WO2001050198A2 - Verfahren zur herstellung dreidimensional angeordneter leit- und verbindungsstrukturen für volumen- und energieströme - Google Patents

Verfahren zur herstellung dreidimensional angeordneter leit- und verbindungsstrukturen für volumen- und energieströme Download PDF

Info

Publication number
WO2001050198A2
WO2001050198A2 PCT/DE2000/004393 DE0004393W WO0150198A2 WO 2001050198 A2 WO2001050198 A2 WO 2001050198A2 DE 0004393 W DE0004393 W DE 0004393W WO 0150198 A2 WO0150198 A2 WO 0150198A2
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
structured
chemical
hardening
filled
Prior art date
Application number
PCT/DE2000/004393
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2001050198A3 (de
Inventor
Reiner Götzen
Original Assignee
Goetzen Reiner
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Goetzen Reiner filed Critical Goetzen Reiner
Priority to US09/914,585 priority Critical patent/US6805829B2/en
Priority to CA002362387A priority patent/CA2362387C/en
Priority to AU31504/01A priority patent/AU757191B2/en
Priority to JP2001550494A priority patent/JP2003519039A/ja
Priority to EP00991054A priority patent/EP1196820A2/de
Publication of WO2001050198A2 publication Critical patent/WO2001050198A2/de
Priority to IS6064A priority patent/IS6064A/is
Priority to NO20014209A priority patent/NO328157B1/no
Publication of WO2001050198A3 publication Critical patent/WO2001050198A3/de

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means
    • H05K3/0023Etching of the substrate by chemical or physical means by exposure and development of a photosensitive insulating layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B29C64/135Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2011/00Optical elements, e.g. lenses, prisms
    • B29L2011/0075Light guides, optical cables
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2031/00Other particular articles
    • B29L2031/30Vehicles, e.g. ships or aircraft, or body parts thereof
    • B29L2031/3055Cars
    • B29L2031/3061Number plates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0272Adaptations for fluid transport, e.g. channels, holes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/05Patterning and lithography; Masks; Details of resist
    • H05K2203/0562Details of resist
    • H05K2203/0568Resist used for applying paste, ink or powder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/465Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits by applying an insulating layer having channels for the next circuit layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4664Adding a circuit layer by thick film methods, e.g. printing techniques or by other techniques for making conductive patterns by using pastes, inks or powders
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4697Manufacturing multilayer circuits having cavities, e.g. for mounting components

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing three-dimensionally arranged conductor and connection structures for volume and energy flows.
  • the volume flows can be gaseous, liquid, solid or a mixture of these physical states.
  • the energy flows can have an acoustic, electrical, magnetic or electromagnetic character.
  • volume and energy flows are usually realized today using many different technologies.
  • conductor tracks and bond wires are the most frequently used transport routes.
  • glass fibers are also used to transport electromagnetic energy.
  • Volume flows are realized through ducts, hoses and pipes. With increasing miniaturization, these guidance and connecting elements are very difficult to combine.
  • the invention solves the problem by using a structured layered structure.
  • Layer construction methods are known from microtechnology.
  • DE-PS 44 20 996 describes a method in which a small amount of the light-curable plastic is held between two mutually parallel plates, at least one of which is permeable to electromagnetic waves, due to the surface tension.
  • the surface of the plastic liquid below the plate permeable to electromagnetic waves cured by means of a laser beam which is guided over the surface in accordance with a 3-layer model of the structure to be generated which is stored in a connected computer.
  • the laser light hardens the plastic liquid according to the 3-D layer model, whereby the distance between the plates is increased by one layer thickness, so that fresh plastic material flows into the gap between the hardened layer and the plate solely due to its surface tension can. In this way, structures in the micrometer range can be produced very precisely.
  • Different light-curing materials are used to create the layers. These materials can have a wide variety of physical, chemical and biological properties, for example: electrically conductive, electrically insulating, different optical calculation indices.
  • the layer segments are also filled with new material, in which no hardening took place during the previous hardening process, so that during the subsequent hardening not only the top layer is connected to the one below, but also material of the top layer with the material of one is connected below the penultimate layer.
  • these are uncured areas that are available as channels after curing and rinsing. These channels can also be used as waveguides for the high frequency if the walls of the channels are produced from material with appropriate properties.
  • Materials with different refractive index can also be used to create light-guiding structures. These light-guiding structures can be used in conjunction with light transistors (Keyword: light switches light) to optical integrated
  • IC integrated circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Waveguides (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme. Dabei werden zur Erzeugung der Schichten unterschiedliche lichtaushärtende Materialien verwendet. Beim Austausch der Materialien werden auch die Schichtenbereiche mit neuem Material gefüllt, in denen bei der vorhergehenden Aushärtung keine Aushärtung stattfand, so dass bei der darauffolgenden Aushärtung nicht nur die oberste Schicht mit der darunterliegenden verbunden wird, sondern auch Material der obersten Schicht mit dem Material einer unterhalb der vorletzten Schicht liegenden Schicht verbunden wird. Damit ist es möglich, innerhalb der Schichtenfolge eine Struktur mit anderen Eigenschaften von Lage zu Lage miteinander zu verbinden.

