WO2003092032A1 - Method of manufacturing rear substrate for plasma display panel - Google Patents

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WO2003092032A1
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plasma display
display panel
substrate
manufacturing
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Hideo Yoshizawa
Shunji Kuramoto
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Yuugenkaisha Omega Techno Modeling
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Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a back substrate for a plasma display panel, and a back substrate for a plasma display panel manufactured by the method. More specifically, the present invention relates to a paste coating method useful for forming a data electrode and a phosphor layer on a back substrate for a plasma display panel.
  • Conventional technology relates to a paste coating method useful for forming a data electrode and a phosphor layer on a back substrate for a plasma display panel.
  • PDPs plasma display panels
  • image display devices have been oriented to large screens, high definition, high brightness, and thin depths, and are rapidly spreading.
  • Cost reduction is strongly demanded for plasma display panels.
  • data electrodes, barrier ribs, and phosphor layers with high precision, which is achieved at low cost.
  • phosphor layers with high precision, which is achieved at low cost.
  • a data electrode 120 is first formed on a glass substrate 100 by a printing method and a sputtering method. After that, a dielectric layer 130 is formed, a barrier rib 110 is formed thereon, and subsequently, a phosphor layer 140 of three colors is formed.
  • the positioning on the substrate must be performed with an accuracy of several tm to several tens of ⁇ . For this reason, it is necessary to accurately form data electrodes and barriers using patterns manufactured with high accuracy, and to ensure positioning accuracy in subsequent subsequent processes.
  • the data electrode layer and the phosphor layer In order to manufacture the rear substrate for plasma display panels at low cost, even if there is some “distortion” in the position and shape of the barrier ribs, the data electrode layer and the phosphor layer must be It must be able to be formed accurately and at the appropriate thickness in the predetermined position between them. This leads to the formation of highly reliable data electrodes and phosphor layers. Disclosure of the invention
  • the present invention solves the above-mentioned problems, and provides a method of manufacturing a rear substrate for a plasma display panel which can be mass-produced at low cost, and a rear substrate for a plasma display panel manufactured by the method.
  • the feature of the method of manufacturing a rear substrate for a plasma display panel according to the present invention is that, first, a barrier is formed on a glass substrate, and then the shape and dimensions of the barrier formed in accordance with the actually formed barrier are formed. There is a method of applying a paste for forming a data electrode and a phosphor layer.
  • the data electrode rotates the Ag paste at the exact position in the cell delimited by the parallel.
  • This is a method of applying with a pad.
  • a phosphor layer forming paste is applied to the side and bottom surfaces of the cell by a rotating blade to form a phosphor layer.
  • the rotating blade can be realized by rotating the rotating blade with the paste attached along the actually formed barrier c.
  • the rotating blade be fitted with a shaft supporting the rotating blade.
  • a form in which the rotary plate is supported via a rotatable swing mechanism may be used.
  • the method according to the present invention provides a rotating blade. Is rotating along the barrier ribs. For this reason, even if “distortion” occurs, the data electrode and the phosphor can be accurately formed at a predetermined position of the cell. As a result, the "distortion" of the glass substrate does not become strict. Good. For this reason, soda lime silica glass, whose use has been avoided because of its low strain point, can be used as a substrate.In other words, the present invention provides at least a barrier layer on a glass substrate.
  • a method of manufacturing a rear substrate for a plasma display panel on which a data electrode and a phosphor layer are formed comprising: rotating a rotating blade along a plurality of barriers formed on a surface of the glass substrate;
  • FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a back substrate for a plasma display panel according to the present invention.
  • FIG. 2 is an explanatory diagram of a method of forming barrier ribs (variables) by a sand blast method.
  • FIG. 3A and FIG. 3B are diagrams for explaining a state in which a conductive paste serving as a data electrode is applied by a rotating blade.
  • FIG. 4 is a diagram schematically illustrating a mechanism for supplying and attaching the paste to the rotating blade.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which a paste is applied by a laminated rotary blade.
  • FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a mechanism suitable for applying a paste for forming a phosphor layer.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating a waffle type variable valve.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating a rotating blade with projections suitable for applying a paste for forming a phosphor layer on a back substrate having a waffle-type variable valve.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating a back substrate for a plasma display panel according to the related art. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • FIG. 1 shows an example of the structure of the back substrate 1 for a plasma display panel according to the present invention.
  • a barrier rib 11 is formed without a dielectric layer.
  • Data electrodes 12 are formed on the bottom surface of the cells separated by the no-live 11.
  • the data electrode 12 is protected by the dielectric layer 13.
  • phosphor layers 14 R, 14 G, and 14 B are formed on the dielectric layer 13 c (formation of a barrier rib).
  • the feature of the back substrate for a plasma display panel according to the present invention is that a barrier rib 11 is first formed on a glass substrate 10, and then a data electrode 12, a dielectric layer 13 and a phosphor layer 1 are formed. 4R, 14G, and 14B are formed, and the order is different from that of the widely used technology.
  • the barrier 11 is directly formed on the glass substrate 10. That is, in the prior art, the barrier rib was formed on a dielectric layer formed to protect the data electrode. On the other hand, in the present invention, the no-live 11 is placed on the glass substrate 10 via a dielectric layer. It is formed directly without it.
  • any of the well-known screen printing method, sand-plast method, press method, dry film method and photosensitive paste method may be applied.
  • Figure 2 shows the process.
  • This substrate is covered with a photomask 43 having a predetermined pattern.
  • a mask pattern 44 for protecting a portion to be a variable is formed by photolithography.
  • the arrow (c) indicates a state in which light for sensitizing the resist is irradiated.
  • the arrow in (e) shows the state of collision of high-hardness fine particles.
  • the screen printing method is a method of forming glass partition walls by screen printing. In order to obtain a film thickness necessary for a barrier rib, over-printing is performed more than ten times.
  • the press method is a method in which a metal mold with irregularities corresponding to a no-live is pressed against the glass space at a high pressure to form a barrier rib.
  • the dry film method is a method of forming a barrier rib by embedding and firing a glass paste in a gap portion of a patterned thick film dry film.
  • the partition walls are made of photosensitive resin containing glass powder. It is a method of forming.
  • the barrier lip 11 is separately formed on the glass substrate 10.
  • the above-described sand-blast method is directly applied to the surface of the glass substrate, and the glass substrate and the barrier rib are formed by partially shaving the surface of the glass substrate to form a barrier rib. It goes without saying that the manufacturing method of the present invention can be applied to an integrated substrate.
  • Cells are separated by barrier ribs arranged at intervals of several hundred ⁇ m. It is important to form a data electrode with a predetermined width accurately and reliably at a specific location on the bottom surface of the cell.
  • the data electrodes only had to be formed on the surface of the flat glass substrate.
  • cells separated by a barrier rib are already formed on the surface of the glass substrate. That is, in the present invention, the data electrode is formed on the bottom surface of the concave portion of the glass substrate.
  • the width of the data electrode to be formed is as thin as several tens x m.
  • data electrodes must be accurately formed only on the bottom surface of the cells separated by the barriers.
  • the paste adheres to the side of the cell.
  • the sputtering method it is difficult to form accurate data electrodes even with a mask pattern because the bottom of the cell is concave due to the presence of the barrier rib.
  • the shape of the formed variable there are a linear shape called a strip rib and a waveform shape.
  • the data electrodes are formed by the method described below. Note that here, a glass foil containing fine metal particles is used. A data paste is formed by coating and baking a conductive paste of lit (eg, silver paste).
  • a fixed amount of conductive paste 31 is adhered to the outer periphery of a thin disk-shaped rotating blade 20 and a variable valve 11 is rotated while rotating the rotating blade. Then, the adhered paste is applied to a predetermined position on the surface of the glass substrate 10.
  • the disk-shaped rotary plate 20 is preferably a disk made of, for example, a cemented carbide and having a diameter of 10 to 5 Omm and a thickness of about 1 mm.
