WO1993015240A1 - Materiau conducteur de haute durete et procede de fabrication de ce materiau - Google Patents

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Christian Bataillon
Solange Brunet
Odette Sanatine
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Commissariat A L'energie Atomique
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/08—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
    • C23C8/10—Oxidising

Definitions

  • the present invention relates to a conductive material of high hardness and its manufacturing process.
  • connection elements In the field of electrical contacts used in connection technology, in mobile relays, etc., we have long sought to make contacts susceptible due to their hardness, to function very long time even under difficult conditions.
  • the materials used to produce these connection elements or the contacts of the relays must have very good physical and chemical inalterability properties, great hardness and of course good electronic conductivity properties.
  • the object of the invention is to remedy these drawbacks and to produce a material of high hardness, of great chemical inertness and of good electronic conductivity, which can be used for example as an electrical contact.
  • the invention relates to a conductive material of high hardness.
  • this material consists of an alloy comprising a first oxide of a metal, this first insulating and unalterable oxide forming the matrix of the material and a second oxide of an addition element forming a conductor electronic, the various islands constituting this second oxide being interconnected to form a conductive path inside said matrix.
  • the metal is chosen from the elements of groups IVb or Vb of the periodic classification, for example titanium. Zirconia or Niobium.
  • the add-on element is chosen from the elements of groups Ib, Ilb, Illa or IVa of the periodic table, for example copper. Silver, mercury, indium or Tin.
  • the invention also relates to a method of manufacturing the material which has just been described.
  • this method comprises the steps consisting in: - taking an alloy comprising a metal whose oxide is unalterable and insulating and an addition element whose oxide is an electronic conductor,
  • the oxidation step makes it possible, on the one hand, to make the base metal unalterable and, on the other hand, to form precipitates or islets which conduct the oxidation of the addition element inside L base metal oxide. Then, the physical percolation treatment makes it possible to interconnect the conductive islands produced by the oxidation and thus to ensure the electronic conductibility of the material obtained.
  • the oxidation of the alloy is carried out either by anodization When the alloy is in the form of a thin film, with a thickness of less than 0.5 JJm, or by the action of a gaseous oxidant, Liquid or dissolved, at a temperature close to 400 ° C, when the alloy is in the form of a thick film.
  • the physical treatment of perco ⁇ lation is carried out by a heat treatment at a temperature below the phase transition temperature of the alloy considered.
  • the material according to the invention is an alloy comprising a first oxide of a metal, this first insulating and unalterable oxide forming the matrix of the material and a second oxide of an addition element forming an electronic conductor, the various islands constituting this second oxide being interconnected to form a conductive path inside said matrix.
  • the metal whose oxide is insulating but which resists physical attacks relatively well and chemical is chosen from the elements of groups IVb or Vb of the Periodic Table of the Elements.
  • titanium. Zirconium and niobium are preferred examples but not limiting.
  • the addition element, the oxide of which is less resistant but has good electronic conductivity, is chosen from the metals of groups Ib, Ilb, Illa or IVa of the Periodic Table of the Elements.
  • the copper. Silver, mercury, indium and Tin are particularly well suited. However, these are not the only conductive oxides that can be used.
  • the zirconium couple associated with a small percentage of tin gives good results.