Description

Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und VerbindungsStrukturen für Volumen- und Energieströme
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leiter- und VerbindungsStrukturen für Volumen- und Energieströme . Die Volumenströme können gasförmig, flüssig, fest oder aus einem Gemisch dieser Aggregatzustände bestehen. Die Energieströme können akustischen, e- lektrischen, magnetischen, oder elektromagnetischen Charakter haben .
Derartige Volumen- und Energieströme werden heute in der Regel durch viele unterschiedliche Technologien realisiert. Für die Mikrosystemtechnik sind Leiterbahnen und Bonddrähte die am häufigsten benutzten Transportwege. Für den Transport elektromagnetischer Energien werden neben Hohlleiter auch Glasfasern eingesetzt. Volumenströme realisiert man durch Kanäle, Schläuche und Rohrleitungen. Bei zunehmender Miniaturisierung lassen sich diese Leit- und Verbindungselemente nur noch sehr schwer zusammenführen .
Die Erfindung löst die Aufgabe durch den Einsatz eines strukturierten schichtweisen Aufbaus . Schichtaufbauverfahren sind aus der Mikrotechnologie bekannt. So beschreibt die DE-PS 44 20 996 ein Verfahren, bei dem zwischen zwei einander parallelen Platten, von denen mindestens eine für elektromagnetische Wellen durchlässig ist, eine geringe Menge des lichtaushärtbaren Kunststoffs aufgrund der Oberflächenspannung gehalten ist. Die Oberfläche der Kunststoffflüssigkeit unterhalb der für elektromagnetische Wellen durchlässigen Platte wird beispielsweise mittels Laserstrahl, der nach Maßgabe eines in einem angeschlossenen Rechner gespeicherten 3-SchichtModells der zu generierenden Struktur über die Oberfläche geführt wird, ausgehärtet. Schicht für Schicht härtet das Laserlicht die Kunststoff- flüssigkeit entsprechend dem 3-D Schicht Modell, wobei der Abstand der Platten jeweils um eine Schichtdicke vergrößert wird, so daß frisches Kunststoffmaterial allein aufgrund seiner Oberflächenspannung in den entstehenden Zwischenraum zwischen der ausgehärteten Schicht und der Platte nachfließen kann. Auf diese Weise können Strukturen im Mikrometerbereich sehr exakt erzeugt werden.
Diese Technologie macht sich die Erfindung zu nutze.
Dabei werden zur Erzeugung der Schichten unterschiedliche lichtaushärtende Materialien verwendet. Diese Materialien können unterschiedlichste physikalische, chemische und biologische Eigenschaften haben, zum Beispiel: elektrisch leitend, elektrisch isolierend, unterschiedliche optische Berechnungsindices . Beim Austausch der Materialien werden auch die Schichtsegmente mit neuem Material gefüllt, in denen bei dem vorhergehenden Aushartungsprozess keine Aushärtung stattfand, so dass bei der darauffolgenden Aushärtung nicht nur die oberste Schicht mit der darunterliegenden verbunden wird, sondern auch Material der obersten Schicht mit dem Material einer unterhalb der vorletzten Schicht liegenden Schicht verbunden wird. Damit ist es möglich, innerhalb der Schichtenfolge eine Struktur mit anderen Materialeigenschaften von Layer zu Layer miteinander zu verbinden. Für einen Volumentransport sind dies nichtausgehärtete Bereiche, die nach Aushärtung und Spülvorgang als Kanäle zur Verfügung stehen. Ebenso können diese Kanäle als Hohlleiter für die Hochfrequenz benutzt werden, wenn die Wandungen der Kanäle aus Material mit entsprechenden Eigenschaften produziert werden.
Auch lassen sich durch Materialien mit unterschiedlichem Brechungsindex lichtleitende Strukturen erzeugen. Diese lichtleitenden Strukturen können in Verbindung mit Lichttransistoren (Stichwort: Licht schaltet Licht) zu optischen integrierten
Schaltungen benutzt werden.
Auf diese Weise lassen sich auch herkömmliche integrierte Schaltungen (IC) miteinander verbinden. Denn wurde unter der letzten Oberfläche ein IC in einer Kavität integriert, so kann über den Anschlüssen (Pads) ein Kanal mit leitendem Material erzeugt werden, der dann bis zu einem weiteren IC oder aber auch zu Steckverbindern, die auf diese Weise gefertigt wurden, geführt werden kann.