  • the thickness of the tip of the rotating blade must be smaller than the internal method of the cell. Also, it is preferable that the tip of the rotating blade be tapered, since the rotating blade can be easily guided between the variable ribs. When the tip of the rotating blade is sharpened like a blade, it is suitable for forming a thin data electrode.
  • Rotating blades are preferred because they do not require a complicated configuration, due to friction with the substrate when the blade travels forward.
  • the rotary blade may be driven using an external drive source. In this case, coating can be performed without making the peripheral speed of the rotating blade coincide with the running speed.
  • the rotating plate is run while positioning on the substrate surface by the NC control of the X axis and the Y axis. In addition, it is good to move up and down in the Z-axis direction by NC control.
  • the fitting between the rotating plate 20 and the shaft 21 that supports it is provided with “play” so that it can easily follow the shape of the actually formed variable valve 11. .
  • FIG. 3B shows a state where the rotation blade 20 moves as if to swing the head by providing the “play”.
  • the preformed barrier rib is formed by forming a non-lip material mainly composed of glass flicker into a predetermined shape on a glass substrate and firing it. At this time, the glass substrate is heated. At this time, it is assumed that the glass substrate expands and contracts due to the heat, and the dimensions in the plane direction are changed and the glass substrate is distorted.
  • the paste for forming the data electrode can be accurately applied to the cell bottom surface following the formed barrier rib.
  • the term “distortion of the substrate” means an order of several tens of PPM to several hundred PPM.
  • the rear substrate does not necessarily need to be formed of a glass substrate having a high strain point, and an inexpensive glass substrate having a soda lime silicon composition can be used as the rear substrate for a plasma display panel.
  • the paste coating device 2 will be described in detail.
  • the paste application device 2 includes a rotary plate 20 and a paste supply device 22.
  • the paste supply device 22 includes a paste supply roller 23, a paste amount adjustment roller 24, and a driving device (not shown).
  • a paste 3 having a constant viscosity is applied to the paste supply roller 23 with a constant thickness.
  • the paste supply roller 23 rotates at a peripheral speed substantially equal to the peripheral speed of the rotary blade 20.
  • the rotating blade 20 and the paste supply roller 23 come into contact with each other, and a fixed amount of the paste 3 adheres to the outer periphery of the rotating blade.
  • the paste supply device and rotating blade are separated, and the supply of the paste is stopped.
  • the paste amount adjusting roller 24 rotates at the same speed as the paste supplying roller 23. By adjusting the axial distance between these two rollers, the amount of paste applied to the surface of the paste supply roller 23 can be adjusted.
  • the paste application device 2 having the rotating blade is A parallel drive formed on the glass substrate 10 is caused to travel in the longitudinal direction, and for example, a paste 31 for forming data electrodes is applied to the bottom surface of the cell.
  • the paste application device is sequentially moved in a direction perpendicular to the length direction of the glass substrate barrier rib. In this way, the paste for forming the data electrode can be applied to a predetermined position on the bottom of all cells.
  • a laminated rotating blade 25 in which a plurality of rotating blades 20 are stacked, thereby increasing work efficiency.
  • the interval between the rotary blades 20... ′ In the stacked rotary blade 25 may be matched to the cell pitch of the plasma display.
  • the spacing be set to a multiple of the cell pitch and the coating be performed while shifting as appropriate.
  • the paste coating method according to the present invention has been described using an example in which the data electrode is formed between the barrier ribs.
  • this paste coating method is also applicable to a substrate having no barrier rib. It goes without saying that you can do it.
  • the application of the paste by the rotating blade may be understood as transferring the paste attached to the outer peripheral portion of the rotating blade to a predetermined position on the substrate surface.
  • the conductive paste can be stably applied to a predetermined width in a required amount, so that the data electrode can be formed with high reliability. Also, compared with the screen printing method, the conductive base in the process There is little loss of the paste and there is almost no need to collect the paste. For this reason, it is preferable because expensive paste materials can be efficiently used.
  • a dielectric layer 13 for protecting the data electrode is formed.
  • This dielectric layer may cover and protect the data electrodes 12. For this reason, its forming accuracy is not required much. Therefore, a ceramic paste for forming a dielectric layer by firing is placed on the glass substrate 10 on which the ribs 11 and the data electrodes 12 are formed, for example, by a screen printing method or the like. It is good to apply by diving method.
  • a phosphor layer 14 is formed on a glass substrate 10 after forming a non-live 11, a data electrode 12, and a dielectric layer 13. I have.
  • the phosphor layer is formed by applying three types of phosphor layer forming pastes of red 14 R, green 14 G, and blue 14 B between the barrier ribs 11 in order.
  • a control of the thickness (amount of application) of the paste to be applied is also required.
  • the phosphor layer can be formed according to the above-described method for forming the data electrode. Since it is necessary to apply the phosphor layer forming paste also to the side surface of the cell, the phosphor layer forming paste should be applied not only to the tip of the rotating blade but also to the side surface. I just need. If necessary, the viscosity of the paste for forming the phosphor layer may be adjusted.
  • FIG. 6 shows an example of a paste supply device suitable for applying a paste for forming a phosphor layer.
  • the paste supply roller 23 is provided with a groove 231, which serves as a paste reservoir, and the phosphor layer paste 32 is stored therein.
  • Figure 6 shows a flat rotating tip 201 with a flat tip. This shows a state in which the phosphor layer forming paste 32 adheres to the side surface and is applied to the dielectric layer 13 and the side surface of the cell formed on the glass substrate 10. .
  • the nouribe is a waffle-type barrier rib 111 as shown in FIG. 7, the phosphor layer cannot be formed by the above-described method. Therefore, as shown in FIG. 8, it is preferable to use a gear-shaped projection-equipped rotary blade 202 provided with equally spaced projections 203 at its tip.
  • the shape of the protrusion is preferably adapted to the shape of the cell formed by the waffle type rib.
  • a fixed amount of paste is automatically applied to the projection by the paste supply device.
  • the rotating plate rotates, the protrusions are engaged with the cells formed by the self-supporting ribs, and the paste is applied to the bottom and side surfaces of the cells.
  • the pressure at which the protrusion comes into contact with the cell bottom is always constant. In this way, even if the glass substrate has some warpage or undulation, the paste application will not be affected. It is also possible to increase the working efficiency by laminating a number of rotating blades with projections.
  • a rear substrate for a plasma display panel can be obtained.
  • the front glass substrate on which the bus electrodes are formed and the rear substrate are assembled and sealed, and further evacuated and sealed with discharge gas. If a peripheral circuit is mounted on this, a plasma display panel can be obtained.
  • this method is not limited to this, and can be grasped as the following invention.
  • this method is capable of applying a precise and appropriate amount of paste to a predetermined position in a large number of concave portions formed in a periodic pattern on the substrate surface. It is also a method that can apply paste to specific parts on a flat substrate.
  • the back substrate for a plasma display panel according to the manufacturing method of the present invention does not necessarily require the glass substrate to be made of a glass composition having a high distortion point, and is used for building and vehicles.
  • An inexpensive soda-lime-silica glass substrate mass-produced in Japan can be used as the back substrate for plasma display panels.
  • a data electrode and a phosphor layer can be accurately formed at predetermined positions between barrier ribs on a rear substrate for a plasma display panel.
  • the manufacturing cost of the rear substrate can be reduced for the following reasons.
  • Inexpensive glass substrates can be used.
  • Data electrodes and phosphor layers can be formed with high reliability.
  • the paste application technique in the present invention is not limited to the back substrate for a plasma display panel, but can be applied to a panel having a similar structure.

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Abstract

A method of mass-producing, at a low cost, a rear substrate for plasma display panel having a barrier ribs data electrode and a fluorescent material layer formed at least on a glass substrate, characterized by comprising the steps of rotatingly running a rotary blade along a plurality of barrier ribs formed on the surface of the glass substrate and applying paste adhered onto the outer peripheral part of the rotary blade onto the inside of cells divided by the ribs.

