WO1989004075A1 - Method of stabilizing laser wavelength and laser device with stabilized wavelength - Google Patents

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WO1989004075A1
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laser
wavelength
fabry
output
etalon
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PCT/JP1988/001102
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English (en)
French (fr)
Inventor
Hajime Nakatani
Yoshibumi Minowa
Hiromi Kaneko
Hitoshi; Wakata
Kenyu; Haruta
Haruhiko; Nagai
Kenichi Yasuda
Hiroyuki; Mukumoto
Original Assignee
Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Definitions

  • the present invention relates to a laser wavelength stabilizing method and a wavelength stabilizing laser device.
  • FIG. 1 is a block diagram showing a conventional narrow-band laser shown in, for example, the magazine “CAN. J. PHYS. VOL 63 ('85) 2 14”.
  • (1) is a laser medium
  • ( 2 ) is a total reflection mirror
  • (3) is a part.
  • ( 4 ) is a coarse etalon
  • ( 5 ) is a fine etalon
  • ( 6 ) is a laser beam.
  • the laser medium (1) is usually surrounded by an optical resonator consisting of a total reflection mirror (2) and a partial reflection mirror (3), and the light travels back and forth through this optical resonator many times. It is amplified as a laser beam ( 6 ).
  • some of the laser oscillators such as excimer lasers, semiconductor lasers, dye lasers, and some solid-state lasers.
  • the oscillation wavelength width can be narrowed by inserting a spectral element into the optical resonator.
  • Fabry-Perot ports For example, as shown in this example, by using a plurality of Fabry-Perot ports (hereinafter abbreviated as "Eta ports"), it is possible to obtain a laser beam almost monochromatic. You can also.
  • This section describes the case where two etalons, a coarse etalon ( 4 ) and a fine etalon (5), are inserted into the optical resonator.
  • Fig. 2 is a diagram showing the principle that the oscillation amplitude of the laser becomes narrower.
  • (A) shows the spectral characteristics of the etalon for coarse tuning. The peak position mi of each peak of this spectroscopic characteristic is the wavelength expressed by equation (1).
  • n is the refractive index of the material between the two mirrors that make up the etalon
  • d is the distance between the mirrors
  • m is an integer.
  • is called finesse, which is determined by the performance of the etalon.
  • Fig. 2 (c) shows the gay spectral characteristics of the laser medium. If there is no spectroscopic element in the optical resonator, the light is amplified and turned into a laser beam in the range where this gain exists. At that time, the position A MI of the peak of the coarse for image data and Russia down cormorant'll gain a range Naru rather than equal to the throat this one of the wavelength ⁇ ⁇ of the present, deer also, within a wavelength that there is a gain It is determined, such as cormorants by other no peak child other than a MI, Ri by the presence of coarse Etta Russia down ⁇ . At this point, a state in which the loss is small is realized, and light is amplified and oscillated only around the wavelength.
  • an additional fine adjustment port ( 5 ) is used.
  • the spectral characteristics may be, for example, as shown in FIG. 2 (b). At that time to rather than equal the peak wavelength A M 2 to ⁇ , FS R 2 is not good if the jar by the FSR 2> A ⁇ ⁇ .
  • the laser beam which originally had the spectral characteristics as shown in Fig. 2 (c), uses two etalons to produce a laser beam as shown in Fig. 2 ( ⁇ where the peaks of each etalon overlap as shown in d). It oscillates only in a narrow range centered at. In fact, the force that passes through the etalon many times during oscillation> The line width of the laser beam is "! ⁇ ⁇ ", Which is the wavelength width determined by the two apertures.
  • the wavelength width of the laser beam can be narrowed, but as described in a magazine, an optical resonator is required for short-term stability. Improvements can be made by improving or reducing the angle of incidence, but in the long term thermal issues, especially wavelength shift due to heat generation when the laser beam passes through the etalon. Is a major problem. This problem will be explained with reference to FIG.
  • Fig. 3 (a) is an enlarged view of the spectral characteristics of the coarse adjustment etalon.
  • the solid line shows the spectral characteristics immediately after oscillation. At this point, after oscillation, heat is generated by the laser beam and the etalon is deformed. This deformation does not degrade the etalon's properties, but changes the etalon's gap length, which in turn shifts the wavelength.
  • the direction of the wavelength shift is determined by the structure of the aperture, etc., and if a specific aperture is used, it is shifted in one direction by the heat generated by the laser beam. Foot.
  • the state of the shift at that time is shown by the dotted line in Fig. 3 (a).
  • the etalon for fine tuning has a similar wavelength shift.
  • the situation is as shown in Fig. 3 (b).
  • the wavelength shift amount of the fine adjustment etalon is etalon And Is the interval d 2 is that Do rather small, only the minute has the size Ri d! Good of coarse Etta opening down, peak wavelength A mi and A of the spectral characteristics of the time of the problem is two pictures data Russia down m 2 is shifted.
  • FIG. 3 (c) shows the state of laser oscillation at that time. After long oscillation, the laser output is ⁇ . As the wavelength shifts to Am 2 , the output decreases. In addition, when the shift amount is large, oscillation of other modes of the fine adjustment
  • the conventional narrow-band laser device is configured as described above, and it is necessary to have no means to correct the wavelength shift due to the thermal problem of the etalon. Since there is no means to stop the output decrease when using the etalon, there is a problem S that it can be applied only to low-power lasers with small thermal deformation.
  • a method for stabilizing a laser wavelength is to disperse a part of a laser beam whose wavelength is selected by using two laser apertures, and to analyze an analysis result of the dispersed laser beam.
  • the wavelength of the laser beam is stabilized, and the change in laser output is measured from a part of the laser beam.
  • the other etalon is controlled to suppress the decrease in the laser output.
  • a wavelength stabilizing laser device select the wavelength by providing two etalons, and the laser extracted from this laser oscillator A part of the beam is guided to the wavelength monitor mechanism, the oscillation wavelength is measured, and a fine adjustment etalon is driven by the measured wavelength to provide a support mechanism for changing the wavelength.
  • a power meter for measuring a change in laser output and a power monitor mechanism for recording the output change are provided. It is equipped with a servo mechanism that controls the coarse adjustment etalon based on the signal.
  • a wavelength stabilizing laser device is characterized in that the wavelength is selected by providing two etalons for fine adjustment etalon and coarse adjustment etalon.
  • a part of the laser beam extracted from this laser oscillator is guided to a wavelength monitor mechanism, the oscillation wavelength is measured, and a fine adjustment ethanol is provided by a first support mechanism.