Claims

Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Ver indungsStrukturen für Volumen- und EnergieströmePatentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme. Dabei werden zur Erzeugung der Schichten unterschiedliche lichtaushärtende Materialien verwendet. Beim Austausch der Materialien werden auch die Schichtenbereiche mit neuem Material gefüllt, in denen bei der vorhergehenden Aushärtung keine Aushärtung stattfand, so dass bei der darauffolgenden Aushärtung nicht nur die oberste Schicht mit der darunterliegenden verbunden wird, sondern auch Material der obersten Schicht mit dem Material einer unterhalb der vorletzten Schicht liegenden Schicht verbunden wird. Damit ist es möglich, innerhalb der Schichtenfolge eine Struktur mit anderen Eigenschaften von Lage zu Lage miteinander zu verbinden.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte
a) durch strukturierte Verfestigung eines flüssigen lichtaushärtenden Materials mit ausgewählten physikalischen, chemischen oder biologischen Eigenschaften wird eine strukturierte Schicht generiert;
b) Die strukturierte Schicht wird vom nichtausgehärteten Mterial mittels Spülvorgang gereinigt und mit flüssigem lichthärtendem Material mit anderen physikalischen, chemischen oder biologischen Eigenschaften aufgefüllt und mit definierter Schichtdicke nach DE- PS 44 20 996 abgedeckt; c) durch strukturierte Verfestigung werden Bereiche der ersten Schicht und die neue Schicht strukturiert ausgehärtet .
d) die strukturierten Schichten werden vom nichtausge- härteten Material der letzten Strukturierung mittels Spülvorgang gereinigt und mit flüssigem lichthärtendem Material mit anderen physikalischen, chemischen und biologischen Eigenschaften aufgefüllt und mit definierter Schichtdicke nach DE-PS 44 20 996 abgedeckt ;
e) durch strukturierte Verfestigung werden Bereiche der zweiten Schicht und die neue Schicht strukturiert ausgehärtet, womit eine Verbindung von Materialien mit gleichen physikalischen, chemischen oder biologischen Eigenschaften oder eine Isolierung dieser generiert wird;
f) die strukturierten Schichten werden vom nichtausge- härteten Material der letzten Strukturierung mittels Spülvorgang gereinigt;
g) nicht mit Material aufgefüllte Bereiche werden entsprechend dem zu erstellenden System mit elektronischen, mechanischen, optischen oder chemischen Bauteilen bestückt;
h) die strukturierten Schichten und die Bauteile werden mit flüssigem lichthärtendem Material mit anderen physikalischen, chemischen und biologischen Eigenschaften aufgefüllt und mit definierter Schichtdicke nach DE-PS 44 20 996 abgedeckt;
i) durch strukturierte Verfestigung werden Bereiche der vorletzten Schicht und die neue Schicht strukturiert ausgehärtet, womit eine Verbindung von Materialien und Bauteilen mit gleichen physikalischen, chemischen oder biologischen Eigenschaften oder eine Isolierung dieser generiert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, daß mehrere elektronische, mechanische, chemische oder biologischer/elektrischer Bauteile miteinander verbunden werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3 , dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindungen zwischen den Bauteilen und der Umwelt des Systems für Volumen- und Energieströme benutzt werden können .
PCT/DE2000/004393 1999-12-31 2000-12-08 Verfahren zur herstellung dreidimensional angeordneter leit- und verbindungsstrukturen für volumen- und energieströme WO2001050198A2 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/914,585 US6805829B2 (en) 1999-12-31 2000-12-08 Method for production of three-dimensionally arranged conducting and connecting structures for volumetric and energy flows
CA002362387A CA2362387C (en) 1999-12-31 2000-12-08 Method for production of three-dimensionally arranged conducting and connecting structures for volumetric and energy flows
AU31504/01A AU757191B2 (en) 1999-12-31 2000-12-08 Method for production of three-dimensionally arranged conducting and connecting structures for volumetric and energy flows
JP2001550494A JP2003519039A (ja) 1999-12-31 2000-12-08 体積流およびエネルギー流のための、3次元的に配置された導体構造および接続構造の製造方法
EP00991054A EP1196820A2 (de) 1999-12-31 2000-12-08 Verfahren zur herstellung dreidimensional angeordneter leit- und verbindungsstrukturen für volumen- und energieströme
IS6064A IS6064A (is) 1999-12-31 2001-08-28 Aðferð til að framleiða leiðni- og tengibúnað semkomið er fyrir í þrívídd fyrir rúmmáls- og orkuflæði
NO20014209A NO328157B1 (no) 1999-12-31 2001-08-30 Fremgangsmate for frembringelse av tredimensjonalt anordnede lednings- og forbindelsesstrukturer for volum- og energistrommer

