管を加熱するために前記炉心管の外側に配設されたヒータと、前記ヒータの外側に配設された断熱材と、前記炉心管内部にガスを導入するためのガス導入用配管とを有し、前記炉心管の上部にガラス母材を揷入するための開口を備えるとともに、前記炉心管の下部にガラス母材を線引きして形成したガラス線材を引き取るための開口を備える加熱炉であって、前記炉心管の上部の開口及び下部の開口の形成部分に、パージガスを導入可能なパージポックスをそれぞれ設けたことを特徴としている。

また、上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造装置は、ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、前記第 2加熱炉が、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、前記第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に揷入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴にパージボックスが設けられていることを特徴としている。

また、上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造装置は、ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、前記第 2加熱炉が、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に揷入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴とガラス線材との間のクリアランスを小さく保っための蓋が設けられていることを特徴としている。

また、上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造装置は、ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、前記第 1加熱炉は、炉心管と、前記炉心管を加熱するために前記炉心管の外側に配設されたヒータと、前記ヒータの外側に配設された断熱材と、前記炉心管内部にガスを導入するためのガス導入用配管とを有し、前記炉心管の上部にガラス母材を揷入するための開口を備えるとともに、前記炉心管の下部にガラス母材を線引きして形成したガラス線材を引き取るための開口を備え、前記炉心管の上部の開口及び下部の開口の形成部分に、パージガスを導入可能なパージボックスがそれぞれ設けられており、前記第 2加熱炉は、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、前記第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に挿入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴にパージボッタスが設けられていることを特徴としている。

また、上記目的を達成することができる本発明に係るガラス線材の製造装置は、ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、前記第 1加熱炉は、炉心管と、前記炉心管を加熱するために前記炉心管の外側に配設されたヒータと、前記ヒータの外側に配設された断熱材と、前記炉心管内部にガスを導入するためのガス導入用配管とを有し、前記炉心管の上部にガラス母材を挿入するための開口を備えるとともに、前記炉心管の下部にガラス母材を線引きして形成したガラス線材を引き取るための開口を備え、前記炉心管の上部の開口及び下部の開口の形成部分に、パージガスを導入可能なパージポッタスがそれぞれ設けられており、前記第 2加熱炉は、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に挿入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴とガラス線材との間のクリアランスを小さく保っための蓋が設けられていることを特徴としている。

<図面の簡単な説明 >

図 1は、本発明に係るガラス線材の製造装置の第 1の実施形態を示す概略断面説明図である。

図 2は、本発明に係るガラス線材の製造装置の第 2の実施形態を示す概略断面説明図である。

図 3は、本発明に係るガラス線材の製造装置の第 3の実施形態を示す概略断面説明図である。

なお、図中の符号、 1はガラス母材、 2は線材、 3は一次被覆された線材、 4 は二次被覆された線材、 1 0は加熱炉、 1 1は炉心管、 1 2はヒータ、 1 3はノージボックス、 1 4はパージガス導入管、 1 5は差圧測定器、 1 6はガス導入用配管、 1 7は断熱材、 1 8はパージボックス、 1 9はパージガス導入管、 2 0は差圧測定器、 2 1はダイス、 2 2はパージガス導入管、 2 3は紫外線照射装置、 2 4はダイス、 2 5はパージガス導入管、 2 6は紫外線照射装置、 2 7は方向奉云換ロール、 2 8は差圧測定器、 3 1は第 1加熱炉、 3 2はガラス母材、 3 3は炉心管、 3 4はヒータ、 3 5はパージボックス、 3 6はパージガス導入管、 3 7はパージガス導入管、 3 8はガラス線材、 3 9はダイス、 4 0はパージガス導入管、 4 1は硬化装置、 4 2は一次被覆線材、 4 3はダイス、 4 4はパージガス導人管、 4 5は硬化装置、 4 6は二次被覆線材、 4 7は方向転換口ール、 4 8は第 2 加熱炉、 4 9はヒータ、 5 0は差圧測定器、 5 1はパージガス導入管、 5 2は断熱材、 5 3は穴、 5 4は蓋、である。

<発明を実施するための最良の形態〉

図 1は、本発明によるガラス線材の製造装置の一実施形態（第 1の実施形態）を説明するための図である。

本発明は、ガラス母材を線材化させる線引き工程において、加熱炉（第 1加熱炉） 1 0に揷入されたガラス母材 1の周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g Z k g以下に保持するものである。これにより、加熱中にガラス母材 1周囲の雰囲気中における H₂O分子がガラス母材 1内部に溶解、拡散することを防止することができ、製造された光ファイバに残存する O H量を低減することができる。なお、比湿は、単位質量の湿潤空気中に存在する水蒸気重量を示すもので、単位は g Z k gである。