  • Drive the laser to change the wavelength measure the applied voltage to be supplied to the laser medium, and, based on the change in the measured applied voltage, provide a servo mechanism that controls the coarse adjustment It is.
  • the wavelength stabilizing laser device is provided with two etalons for fine adjustment etalon and coarse adjustment etalon.
  • the laser beam extracted from the laser oscillator power is guided to a wavelength monitor mechanism, and the oscillation wavelength is measured. Equipped with a servo mechanism that drives the fine adjustment etalon and changes the wavelength, further measures the laser output with a power monitor mechanism, and controls the applied voltage to be supplied to the laser medium. It is equipped with a servo mechanism that measures the applied voltage and controls the coarse adjustment etalon based on the analysis results.
  • the wavelength stabilizing laser device has two wavelengths, a petalon for fine adjustment and an etalon for coarse adjustment, to thereby adjust the wavelength.
  • the laser beam taken out from this laser oscillator is guided to a wavelength monitor mechanism, and the oscillation wavelength is measured. Equipped with a servo mechanism to drive the laser and change the wavelength, and to further control the laser beam. ⁇
  • the laser output is measured by a single monitor mechanism, and the laser output is controlled by controlling the applied voltage supplied to the laser medium and controlling the coarse adjustment etalon in a time-sharing manner. Is to be constant.
  • FIG. 1 is a block diagram showing a conventional narrow-band laser
  • Fig. 2 is an explanatory diagram for explaining a method of determining a wavelength using two apertures
  • Fig. 3 is a two-port laser.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating that an output change is caused by a difference in wavelength shift of an aperture
  • FIG. 4 is an embodiment of the present invention using a wavelength monitor mechanism and a single monitor mechanism.
  • FIG. 5 is a configuration diagram showing a wavelength stabilizing laser according to an embodiment
  • FIG. 5 is a configuration diagram showing a wavelength monitoring mechanism
  • FIG. 6 is an intensity distribution of interference fringes on an image sensor of the wavelength monitoring unit.
  • FIG. 7 shows a schematic diagram of the method of stabilizing the laser wavelength when the wavelength stabilized laser device of Fig. 4 is used.
  • Fig. 8 shows the wavelength stabilized laser device of Fig. 4.
  • FIG. 9 is another flowchart showing an outline of a method for stabilizing a laser wavelength when used, and FIG. 9 is a wavelength stabilization according to another embodiment of the present invention using an applied voltage generating mechanism.
  • FIG. 10 is a configuration diagram showing a laser
  • FIG. 10 is another flow chart schematically showing a method of stabilizing a laser wavelength when the wavelength stabilizing laser device of FIG. 5 is used, and
  • FIG. 12 is a flow chart showing time division control of laser output
  • FIG. 13 is a flow chart of FIG. Fig. 14 shows a wavelength-stabilized laser device for realizing the structure shown in Fig. 12.
  • (1) to (5) are the same as in the conventional example.
  • ( 6 ) controls the laser beam
  • (h) controls the wavelength monitor mechanism
  • (8) controls the control mechanism
  • ( 9 ) controls the power monitor mechanism
  • 03 ⁇ 4 control the etalon.
  • Servo mechanism to perform the operation 03 ⁇ 4 is an integrator
  • is a Fabry-Bello etalon
  • () is an imaging lens
  • is a Fabry-Bello-Etalon
  • which is a one-dimensional image sensor, is an image processing unit for analyzing the interference fringes.
  • the oscillation wavelength is narrow and any wavelength ⁇ within the range where gain exists.
  • Laser beam ( 6 ) since the wavelength and output are unstable as described above, an etalon control mechanism as described below is required.
  • a part of the laser beam ( 6 ) is led to a wavelength monitor mechanism (7).
  • the wavelength monitoring mechanism uses etalons as described in the magazine “IEEE Journal Quantum Electronics QE-14 (78) 17”, and uses prisms and gratings. It is only necessary to have a function of performing spectroscopy using a Zo's interferometer or the like. In this embodiment, a case will be described in which an etalon and an image sensor are used as shown in FIG.
  • the wavelength monitor mechanism (7) consists of an integrator ( ⁇ , an aperture ( ⁇ , and a lens ()) that weakens or spreads the laser beam.
  • an integrator
  • an aperture
  • a lens
  • the focal length of the lens be f
  • can be calculated from the equation for the transmission wavelength of the etalon shown above.
  • the light intensity distribution on the image sensor is shown in Fig. 6. It has become.
  • the vertical axis shows the output, and the horizontal axis shows the distance f from the center of the interference fringes.
  • Each mountain corresponds to a difference in the order m of the utterance.
  • the interval between the peaks is called a free spectrum region, and the wavelength can be uniquely determined in this range. Since the free spectral region can be determined by the design of the FP, the wavelength shift is wider than expected.
  • each mountain has a light intensity distribution corresponding to the wavelength distribution of the laser beam
  • an image processing unit ⁇ is required to process the peak and to obtain the intensity.
  • the current wavelength ⁇ is calculated, and the wavelength of the oscillator is adjusted through the servo mechanism ⁇ .
  • FIG. 7 ( ⁇ ) is a flowchart showing an outline of a method for stabilizing a laser wavelength according to an embodiment of the present invention, and shows a spatial light intensity distribution of a laser beam. An example is shown in which the oscillation wavelength is controlled by finding the position where the maximum occurs.
  • step ⁇ the laser beam is split by the aperture ⁇ and in step 8) the one-dimensional light intensity distribution is measured by the image sensor ⁇ .
  • step ⁇ the measured data is smoothed, and image processing such as taking noise is performed.
  • step ⁇ the position X at which the maximum intensity is obtained is obtained, and then the position X is obtained in step ⁇ .
  • Value ⁇ ⁇ ⁇ . ⁇ Compare with (specified position coordinates corresponding to specified wavelength). If different, X> ⁇ .
  • FIG. 4 a part of the laser beam ( 6 ) is led to a no- zero monitor mechanism ( 9 ).
  • the power monitor mechanism ( 9 ) consists of a part for measuring the laser output and a part for recording the obtained laser output.
  • the coarse adjustment port ( 4 ) is provided.
  • the servo mechanism ( U) is used to adjust the center wavelength Am 2 of the coarse-tuned etalon (Fig. 7 ( ⁇ ) shows a flowchart of this adjustment. 3 The result shown in Fig.
  • the two etalons ( 4 ) and (5) can be controlled simultaneously, for example, by moving the center wavelength of the fine etalon (5) too much.