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19964099A DE19964099B4 (de) 1999-12-31 1999-12-31 Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme
DE19964099.8 1999-12-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2001050198A2 true WO2001050198A2 (de) 2001-07-12
WO2001050198A3 WO2001050198A3 (de) 2002-01-17

Family

ID=7935210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/DE2000/004393 WO2001050198A2 (de) 1999-12-31 2000-12-08 Verfahren zur herstellung dreidimensional angeordneter leit- und verbindungsstrukturen für volumen- und energieströme

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6805829B2 (de)
EP (1) EP1196820A2 (de)
JP (1) JP2003519039A (de)
KR (1) KR100652036B1 (de)
CN (1) CN1211197C (de)
AU (1) AU757191B2 (de)
CA (1) CA2362387C (de)
DE (1) DE19964099B4 (de)
IS (1) IS6064A (de)
NO (1) NO328157B1 (de)
RU (1) RU2242063C2 (de)
TW (1) TWI248555B (de)
WO (1) WO2001050198A2 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002057013A2 (de) * 2001-01-17 2002-07-25 Alpha Technology - Gesellschaft Für Angewandte Biotechnologie Mbh Analysechip mit mehreren funktionalen ebenen für elektrofokussiertes spotten
EP2315324A1 (de) * 2009-10-22 2011-04-27 Amphenol-Tuchel Electronics GmbH Kontaktiervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Kontaktiervorrichtung

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19964099B4 (de) * 1999-12-31 2006-04-06 Götzen, Reiner, Dipl.-Ing. Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme
DE102004013161B4 (de) * 2004-03-17 2008-04-10 microTec Gesellschaft für Mikrotechnologie mbH Mikrofluidik-Chip
DE102006008332B4 (de) * 2005-07-11 2009-06-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung einer funktionellen Baueinheit und funktionelle Baueinheit
US20070074579A1 (en) * 2005-10-03 2007-04-05 Honeywell International Inc. Wireless pressure sensor and method of forming same
US10828828B2 (en) * 2016-11-08 2020-11-10 Flex Ltd. Method of manufacturing a part