さらに本発明は、加熱炉 1 0に揷入されたガラス母材 1の周辺雰囲気中の比湿を下げるために、ドライな不活性ガス（窒素ガスなど）を加熱炉 1 0に導入し、かつその不活性ガスの導入流量を制御することにより加熱炉 1 0の内部圧力をその外部圧力より高く保つようにする。これによつて加熱炉 1 0外部の水分を含むガスが加熱炉 1 0の内部に流入しないようにする。ここでいう、ドライな不活性ガスとは、比湿を 0 . 0 5 g / k g以下としたものである。

さらに本発明は、加熱炉 1 0に揷入されたガラス母材 1の周辺雰囲気中の比湿を下げるために、加熱炉 1 0の内部空間から加熱炉 1 0の外部空間に連通する通路に、パージ用のパージボックス 1 3， 1 8を設置し、これらパージボックス 1 3， 1 8の内部圧力が加熱炉 1 0の外部圧力より高くなるように管理する。これにより、加熱炉 1 0外部の水分を含むガスが加熱炉 1 0の内部に流入しないようにする。

以下に本実施形態の加熱炉（第 1加熱炉）について、さらに詳しく説明する。加熱炉 1 0にはその中心部に炉心管 1 1が備えられ、炉心管 1 1の内部にガラス母材 1を揷入して加熱し、線引きして線材化する。炉心管 1 1の外側にはヒータ 1 2が設けられ、さらに外側に断熱材 1 7が配されている。ガス導入用配管 1 6からは、窒素ガス等のドライな不活性ガスが炉心管 1 1の内部に導入される。上述のごとくに、炉心管 1 1内部へのガス導入によって、内部圧力をその外部圧力より高く保つようにし、外部のガスが加熱炉 1 0の内部に流入しないようにする。また炉心管 1 1内の圧力は差圧測定器 2 8によって測定される。

炉心管 1 1の上下には、第 1及び第 2のパージボックス 1 3， 1 8が設けられ、それぞれ第 1及び第 2のパージガス導入管 1 4， 1 9からパージガスが導入される。これら各パージボックス 1 3， 1 8に対してもドライな不活性ガスが導入される。これら各パージボックス 1 3 , 1 8は、上述のごとくに、加熱炉 1 0の外咅 15圧力よりも高い圧力になるようにパージガスの導入量を制御することによつて、加熱炉外部から加熱炉内部へのガスの流入を阻止するようにしたものである。各パージボックス 1 3， 1 8への導入ガス圧力は、それぞれ第 1及び第 2の差圧測定器 1 5 , 2 0によって測定され管理される。

線引き工程においては、ヒータ 1 2によって炉心管 1 1の内部を所定の線引き温度に加熱し、ガラス母材 1の溶融先端部を引き取って線材 2とし、一次被覆用のダイス 2 1を通すことにより紫外線硬化型樹脂で一次被覆する。ダイス 2 1は、容器状の形態を有していて、そこに紫外線硬化型樹脂の液体材料が投入され、線木才 2がその液体材料を上方から下方に向かって通過した後、ダイス下部の貫通孔カら引き出されるようにしたもので、ダイス 2 1を通過することによって連続的に線材 2の周囲に紫外線硬化型樹脂が塗布される。通常ダイス 2 1では、液体材枓に不純物や気泡が混在しないように液体材料を加圧して塗布を行う。

紫外線硬化型樹脂が塗布されたガラス線材 2は、第 1の紫外線照射装置 2 3で紫外線を照射され硬化される。紫外線硬化型樹脂により一次被覆された線材 3は、さらに一次被覆用のダイス 2 1と同様な二次被覆用のダイス 2 4を通過することによって、紫外線硬化性樹脂が二次塗布され、第 2の紫外線照射装置 2 0で硬化される。また、各紫外線照射装置 2 3 , 2 6に対しては、それぞれ一次被覆用のノージガス導入管 2 2、二次被覆用のパージガス導入管 2 5から不活性ガスが導入され、樹脂の硬化の妨げとなる酸素が除去される。なお、光ファイバにおいては、通常上述のように樹脂の被覆層を 2層構造とし、内層（一次被覆層）を緩衝性のある柔らかい樹脂で被覆し、外層（二次被覆層）をある程度剛性があり対摩擦特性の良い堅い樹脂で被覆している。

このようにして、加熱炉によって線引きされたガラス線材は、加熱炉下方に配置したダイス及び紫外線照射装置によって、その外周に 2層構造で樹脂が被覆される。二層に被覆された線材 4は、方向転換ロール 2 7でその引き取り方向を変えて、図示しないポビンに卷き取られて、光ファイバ素線または心線として製品化される。次に、実施例及び比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