  • the laser output may fluctuate, If the control is performed randomly, output fluctuations may be promoted. Therefore, in order to monitor both controls, a control mechanism ( 8 ) is provided, and the first part (A) and (B) of the flowchart in FIG. 4 are selected.
  • (B) is prioritized immediately after the start of laser oscillation, and after operation is stabilized to a certain extent, control of (A) is prioritized.
  • the laser output is measured in step ⁇ , and N times in step ⁇ .
  • the current laser output PN is obtained by averaging the measured data, and the absolute value of the difference between the current laser output PN and the target value of the laser output (a value that can be set externally) PQ in step ⁇
  • the coarse adjustment port was controlled by monitoring the laser output with a personal monitor, but as shown in Fig. 9, the control of the coarse monitor changed.
  • the control shown in Fig. 10 ( ⁇ ) may be performed using the applied voltage generation mechanism.
  • the laser output control may be performed in parallel with both the applied voltage control and the coarse etalon control as shown in Fig. 11, or the time may be controlled as shown in Fig. 12. You may control the division.
  • the parallel control shown in FIG. 11 will be described.
  • the device in this case is, for example, as shown in Fig. 1-3.
  • the laser output is measured by the power monitoring mechanism ( 9 ), the measured data is averaged twice by the applied voltage generating means ⁇ , and the current laser output value ⁇ is obtained.
  • the ⁇ ⁇ value is compared with the specified laser output variation tolerance PA (a value that can be set from the outside), and if ⁇ ' ⁇ ⁇ ⁇ , the current Oscillation continues at the voltage. on the other hand, !
  • PA a value that can be set from the outside
  • the control amount of the applied voltage is obtained from ⁇ I force.
  • PN-P.
  • the control direction of the applied voltage is determined by the polarity of The applied voltage is controlled so that the laser output becomes constant according to the direction.
  • step ⁇ the applied voltage supplied from the applied voltage generating means ⁇ to the laser medium (1) is measured by the control mechanism ( 8 ).
  • a non-control time is set for the control of the coarse adjustment etalon (step ⁇ ), and the above ⁇ V is calculated during this period. Performs the processing but does not control the coarse adjustment port (4) If the laser oscillation time exceeds the non-control time, the variation in the applied voltage specified as IAVI in step ⁇ is allowed. the comparator compares the value V a (possible values set from outside), AV ⁇ V a. o to continue the oscillation without the control of the coarse eta opening down (4) in the case of
  • control amount of the coarse adjustment port () is calculated from the value in step ⁇ , so that becomes the minimum value.
  • the laser output can be controlled to be constant by continuing the control of the applied voltage and the control of the coarse adjustment port (4) while the laser is oscillating.
  • the two etalons ( 4 ) (S) may be controlled simultaneously, but, for example, the center wavelength of the fine etalon ( 5 ) has been moved too much.
  • the laser output fluctuates, and in an uncontrolled manner, the output fluctuates.
  • a control mechanism (8) is provided to select the first part (A) and (B) of the flow chart in Fig. 4. .
  • (B) is prioritized immediately after the laser oscillation is started, and the control of (A) is prioritized after the operation is stabilized to some extent.
  • the device in this case is, for example, as shown in FIG.
  • step ⁇ . ⁇ The laser output is measured by the monitor mechanism ( 9 ), and the measured data is processed in step ⁇ by an average value N times by the time division control means (53). To obtain the current laser output value PN.
  • the absolute value ⁇ I of the difference from the laser output value Po (a value that can be set from the outside) specified in step ⁇ is calculated, and this I ⁇ i value and the specified laser
  • the output variation tolerance (a value that can be set externally) is compared in Step ®, and if I ⁇ I> PA, in Step ⁇ the time from the current applied voltage value Control the applied voltage by division or It is determined whether to control the contact (4).
  • the output is controlled only by the applied voltage, and when the applied voltage is higher than the lower limit voltage and is lower than the preset upper limit voltage, the applied voltage is controlled.
  • Coarse control The control is alternately performed while switching the control at variable time intervals.
  • the applied voltage exceeds the upper limit voltage, only the coarse adjustment unit is controlled so that the output becomes maximum.
  • the control is switched according to the magnitude of the applied voltage.
  • the direction of the coarse etalon (4) is determined by the direction of the "Polarity of the etalon" (4).
  • the laser output is made constant by using the support mechanism & ⁇ . Adjust coarse adjustment ( 4 ) Note that if ⁇ I ⁇ PA, the laser will continue to oscillate as it is. > Control to be constant.
  • the wavelength monitor It can be a spectroscopic element such as a force using a Talon>', a monolithic interferometer, or a grating prism, and can be used to measure the spectral light intensity distribution.
  • a spectroscopic element such as a force using a Talon>', a monolithic interferometer, or a grating prism
  • a method of driving the fine adjustment etalon by performing image processing on the light intensity distribution of the laser light dispersed as a wavelength monitoring mechanism to obtain a wavelength shift was described. It goes without saying that the same effect can be obtained as long as the wavelength can be monitored without image processing.
  • x x in Fig. 3.
  • Another method is to predict the direction of the optimal state of the fine adjustment ethanol based on the degree of change in the light intensity and control the fine adjustment ethanol.
  • This invention can be applied to wavelength stabilization of a laser device, for example, an excimer laser device.