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5173220A (en) * 1991-04-26 1992-12-22 Motorola, Inc. Method of manufacturing a three-dimensional plastic article
EP0523981A1 (de) * 1991-07-15 1993-01-20 Fritz B. Prinz Verfahren zur Herstellung elektronischer Packungen und intelligente Strukturen durch thermisches Sprühen
EP0581445A1 (de) * 1992-07-31 1994-02-02 Texas Instruments Incorporated Verfahren und Vorrichtung zum rechnergesteuerten Herstellen aus Rechnerdaten von dreidimensionalen Gegenständen
US5398193A (en) * 1993-08-20 1995-03-14 Deangelis; Alfredo O. Method of three-dimensional rapid prototyping through controlled layerwise deposition/extraction and apparatus therefor
DE4420996A1 (de) * 1994-06-16 1996-01-11 Reiner Dipl Ing Goetzen Herstellung von mikromechanischen und mikrooptischen Bauelementen sowie komplexer Mikrosysteme

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01232024A (ja) * 1988-03-14 1989-09-18 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 光硬化性樹脂を用いた3次元模型の製造方法
DK0500225T3 (da) * 1991-01-31 1996-02-05 Texas Instruments Inc System, fremgangsmåde og proces til computerstyret fremstilling af tredimensionale genstande udfra computerdata
EP0640034A4 (de) * 1992-04-15 1995-08-30 Soane Technologies Inc Dreidimensionale stereolithography zum schnellen herstellen von prototypen.
US5264061A (en) * 1992-10-22 1993-11-23 Motorola, Inc. Method of forming a three-dimensional printed circuit assembly
DE4332982A1 (de) * 1993-09-28 1995-03-30 Eos Electro Optical Syst Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
US6549821B1 (en) * 1999-02-26 2003-04-15 Micron Technology, Inc. Stereolithographic method and apparatus for packaging electronic components and resulting structures
DE19964099B4 (de) * 1999-12-31 2006-04-06 Götzen, Reiner, Dipl.-Ing. Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5173220A (en) * 1991-04-26 1992-12-22 Motorola, Inc. Method of manufacturing a three-dimensional plastic article
EP0523981A1 (de) * 1991-07-15 1993-01-20 Fritz B. Prinz Verfahren zur Herstellung elektronischer Packungen und intelligente Strukturen durch thermisches Sprühen
EP0581445A1 (de) * 1992-07-31 1994-02-02 Texas Instruments Incorporated Verfahren und Vorrichtung zum rechnergesteuerten Herstellen aus Rechnerdaten von dreidimensionalen Gegenständen
US5398193A (en) * 1993-08-20 1995-03-14 Deangelis; Alfredo O. Method of three-dimensional rapid prototyping through controlled layerwise deposition/extraction and apparatus therefor
US5398193B1 (en) * 1993-08-20 1997-09-16 Alfredo O Deangelis Method of three-dimensional rapid prototyping through controlled layerwise deposition/extraction and apparatus therefor
DE4420996A1 (de) * 1994-06-16 1996-01-11 Reiner Dipl Ing Goetzen Herstellung von mikromechanischen und mikrooptischen Bauelementen sowie komplexer Mikrosysteme