•実施例 1

コア Zクラッド部を有する直径 36 mmのガラス母材 1を、その長手方向が鉛直になるように加熱炉 10の炉心管 1 1内部に設置した。そして炉心管 1 1内部でガラス母材 1をガラスの軟化温度以上に加熱溶融して線引きし、ガラス線材化した。このときの炉心管 1 1の内部には、ガス導入用配管 16から露点が一 70 °Cの窒素ガス（以下の実施例、比較例で用いる窒素ガスの露点も同様）を 100 0 S LM (Standard Liter/Min. ) で導入し、加熱炉 10の内部圧力を加熱炉 1 0の外部圧力より l O O P a高くなるように管理した。

さらに加熱炉 10の上部及び下部に備えられた第 1及び第 2のパージボックス 13, 1 8に対しても、窒素ガスを 200 S LMで導入し、各パージボックス 1 3， 1 8の内部圧力を加熱炉 10の外部圧力より 200 P a高くなるように管理した。

上記のごとくの条件により、炉心管 1 1の内部の比湿は 0.001〜 0. 00 2 gZkgに管理された。このような状態でガラス母材 1を線材化し、得られた光ファイバの伝送損失を測定した。水素 1%と窒素 9 9%とを含む雰囲気の温度を 20°C、気圧を 1気圧として、その中に得られた光ファイバを 3日間放置し、放置前後の波長 1. 38 μΐηにおける OH吸収による損失の増加量を求めると（以下の実施例、比較例もこの増加量の求め方は同様）、 0. 005 d BZkmであった

•実施例 2

本実施例は、図 1の各パージボックス 1 3， 1 8を外した状態でガラス母材 1 を線引きして光ファイバ化した。コア/クラッド部を有する直径 36 mmのガラス母材 1を、その長手方向が鉛直になるように加熱炉 10の炉心管 1 1内部に設置した。そして炉心管 1 1内部でガラス母材 1をガラスの軟化温度以上に加熱溶融して線引きし、ガラス線材化した。このとき炉心管 1 1内部には、ガス導入用配管 1 6から窒素ガスを 1 100 S LMで導入し、炉心管 1 1の内部圧力を加熱炉 10の外部圧力より 100 P a高くなるように管理した。これにより、炉心管 1 1の内部の比湿は 0.004〜0.005 g/k gに管理された。このような状態でガラス母材を線引きして線材化し、得られた光フアイバの伝送損失を測定したところ、波長 1. 38 / mにおける OH吸収によるロス増加量は 0. 02 d B k mであった。

•実施例 3

本実施例は、図 1のシステムを用いてガラス母材を線引きして光ファイバ化した。コア Zクラッド部を有する直径 36 mmのガラス母材 1を、その長手方向が鉛直になるように加熱炉 10の炉心管 1 1内部に設置した。そして炉心管 1 1内部でガラス母材 1をガラスの軟化温度以上に加熱溶融して線引きし、ガラス線材化した。このとき炉心管 1 1の内部には、ガス導入用配管 16から窒素ガスを 1 00 S LMで導入し、加熱炉 10の内部圧力を加熱炉 10の外部圧力より 1 0 P a高くなるように管理した。また加熱炉 1 0の上部及び下部に備えられた第 1及び第 2のパージボックス 1 3, 1 8に対して、窒素ガスを 50 S LMで導入し、各パージポックス 1 3， 18の内部圧力が加熱炉 10の外部圧力より 40 P a高くなるように管理した。 ·

上記のごとくの条件により、炉心管 1 1の内部の比湿は 0.006〜 0. 00 7 gZk gに管理された。このような状態でガラス母材 1を線材化し、得られた光ファイバの伝送損失を測定したところ、波長 1. 38 imにおける OH吸収によるロス増加量は 0.05 d B/ kmであった。

•実施例 4

本実施例では、ガス導入用配管 1 6から窒素ガスを 100 S LMで導入する以外は実施例 2と同様の条件で、ガラス母材 1をガラス線材化した。そのときの炉心管 1 1の内部の比湿、得られた光ファイバの OH吸収によるロス増加量を、表

1に示す。

■比較例 1

本比較例は、図 1の各パージボックス 1 3, 1 8を外した状態でガラス母材を線引きして光ファイバ化した。コアノクラッド部を有する直径 36 mmのガラス母材によるガラス母材 1を、その長手方向が鉛直になるように加熱炉 10の炉心管 11内部に設置した。そして炉心管 1 1内部でガラス母材 1をガラスの軟化温度以上に加熱溶融して線引きし、ガラス線材化した。このとき炉心管 1 1の内部には、ガス導入用配管 16から窒素ガスを 20 S LMで導入し、炉心管 1 1の内部圧力が加熱炉 10の外部圧力と同じになるように管理した。これにより、炉心管 1 1の内部の比湿は 0.16〜0. 20 gZk gに管理された。このような状態でガラス母材 1を線引きして線材化し、得られた光ファイバの伝送損失を測定したところ、波長 1.38 μπχにおける OH吸収によるロス増加量は 5.0 d B/k mであった。