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Description

明 細 ' 書
発明の名称
レ ーザ波長の安定化方法及び波長安定化レ ーザ装置 技術分野
この発明は レーザ波長の安定化方法及び波長安定化レ 一ザ装置に関する も のであ る。
背景技術
第 1 図は例えば雑誌 「 CAN. J . PHYS . VOL 6 3 ( ' 8 5 ) 2 1 4」 に示された従来の狭帯域 レーザを示す構成図であ る O
図において、 (1)は レーザ媒質、 (2)は全反射鏡、 (3)は部
'分反射鏡、 (4)は粗調エ タ ロ ン、 (5)は微調エ タ ロ ン、 (6)は レ ーザ ビームであ る。
次に動作について説明する。 第 1 図において、 通常、 レーザ媒質(1)は全反射鏡(2) と部分反射鏡(3)か ら なる光共 振器に囲まれ光は こ の光共振器を何度 も往復する間に増 幅され、 レーザビー ム(6) と して取 り 出 さ れる。 と こ ろで、 レ ーザ発振器の う ちのい く つかの も の、 た と えばエキ シ マ レ —ザや半導体レ ーザ、 色素 レ ーザや一部の固体 レ ー ザは発振波長幅が広 く 、 光共振器内に分光素子を挿入す る こ と によ り 発振波長幅を狭 く で き る。 た と えば、 こ の 例のよ う に複数個の フ ァ プリ ペ ロ ーエタ 口 ン ( 以下エ タ 口 ン と 略す ) を用いれば限 り な く 単色光に近い レーザ ビ — ム を得る こ と も で き る。 こ こでは、 特に粗調用エタ ロ ン(4) と微調用エタ ロ ン (5) の 2 枚のエタ 口 ンを光共振器内に挿入した場合について 述べる。 第 2 図は レ ーザの発振幅が狭 く なる原理を示し た図で、 (a)は粗調用エタ ロ ンの分光特性を示す。 この分 光特性のそれぞれの山の ピーク の位置 え m iは(1)式で表わ せる波長となる。
2 n j d 1 c o s -θ '
(l)
m i
こ こで、 n はエ タ ロ ンを構成する 2枚の鏡面の間にあ る物質の屈折率、 d は鏡面の間の距離、 は光がエタ 口 ンに入射する と き の角度、 mは整数であ る。 い く つかあ る ピーク は mの違いに対応じてい る。 (1)式力 > ら明 らかな よ う に、 η や d ゃ を変える こ と によ り 山の ピーク波長 を 自由に変える こ とができ る。 一方、 ピーク と ピーク の 間の距離は自由ス ぺ ク ト ル領域 ( 以下 F S Rと略す ) と呼 ばれ、 (2)式
Figure imgf000004_0001
で示される。 また、 それぞれの ピーク の半値幅△ λ!は(3) 式
F S R
(3) で示される。 こ こで^は フ イ ネ ス と 呼び、 エ タ ロ ンの性 能によ り 決ま る も のであ る。 —方、 第 2 図(c)は レ ーザ媒質のゲイ の分光特性を示し た も のであ る。 光共振器中に分光素子が存在しなければ、 こ のゲイ ンが存在する範囲で光は増幅され レーザビーム と なる。 その際、 粗調用エ タ ロ ンの ピー ク の位置 A MIを ゲイ ンが存在する範囲の ど こかの波長 λ ηに等し く なる よ う 、 しか も 、 ゲイ ンが存在する波長内に A MI以外の他の ピーク がこ ないよ う 等を決定すれば、 粗調エタ ロ ンの 存在に よ り λ。 の と こ ろだ け ロ スが少ない状態が実現し、 その波長附近でのみ光は増幅され発振する。
と こ ろで、 ピー ク 力 1 つだけになる よ う にする と FSR! の最低値は決ま り 、 ま た、 フ イ ネ ス はヱ タ ロ ンの性能 によ り 決ま り 、 せいぜい 20程度であ るか ら 、 粗'調用エタ 口 ン 1 枚のみで狭 く で き る波長幅には限度があ る。
そ こ で も う 一枚微調用のエ タ 口 ン(5)を用い る こ と にな る。 その分光特性は例えば、 第 2 図(b)のよ う にすればよ い。 その際 ピーク波長 A M 2 を ^に等し く し 、 F S R 2 は F S R2> A λ ϊ となるよ う に すればよ い。
さ ら に狭 く したい時には、 また一枚エ タ 口 ンを用いれ ばよ い。
こ の よ う に して 、 も と も と第 2 図(c)のよ う な分光特性 であ っ た レーザビー ム.は 2 枚のエタ ロ ンを用いる こ と に よ り 、 第 2 図(d)に示すよ う にそれぞれのエタ ロ ンの ピー クが重なる λ。を中心と した狭い範囲でのみ発振する こ と にな る。 実際には、 発振中にエ タ ロ ンを何度 も 通る力 > ら、 レ ーザ ビームの線幅は 2枚のエタ 口 ンによ り 決ま る波長 幅の"! 〜 ^ と なる。
さ て、 以上のよ う にして、 レーザビームの波長幅を狭 く する こ とができ るのであ るが、 雑誌に も記されている よ う に短期間の安定性については光共振器を改良した り 入射角 を小さ く する こ と によ り 改善されるが、 長期的 には熱的な問題、 特に レ ーザビー ムがエタ ロ ンを透過す る時の発熱によ る波長シ フ トが大き な問題であ る。 こ の 問題を第 3 図を用いて説明する。
第 3 図(a)は 粗調用エタ ロ ンの分光特性を拡大した も の であ り 、 実線で描いてあ るのは発振直後の分光特性であ る。 と こ ろで、 発振後、 レーザビーム によ る発熱が生 じ エ タ ロ ンが変形する。 こ の変形はエ タ ロ ンの特性を劣化 さ せる程ではないが、 エタ ロ ンのギャ ッ プ長を変え、 そ の結果波長を シ フ ト さ せる。 こ の シ フ ト量と エ タ ロ ンの 変形によ る d の変化と の間には(4)式の関係がある。
Δλ = -^ - Δ ά … (4)