Description

明 細 書  Specification
プラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法 技 術 分 野  Manufacturing method of rear substrate for plasma display panel
本発明は、 プラズマディ スプレイパネル用背面基板の製造方法、 およびそれによつて製造されたプラズマディスプレイパネル用背面 基板に関する。 詳しく は、 プラズマディ スプレイパネル用背面基板 における、 データ電極、 蛍光体層の形成に有用なペース ト塗布方法 に関する。 従 来 技 術  The present invention relates to a method for manufacturing a back substrate for a plasma display panel, and a back substrate for a plasma display panel manufactured by the method. More specifically, the present invention relates to a paste coating method useful for forming a data electrode and a phosphor layer on a back substrate for a plasma display panel. Conventional technology
こ こ数年、 画像表示装置と して、 大画面、 高精細、 高輝度や薄い奥 行きなどが指向されて、 プラズマディスプレイパネル ( P D P ) が 脚光を浴びており、 急速に普及されつつある。 プラズマディスプレ ィパネルにはコス トダウンが強く求められており 、 特にその背面基 板の製造において、 高い精度でデータ電極、 バリ ア リ ブおよび蛍光 体層を形成する必要があり、 これを低コス トで実現する製造技術が 強く求められている。 In recent years, plasma display panels (PDPs) have been in the limelight as image display devices have been oriented to large screens, high definition, high brightness, and thin depths, and are rapidly spreading. Cost reduction is strongly demanded for plasma display panels.Especially in the production of the back substrate, it is necessary to form data electrodes, barrier ribs, and phosphor layers with high precision, which is achieved at low cost. There is a strong demand for realizable manufacturing technology.
例えば、 図 9 に示すよ う に、 A C型プラズマディスプレイパネル 用ガラス背面基板の工業的生産では、 ガラス基板 1 0 0上に、 まず データ電極 1 2 0 を印刷法ゃスパッタ リ ング法によ り形成し、 その 後に誘電体層 1 3 0を形成して、 さ らにその上にバリ ア リ ブ 1 1 0 を形成し、 続いて 3色の蛍光体層 1 4 0 を形成している。  For example, as shown in FIG. 9, in the industrial production of a glass back substrate for an AC type plasma display panel, a data electrode 120 is first formed on a glass substrate 100 by a printing method and a sputtering method. After that, a dielectric layer 130 is formed, a barrier rib 110 is formed thereon, and subsequently, a phosphor layer 140 of three colors is formed.
上述した方法では、 データ電極、 バリ ア リ ブや蛍光体層を形成す る ときに、 基板上での位置決めを、 数 t mから数十 μ ΐηの精度で行 わなければならない。 このため、 高い精度で作製したパターンを用 いて、 データ電極やバリ アリ ブを正確に形成して、 続く 後工程にお ける位置決め精度を確保する必要がある。  In the method described above, when forming the data electrode, the barrier rib, and the phosphor layer, the positioning on the substrate must be performed with an accuracy of several tm to several tens of μΐη. For this reason, it is necessary to accurately form data electrodes and barriers using patterns manufactured with high accuracy, and to ensure positioning accuracy in subsequent subsequent processes.
さ らに、 ガラス基板を焼成する と きの熱膨張収縮による 「ゆが. み」 を抑制する技術も要求される。 これを解決する手段と して、 高 歪み点を有するガラス基板の利用が提案されている。 しかしながら . この高歪み点ガラスは、 ソーダライムシリ 力ガラス基板に比べて高 価なこ と力 ら、 コス トダウンの妨げとなっていた。 Furthermore, `` Yuga. Is also required. As a means for solving this, use of a glass substrate having a high strain point has been proposed. However, this high strain point glass hinders cost reduction due to its higher cost than soda lime glass.
いずれにしても、 プラズマディスプレイパネルの製造において、 上記のよ う な方法によ り、 データ電極、 バリ ア リ ブおよび蛍光体層 を高い精度で形成することは、 多大なコス ト增を招いていた。  In any case, in the manufacture of a plasma display panel, forming the data electrodes, the barrier ribs, and the phosphor layers with high precision by the above-described method causes a large cost. Was.
プラズマディ ス プレイパネル用背面基板を安価に製造するために は、 バリ ア リ ブの位置や形状に多少の 「ゆがみ」 があったと しても . データ電極層と蛍光体層を、 バリ アリ ブ間の所定の位置に、 正確に かつ適正な厚さで形成できるこ とが必要である。 そしてそのこ とは. 高い信頼性を有するデータ電極と蛍光体層の形成につながる。 発 明 の 開 示  In order to manufacture the rear substrate for plasma display panels at low cost, even if there is some “distortion” in the position and shape of the barrier ribs, the data electrode layer and the phosphor layer must be It must be able to be formed accurately and at the appropriate thickness in the predetermined position between them. This leads to the formation of highly reliable data electrodes and phosphor layers. Disclosure of the invention
そこで本発明は、 上述した問題点を解決し、 安価に大量生産可能 なプラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法、 およびそれ によって製造されたプラズマディスプレイパネル用背面基板を提供 する。  Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and provides a method of manufacturing a rear substrate for a plasma display panel which can be mass-produced at low cost, and a rear substrate for a plasma display panel manufactured by the method.
本発明によるプラ ズマディ スプレイ パネル用背面基板の製造方法 と しての特徴は、 まずガラス基板上にバ リ アリ ブを形成した後、 実 際に形成されたバリ アリ ブの形状や寸法に合わせて、 データ電極や 蛍光体層を形成するペース トを塗布する方法にある。  The feature of the method of manufacturing a rear substrate for a plasma display panel according to the present invention is that, first, a barrier is formed on a glass substrate, and then the shape and dimensions of the barrier formed in accordance with the actually formed barrier are formed. There is a method of applying a paste for forming a data electrode and a phosphor layer.
すなわち、 形成されたバリ アリ ブの形状に多少の 「ゆがみ」 があ つても、 そのパリ ァリ ブによ り 区切られたセル内の正確な位置に、 データ電極では A gペース トを回転プレー ドにて塗布する方法であ る。 また同様に、 蛍光体層形成用ペース トを回転ブレー ドにて、 セ ルの側面おょぴ底面に塗布し、 蛍光体層を形成する方法である。  In other words, even if there is some “distortion” in the shape of the formed barrier, the data electrode rotates the Ag paste at the exact position in the cell delimited by the parallel. This is a method of applying with a pad. Similarly, a phosphor layer forming paste is applied to the side and bottom surfaces of the cell by a rotating blade to form a phosphor layer.
具体的には、 ペース トを付着させた回転ブレー ドを実際に形成さ れたバリ アリ ブに沿って回転走行させること によって、 実現できる c さ らに回転ブレー ドの追従性を向上させるために、 回転ブレー ドは、 それを支持するシャ フ ト とあそびを持って嵌め合わされている こ と が好ま しい。 また、 回転プレー ドを回転自在な首振り機構を介して 支持する形態でもよい。 Specifically, it can be realized by rotating the rotating blade with the paste attached along the actually formed barrier c. In order to further improve the followability of the rotating blade, it is preferable that the rotating blade be fitted with a shaft supporting the rotating blade. Further, a form in which the rotary plate is supported via a rotatable swing mechanism may be used.