以上の実施例及び比較例における管理比湿とロスデータとを表 1にまとめて示す。なお、表 1において、パージボックスの圧力差、及び加熱炉の圧力差は、加熱炉の外部雰囲気との圧力差をそれぞれ示すものとする。

表 1に示すように、加熱炉内部へのパージガスの導入量の制御、及びパージボッタスへのパージガスの導入量の制御を行うことにより、加熱炉内部の比湿をコントローノレできる。

加熱炉内の比湿と、光ファイバのロスの増加分には相関がみられ、比湿の増加とともにロスも増大する。実用レベルにおいて OH基の吸収による伝送ロスの増分は、 0. 5 dBZkm以下とすることが必要であり、これを実現するためには、加熱炉内の比湿は 0 . 0 5 g / k g以下にする必要がある。

次に、本発明の第 2の実施形態の例を説明する。

この実施形態の方法では、ガラス母材を第 1加熱炉により加熱溶融して線材化する第 1熱処理工程と、得られたガラス線材を第 2加熱炉により加熱処理する第 2加熱処理工程を有するガラス線材の製造方法において、第 2加熱処理時のガラス線材周囲の雰囲気における比湿を 0 . 0 5 g Z k g以下に保持することを特徴とする。これにより、加熱中に外周雰囲気中の水分子がガラス中に溶解、拡散するのを防止することができ、製造されたガラス線材に残存する O H基の量を低減させることができる。

本実施形態の方法は、特に光ファイバプリフォームを線引きして光ファイバを製造する方法として好適であり、波長 1 . 3 8 Ai m付近における吸収損失を低減することができる。

第 2加熱処理におけるガラス線材周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下とするための具体的な手段としては、例えば、第 2加熱処理を加熱炉中で行うようにし、該加熱炉内にドライな（水分 5 0 p p m以下であることが好ましく、さらに 1 0 p p m以下であることがより好ましい）不活性ガス（窒素、ヘリウム、アルゴンなど）を導入し、かつ該不活性ガスの導入量を制御して加熱炉内の圧力を加熱炉外部の圧力よりも高く保持し、加熱炉外の水分を含むガス（大気）が加熱炉内（ガラス線材周囲）へ流入するのを防ぐ方法が有効である。この場合、加熱炉本体のガラス線材が揷入又は搬出される穴の部分に蓋を設け、炉本体とガラス線材との間のクリアランスを狭くしておくと効果的である。

また、第 2加熱処理を加熱炉中で行うようにし、該加熱炉内と外部とを繋ぐガス流路（例えば加熱炉本体のガラス線材が揷入又は搬出される穴の部分）の一部に、不活性ガス用パージボックスを設置し、該パージボックス内の圧力を前記加熱炉の外部圧力よりも高く保持する方法も有効であり、前記加熱炉の内部圧力を加熱炉の外部圧力よりも高く保持する方法と併用すれば、更に効果的である。図 2に、本実施形態の方法によりガラス母材（光ファイバプリフォーム）からガラス線材（光ファイバ）を製造する装置の実施形態（第 2実施形態）の例を示す。

この装置は、主要部がガラス母材を加熱溶融して f泉材化する第 1加熱炉 3 1と、第 1加熱炉 3 1の直下に設けられたガラス線材を加熱処理するための第 2加熱炉 4 8で構成されており、その下方に樹脂被覆を行うための設備が付加されている。

図 2の装置において、ガラス母材 3 2は第 1加熱炉 3 1の炉心管 3 3内に揷入され、ヒータ 3 4で加熱されて溶融し、ガラス線材 3 8となって第 1加熱炉 3 1 の下部から引き出される。符号 5 1は炉内に窒素等の不活性ガスを導入するパージガス導入管、 5 0は炉心管 3 3の内外の差圧を測定する差圧測定器、 5 2は断熱材である。

第 1加熱炉 3 1から引き出されたガラス線材 3 8は、直下に設けられた第 2加熱炉 4 8に導入され、断熱材 5 2で囲まれたヒータ 4 9の中心部を通って加熱処理される。第 2加熱炉 4 8内にはパージガス導入管 3 6から窒素等の不活性ガスを導入し、差圧測定器 5 0により第 2加熱炉 4 8内圧カを炉外より高く管理することで、ガラス線材 3 8の周囲の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下に保持する。