α こ こで、 波長シ フ ト の方向はエ タ 口 ンの構造等によ り 決 ま り 、 特定のエタ 口 ンを用いれば レーザビーム によ る発 熱によ っ て、 一方向に シ フ トする。 その時のシ フ ト の.様 子を第 3 図(a)の点線で示す。 一方、 微調用エタ ロ ン も ま た同様な波長シ フ トが生 じている。 その様子ば第 3 図(b) のよ う になる。 微調エ タ ロ ンの波長シ フ ト量はエタ ロ ン 間隔 d2が粗調エタ 口 ンの d !よ り 大き い分だ け小さ く な る さ て、 その際の問題は 2 枚のエ タ ロ ンの分光特性の ピ ー ク波長 A miと A m 2 がずれる こ と であ る。 その時、 両者 を重ねた時の光透過量は A mi = A m2の場合に く らベて減 少する。 その際の レ ーザ発振の様子を第 3 図(c)に示す。 長時間発振後、 レ ーザ出力は λ。か ら A m 2 に波長シ フ ト す る と と も に出力が減少する。 また シ フ ト量 も 大き い時は 微調エ タ 口 ンの他のモ ー ドの発振 も 起こ り う る つ
従来の狭帯域レ ーザ装置は以上のよ う に構成されてお り 、 エタ ロ ンの熱的な問題によ る波長シ フ ト を補正する 手段を持たないばか り ではな く 、 2 枚のエ タ ロ ンを用い た時の出力減少を止める手段を も 持たないため、 熱的な 変形が小さ い低出力 レ ーザに しか適用で き ない と い う 問 題力 Sあ つ た。
発明の開示
本発明に係る. レ ーザ波長の安定化方法は、 2 枚のエタ 口 ンによ り 波長選択された レ ーザ ビー ム の一部を分光し、 分光された レーザ ビー ム の解析結果を も と に一枚のエタ ロ ンを制御する こ と によ っ て、 レーザビー ム の波長を安 定化させる と と も に、 レーザビー ム の一部よ り レ ーザ出 力の変化を測定し 、 上記出力変化を解析 して も う 一枚の エ タ ロ ンを制御する こ と に よ っ て 、 レ ーザ出力の減少を も 抑え る よ う に し た も のであ る。
また、 本発明の別の発明に係る波長安定化 レ ーザ装置 は、 微調用エタ ロ ン と粗調用エタ ロ ンの 2 枚のエタ ロ ン を備え る こ と によ り 波長を選択する と と も に、 この レ一 ザ発振器か ら取 り 出されたレーザ ビー ム の一部を波長乇 ニタ機構に導いて、 発振波長を測定し、 上記測定波長に よ り 微調用エ タ ロ ンを駆動し、 波長を変化させるサ一ポ 機構を備え、 さ ら に、 波長モニタ機構と は別に レーザ出 力の変化を測定する ためのパワーメ ータ と、 出力変化を 記録する部分か ら なるパ ワ ー モ ニ タ 機構を備え、 上記パ ヮ ー モニ タ機構から の信号を も と に粗調エ タ ロ ンを制御 する サーボ機構を備えた も のである。
また、 こ の発明の別の発明に係る波長安定化レーザ装 置は、 微調用エタ ロ ン と粗調用エタ ロ ンの 2 枚のエタ 口 ンを備える こ と によ り波長を選択する と と も に、 こ の レ —ザ発振器から取 り 出 された レーザビーム の一部を波長 モニタ 機構に導いて、 発振'波長を測定し、 第 1 のサ一ポ 機構によ り 微調用エタ 口 ン を駆動して波長を変-化させ、 レーザ媒体へ供給する印加電圧を測定し、 測定した印加 電圧の変化を も と ^粗調甩エタ 口 ンを制御するサ一ボ機 構を備えた も のであ る。
また、 こ の発明の別の発明に係る波長安定化レーザ装 置は、 微調用エタ ロ ン と粗調用エタ ロ ンの 2 枚のエタ 口 ンを備える こ と に よ り 波長を選択する と と も に 、 こ の レ —ザ発振器力 ら取 り 出 された レーザ ビーム を波長モ ニ タ 機構に導いて、 発振波長を測定し、 上記測定波長によ り 微調用エタ ロ ンを駆動し、 波長を変化さ せるサーボ機構 を備え、 さ ら にパ ワ ー モ ニ タ機構で レーザ出力を測定し, レーザ媒体に供給する印加電圧を制御する と と も に、 印 加電圧を測定して、 その解析結果によ り 粗調用エ タ ロ ン を制御する サーボ機構を備えた も のであ る。
また 、 こ の発明の別の発明に係る波長安定化レ ーザ装 置は、 微調用ヱタ ロ ン と粗調用エ タ ロ ンの 2 枚のエタ 口 ンを備える こ と によ り 波長を選択する と と も に、 この レ —ザ発振器か ら取 り 出 された レ ーザ ビー ム を波長モ ニ タ 機構に導いて、 発振波長を測定し、 測定波長によ り 微調 用エタ ロ ンを駆動し、 波長を変化さ せるサーボ機構を備 え 、 さ ら に 、 レ ー ザ ビー ム を ノ、。 ヮ 一 モ ニ タ機構で レ ー ザ 出力を測定し'、 'レ ーザ媒体に供給する印加電圧制御と粗 調用エ タ ロ ンの制御を時分割で行 う こ と によ り 、 レーザ 出力が一定になる よ う に した も のであ る。
図面の簡単な説明
第 1 図は従来の狭帯域化レ ーザを示す構成図、 第 2 図 は 2 枚のエタ 口 ンによ る波長の決定方法を説明するた め の説明図、 第 3 図は 2 枚のエ タ 口 ン の波長シ フ トの違い によ り 出力変化が生ずる こ と を説明 した説明図、 第 4 図 は波長モ ニ タ機構及びパ ヮ 一 モ ニ タ 機構を用いた本発明 の一実施例によ る波長安定化レ ーザを示す構成図、 第 5 図は波長モ ニ タ機構を示す構成図、 第 6 図は波長モ ニ タ 部の撮像素子上での干渉縞の強度分布を示す分 図、 第 7 図は第 4 図の波長安定化レーザ装置を使用する場合の レーザ波長の安定化方法の概略を示すフ 口 一チ ャ 一 ト 図, 第 8 図は第 4 図の波長安定化レーザ装置を使用する場合 の レーザ波長の安定化方法の概略を示す別のフ 口 一 チ ヤ 一 ト 図、 第 9.図は印加電圧発生機構を用いた本発明の別 の実施例によ る波長安定化レーザを示す構成図、 第 10図 は第 5 図の波長安定化レーザ装置を使用する場合の レ ー ザ波長の安定化方法の概略を示す別の フ 口 ーチ ャ 一 ト 図、 第 11図は レーザ出力の平行制御を示すフ ロ ー チ ヤ 一 ト図, 第 12図は レーザ出力の時分割制御を示すフ 口 一 チ ヤ 一 ト 図、 第 13図は第 1 1図のフ ロ ーを実現するため の波長安定 化レーザ装置、 第 14図は第 12図の フ 口 一を実現するため の波長安定化レーザ装置である σ