も し、 ガラス基板に熱膨張収縮等による 「ゆがみ」 が発生し、 バ リ ア リ ブの直線性が悪く 、 またその位置が多少ずれていたと しても、 本発明による方法では、 回転ブレー ドをバリ ア リ ブに沿って回転走 行させている。 このため、 「ゆがみ」 が発生したと しても、 データ 電極と蛍光体を、 セルの所定の位置に正確に形成することができる この結果、 ガラス基板の 「ゆがみ」 に関して、 厳密にならなく て よい。 こ のため、 歪み点が低いという理由で、 その使用が避けられ ていたソーダライムシリ カガラスを基板と して用いるこ とができる すなわち、 本発明は、 少なく と もガラス基板上に、 バリ ア リ ブ、 データ電極と蛍光体層が形成されたプラズマディスプレイパネル用 背面基板の製造方法において、 前記ガラス基板の表面に複数形成さ れたバリ アリ ブに沿って回転ブレー ドを回転走行させ、 前記回転プ レー ドの外周部に付着させたペース トを、 前記リ ブによって区切ら れたセル内に塗布するこ とを特徴とするプラズマディスプレイパネ ル用背面基板の製造方法である。 図面の簡単な説明  Even if “distortion” occurs on the glass substrate due to thermal expansion and contraction, etc., and the linearity of the barrier ribs is poor and the position thereof is slightly shifted, the method according to the present invention provides a rotating blade. Is rotating along the barrier ribs. For this reason, even if "distortion" occurs, the data electrode and the phosphor can be accurately formed at a predetermined position of the cell. As a result, the "distortion" of the glass substrate does not become strict. Good. For this reason, soda lime silica glass, whose use has been avoided because of its low strain point, can be used as a substrate.In other words, the present invention provides at least a barrier layer on a glass substrate. And a method of manufacturing a rear substrate for a plasma display panel on which a data electrode and a phosphor layer are formed, the method comprising: rotating a rotating blade along a plurality of barriers formed on a surface of the glass substrate; A method of manufacturing a rear substrate for a plasma display panel, characterized in that a paste adhered to an outer peripheral portion of a blade is applied to cells separated by the rib. BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
図 1 は、 本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面基板の 一例を説明する図である。  FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a back substrate for a plasma display panel according to the present invention.
図 2は、 サン ドプラス ト法による隔壁 (バリ アリ ブ) を形成する 方法の説明図である。  FIG. 2 is an explanatory diagram of a method of forming barrier ribs (variables) by a sand blast method.
図 3 Aおよび図 3 Bは、 回転ブレー ドにてデータ電極となる導電 性ペース トを塗布する様子を説明する図である。  FIG. 3A and FIG. 3B are diagrams for explaining a state in which a conductive paste serving as a data electrode is applied by a rotating blade.
図 4は、 回転ブレー ドにペース トを供給付着させる機構を模式的 に説明する図である。 図 5は、 積層型回転ブレー ドにて、 ペース トを塗布する様子を説 明する図である。 FIG. 4 is a diagram schematically illustrating a mechanism for supplying and attaching the paste to the rotating blade. FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which a paste is applied by a laminated rotary blade.
図 6は、 蛍光体層形成用ペース トを塗布する のに好適な機構を、 模式的に説明する図である。  FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a mechanism suitable for applying a paste for forming a phosphor layer.
図 7は、 ワ ッ フル型バリ アリ ブを説明する図である。  FIG. 7 is a diagram illustrating a waffle type variable valve.
図 8は、 ワ ッ フル型バリ アリ ブを有する背面基板に、 蛍光体層形 成用ペース トを塗布するのに好適な突起付き回転ブレー ドを説明す る図である。  FIG. 8 is a diagram illustrating a rotating blade with projections suitable for applying a paste for forming a phosphor layer on a back substrate having a waffle-type variable valve.
図 9は、 従来技術によるプラズマディスプレイパネル用背面基板 を説明する図である。 発明を実施するための最良の形態  FIG. 9 is a diagram illustrating a back substrate for a plasma display panel according to the related art. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
(背面基板の構造)  (Back substrate structure)
本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面基板 1 の構造の 一例を、 図 1 に示した。 ガラス基板 1 0の上には、 まず誘電体層を 介さずにバリ ア リ ブ 1 1が形成されている。 ノ リ アリ ブ 1 1 で区切 られたセルでは、 その底面部にデータ電極 1 2が形成されている。 データ電極 1 2は誘電体層 1 3で保護されている。 さ らに誘電体層 1 3 の上には、 蛍光体層 1 4 R , 1 4 G , 1 4 Bが形成されている c (バ リ ア リ ブの形成) FIG. 1 shows an example of the structure of the back substrate 1 for a plasma display panel according to the present invention. On the glass substrate 10, first, a barrier rib 11 is formed without a dielectric layer. Data electrodes 12 are formed on the bottom surface of the cells separated by the no-live 11. The data electrode 12 is protected by the dielectric layer 13. Further, phosphor layers 14 R, 14 G, and 14 B are formed on the dielectric layer 13 c (formation of a barrier rib).
本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面基板の特徴は、 ガラス基板 1 0上にまずバ リ ア リ ブ 1 1 を形成して、 その後にデー タ電極 1 2、 誘電体層 1 3や蛍光体層 1 4 R, 1 4 G , 1 4 Bを形 成するこ とにあり 、 従来広く行われている技術とは、 その順序が異 なっている。  The feature of the back substrate for a plasma display panel according to the present invention is that a barrier rib 11 is first formed on a glass substrate 10, and then a data electrode 12, a dielectric layer 13 and a phosphor layer 1 are formed. 4R, 14G, and 14B are formed, and the order is different from that of the widely used technology.
本発明では、 まずガラス基板 1 0上にバリ アリ ブ 1 1 を直接形成 する。 つま り、 従来技術において、 バリ ア リ ブは、 データ電極を保 護するために形成された誘電体層上に形成されていた。 これに対し て本発明では、 ノ リ アリ ブ 1 1 をガラス基板 1 0上に誘電体層を介 さずに直接形成している。 バリ アリブの形成は、 いずれも周知のス ク リーン印刷法、 サン ドプラス ト法、 プレス法、 ドライフィルム法 や感光性ペース ト法などを適用すればよい。 In the present invention, first, the barrier 11 is directly formed on the glass substrate 10. That is, in the prior art, the barrier rib was formed on a dielectric layer formed to protect the data electrode. On the other hand, in the present invention, the no-live 11 is placed on the glass substrate 10 via a dielectric layer. It is formed directly without it. For forming the barrier ribs, any of the well-known screen printing method, sand-plast method, press method, dry film method and photosensitive paste method may be applied.
以下に、 代表的手法であるサン ドブラス ト法を用いたバリ アリ ブ の形成方法を説明する。 図 2 にその工程を示した。  Hereinafter, a method of forming a barrier using a sandblast method, which is a typical method, will be described. Figure 2 shows the process.
( a ) ガラス基板 1 0上に、 ノ リ アリ ブとなる低融点ガラス層 4 1 を形成する。  (a) On a glass substrate 10, a low-melting-point glass layer 41 to be a no-live is formed.
( b ) 続いて、 その上にフォ ト レジス ト 4 2 を塗布する。  (b) Subsequently, a photoresist 42 is applied thereon.
( c ) この基板を、 所定のパターンを有するフォ ト マス ク 4 3で覆 う。  (c) This substrate is covered with a photomask 43 having a predetermined pattern.
( d ) フォ ト リ ソグラフィー技術によ り 、 バリ アリ ブとする部分を 保護するマスクパターン 4 4 を形成する。  (d) A mask pattern 44 for protecting a portion to be a variable is formed by photolithography.
( e ) このガラス基板に、 シリ カやアルミナ等の高硬度の微粒子を 衝突させて、 セルとなる部分を削り取る。  (e) High-hardness fine particles such as silica and alumina collide with the glass substrate to scrape off the cells.
( f ) 以上の工程を経て、 ノくリ アリブ 1 1 が形成されたガラス基板 1 0 を得る。  (f) Through the above steps, a glass substrate 10 on which the rear rib 11 is formed is obtained.
なお図 2 において、 ( c ) の矢印は、 レジス トを感光させる光が 照射されている様子を表している。 また ( e ) の矢印は、 高硬度の 微粒子を衝突させる様子を表している。  In FIG. 2, the arrow (c) indicates a state in which light for sensitizing the resist is irradiated. The arrow in (e) shows the state of collision of high-hardness fine particles.