  • the maximum concentration of additive element corresponds to the limit of solubility in the metallic matrix. All these limits of solubility are not known, however, we know those of tin in zirconium. This is 17 atomic%.
  • the minimum concentration of addition elements in the alloy is that corresponding to the proportion sufficient for a percolation phenomenon to occur later in the final stage. This concentration is approximately 0.1 atomic%. It has been observed that Materials having this particular structure have good conductive properties, while being physically and chemically resistant.
  • This process comprises a first step consisting in taking or preparing an alloy comprising a metal whose oxide is unalterable and insulating and an addition element whose oxide is an electronic conductor with the metals and elements previously described. .
  • the next step in the process according to the invention consists in subjecting this alloy to oxidation.
  • This oxidation makes the base metal unalterable since already oxidized and creates conductive precipitates in the oxide matrix.
  • the oxidation can be carried out, for example, by anodization, by dry oxidation or by the action of a gaseous, liquid or dissolved oxidant, the latter possibly being water or water. water vapour.
  • Oxidation can be carried out either in massive form, or in the form of a coating deposited directly on a metal part in order to give it the desired inalterability and electronic conductivity properties.
  • Carrying out the process according to the invention must meet two main objectives, on the one hand, enabling rapid production of films of conductive material of high hardness and, on the other hand, obtaining compact films, ie ie without mechanical defects such as pores or cracks.
  • the faster an oxidation and the less compact the film obtained. A compromise must therefore be found between the mechanical quality of the film and its speed of manufacture.
  • anodization is the most suitable oxidation mode.
  • oxidation in water vapor at around 400 ° C gives very good results, with a speed oxidation of 1 to 2 ilm per week.
  • the third step of the fabrication process according to the invention consists in subjecting the oxidized alloy to physical treatment in order to create, by a percolation phenomenon, conductive paths interconnected in the insulating oxide layer.
  • Percolation is a physical phenomenon that allows certain transfers to take place in a solid. When this percolation treatment is carried out, the electric charges can pass by following particular paths within the non-conductive oxide.
  • the percolation treatment is described for example in a book entitled "Introduction to percolation theory", (Introduction to the theory of percolation), Stauffer D., Aharony A., London: Taylor and Francis, 1992.
  • the oxidation step made it possible to produce precipitates or islets of conductive oxide which are linked together by this percolation treatment.
  • This percolation treatment is generally carried out by a heat treatment. Its role is to create the necessary connections, if the nature and the concentration of the constituents allow it. The concentration ranges have been given previously.
  • the structure of the alloy must remain the same as at normal operating temperature. It is therefore necessary to operate at a temperature lower than that where a phase change begins to occur (phase transition temperature). This temperature naturally depends on the material considered.
  • Zirconium and tin alloys known under the trade name ZIRCALOY 2 and ZIRCALOY 4 were oxidized at 400 ° C in steam, placing them in an autoclave suitable for this type of operation. The oxidation lasted 1 to 2 weeks depending on the thickness desired for the oxide film. Then, the oxidized material was placed in an oven under primary vacuum, then heated for 1 to 2 hours at a temperature between 400 and 60.0 ° C to make the oxide layer conductive. Then, a rapid cooling of the material was carried out by introducing an inert gas such as argon or helium into the furnace.
  • an inert gas such as argon or helium