発明を実施する為の最良の形態
以下、 本発明の一実施例を図について説明する。 第 4 図及び第 5 図において、 (1) 〜(5)は従来例と 同様の も ので あ る 。 (6) は レ ーザ ビー ム 、 ひ) は波長モ ニ タ機構、 (8)は制 制機構、 (9) はパ ワ ー モニ タ機構、 な d , 0¾は エ タ ロ ン を制 御する ためのサーボ機構、 0¾はイ ンテ グレ ータ 、 ^はフ ア ブ リ べ ロ ー エ タ ロ ン、 ( ) は結像 レ ン ズ、 ^ は フ ア プ リ ベ ロ 一エタ ロ ン ^ によ り 生 じた干渉縞を観測するた め の 撮像素子であ り 、 例えば一次元のィ メ 一 ジセ ンサであ る < ^は干渉縞を解析するた め の画像処理部であ る。
次に動作について説明する。 従来例と 同様に 2枚のェ タ 口 ン(4) ,' (5)を光共振器内に挿入する こ と によ り 発振波 長が狭 く 、 かつゲイ ンが存在する範囲の任意の波長 λ。の レ ーザ ビー ム(6)を得る こ と がで き る。 し力 >し、 それだ け ではすでに述べたよ う に波長 も 出力 も 不安定であ るか ら 以下に述べる よ う なエ タ ロ ンの制御機構が必要と な る。
まず、 微調用エ タ 口 ンの制御機構か ら説明す.る。
第 5 図において 、 レーザビー ム(6)の一部を波長モニ タ 機構(7)に導 く 。 波長モ ニ タ機構ひ)は例えば雑誌 「 IEEE J ournal Quantum Electronics QE - 14 (, 78 ) 17」 に あ る よ う にエタ ロ ンを用いた り 、 プ リ ズム、 グレ ーテ ィ ング フ ィ ゾ一の干渉計等を用いて分光する機能を持てばよ い が、 本実施例では第 5 図に示したよ う にエタ ロ ン と撮像 素子を用いた場合について説明する。
波長モニタ 機構(7)は レ ーザ ビームを弱めた り 、 拡散さ せた り する ィ ン テ グレ 一タ (^ と エ タ 口 ン(^ と レ ンズ( ) と か ら な つ ている。 イ ンテ グレータ ^によ り 生 じた発散成 分の う ち特定の入射角度 を持つ成分のみがエタ 口 ンを 透過し結像レ ンズ 4) にいた る。 レ ンズの焦点距離を f と すれば、 の成分を持つ光は焦点位置において レ ンズの 軸よ り f 離れた と こ ろに集ま り 、 円形の干渉縞を形成 する。 そ こで、 撮像素子^によ り 光の集ま る位置を観測 すれば が も と ま り 、 先に示したエ タ ロ ン の透過波長の- 式よ り λ が計算で き る とい う わけである。
と こ ろで、 撮像素子上の光の強度分布は第 6 図のよ う にな っ ている。 縦軸は出力、 横軸は干渉縞の中心か ら の 距離 f を示す。 各山はエタ 口 ンの次数 mの違いに対応し ている。 そ して、 各山の間隔は自由スぺク トル領域と 呼 ばれ、 こ の範囲で波長を一意的に決め る こ と がで き る。 しか も 自由ス ぺ ク ト ル領域は F P の設計によ り 決め る こ とができ る ので波長シフ トが予想される値よ り も 広めに I し お く 。
また、 各山はレ ーザ ビーム の波長分布に対応した光強 度分布を持つか ら これを処理して、 を出すために画像 処理部^が必要と なる。 さ ら にこ こ では現在の波長 λ を 計算し、 サーボ機構^を通じて発振器の波長の調整を行 な う 。
第 7 図 (Α)は、 本発明の一実施例によ る レーザ波長の安 定化方法の概略を示すフ ロ ー チ ヤ 一 ト 図であ り 、 レーザ ビー ム の空間的な光強度分布が最大にな る位置を求めて, 発振波長の制御を行な う例を示す。
ステ ツ プ^でエタ 口 ン ^によ り レ ーザ ビー ムを分光し . ステ ッ プ 8)で撮像素子^によ り 一次元の光強度分布を測 定する。 ス テ ッ プ ^ではこの測定データ を平滑化し、 ノ ィ ズを と る等の画像処理を し、 ス テ ッ プ ^で最大強度を 示す位置 X を求め、 次にス テ ッ プ Φΐで得られる値 χ。 ·( 指 定波長に対応する指定された位置座標 ) と比較し、 異な る時は X > χ。 力 Xく χ。 によ り サーボ機構 ωを通 じて微調 エタ 口 ン(5)を制御してエタ ロ ン の透過域の中心波長 λ πι2 を変化さ せ ( ス テ ッ プ © ) 、 再びス テ ッ プ ?)に も ど り X = X。 と なる まで こ の動作を く り 返す。 以上のよ う にし て 微調用エ タ 口 ンを調整する こ と に よ り レーザの発振波長 は一定に保たれる。
次に、 粗調用エ タ ロ ン (4)の制御機構について説明する 第 4 図において、 レーザ ビー ム (6) の一部は ノヽ0 ヮ ー モ ニ タ 機構(9)に導かれている。 パ ワ ー モ ニ タ機構(9) は レ ー ザ出 力を測定する部分と得 られた レーザ出力を記録する部分 か ら で き てお り 、 粗調用エ タ 口 ン(4)を ど ち ら かの方向に 制御した時、 レーザ出力が増加するか減少するかを判定 し、 次に粗調エタ ロ ン(4)をいかに調整するかを決定する この決定に従 っ て、 サーボ機構(U)によ り 粗調エタ ロ ン( の中心波長 Am2 を調整する。 こ の調整のフ ロ ーチ ャ ー ト を第 7 図 (Β) に示す。 レ ーザ発振が始ま る と第 3 図で示し た こ と が生じ、 -レ ーザ出力が変化する。 そ こで、 ス テ ツ プ ^で出力 ρ を測定し、 その結果を記録し てお き 、 ス テ ッ プ において前回の測定結果 ρ οと 比較する。 出力が異 なる時は ρ〉 ρ。 ρ < ρ ο に よ り サーボ機構(Ιίを用いて粗 調用エタ 口 ン( を調整する。 こ の作業は粗調用エタ ロ ン
(4)が熱平衡に達し、 レ ーザ出力が一定になる まで続け ら れる。