通常の場合、線引き直後のガラス線材 3 8の温度は 1 2 0 0〜2 0 0 0 °C程度であり、これを第 2加熱炉 4 8内で 1 0 0 0〜1 6 0 0 °Cの温度で加熱処理する。これにより、ガラス線材 3 8の伝送損失をさらに下げることができる。

この装置では、第 2加熱炉 4 8の上下に設けられたガラス線材 3 8が導入、搬出される穴 5 3を覆い、かつ、ガラス線材 3 8が貫通可能な形で穴 5 3の部分に不活性ガスを流出させて第 2加熱炉 4 8内への外気の流入を防止するための不活性ガスのパージボックス 3 5が設けられている。パージボックス 3 5に設置した差圧測定器 5 0によりパージボックス 3 5内と炉外の圧力差を測定し、それに基づいてパージガス導入管 3 7から導入する不活性ガスの導入量を制御することによって、パージボックス 3 5内の圧力を炉外の圧力よりも高く保持する。それによって、第 2加熱炉 4 8内への外気の侵入を防止することができ、第 2加熱炉 4 8内のガラス線ネオ 3 8の周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g Z k g以下に保持することができる。第 2加熱炉 4 8で加熱処理されたガラス線材 3 8は、コーティング用のダイス

3 9を通り、例えば紫外線硬化樹脂が塗布され、硬化装置 4 0でその樹脂に紫外線が照射されて該樹脂が硬化しガラス線材 3 8を被覆する。符号 4 0は紫外線硬化樹脂の硬化の妨げとなる酸素を除去するため、窒素等の不活性ガスをパージするパージガス導入管である。

硬化装置 4 1を出た一次被覆線材 4 2は、二次塗布用のコーティング'ダイス 4 3とパージガス導入管 4 4を有する硬化装置 4 5を通って二次被覆され、二次被覆線材 4 6となり、方向転換ローラ 4 7を介して図示省略した卷取装置に卷き取られるようになっている。

図 3に、本発明の方法によりガラス母材（光ファイバプリフォーム）からガラス線材（光ファイバ）を製造する装置の第 3の実施形態を示す。

この装置は、第 2加熱炉 4 8の上下の穴 5 3を覆うように設けられたパージポックス 3 5がなく、代わりに、穴 5 3とガラス線材 3 8との間のクリアランスを小さく保っための蓋 5 4が設けられている点を除いては、図 2の装置と同じである。

蓋 5 4により第 2加熱炉 4 8内と外部とを繋ぐガス流路を狭くし、第 2加熱炉

4 8に設置した差圧測定器 5 0により第 2加熱炉 4 8內と炉外の圧力差を測定し、それに基づいてパージガス導入管 3 6から炉内へ導入する不活性ガスの導入量を制御することによって、第 2加熱炉 4 8内の圧力を炉外の圧力よりも高く保持する。それによつて、第 2加熱炉 4 8内への外気の侵入を防止することができ、第 2加熱炉 4 8内のガラス線材 3 8の周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g Z k g以下に保持することができる。

なお、図 2及び図 3に示した装置では、第 2加熱炉 4 8には炉心管は設けられていないが、ガラス線材 3 8の周囲のクリーン度や気密性を高める場合など必要により炉心管を設けてもよい。

次に、実施例及び比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

•実施例 5 図 2に示した装置（ヒータ 34の長さ： 40 Omm, ヒータ 49の長さ： 20 0 Omm) を用いて光ファイバプリフォームを線引きして光ファイバ化し、さらに、外周に 2層の樹脂を施す。

コア Zクラッド部を有する直径 36mmのプリフォーム（ガラス母材 32) を鉛直に第 1加熱炉 3 1内に設置し、該プリフォームを加熱炉 3 1内で軟化温度以上に加熱溶融して、ファイバ化する。第 2加熱炉 48内には窒素ガスを 1◦ 00 S LM導入し、第 2加熱炉 48内部の圧力を第 2加熱炉 48の外周の圧力より 1 O O P a高く管理する。また、第 2加熱炉 48の上下のパージボックス 35にも窒素ガスを 50 S LM導入し、パージボックス 35内を第 2加熱炉 48の外周の圧力より 200 P a高く管理する。これらにより、第 2加熱炉 48内の比湿は 0 • 00 1〜0. 002 gZk gに管理される。また、第 2加熱炉 48のヒータ 4 9の外表面温度は 1400°Cに制御する。このような条件で光ファイバプリフォ一ムを線引きして得られる光ファイバの OH吸収による 1. 38 //mのロス増分を表 2に示す。