以下に、 これ以外のバリ ア リ ブ形成方法を挙げておく。 ス ク リ ー ン印刷法は、 ス ク リーン印刷によ りガラス隔壁を形成する手法であ り 、 バリ ア リ ブに必要な膜厚を得るために、 十数回の重ね印刷を行 Ό 。  The following are other methods for forming barrier ribs. The screen printing method is a method of forming glass partition walls by screen printing. In order to obtain a film thickness necessary for a barrier rib, over-printing is performed more than ten times.
プレス法は、 ノ リ アリ ブに相当する凹凸のついた金型をガラ スペ ース トに高圧で押しつけバリ ア リ ブを形成する手法である。  The press method is a method in which a metal mold with irregularities corresponding to a no-live is pressed against the glass space at a high pressure to form a barrier rib.
ドライフ ィ ルム法は、 パターンを形成した高膜厚の ドライフ ィ ル ムの隙間部分にガラスペース トを埋め込み焼成するこ とで、 バリ ア リ ブを形成する手法である。  The dry film method is a method of forming a barrier rib by embedding and firing a glass paste in a gap portion of a patterned thick film dry film.
感光性ペース ト法は、 ガラス粉を含有する感光樹脂によ り 隔壁を 形成する手法である。 In the photosensitive paste method, the partition walls are made of photosensitive resin containing glass powder. It is a method of forming.
なお以上説明したいずれの方法も、 ガラス基板 1 0上にバリ ア リ プ 1 1 を別途形成するものであった。 このほか、 上述したサン ドプ ラス ト法をガラス基板の表面に直接適用 して、 ガラス基板の表面を 部分的に削り取ってバリ ア リ ブを形成して、 ガラス基板とバリ ア リ ブとが一体となった基板にも、 本発明の製造方法が適用できるこ と は言う までもない。  In each of the methods described above, the barrier lip 11 is separately formed on the glass substrate 10. In addition, the above-described sand-blast method is directly applied to the surface of the glass substrate, and the glass substrate and the barrier rib are formed by partially shaving the surface of the glass substrate to form a barrier rib. It goes without saying that the manufacturing method of the present invention can be applied to an integrated substrate.
(データ電極の形成)  (Formation of data electrode)
数百 μ mの間隔で配列されたバリ ア リ ブによって、 セルが区切ら れている。 そのセルの底面の特定箇所に、 所定の幅で精度よ く かつ 確実にデータ電極を形成することが重要である。  Cells are separated by barrier ribs arranged at intervals of several hundred μm. It is important to form a data electrode with a predetermined width accurately and reliably at a specific location on the bottom surface of the cell.
従来技術では、 平面であるガラス基板表面にデータ電極を形成す ればよいので、 これは特に困難な工程ではなかった。 しかし本発明 において、 ガラス基板表面には、 すでにバリ ア リ ブによって区切ら れたセルが形成されている。 つま り本発明では、 ガラス基板の凹部 の底面に、 データ電極を形成することになる。  In the prior art, this was not a particularly difficult step since the data electrodes only had to be formed on the surface of the flat glass substrate. However, in the present invention, cells separated by a barrier rib are already formed on the surface of the glass substrate. That is, in the present invention, the data electrode is formed on the bottom surface of the concave portion of the glass substrate.
このため、 従来行われているスク リ ーン印刷法ゃスパッタ リ ング 法を適用する と、 データ電極の形成にはかなり の困難を伴ってしま う。 形成すべきデータ電極の幅は数十 x mと非常に細い。 しかも、 バリ ァ リ プで区切られたセルの底面にのみに、 データ電極を正確に 形成しなければならない。  Therefore, if the conventional screen printing / sputtering method is applied, formation of the data electrode involves considerable difficulty. The width of the data electrode to be formed is as thin as several tens x m. In addition, data electrodes must be accurately formed only on the bottom surface of the cells separated by the barriers.
特にス ク リ ーン印刷法では、 セルの側面にペース トが付着するこ とが避けられない。 またスパ ッ タ リ ング法の適用を考える と、 セル の底面はバリ アリ ブの存在で凹部となっているので、 マスクパター ンを用いても正確なデータ電極形成することは困難である。 さ らに 形成するバリ アリ ブの形状については、 ス トライプリ ブと呼ばれる 直線形状のものや波形のものなどがある。  In particular, in the screen printing method, it is inevitable that the paste adheres to the side of the cell. Considering the application of the sputtering method, it is difficult to form accurate data electrodes even with a mask pattern because the bottom of the cell is concave due to the presence of the barrier rib. As for the shape of the formed variable, there are a linear shape called a strip rib and a waveform shape.
そこで、 本発明においては、 以下に説明する方法でデータ電極を 形成している。 なおここでは、 微小な金属粒子を含有したガラスフ リ ッ トからなる導電性ペース ト (例えば、 銀ペース ト) を、 塗布焼 成してデータ電極を形成している。 Therefore, in the present invention, the data electrodes are formed by the method described below. Note that here, a glass foil containing fine metal particles is used. A data paste is formed by coating and baking a conductive paste of lit (eg, silver paste).
図 3 Aに示すよ う に、 薄い円盤状の回転ブレー ド 2 0の外周部に 導電性ペース ト 3 1 を一定量付着させ、 回転ブレー ドを回転させな がらバリ アリ ブ 1 1, 1 1 の間を移動走行させて、 付着したペース トをガラス基板 1 0の表面の所定位置に塗布している。  As shown in Fig. 3A, a fixed amount of conductive paste 31 is adhered to the outer periphery of a thin disk-shaped rotating blade 20 and a variable valve 11 is rotated while rotating the rotating blade. Then, the adhered paste is applied to a predetermined position on the surface of the glass substrate 10.
この円盤状の回転プレー ド 2 0 は、 例えば超硬合金からなる直径 1 0〜 5 O m m厚さ 1 m mほどの円盤である と よい。 回転ブレー ド の先端部の厚みは、 セルの内法よ り小さい必要がある。 また回転プ レー ドの先端部は、 テーパ状であると、 回転ブレー ドをバリ アリ ブ の間に導きやすいので好ま しい。 また回転ブレー ドの先端は刃状に 尖っている と、 細いデータ電極を形成するのに好適である。 回転ブ レー ドの回転は、 ブレー ドを前方に走行させる ときの基板と摩擦に よる と、 複雑な構成を必要とせず好ま しい。 なお、 外部の駆動源を 用いて、 回転ブレー ドを駆動してもよい。 この場合、 回転ブレー ド の周速度と走行速度とを一致させずに、 塗布するこ と もできる。  The disk-shaped rotary plate 20 is preferably a disk made of, for example, a cemented carbide and having a diameter of 10 to 5 Omm and a thickness of about 1 mm. The thickness of the tip of the rotating blade must be smaller than the internal method of the cell. Also, it is preferable that the tip of the rotating blade be tapered, since the rotating blade can be easily guided between the variable ribs. When the tip of the rotating blade is sharpened like a blade, it is suitable for forming a thin data electrode. Rotating blades are preferred because they do not require a complicated configuration, due to friction with the substrate when the blade travels forward. The rotary blade may be driven using an external drive source. In this case, coating can be performed without making the peripheral speed of the rotating blade coincide with the running speed.
回転プレー ドは、 基板表面上を X軸一 Y軸の N C制御にて、 位置 決めしながら走行させる と よい。 なおかつ、 Z軸方向にも N C制御 にて上下させる と よい。 回転プレー ド 2 0 とそれを支持するシャ フ ト 2 1 との嵌め合わせには、 実際に形成されているバリ アリ ブ 1 1 の形状に追従しやすいよ う に、 「あそび」 が設けてある。 図 3 Bに は、 この 「あそび」 を設けたこ とによ り 、 回転ブレー ド 2 0が首を 振る よ うに動く様子を示している。  It is preferable that the rotating plate is run while positioning on the substrate surface by the NC control of the X axis and the Y axis. In addition, it is good to move up and down in the Z-axis direction by NC control. The fitting between the rotating plate 20 and the shaft 21 that supports it is provided with “play” so that it can easily follow the shape of the actually formed variable valve 11. . FIG. 3B shows a state where the rotation blade 20 moves as if to swing the head by providing the “play”.