と こ ろで、 2 つ のエ タ ロ ン (4) , (5)の制御は同時に行な つ て も よ いカ 、 た と えば、 微調エ タ ロ ン(5)の中心波長を 動かしすぎたた めに レ ーザ出力が変動する こ と も あ り 、 無秩序に制御を行な う と 出力の変動がかえ っ て助長され る こ と も あ り う る。 そ こで、 両制御を監視する ために、 制御機構(8)を設け、 第 4 図のフ ロ ー チ ャ ー ト の一番最初 の部分 (A) (B)制御の選択を行なわせる。 本実施例では レ — ザ発振の開始直後は(B)を優先し、 動作があ る程度安定し てか ら は(A)の制御を優先させている。
次に、 レーザ出力に 目標値 ( 目標値 < レーザ最大出力 であ る。 ) を設定し、 こ の目標値に レーザ出力を安定化 する と と も に発振開始直後に無制御時間を設けた場合の 粗調エタ ロ ン( の制御について、 フ ロ ーチ ャ ー ト第 8 図 で説明する。 まずス テ ッ プ^でレーザ出力の測定を行な い 、 ス テ ッ プ ^で N 回の測定データの平均値処理によ り 現在の レーザ出力 PN を求め、 ステ ッ プ ^で現在の レ ー ザ出力 PN と レーザ出力の 目標値 ( 外部よ り 設定可能な 値 ) PQとの差の絶対値 i Px l を求める。 次に発振開始か ら の時間が無制御時内以内かど う かの判断を行ない、 無 制御時間以内であれば粗調エタ 口 ン(4)の制御は行なわず、 レーザ発振中であ る こ と を確認してス テ ッ プ (¾に も ど る。 発振開始から の時間が無制御時間を こ える と 、 上記 I Px I と指定された レーザ出力のバラ ツキ許容値 ( 外部よ り 設 定可能な値 ) PA と の比較を行ない I Px Iく PA の場合は 粗調エ タ ロ ン( の制御は行なわずス テ ッ プ ! ¾ に も ど り 、
| Ρχ ί > ΡΑの場合は、 ス テ ッ プ ^で I Px ! に よ り 制御量 を計算し、 ス テ ッ プ ^で Px =PN - P。 の極性から制御方 向を決め、 ス テ ッ プ でサーボ機構 !)を駆動し粗調エタ ロ ン(4)を レーザ出力が設定された 目標値と 一致する よ う に調整する。 この制御 レ ーザ発振期間中継続して行 う こ と によ り 、. 長時間の レ ーザ出力の安定化を行 う 。
'上述した制御では粗調エ タ 口 ンの制御をパヮ 一モニ タ によ り レ ーザ出力を モニタ して行な っ ていたが第 9 図に 示すよ う にパ ヮ 一モニ タ の変わ り に印加電圧発生機構を 用いて第 10図(Β)のよ う な制御を行な っ て も よ い。 さ ら に, レ ーザ出力制御を第 11 図に示すよ う に印加電圧制御と粗 調エタ ロ ン制御両者を平行に行な っ て も よ い し、 第 12図 に示すよ う に時分割に制御して も よ い。 まず第 11図に示 した平行制御.について説明する。 こ の場合の装置は例え ば第 1-3図に示す も のカ ある。
は じめに、 印加電圧の制御について説明する。 まず、 パ ワ ー モニ タ機構(9)で レ ーザ出力を測定し、 こ の測定デ ータ を印加電圧発生手段^で Ν回の平均値処理して、 現 在の レーザ出力値 ΡΝ を求める。 次に指定された レーザ 出力値 Ρο ( 外部か ら 設定可能な値 ) と の差の絶対値 ΙΔΡ! = ΡΝ - Ρ。を求め、 こ の ΙΔΡ Ι 値と指定さ れた レ ーザ出力 のバラ ツ キ許容値 PA ( 外部か ら設定可能な値 ) と を比 較し、 ΙΔΡ'Ι ≤ ΡΔ の場合は現状の印加電圧のま ま発振 を継続する。 一方、 !ΔΡ I 〉 PAの場合は ΙΔΡ I 力ゝ ら 印加 電圧の制御量を求め る。 次に、 ΔΡ = P N - P。 の極性によ り 印加電圧の制御方向を決定し、 上記の制御量と制御方 向に従 っ て レーザ出力が一定になる よ う 印加電圧を制御 する。
次に粗調エタ ロ ン(4)の制御について説明する。 まず、 ス テ ッ プ ^で印加電圧発生手段^から レ ーザ媒質(1) に供 給する印加電圧を制御機構(8)によ つ て測定する。
次に、 ステ ツ プ^でこ の測定データ を M回測定し平均 値処理を行い現在の印加電圧値 V N を求め、 ス テ ッ プ ^ で指定された 目標印加電圧値 V。 ( 外部か ら設定可能な値) との差 AV = VN - V。 を求め記録する。 しかし、 レーザ発 振直後は発振が不安定であ るため、 ス テ ッ プ ^ の よ う に 粗調エタ ロ ン( の制御には無制御時間を設け、 こ の期間 は上記△ V を求める処理は行 うが粗調エタ 口 ン(4)の制御 は行なわない。 レーザ発振時間が無制御時間を越える と ス テ ッ プ ^で I AV I と指定された印加電圧のバラ ツ キ許 容値 VA ( 外部から設定可能な値 ) と を比較し、 AV≤VA . の場合は粗調エタ 口 ン(4)の制御は行なわず発振を継続す o
—方、 〉 VA の場合は、 ステ ッ プ ^で 値よ り 粗 調エ タ 口 ン( の制御量を求め、 が最少値になるよ う
( 最初は指定された制御方向に、 次か ら は ス テ ッ プ拗で 現在の Δν と前回の を比較し、 現在の く 前回の △V の場合は前回 と 同 じ制御方向に、 現在の AV > 前回 の AV の場合はス テ ッ プ ^で前回 と制御方向を反転する。 ) ス テ ッ プ ^でサーボ機構 ίを駆動し粗調エタ ロ ン(4)を調 整する。
上記のよ う に印加電圧制御と粗調エタ 口 ン(4)の制御を レ ーザが発振中継続する こ と によ り レーザ出力を一定に 制御する こ と がで き る 。
と こ ろで、 2 つのエタ ロ ン(4) (S)の制御は同時に行な つ て も よ いが、 た と えば、 微調エ タ ロ ン(5)の中心波長を動 かしすぎたために レ ーザ出力が変動する こ と も あ り 、 無 . 秩序に制御を行な う と 出力の変動がかえ っ て助長される こ と も あ り う る。 そ こ で、 両制御を監視する ため に、 制 御機構(8)を設け第 4 図のフ ロ ー チ ヤ ― ト の一番最初の部 分 (A) (B)制御の選択を行なわせる。 本実施例では レーザ発 振 開如直後は (B)を優先し、 動作がある程度安定してか ら は(A)の制御を優先さ せてい る 。