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Abstract

L'invention concerne un matériau conducteur de haute dureté et son procédé de fabrication. Le but de l'invention est de réaliser un matériau présentant simultanément de bonnes propriétés de conductibilité électronique et de stabilité physique et chimique. Ce but est atteint à l'aide d'un matériau constitué d'un alliage comprenant un premier oxyde d'un métal, ce premier oxyde isolant et inaltérable formant la matrice métallique du matériau et un second oxyde d'un élément d'addition formant un conducteur électronique, les différents îlots constituant ce second oxyde étant reliés entre eux pour former un chemin conducteur à l'intérieur de ladite matrice. Ce matériau est notamment destiné à réaliser des contacts électriques.

Description

MATERIAU CONDUCTEUR DE HAUTE DURETE ET PROCEDE DE FABRICATION DE CE MATERIAU
DESCRIPTION
La présente invention concerne un matériau conducteur de haute dureté et son procédé de fabri¬ cation.
Dans Le domaine des contacts électriques uti- lises en connectique, dans les relais mobi les, etc., on a longtemps cherché à réaliser des contacts suscep¬ tibles grâce à leur dureté, de fonctionner très long¬ temps même dans des conditions diffici les. Les maté¬ riaux uti lisés pour réaliser ces éléments de connec- tique ou les contacts des relais doivent présenter de très bonnes propriétés d'inaltérabi lité physique et chimique, une grande dureté et bien entendu de bonnes propriétés de conductibi lité électronique.
Dans l'art antérieur, on assurait la bonne conductibi lité au niveau des contacts en uti lisant de L'or ou un matériau dont l'oxyde est conducteur tel que Le cuivre, le bronze ou Le .béryllium. Toute¬ fois, cette solution n'assure pas une grande durabi lité des contacts. Lorsque ceux-ci sont uti lisés dans des environnements diffici les, par exemple à température élevée, ou dans une atmosphère oxydante, ou lorsqu' i ls sont soumis à des frottements intensifs, i ls s'usent et se détériorent très rapidement. Inversement, on a également cherché à uti liser un matériau inaltérable car déjà oxydé tel qu'un oxyde réfractaire, mais on s'est heurté au caractère isolant de ce type de maté¬ riau.
En conséquence, l' invention a pour but de remédier à ces inconvénients et de réaliser un matériau de haute dureté, de grande inertie chimique et de bonne conductibilité électronique, qui puisse être utilisé par exemple comme contact électrique.
A cet effet, l'invention concerne un matériau conducteur de haute dureté. Selon les caractéristiques de L'invention, ce matériau est constitué d'un alliage comprenant un premier oxyde d'un métal, ce premier oxyde isolant et inaltérable formant la matrice du matériau et un second oxyde d'un élément d'addition formant un conducteur électronique, les différents îlots constituant ce second oxyde étant reliés entre eux pour former un chemin conducteur à L'intérieur de Ladite matrice.
De façon avantageuse, Le métal est choisi parmi les éléments des groupes IVb ou Vb de La classi- fi cation périodique, par exemple Le titane. Le zirco- niu ou Le niobium. De même, l'élément d'add tion est choisi parmi les éléments des groupes Ib, Ilb, Illa ou IVa de la classification périodique, par exem¬ ple Le cuivre. L'argent, le mercure, l'indium ou L'étain.
Ainsi, on utilise un métal fortement inalté¬ rable, physiquement et chimiquement stable, résistant à des environnements difficiles à l'intérieur duquel l'élément d'addition assure la conductibilité électro- nique et permet la réalisation de contacts électriques.
L'invention concerne également un procédé de fabrication du matériau qui vient d'être décrit.
Selon les caractéristiques de L'invention, ce procédé comprend Les étapes consistant à : - prendre un alliage comprenant un métal dont l'oxyde est inaltérable et isolant et un élément d'ad¬ dition dont l'oxyde est un conducteur électronique,
- oxyder cet alliage, et