この 「あそび」 は、 本発明におけるポイ ン ト の一つであり 、 バリ ァリ ブの形状が多少歪んでいても、 回転ブレー ドをバリ ァリ ブに追 従させて走行する こ とができる。 つま り、 前工程で生成したバリ ア リ ブが、 完全な直線状でなく と も、 その形成されたバリ アリ ブを案 内と して、 セルの溝に沿って回転ブレー ドを走行させることができ る。 予め形成されたバリ アリ ブは、 主にガラスフ リ ッ トカゝらなるノ リ ァ リプ材を、 ガラス基板上に所定形状に形成し焼成している。 こ の と き、 ガラス基板は加熱されることになるが、. この際にガラス基板 が熱によ り膨張および収縮して、 平面方向の寸法が変化してゆがん だとする。 This "play" is one of the points in the present invention, and it is possible to make the rotary blade follow the variable even if the shape of the variable is slightly distorted. . In other words, the rotary blade generated in the previous process is not perfectly straight, but the rotary blade travels along the groove of the cell with the formed barrier as a guide. Can be done. The preformed barrier rib is formed by forming a non-lip material mainly composed of glass flicker into a predetermined shape on a glass substrate and firing it. At this time, the glass substrate is heated. At this time, it is assumed that the glass substrate expands and contracts due to the heat, and the dimensions in the plane direction are changed and the glass substrate is distorted.
このよ う な場合でも、 本発明によれば、 形成されたバリアリ ブに 追従して、 データ電極形成用ペース トをセル底面に正確に塗布する こ とができる。 なお、 ここでいう基板のゆがみとは、 数十 P P M〜 数百 P P Mオーダーのものをいう。  Even in such a case, according to the present invention, the paste for forming the data electrode can be accurately applied to the cell bottom surface following the formed barrier rib. Here, the term “distortion of the substrate” means an order of several tens of PPM to several hundred PPM.
このため、 背面基板を必ずしも高歪み点を有するガラス基板で構 成する必要がなく 、 安価なソーダライムシリ 力組成のガラス基板を プラズマディスプレイパネル用背面基板に用いるこ とができる。 続いて、 ペース ト塗布装置 2について詳しく 説明する。 図 4に示 すよ う に、 ペース ト塗布装置 2は、 回転プレー ド 2 0 とペース ト供 給装置 2 2を含んでなる。 ペース ト供給装置 2 2は、 ペース ト供給 用ローラー 2 3、 ペース ト量調整用ローラー 2 4 と駆動装置 (図示 せず) カゝらなる。  For this reason, the rear substrate does not necessarily need to be formed of a glass substrate having a high strain point, and an inexpensive glass substrate having a soda lime silicon composition can be used as the rear substrate for a plasma display panel. Next, the paste coating device 2 will be described in detail. As shown in FIG. 4, the paste application device 2 includes a rotary plate 20 and a paste supply device 22. The paste supply device 22 includes a paste supply roller 23, a paste amount adjustment roller 24, and a driving device (not shown).
ペース ト供給用ローラー 2 3 には、 一定粘度のペース ト 3が一定 厚みに塗布してある。 このペース ト供給用ローラー 2 3 は、 回転ブ レー ド 2 0 の周速度とほぼ同じ周速度で回転している。 回転ブレー ド 2 0 とペース ト供給用ローラー 2 3が接触して、 回転ブレー ドの 外周部に一定量のペース ト 3 を付着させる。 回転プレー ドが停止し ている ときは、 ペース ト供給装置と回転ブレー ドは離脱して、 ぺー ス ト の供給が停止される。  A paste 3 having a constant viscosity is applied to the paste supply roller 23 with a constant thickness. The paste supply roller 23 rotates at a peripheral speed substantially equal to the peripheral speed of the rotary blade 20. The rotating blade 20 and the paste supply roller 23 come into contact with each other, and a fixed amount of the paste 3 adheres to the outer periphery of the rotating blade. When the rotating blade is stopped, the paste supply device and rotating blade are separated, and the supply of the paste is stopped.
ペース ト量調整用ローラー 2 4は、 ペース ト供給用ローラー 2 3 と同速度で回転する。 この 2 つのローラーの軸心距離を調整する こ とによ り 、 ペース ト供給用ローラー 2 3表面のペース ト付着量を調 整するこ とができる。  The paste amount adjusting roller 24 rotates at the same speed as the paste supplying roller 23. By adjusting the axial distance between these two rollers, the amount of paste applied to the surface of the paste supply roller 23 can be adjusted.
以上のよ う に、 回転ブレー ドを有するペース ト塗布装置 2を、 ガ ラス基板 1 0 に形成されたパリ アリ ブの長さ方向に走行させ、 例え ばセルの底面にデータ電極形成用ペース ト 3 1 を塗布する。 さ らに 別のセルの底面にペース トを塗布するために、 ガラス基板のバリ ア リ ブの長さ方向と直角の方向に、 このペース ト塗布装置を順次移動 させて行く。 このよ う にして、 すべてのセル底面の所定位置にデー タ電極形成用ペース トを塗布することができる。 As described above, the paste application device 2 having the rotating blade is A parallel drive formed on the glass substrate 10 is caused to travel in the longitudinal direction, and for example, a paste 31 for forming data electrodes is applied to the bottom surface of the cell. In order to apply the paste to the bottom surface of another cell, the paste application device is sequentially moved in a direction perpendicular to the length direction of the glass substrate barrier rib. In this way, the paste for forming the data electrode can be applied to a predetermined position on the bottom of all cells.
平行する多く の溝にペース トを同時に塗布するには、 図 5 に示す よ う に回転プレー ド 2 0 を複数枚積層した積層型回転ブレー ド 2 5 とする と、 作業効率が高まるので、 好ま しい。 なおこのとき、 積層 型回転プレー ド 2 5 における、 各回転ブレー ド 2 0 ■ · ' の間隔を プラズマディスプレイのセルピッチに一致させればよい。 あるいは 回転ブレー ドの厚さから、 各回転プレー ドの間隔をセルピッチに一 致できない場合は、 セルピ ッチの倍数と し、 適宜シフ ト しなが ら塗 布する と よい。  In order to apply paste to many parallel grooves at the same time, as shown in Fig. 5, it is preferable to use a laminated rotating blade 25 in which a plurality of rotating blades 20 are stacked, thereby increasing work efficiency. New At this time, the interval between the rotary blades 20... ′ In the stacked rotary blade 25 may be matched to the cell pitch of the plasma display. Alternatively, if the interval between the rotating blades cannot be matched to the cell pitch due to the thickness of the rotating blades, it is recommended that the spacing be set to a multiple of the cell pitch and the coating be performed while shifting as appropriate.