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 013, no. 559 (M-905), 12. Dezember 1989 (1989-12-12) & JP 01 232024 A (MITSUI ENG & SHIPBUILD CO LTD), 18. September 1989 (1989-09-18) *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002057013A2 (de) * 2001-01-17 2002-07-25 Alpha Technology - Gesellschaft Für Angewandte Biotechnologie Mbh Analysechip mit mehreren funktionalen ebenen für elektrofokussiertes spotten
WO2002057013A3 (de) * 2001-01-17 2004-04-01 Alpha Technology Ges Fuer Ange Analysechip mit mehreren funktionalen ebenen für elektrofokussiertes spotten
EP2315324A1 (de) * 2009-10-22 2011-04-27 Amphenol-Tuchel Electronics GmbH Kontaktiervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Kontaktiervorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
NO328157B1 (no) 2009-12-21
CN1211197C (zh) 2005-07-20
AU757191B2 (en) 2003-02-06
KR100652036B1 (ko) 2006-11-30
AU3150401A (en) 2001-07-16
CA2362387A1 (en) 2001-07-12
WO2001050198A3 (de) 2002-01-17
NO20014209D0 (no) 2001-08-30
TWI248555B (en) 2006-02-01
NO20014209L (no) 2001-10-25
RU2242063C2 (ru) 2004-12-10
JP2003519039A (ja) 2003-06-17
DE19964099B4 (de) 2006-04-06
DE19964099A1 (de) 2001-09-13
EP1196820A2 (de) 2002-04-17
US6805829B2 (en) 2004-10-19
CN1358131A (zh) 2002-07-10
IS6064A (is) 2001-08-28
US20020125612A1 (en) 2002-09-12
KR20010105354A (ko) 2001-11-28
CA2362387C (en) 2007-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19826648B4 (de) Schaltungsträger mit einer optischen Schicht und optoelektronisches Bauelement
DE2702844C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer vielschichtigen gedruckten Schaltung
EP2483942B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Funktionsmoduls
EP1196820A2 (de) Verfahren zur herstellung dreidimensional angeordneter leit- und verbindungsstrukturen für volumen- und energieströme
DE102020102369A1 (de) Bilden von Durchgangsöffnungen durch freiliegendes dielektrisches Material eines Komponententrägers
DE102020102362B4 (de) Komponententräger mit Brückenstruktur in einem Durchgangsloch, das die Designregel für den Mindestabstand erfüllt
EP1309999A2 (de) Halbleiterbauelement und verfahren zur identifizierung eines halbleiterbauelementes
CH667359A5 (de) Verfahren zur herstellung einer starre und flexible partien aufweisenden leiterplatte fuer gedruckte elektrische schaltungen.
DE102004011667B4 (de) Vorrichtung mit einem Halbleiterchip und einem mikrofluidischen System und Verfahren zur Herstellung
DE102007037845A1 (de) Magnetorestive Sensorvorrichtung
EP0043475A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer integrierten mikrooptischen Vorrichtung zur Verwendung mit Multimode-Lichtfasern
DE102020102461A1 (de) Ein Komponententräger mit einer elektrisch zuverlässigen Brücke mit einer ausreichend großen vertikalen Dicke in einer Durchgangsöffnung eines dünnen Dielektrikums
EP3582253A1 (de) Ionenmanipulationsverfahren und zugehörige vorrichtungen und systeme für halbleitereinkapselungsmaterialien
EP0551118A1 (de) Verfahren zur Herstellung von nicht linearen optischen Mikro-Bauelementen
DE102019201007A1 (de) Umgieß-Verfahren und Umgieß-Vorrichtung für eine Unterwasserantenne
DE602004012605T2 (de) Eisenbahnleitmarkierung und entsprechendes herstellungsverfahren
DE10329143B4 (de) Elektronisches Modul und Verfahren zur Herstellung desselben
DE19653094A1 (de) Photonisches Bauelement mit elektrischen Leiterbahnen
DE4200396C1 (de)
DE10320090A1 (de) Elektrisches Bauteil mit Leitungen aus karbonisiertem Kunststoff, sowie Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung
EP1710605A1 (de) Optische Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102021003426A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines optischen Wellenleiters, ein mit diesem Verfahren hergestellter optischer Wellenleiter sowie ein medizinisches Implantat mit einem solchen optischen Wellenleiter
EP3772546B1 (de) Herstellen einer struktur mittels eines kaltgasspritzverfahrens
DE102008040072A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Sensorvorrichtung sowie Sensorvorrichtung
AT308309B (de) Verfahren zum Herstellen von lichtoptischen Leitungsanordnungen

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 00804479.1

Country of ref document: CN

AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AU CA CN ID IN IS JP KR NO RU SG US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2000991054

Country of ref document: EP

Ref document number: 1020017010676

Country of ref document: KR

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2001 550494

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 09914585

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2362387

Country of ref document: CA

Ref document number: 2362387

Country of ref document: CA

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: IN/PCT/2001/1212/CHE

Country of ref document: IN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 31504/01

Country of ref document: AU

AK Designated states

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): AU CA CN ID IN IS JP KR NO RU SG US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2000991054

Country of ref document: EP