- faire subir un traitement physique à cet alliage oxydé de façon à créer par un phénomène de percolation, des chemins conducteurs interconnectés dans la couche d'oxyde isolante.
L'étape d'oxydation permet d'une part, de rendre le métal de base inaltérable et d'autre part, de former des précipités ou îlots conducteurs de l'oxy¬ de d'élément d'addition à L'intérieur de L'oxyde du métal de base. Ensuite, le traitement physique de percolation permet d'interconnecter les îlots conducteurs réalisés par L'oxydation et d'assurer ainsi La conductibi lité électronique du matériau obtenu .
De façon avantageuse, l'oxydation de l'alliage est réalisée soit par anodisation Lorsque L'alliage est sous forme d'un film mince, d'une épaisseur infé- rieure à 0,5 JJm, soit par L'action d'un oxydant gazeux, Liquide ou dissous, à une température voisine de 400°C, lorsque l'alliage est sous forme d'un film épais.
De préférence, le traitement physique de perco¬ lation est réalisé par un traitement thermique à une température inférieure à la température de transition de phase de L'alliage considéré.
L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description suivante d'un mode de réalisation de L'invention donné à titre d'exemple illustratif et non Limitatif.
Le matériau selon l'invention est un alliage comprenant un premier oxyde d'un métal, ce premier oxyde isolant et inaltérable formant La matrice du matériau et un second oxyde d'un élément d'addition formant un conducteur électronique, les différents îlots constituant ce second oxyde étant reliés entre eux pour former un chemin conducteur à l'intérieur de ladite matrice.
Le métal dont l'oxyde est isolant mais qui résiste relativement bien aux agressions physiques et chimiques est choisi parmi Les éléments des groupes IVb ou Vb de La classification périodique des éléments. Parmi ces éléments, le titane. Le zirconium et le niobium sont des exemples préférés mais non Limitatifs. L'élément d'addition dont l'oxyde est moins résistant mais possède une bonne conductibilité électronique, est choisi parmi les métaux des groupes Ib, Ilb, Illa ou IVa de La classification périodique des éléments. Parmi ces métaux. Le cuivre. L'argent, le mercure, l'indium et L'étain sont particulièrement bien adaptés. Toutefois, ce ne sont pas les seuls oxydes conducteurs que l'on peut utiliser. Parmi ces deux groupes d'éléments, Le couple zirconium associé à un faible pourcentage d'étain donne de bons résultats .
En ce qui concerne les proportions relatives du métal et de l'élément d'addition, il est absolument nécessaire que Les éléments d'addition restent en solution solide dans la matrice de base. La concentration maximale d'élément d'addition correspond à La Limite de solubilité dans la matrice métallique. Toutes ces limites de solubilité ne sont pas connues, toutefois, on connaît celles de l'étain dans Le zirconium. CeLle-ci est de 17% atomique. La concentration minimale d'éléments d'addition dans l'alliage est ceLle correspondant à la proportion suffisante pour qu'un phénomène de percolation puisse ultérieurement se produire dans l'étape finaLe. Cette concentration est approximativement de 0,1% atomique. On a pu observer que Les matériaux possédant cette structure particulière présentaient de bonnes propriétés de conducteurs, tout en étant résistants physiquement et chimiquement.
Un procédé de fabrication du matériau selon L'invention va maintenant être décrit en détail. Ce procédé comprend une première étape consis¬ tant à prendre ou à préparer un alliage comprenant un métal dont l'oxyde est inaltérable et isolant et un élément d'addition dont l'oxyde est un conducteur électronique avec Les métaux et éléments précédemment déc ri ts .
L'étape suivante du procédé selon L'invention consiste à faire subir à cet alliage une oxydation. Cette oxydation permet de rendre le métal de base inaltérable puisque déjà oxydé et de créer des précipités conducteurs dans la matrice d'oxyde. L'oxydation peut être réalisée par exemple par anodisation, par oxydation à sec ou par action d'un oxydant gazeux, Liquide ou dissous, ce dernier pouvant être de L'eau ou de la. vapeur d'eau.