ガラス基板が焼成時の熱によ り膨張収縮して 「ゆがみ」 を発生し ても、 バリ アリ ブとバリ アリ ブの距離の絶対精度は、 近く のバリ ア リブ間では小さ く 、 遠く離れたバリ アリ ブ間では大きい。 こ のため あま り 多く の回転プレー ドを積層する と、 位置精度が悪く なるので 数枚の回転ブレー ドを積層して、 それをいくつか並べてペース トを 塗布する と、 作業効率が上がるので好ま しい。  Even if the glass substrate expands and contracts due to the heat during firing, causing “distortion”, the absolute accuracy of the distance between the barrier ribs is small and close to the distance between nearby barrier ribs. Large between Bali Alives. For this reason, if a large number of rotating blades are stacked, the positional accuracy deteriorates.Therefore, it is preferable to stack several rotating blades and apply a paste by lining up some of them so that work efficiency increases. New
以上、 本発明におけるペース ト塗布方法を、 データ電極をバ リ ア リブ間に形成する例を用いて説明してきたが、 このペース ト塗布方 法は、 バリ ア リ ブがない基板上にも適用できるこ とはいうまでもな い。 また、 本発明における回転プレー ドによるペース トの塗布は、 回転ブレー ドの外周部に付着させたペース トを、 基板表面の所定位 置に転写すること、 と理解されてもよい。  As described above, the paste coating method according to the present invention has been described using an example in which the data electrode is formed between the barrier ribs. However, this paste coating method is also applicable to a substrate having no barrier rib. It goes without saying that you can do it. Further, in the present invention, the application of the paste by the rotating blade may be understood as transferring the paste attached to the outer peripheral portion of the rotating blade to a predetermined position on the substrate surface.
以上述べた方法によ り 、 導電性ペース トを所定の幅に、 必要量を 安定して塗布するこ とができるので、 高い信頼性でデータ電極を形 成できる。 またス ク リ ーン印刷法に比較する と、 工程での導電性べ ース トのロスが少なく 、 またペース トを回収する必要がほとんどな い。 このため、 高価なペース ト材料を効率よ く利用できるので好ま しい。 According to the above-described method, the conductive paste can be stably applied to a predetermined width in a required amount, so that the data electrode can be formed with high reliability. Also, compared with the screen printing method, the conductive base in the process There is little loss of the paste and there is almost no need to collect the paste. For this reason, it is preferable because expensive paste materials can be efficiently used.
(誘電体層の形成)  (Formation of dielectric layer)
続いて、 データ電極を保護する誘電体層 1 3 を形成する。 この誘 電体層は、 データ電極 1 2 を覆って保護すればよい。 このため、 そ の形成精度はあま り要求されない。 したがって、 焼成するこ とによ つて誘電体層を形成するセラ ミ ックペース トを、 パリ ア リブ 1 1 と データ電極 1 2が形成されたガラス基板 1 0上に、 例えばスク リ ー ン印刷法やディ ッビング法にて塗布してやる と よい。  Subsequently, a dielectric layer 13 for protecting the data electrode is formed. This dielectric layer may cover and protect the data electrodes 12. For this reason, its forming accuracy is not required much. Therefore, a ceramic paste for forming a dielectric layer by firing is placed on the glass substrate 10 on which the ribs 11 and the data electrodes 12 are formed, for example, by a screen printing method or the like. It is good to apply by diving method.
(蛍光体層の形成)  (Formation of phosphor layer)
本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面基板では、 ガラ ス基板 1 0上に、 ノ リ アリ ブ 1 1 とデータ電極 1 2 と誘電体層 1 3 を形成した後に、 蛍光体層 1 4 を形成している。 蛍光体層は、 赤 1 4 R , 緑 1 4 G , 青 1 4 Bの 3種類の蛍光体層形成用ペース トを、 順番にバリ アリ ブ 1 1 間に塗布して形成している。 蛍光体は発光効 率向上のため、 バリ ア リブで形成されるセルの底面のみならず、 両 側面にも塗布するこ とが望まれる。 なおかつ、 塗布するペース トの 厚み (塗布量) のコ ン ト ロールも必要である。  In the rear substrate for a plasma display panel according to the present invention, a phosphor layer 14 is formed on a glass substrate 10 after forming a non-live 11, a data electrode 12, and a dielectric layer 13. I have. The phosphor layer is formed by applying three types of phosphor layer forming pastes of red 14 R, green 14 G, and blue 14 B between the barrier ribs 11 in order. In order to improve the luminous efficiency, it is desirable to apply the phosphor not only on the bottom surface of the cell formed of the barrier ribs but also on both sides. In addition, a control of the thickness (amount of application) of the paste to be applied is also required.
バリ ア リ ブがス トライプリ ブの場合には、 上述したデータ電極の 形成方法に準じて蛍光体層を形成するこ とができる。 なお、 蛍光体 層形成用ペース トをセルの側面にも塗布する必要があるので、 回転 ブレー ドの先端部のみならず側面部にも、 蛍光体層形成用ペース ト を付着させるよ う にすればよい。 また必要に応じて、 蛍光体層形成 用ペース トの粘度を調整すればよレ、。  When the barrier rib is a strip rib, the phosphor layer can be formed according to the above-described method for forming the data electrode. Since it is necessary to apply the phosphor layer forming paste also to the side surface of the cell, the phosphor layer forming paste should be applied not only to the tip of the rotating blade but also to the side surface. I just need. If necessary, the viscosity of the paste for forming the phosphor layer may be adjusted.
図 6 には、 蛍光体層形成用ペース トを塗布するのに好適なペース ト供給装置の一例を示した。 ペース ト供給ローラー 2 3 には、 ぺー ス ト溜ま り となる溝 2 3 1 が設けてあ り 、 蛍光体層用ペース ト 3 2 が溜められている。 図 6は、 先端部の平らな回転プレー ド 2 0 1 の 側面部にまで、 蛍光体層形成用ペース ト 3 2が付着し、 それがガラ ス基板 1 0上に形成されたセルの誘電体層 1 3上と側面に、 塗布さ れる様子を示している。 FIG. 6 shows an example of a paste supply device suitable for applying a paste for forming a phosphor layer. The paste supply roller 23 is provided with a groove 231, which serves as a paste reservoir, and the phosphor layer paste 32 is stored therein. Figure 6 shows a flat rotating tip 201 with a flat tip. This shows a state in which the phosphor layer forming paste 32 adheres to the side surface and is applied to the dielectric layer 13 and the side surface of the cell formed on the glass substrate 10. .
また例えば、 ノ リ ア リ ブが図 7 に示すよ うなワ ッ フル型バ リ ア リ ブ 1 1 1 の場合は、 上述した方法では、 蛍光体層を形成するこ とが できない。 そこで、 図 8 に示すよ うに、 その先端部に等間隔の突起 2 0 3 を設けた、 歯車状の突起付き回転ブレー ド 2 0 2 を用いる と よい。 この突起の形状は、 ワ ッ フル型リ ブで形成されるセルの形状 に合わせる と よい。  Further, for example, when the nouribe is a waffle-type barrier rib 111 as shown in FIG. 7, the phosphor layer cannot be formed by the above-described method. Therefore, as shown in FIG. 8, it is preferable to use a gear-shaped projection-equipped rotary blade 202 provided with equally spaced projections 203 at its tip. The shape of the protrusion is preferably adapted to the shape of the cell formed by the waffle type rib.
この突起には、 ペース ト供給装置によ り 、 自動的に一定量のぺー ス ト が塗布される。 回転プレー ドが回転走行する と、 突起はヮ ッ フ ル型リ ブで形成されたセルに嗨み合わされ、 そのときにペース トが セルの底面や側面に塗布される。  A fixed amount of paste is automatically applied to the projection by the paste supply device. When the rotating plate rotates, the protrusions are engaged with the cells formed by the self-supporting ribs, and the paste is applied to the bottom and side surfaces of the cells.
この とき、 突起がセル底面に接触する圧力は、 常に一定となる こ とが好ま しい。 こ うする と、 ガラス基板に多少の反りやうねり があ つて も、 ペース ト の塗布には支障が起きない。 なお、 突起付回転ブ レー ドを多数枚積層して作業効率を上げる こと もできる。  At this time, it is preferable that the pressure at which the protrusion comes into contact with the cell bottom is always constant. In this way, even if the glass substrate has some warpage or undulation, the paste application will not be affected. It is also possible to increase the working efficiency by laminating a number of rotating blades with projections.
このよ う に して、 赤(R) , 緑(G), 青(B)のペース ト をそれぞれ塗 布して焼成する と、 蛍光体層が形成される。  When the red (R), green (G), and blue (B) pastes are applied and fired in this way, a phosphor layer is formed.