•実施例 6

図 3に示した装置（蓋以外は実施例 5と同じ）を使用して、光ファイバプリフオームを線引きして光ファイバ化する。コア Zクラッド部を有する直径 36mm のプリフォーム（ガラス母材 32) を鉛直に第 1加熱炉 3 1内に設置し、該プリフォームを加熱炉 3 1内で軟化温度以上に加熱溶融して、ファイバ化する。第 2 加熱炉 48内には窒素ガスを 1 500 S LM導入し、第 2加熱炉 48の内部圧力を第 2加熱炉 48の外周の圧力より 100 P a高く管理する。これにより、第 2 加熱炉 48内の比湿は 0. 002〜0. 003 gZk gに管理される。また、第 2加熱炉 48のヒータ 49の外表面温度は 1400°Cに制御する。このような条件で光ファイバプリフォームを線引きして得られる光ファイバの OH吸収による 1. 38 μ mの口ス增分を表 2に示す。

-実施例 7

蓋 54を設けない外は図 3と同じ構造の装置を使用して光ファイバプリフォームを線引きして光ファイバ化する。コアノクラッド部を有する直径 36 mmのプリフォーム（ガラス母材 32) を鉛直に第 1加熱炉 3 1内に設置し、該プリフォームを加熱炉 3 1内で軟化温度以上に加熱溶融して、ファイバ化する。第 2加熱炉 48内には窒素ガスを 1000 S LM導入し、第 2加熱炉 48の内部圧力を第 2加熱炉 48の外周の圧力より 50 P a高く管理する。これにより、第 2加熱炉 48内の比湿は 0. 004〜0. 005 g/k gに管理される。また、第 2加熱炉 48のヒータ 49の外表面温度は 1400 °Cに制御する。このような条件で光ファイバプリフォームを線引きして得られる光ファイバの OH吸収による 1. 3 8 μ mのロス増分を表 2に示す。

•実施例 8

第 2加熱炉に流す窒素ガスを 500 S LMとする以外には実施例 7と同様にして、光ファイバプリフォームを線材化して得られる光ファイバの OH吸収による 1. 38 μ mの口ス增分を表 2に示す。

•比較例 2

実施例 5と同じ装置で光ファイバプリフォームを線引きして光ファイバ化する。コアクラッド部を有する直径 36mmのプリフォーム（ガラス母材 32) を鉛直に第 1加熱炉 3 1内に設置し、該プリフォームを加熱炉 3 1内で軟化温度以上に加熱溶融して、ファイバ化する。第 2加熱炉 48の上下のパージボックス 3 5には窒素ガスを 50 S LM導入し、パージボックス 35内を第 2加熱炉 48の外周の圧力より 40 P a高く管理する。この時第 2加熱炉 48内部の圧力は第 2 加熱炉 48の外周の圧力より 10 P a高くなる。これにより、第 2加熱炉 48内の比湿は 0. 06〜0. 07 g/k gに管理される。また、第 2加熱炉 48のヒータ 49の外表面温度は 1400°Cに制御する。このような条件で光ファイバプリフォームを線引きして得られる光ファイバの OH吸収による 1. 38 μ mの口ス増分を表 2に示す。

■比較例 3

実施例 5と同じ装置で、パージボックス 35を外した状態で光ファイバプリフオームを線引きして光ファイバ化する。コア Zクラッド部を有する直径 36mm のプリフォーム（ガラス母材 32) を鉛直に第 1加熱炉 3 1内に設置し、該プリフォームを加熱炉 3 1内で軟化温度以上に加熱溶融して、ファイバ化する。第 2 加熱炉 48内には何もパージせず、第 2加熱炉 48内の圧力を外部の圧力と同じとする。これにより、第 2加熱炉 48内の比湿は 16〜20 g/k gとなる。また、第 2加熱炉 48のヒータ 49の外表面温度は 1400°Cに制御する。このような条件で光ファイバプリフォームを線引きして得られる光ファイバの OH吸収による 1. 38 Ai mのロス増分を表 2に示す。

•比較例 4

第 2加熱炉 48内に導入するガスを露点が一 70°Cのヘリウム（He) ガス 3 S LMとし、第 2加熱炉 48内部の圧力を第 2加熱炉 48の外周の圧力より 1 P a高く管理する外は実施例 7と同様にして光ファイバプリフォームを線引きして光ファイバ化する。これにより、第 2加熱炉 48内の比湿は 0. 1〜0. 2 g/ k gに管理される。このような条件で光ファイバプリフォームを線引きして得られる光ファイバの OH吸収による 1. 38 Ai mのロス増分を表 2に示す。

加熱炉内の比湿と、光ファイバのロスの増加分には相関がみられ、比湿の増加とともにロスも増大する。実用レベルにおいて OH基の吸収による伝送ロスの増分は、 0. 5 d B/ km以下とすることが必要であり、これを実現するためには、加熱炉内の比湿は 0.05 g/k g以下にする必要がある。