L'oxydation peut être réalisée soit sous forme massive, soit sous forme d'un revêtement déposé direc¬ tement sur une pièce métallique afin de Lui conférer les propriétés d'inaltérabi lité et de conductibi lité électronique recherchées.
La réalisation du procédé selon L'invention doit répondre à deux ob ectifs principaux, d'une part, permettre la fabrication rapide de films de matériau conducteur de haute dureté et d'autre part, d'obtenir des films compacts, c'est-à-dire sans défauts mécaniques tels que des pores ou des fissures. Or, en général, plus une oxydation est rapide et moins le film obtenu est compact. IL faut donc trouver un compromis entre La qualité mécanique du fi lm et sa vitesse de fabrication. Pour obtenir des films de matériaux minces, d'une épaisseur inférieure à 0,5 μm, L ' anodi sat ion est le mode d'oxydation Le mieux adapté. En revanche, pour Les fi lms plus épais, l'oxydation dans de La vapeur d'eau à 400°C environ donne de très bons résultats, avec une vitesse d'oxydation de 1 à 2 ilm par semaine.
Enfin, la troisième étape du proc d de fabri¬ cation selon l'invention consiste à faire subir un traitement physique à l'alliage oxydé afin de créer par un phénomène de percolation des chemins conducteurs interconnectés dans la couche d'oxyde isolante. La percolation est un phénomène physique qui permet à certains transferts de s'effectuer dans un solide. Lorsque ce traitement de percolation est effectué, les charges électriques peuvent transiter en suivant des chemins particuliers au sein de l'oxyde non conduc¬ teur. Le traitement de percolation est décrit par exemple dans un ouvrage intitulé "Introduction to percolation theory", (Introduction à la théorie de la percolation), Stauffer D., Aharony A., London : Taylor and Francis, 1992.
L'étape d'oxydation a permis de réaliser des précipités ou îlots d'oxyde conducteurs qui sont reliés entre eux par ce traitement de percolation. Ce trai- tement de percolation est g én éralement effectu é par un traitement thermique. Celui-ci a pour rôle de créer les connexions nécessaires, si la nature et la concen¬ tration des constituants le permettent. Les gammes de concentration ont été donn ées préala lement. Au cours de ce traitement thermique, la structure de l'alliage doit rester la même qu'à la température normale d'uti lisation. Il faut donc opé rer à une tempé¬ rature inférieure à celle où un changement de phase commence à se produire (température de transition de phase). Cette température dépend bien entendu du matériau considéré.
Ce traitement physique peut être réalisé par un traitement thermique global ou au contraire par un traitement thermique local, destiné à ne rendre conductrice qu'une surface limités de la pièce consi- dérée. Dans ce dernier cas, seule une partie de la pièce est conductrice et on peut bénéficier des propriétés d'isolant sur le reste de la surface de cel le-ci . Un exemple de réalisation particulier d'un matér au selon l'invention va maintenant être décrit. Exemple :
Des alliages de zirconium et d' étain connus sous la dénomination commerciale ZIRCALOY 2 et ZIRCALOY 4 ont été oxydés à 400°C dans de la vapeur d'eau, en les plaçant dans un autoclave adapté à ce type d'opération. L'oxydation a dur é 1 à 2 semaines selon l'épaisseur souhait éepour le film d'oxyde. Ensuite, le matériau oxydé a été placé dans un four sous vide primaire, puis chauffé pendant 1 à 2 heures à une température comprise entre 400 et 60.0°C pour rendre conductrice la couche d'oxyde. Ensuite, on a procédé à un refroidissement rapide du maté iau en introduisant dans le four un gaz inerte tel que de L'argon ou de l'hélium.
On a obtenu ainsi sur une pièce en alliage de zirconium, une couche résistante à l'oxydation, à l'abrasion et à l'usure tout en permettant le passage des électrons. La conductibilité observée est de type métallique comme L'ont prouvé les essais en laboratoire effectués sur ce produit.