以上のよ う にして、 プラズマディスプレイパネル用背面基板を得 ることができる。 さ らに、 バス電極が形成された前面ガラス基板と この背面基板を組み立て封着し、 さ らに排気して、 放電ガスを封入 する。 これに周辺回路を実装すれば、 プラズマディスプレイパネル を得る こ とができる。  As described above, a rear substrate for a plasma display panel can be obtained. In addition, the front glass substrate on which the bus electrodes are formed and the rear substrate are assembled and sealed, and further evacuated and sealed with discharge gas. If a peripheral circuit is mounted on this, a plasma display panel can be obtained.
なお以上において、 プラズマディスプレイパネル用背面基板のパ リ ァリ プ間にデータ電極用ペース ト と蛍光体ペース ト とを塗布する 方法について開示した。  In the above, the method of applying the paste for the data electrode and the paste for the phosphor between the parallels of the rear substrate for the plasma display panel has been disclosed.
しかしこの方法は、 これに限定されるこ とはなく 、 以下のよ う な 発明と して把握するこ とができる。 すなわち、 基板表面に周期的なパターンで形成された多数の凹部 に、 ペース トを所定の位置に正確かつ適量を塗布する こ とができ る 方法である。 また平坦な基板上の特定部分に、 ペース トを塗布する こ とができる方法でもある。 産業上の利用可能性 However, this method is not limited to this, and can be grasped as the following invention. In other words, this method is capable of applying a precise and appropriate amount of paste to a predetermined position in a large number of concave portions formed in a periodic pattern on the substrate surface. It is also a method that can apply paste to specific parts on a flat substrate. Industrial applicability
以上詳細に説明したよ う に、 本発明の製造方法によるプラズマデ イスプレイパネル用背面基板であれば、 ガラス基板を必ずしも高歪 み点を有するガラス組成物で構成する必要がなく 、 建築用や車両用 に量産されている安価なソーダライムシリ カ組成のガラス基板を、 プラズマディスプレイパネル用背面基板に用いることができる。  As described in detail above, the back substrate for a plasma display panel according to the manufacturing method of the present invention does not necessarily require the glass substrate to be made of a glass composition having a high distortion point, and is used for building and vehicles. An inexpensive soda-lime-silica glass substrate mass-produced in Japan can be used as the back substrate for plasma display panels.
また、 本発明の製造方法によれば、 プラズマディスプレイパネル 用背面基板上に、 データ電極と蛍光体層をバリ ァリブ間の所定の位 置に正確に形成するこ とができる。  Further, according to the manufacturing method of the present invention, a data electrode and a phosphor layer can be accurately formed at predetermined positions between barrier ribs on a rear substrate for a plasma display panel.
しかも本発明によれば、 以下のよ う な理由で、 背面基板の製造コ ス トが低減できる。  Moreover, according to the present invention, the manufacturing cost of the rear substrate can be reduced for the following reasons.
1 . 安価なガラス基板を使用することができる。  1. Inexpensive glass substrates can be used.
2 . 高い信頼性でデータ電極や蛍光体層を形成できる。  2. Data electrodes and phosphor layers can be formed with high reliability.
3 . 高価なペース ト材料を効率よく利用できるので、 低コス ト でデ ータ電極や蛍光体層を形成できる。 .  3. Since expensive paste materials can be used efficiently, data electrodes and phosphor layers can be formed at low cost. .
なお本発明におけるペース ト の塗布技術は、 プラズマディスプレ ィパネル用背面基板に限定されることはなく 、 類似の構造を有する パネルにも適用でき る。  The paste application technique in the present invention is not limited to the back substrate for a plasma display panel, but can be applied to a panel having a similar structure.

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1 . 少なく と もガラス基板上に、 バリ アリ ブ、 データ電極と蛍光体 層が形成されたプラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法 において、  1. A method for manufacturing a rear substrate for a plasma display panel, comprising at least a glass substrate, and a variable electrode, a data electrode, and a phosphor layer,
前記ガラス基板の表面に複数形成されたバリ アリ ブに沿って回転 ブレー ドを回転走行させ、 前記回転ブレー ドの外周部に付着させた ペース トを、 前記リ ブによって区切られたセル内に塗布するこ とを 特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法。  A rotating blade is rotated along a plurality of barriers formed on the surface of the glass substrate, and a paste adhered to an outer peripheral portion of the rotating blade is applied to cells separated by the rib. A method for manufacturing a rear substrate for a plasma display panel, comprising:
2 . 前記ペース トは導電性ペース トであり 、 該ペース トを前記セル の底面に塗布して、 データ電極を形成する請求項 1 に記載のプラズ マディ スプレイパネル用背面基板の製造方法。 2. The method according to claim 1, wherein the paste is a conductive paste, and the paste is applied to a bottom surface of the cell to form a data electrode.
3 . 前記ペース トは蛍光体層形成用ペース トであり 、 該ペース トを 前記セルの側面および底面に塗布して、 蛍光体層を形成する請求項 1 に記載のプラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法。 3. The plasma display panel back substrate according to claim 1, wherein the paste is a phosphor layer forming paste, and the paste is applied to side and bottom surfaces of the cells to form a phosphor layer. Production method.
4 . 前記回転ブレー ドは、 それを支持するシャフ ト と あそびを持つ て嵌め合わせている請求項 1 に記載のプラズマディスプレイパネル 用背面基板の製造方法。 4. The method for manufacturing a rear substrate for a plasma display panel according to claim 1, wherein the rotating blade is fitted with a shaft supporting the rotating blade.
5 . 前記回転ブレー ドは、 円盤状ブレー ドよ り なる請求項 1 に記載 のプラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法。 5. The method for manufacturing a rear substrate for a plasma display panel according to claim 1, wherein the rotating blade is a disk-shaped blade.
6 . 前記回転ブレー ドは、 複数の円盤状プレー ドを積層してなる請 求項 1 に記載のプラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法, 6. The method for manufacturing a back substrate for a plasma display panel according to claim 1, wherein the rotating blade is formed by stacking a plurality of disk-shaped blades,
7 . 前記回転プレー ドは、 その先端部がテーパとなっている請求項 5 または 6 に記載のプラズマディスプレイパネル用背面基板の製造 方法 7. The manufacturing of the back substrate for a plasma display panel according to claim 5, wherein the rotating plate has a tapered end. Method
8 . 前記回転プレー ドは、 外周部に規則的に複数の突起を有してお り 、 前記ペース トを前記基板上に断続的に塗布する請求項 1 に記載 のプラズマディスプレイパネル用背面基板構造の製造方法。 8. The rear substrate structure for a plasma display panel according to claim 1, wherein the rotary plate has a plurality of projections regularly on an outer peripheral portion thereof, and the paste is intermittently applied on the substrate. Manufacturing method.
9 . 前記回転ブレー ドは、 前記突起を等間隔で設けてなる請求項 8 に記載のプラ ズマディ スプレイ パネル用背面基板の製造方法。 9. The method for manufacturing a rear substrate for a plasma display panel according to claim 8, wherein the rotating blade has the protrusions provided at equal intervals.
1 0 . 前記回転ブレー ドは、 前記突起を有する複数のブレー ドを積 層してなる請求項 8 に記載のプラズマディスプレイパネル用背面基 板の製造方法。 10. The method for manufacturing a rear substrate for a plasma display panel according to claim 8, wherein the rotating blade is formed by stacking a plurality of blades having the protrusion.
1 1 . 請求項 1 から 1 0いずれかに記載のプラズマディスプレイパ ネル用背面基板の製造方法によ り製造されたプラズマディスプレイ パネル用背面基板。 11. A rear substrate for a plasma display panel manufactured by the method for manufacturing a rear substrate for a plasma display panel according to any one of claims 1 to 10.
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