表 2

比湿 0Hロスパージボックス第 2加熱炉内

(g/kg) (dB/km) (差圧）圧力（差圧）実施例 5 0.001〜0.002 0.005 あリ（200Pa) +100Pa 実施例 6 0.002〜0.003 0.01 なし（蓋あり） +100Pa 実施例 7 0.004〜0.005 0.03 なし（蓋なし） +50Pa 実施例 8 0.04〜0.05 0.5 なし（蓋なし） +30Pa 比較例 2 0.06〜0.07 1.0 あリ (40Pa) +10Pa 比較例 3 16〜20 10.0 なし（蓋なし） ±0Pa 比較例 4 0.1〜0.2 5.0 なし（蓋なし） +1Pa 本発明においては、上述した各実施の形態を組み合わせてガラス線材を製造することができる。

例えば、第 1と第 2の実施形態の特徴部分を組み合わせて、第 1加熱処理におけるガラス母材の周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g Z k g以下に保持するとともに、第 2加熱処理におけるガラス線材周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下どすると良い。その例を挙げると、図 1に示す第 1加熱炉 1 0と図 2に示す第 2加熱炉 4 8を組み合わせた装置を用いて、それら加熱炉の內部に不活性ガスを導入して、各加熱炉の内部の圧力を、外部の圧力より高くした状態で、ガラス母材を線材化して光ファイバを製造することができる。

また、例えば、第 1と第 3の実施形態の特徴部分を組み合わせて、第 1加熱炉 3 1より第 1加熱処理におけるガラス母材の周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 _g / k g以下に保持するとともに、第 2加熱炉 4 8により第 2加熱処理におけるガラス線材周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下とすると良い。その例を挙げると、図 1に示す第 1加熱炉 1 0と図 3に示す第 2加熱炉 4 8を組み合わせた装置を用いて、それら加熱炉の内部の圧力を、外部の圧力より高くした状態で、ガラス母材を線材化して光ファイバを製造することができる。本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の主旨と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとつて明らかである。

本出願は、 2002年 6月 28 日出願の日本特許出願（特願 2002— 189365)、及び 2002年 7月 5日出願の日本特許出願（特願 2002— 197985) に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

<産業上の利用可能性 >

以上の説明から明らかなように、本発明によれば、線引き雰囲気の比湿を制御することにより、加熱炉内に挿入されたガラス母材における生成 O H基に起因する光ファイバの特性劣化を抑制し、安定的に高品質のガラス線材を製造できるようにすることができる。

すなわち、本発明によって加熱雰囲気の比湿を管理することにより、加熱中にガラス母材周囲の H₂ O分子や O H基がガラス材に溶解、拡散することを防止し、製造された光ファイバに残存する O H量を低減できる。これにより波長 1 . 3 8 t m付近における吸収損失を低減でき、高品質の光ファイバを得ることができるまた、本発明の方法によれば、ガラス母材の 2段階カ卩熱によるガラス線材の製造技術において、熱処理時にガラス線材中へ O H基が拡散、侵入するのを抑制することができ、 O H基による品質低下のないガラス線材を製造することができる。また、本発明の方法により光ファイバを製造すると、伝送損失を小さくすることができる。また、本発明の装置によれば上記方法を容易に実施することができる。

Claims

請求の範囲

1 . ガラス母材を第 1加熱炉を用いて加熱し、線引きによってガラス線材化するガラス線材の製造方法であって、前記第 1加熱炉内部における前記ガラス母材の周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下に保持して線引きすることを特徴とするガラス線材の製造方法。

2 . ガラス母材を第 1加熱炉による第 1加熱処理により溶融して線材化し、得られたガラス線材を第 1加熱処理よりも低い温度で第 2加熱炉により第 2加熱処理した後、ガラス線材外周に被覆を施すガラス線材の製造方法において、前記第 2加熱処理の際のガラス線材周囲の雰囲気の比湿を 0 . 0 5 g / k g以下に保持することを特徴とするガラス線材の製造方法。

3 . ガラス母材を第 1加熱炉による第 1加熱処理により溶融して線材化し、得られたガラス線材を第 1加熱処理よりも低い温度で第 2加熱炉により第 2加熱処理した後、ガラス線材外周に被覆を施すガラス線材の製造方法において、前記第 1加熱処理及び前記第 2加熱処理の際のガラス線材周囲の雰囲気の比湿を、それぞれ 0 . 0 5 g Z k g以下に保持することを特徴とするガラス線材の製造方法。