Claims

REVENDICATIONS
1. Matériau conducteur de haute dureté, carac¬ térisé en ce qu'il est constitué d'un alliage compre- nant un premier oxyde d'un métal, ce premier oxyde isolant et inaltérable formant la matrice métallique du matériau et un second oxyde d'un élément d'addition formant un conducteur électronique, les différents îlots constituant ce second oxyde étant reliés entre eux pour former un chemin conducteur à l'intérieur de ladi te mat ri ce.
2. Matériau conducteur de haute dureté selon La revendication 1, caractérisé en ce que Le métal est choisi parmi les éléments des groupes IVb ou Vb de la classification périodique.
3. Matériau conducteur de haute dureté selon la revendication 1, caractérisé en ce que L'élément d'addition est choisi parmi les éléments des groupes Ib, Ilb, Illa ou IVa de la classification périodique.
4. Matériau conducteur de haute dureté selon la revendication 2, caractérisé en ce que le métal est choisi parmi le titane, le zirconium ou le niobium.
5. Matériau conducteur de haute dureté selon la revendication 3, caractérisé en ce que L'élément d'addition est choisi parmi le cuivre, l'argent, le mercure, l'indium ou L'étain.
6. Matériau conducteur de haute dureté selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le premier oxyde est un oxyde de zirconium et en ce que le second oxyde est un oxyde d'étain.
7. Matériau conducteur de haute dureté selon l'une quelconque des revendications précédentes, carac¬ térisé en ce que la concentration en élément d'addition dans lralliage est comprise entre 0,1% en atome et la valeur correspondant à leur Limite de solubilité dans la matrice métallique.
8. Procédé de fabrication d'un matériau conduc¬ teur de haute dureté selon l'une quelconque des reven¬ dications 1 à 7, caractérisé en ce qu'i l comprend les étapes consistant à :
- prendre un alliage comprenant un métal dont l'oxyde est inaltérable' et isolant et un élément d'ad¬ dition dont l'oxyde est un conducteur électronique,
- oxyder cet alliage, et - faire subir un traitement physique à cet alliage oxydé de façon à créer, par un phénomène de percolation, des chemins conducteurs interconnectés dans La couche d'oxyde isolante.
9. Procédé de fabrication d'un matériau conduc- teur de haute dureté selon la revendication 8, carac¬ térisé en ce que Le métal dont L'oxyde est isolant est choisi parmi les éléments des groupes IVb ou Vb de La classification périodique.
10. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon La revendication
9, caractérisé en ce que le métal est choisi parmi* Le titane, le zirconium ou le niobium.
11. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon La revendication 8, caractérisé en ce que L'élément d'addition est choisi parmi Les éléments des groupes Ib, Ilb, Illa ou IVa de la classification périodique.
12. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon la revendication 11, caractérisé en ce que l'élément d'addition est choisi parmi le cuivre, l'argent, Le mercure, L'indium ou l'étain.
13. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon l'une quelconque des revendications 8 à 12, caractérisé en ce que la concentration en élément d'addition dans l'alliage est comprise entre 0,1% en atome et la valeur correspondant à Leur Limite de solubilité dans la matrice métallique.
14. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon L'une quelconque des revendications 8 à 13, caractérisé en ce que l'alliage est sous forme d'un film mince, d'une épaisseur inférieure à 0,5 μm.
15. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon la revendication 14, caractérisé en ce que l'oxydation de l'alliage est réalisée par anodisation.
16. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute" dureté selon l'une quelconque des revendication 8 à 13, caractérisé en ce que l'alliage est sous forme d'un film épais, supérieur à 0,5 un.
17. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon la revendication
16, caractérisé en ce que l'oxydation de l'alliage est réaLisée par L'action d'un oxydant gazeux. Liquide ou dissous, à une température voisine de 400°C.
18. Procédé de fabrication d'un matériau conducteur de haute dureté selon la revendication
13, caractérisé en ce que le traitement physique réalisant la percolation est un traitement thermique réalisé à une température inférieure à La température de transition de phase de l'alliage considéré.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL260208A (fr) * 1960-02-16
DE1173764B (de) * 1957-05-23 1964-07-09 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung abriebfester Oberflaechenschichten grosser Haerte und Leitfaehigkeit, insbesondere fuer elektrische Gleit- und Reibkontakte
US3922180A (en) * 1970-04-01 1975-11-25 Bell Telephone Labor Inc Method for oxidation-hardening metal alloy compositions, and compositions and structures therefrom
USRE31902E (en) * 1980-05-02 1985-05-28 Scm Corporation Dispersion strengthened metals

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR902206A (fr) * 1943-02-27 1945-08-22 Philips Nv Procédé de durcissement superficiel d'alliages métalliques et objets réalisés avec ces alliages durcis
DE1807906B2 (de) * 1968-01-27 1971-09-09 Verfahren zur herstellung von hochfesten elektrisch hochlei tenden und waermebestaendigen materialien

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1173764B (de) * 1957-05-23 1964-07-09 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung abriebfester Oberflaechenschichten grosser Haerte und Leitfaehigkeit, insbesondere fuer elektrische Gleit- und Reibkontakte
NL260208A (fr) * 1960-02-16
US3922180A (en) * 1970-04-01 1975-11-25 Bell Telephone Labor Inc Method for oxidation-hardening metal alloy compositions, and compositions and structures therefrom
USRE31902E (en) * 1980-05-02 1985-05-28 Scm Corporation Dispersion strengthened metals

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DE69300632T2 (de) 1996-05-09
EP0624206B1 (fr) 1995-10-11
FR2686903A1 (fr) 1993-08-06
FR2686903B1 (fr) 1994-03-18
EP0624206A1 (fr) 1994-11-17
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