4 . 前記第 1加熱炉の内部圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くすることを特徴とする請求の範囲第 1項または第 3項に記載のガラス線材の製造方法

5 . 前記第 1加熱炉の内部空間から前記第 1加熱炉の外部空間に連通するガス流路に設けたパージポックスに不活性ガスを導入し、前記パージポックス内部の圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くすることを特徴とする請求の範囲第 1項または第 3項に記載のガラス線材の製造方法。

6 . 前記第 1加熱炉内部に不活性ガスを導入し、前記不活性ガスの導入量を制御して前記第 1加熱炉の内部圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くするとともに、前記第 1加熱炉の内部空間から前記第 1加熱炉の外部空間に連通するガス流路に設けたパージボックスに不活性ガスを導入し、前記パージポックス内部の圧力を前記第 1加熱炉の外部圧力より高くすることを特徴とする請求の範囲第 4項に記載のガラス線材の製造方法。

7 . 前記第 2加熱炉の内部圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持することを特徴とする請求の範囲第 2項または第 3項に記載のガラス線材の製造方法。

8 . 前記第 2加熱炉の内部と外部とを繋ぐガス流路の一部に、不活性ガス用パージボックスを設置し、該パージボックス内の圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持することを特徴とする請求の範囲第 2項または第 3項に記载のガラス線材の製造方法。

9 . 前記第 2加熱炉の内部に不活性ガスを導入し、該不活性ガスの導入量を制御することで前記第 2加熱炉の内部圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持すると共に、前記第 2加熱炉の内部と外部とを繋ぐガス流路の一部に、不活性ガス用パージポックスを設置し、該パージボックス内の圧力を前記第 2加熱炉の外部圧力よりも高く保持することを特徴とする請求の範囲第 7項に記載のガラス線材の製造方法。

1 0 . 炉心管と、前記炉心管を加熱するために前記炉心管の外側に配設されたヒータと、前記ヒータの外側に配設された断熱材と、前記炉心管内部にガスを導入するためのガス導入用配管とを有し、前記炉心管の上部にガラス母材を揷入するための開口を備えるとともに、前記炉心管の下部にガラス母材を線引きして形成したガラス線材を引き取るための開口を備え ¾加熱炉であって、前記炉心管の上部の開口及ぴ下部の開口の形成部分に、パージガスを導入可能なパージポックスをそれぞれ設けたことを特徴とするガラス線材の製造装置。

1 1 . ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、前記第 2加熱炉が、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、前記第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に挿入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴にパージボッタスが設けられていることを特徴とするガラス線材

1 2 . ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、前記第 2加熱炉が、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に揷入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴とガラス線材との間のクリアランスを小さく保っための蓋が設けられていることを特徴とするガラス線材の製造装置。

1 3 . ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、

前記第 1加熱炉は、炉心管と、前記炉心管を加熱するために前記炉心管の外側に配設されたヒータと、前記ヒータの外側に配設された断熱材と、前記炉心管内部にガスを導入するためのガス導入用配管とを有し、前記炉心管の上部にガラス母材を揷入するための開口を備えるとともに、前記炉心管の下部にガラス母材を線引きして形成したガラス線材を引き取るための開口を備え、前記炉心管の上部の開口及び下部の開口の形成部分に、パージガスを導入可能なパージボックスがそれぞれ設けられており、

前記第 2加熱炉は、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、前記第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に揷入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴にパージボックスが設けられていることを特徴とするガラス線材の製造装置。

1 4 . ガラス母材を第 1加熱処理して溶融し線材化する第 1加熱炉と、前記第 1加熱炉の直下に設けられ第 1加熱炉を出たガラス線材を第 2加熱処理する第 2加熱炉を有するガラス線材の製造装置であって、

前記第 1加熱炉は、炉心管と、前記炉心管を加熱するために前記炉心管の外側に配設されたヒータと、前記ヒータの外側に配設された断熱材と、前記炉心管内部にガスを導入するためのガス導入用配管とを有し、前記炉心管の上部にガラス母材を揷入するための開口を備えるとともに、前記炉心管の下部にガラス母材を線引きして形成したガラス線材を引き取るための開口を備え、前記炉心管の上部の開口及び下部の開口の形成部分に、パージガスを導入可能なパージポックスがそれぞれ設けられており、

前記第 2加熱炉は、加熱炉本体の内部に、中心部にガラス線材が通過する空間を有するヒータと、その外周に設けられた断熱材とを備え、第 1加熱炉を出たガラス線材を前記ヒータ中心部の空間に揷入、搬出するための穴が前記第 2加熱炉の上下に設けられており、前記上下の穴とガラス線材との間のクリアランスを小さく保っための蓋が設けられていることを特徴とするガラス f泉材の製造装置。