次に時分割制御を第 12図に従 っ て説明する。 この場合 の装置は例えば第 14図に示す も のがあ る。
まず、 ス テ ッ プ ^でノ、。 ヮ 一 モニ タ機構(9)によ り レ ー ザ -出力を測定し、 こ の測定デー タ を ス テ ッ プ ^で時分割制 御手段 (53)によ り N回の平均値処理して、 現在の レーザ出 力値 P N を求め る。 次にス テ ッ プ ^で指.定された レーザ 出力値 Po ( 外部か ら設定可能な値 ) と の差の絶対値 Ι ΔΡ I を求め、 この I ΔΡ i 値と指定された レ ーザ出力のバラ ッ キ許容値 ( 外部か ら設定可能な値 ) を ス テ ッ プ ®で 比較し 、 I ΔΡ I > P Aの場合、 ス テ ッ プ ^で現在の印加電 圧の値か ら時分割によ り 印加電圧を制御するか、 粗調ェ タ 口 ン(4)を制御するかを判定する。 例えば印加電圧が予 め設定されている下限電圧以下の場合には印加電圧のみ で出力を制御し、 印加電圧が下限電圧よ り 大き く 、 予め 設定されている上限電圧以下の場合、 印加電圧と粗調ェ タ 口 ン制御を可変な時間間隔で切り 換えながら交互に制 御する。 さ ら に印加電圧が上限電圧を越えた場合、 粗調 エタ 口 ンのみを出力が最大と なる よ う制御するのである。 このよ う に印加電圧の大き さ によ り 制御を切 り換えてい る
そ し て印加電圧を制御する場合は、 ス テ ッ プ ^で ΙΔΡ i よ り 印加電圧の制御量を求め、 次にステ ッ プ ^で ΔΡ = P N - P。 の極性によ り 印加電圧を増加又は減少のど ち ら に制御するかを決定する。 この結果に従っ てス テ ッ プ ^ で レーザ出力が一定になる よ う に印加電圧を制御する。 又、 粗調エ タ ロ ン(4) を制御する場合は、 ス テ ッ プ で Ι ΔΡ I の値か ら粗調エタ ロ ン(4)の制御量を求め、 次にス テ ッ プ (a)で ΔΡ = Ρ Ν - P。 の極性" ίこよ り 粗調エタ ロ ン(4)を ど ち ら の方向に制御するかを決定し、 ステ ッ プ^でサ一 ポ機構 &ίを用いて レーザ出力が一定になる よ う に粗調ェ タ ロ ン(4)を調整する。 なお Ι ΔΡ I≤ P A の場合は現状の まま発振を継続する。 こ の作業を レ ーザが発振中継する こ と によ.り レーザ出力が一定になる よ う に制御する こ と 力 >で き る。
上述したい く つかの実施例で波長モニタ機構と してェ タ ロ ン を 用いた力 >'、 フ イ ソ 一の干渉計や、 グ レ ーテ ィ ン グゃプ リ ズム等の分光素子であればよ く 、 分光された光 強度分布を測定する こ と に よ り 、 上記実施例と 同様の効 果を奏する。
また、 上記実施例では波長モニ タ 機構と し て分光さ れ た レーザ光の光強度分布を画像処理して波長ズレを求め 微調用エタ ロ ンを駆動する方法を示したが、 光強度分布 を画像処理しな く と も 波長モ ニ タ で き る方法であれば同 様の効果を奏する こ と は言 う まで も ない。 光強度分布を 画像処理しない方法と して、 例えば第 3 図の x = x。 に光 セ ンサ 一を配置して波長モニ タ機構と し、 微調用エ タ 口 ンを最適状態か ら前後に変化さ せて、 その時の χ = χ。に. おける光強度の変化具合か ら微調用エタ 口 ンの最適状態 の方向を予測して微調用エタ ロ ンの制御をかけ る と い う 法 も め な 。
産業上の利用可能性
こ の発明は レーザ装置、 例えばエ キ シマ レ ーザ装置の 波長安定化に適用で き る。

Claims

請 求 の 範 囲 (1)第 ; [ の フ ア ブ リ ペ ロ ーエタ ロ ン及び第 2 の フ ア ブリ ペロ ーエタ 口 ンを甩い て発振波長が可変な レ ーザ発振器 か ら放射された レーザ ビー ム の一部を取 り 出 して波長モ ニタ機構で分光し、 発振波長を決定する過程、 上記発振 波長によ り 、 上記第 1 の フ ア ブリ ペ ロ ーエタ ロ ンを制御 して上記レーザ発振器の波長を安定化する過程、 上記レ —ザビー ム の一部を取 り 出 してパ ワ ー モ ニ タ機構で レ ー ザ出力を測定して上記第 2 のフ ァ プリ ぺ ロ 一エタ 口 ンを 制御し、 上記レ ーザ発振器の出力を安定化する過程を行 う レーザ波長の安定化方法。 (6)光共振器内に レーザ発振波長を選択するため の、 微 調用フ ア ブリ ペ ロ ーエタ 口 ン と粗調用フ ア ブリ ぺロ 一ェ タ ロ ンを有し、 波長が可変な レーザ発振器と 、 こ の レ ー ザ発振器から取 り 出された レ ーザ ビームの波長を モ ニ タ する波長モニ タ 機構と 、 上記波長モ ニ タ 機構からの信号 を も と に上記微調用 フ ア ブリ ペ ロ ーエタ ロ ンを制御する ため のサーボ機構と 、 上記レーザ ビー ム の出力を測定し て レーザ岀力の変化を解析するパ ワ ー モニ タ機構と 、 上 記パ ワ ー モニ タ機構から の信号を も と に上記の粗調用の フ ァ プ リ ぺ ロ 一エタ 口 ンを制御する ためのサーボ機構を 備えた こ と を特徴とする波長安定化レーザ装置。 (1)第 1 の フ ア ブ リ ペ ロ ーエタ ロ ン及び第 2 の フ ア ブリ ベロ 一エタ 口 ン を用いて発振波長が可変な レーザ発振器 力 > ら放射された レ ーザ ビームの一部を取 り 出して波長モ ニ タ機構で分光し、 発振波長を決定する過程、 上記発振 波長によ り 、 上記第 1 の フ ア ブ リ ペ ロ ーエ タ ロ ンを制御 して上記レーザ発振器の波長を安定化する過程、 上記レ —ザ ビー ム の一部を取 り 出 してパ ワ ー モ ニ タ機構で レ ー ザ出力を測定して上記第 2 の フ ァ プリ ペ ロ ーエタ 口 ンを 制御し 、 上記レーザ発振器の出力を 目標値に安定化する 過程か ら なる レーザ波長の安定化方法。 (2)第 1 の フ ア ブリ ペロ ーエタ ロ ン及び第 2 の フ ア ブ リ ペ ロ ーエタ 口 ン を用いて発振波長が可変な レ ーザ発振器 か ら放射された レーザ ビー ム の一部を取 り 出 して波長モ ニ タ機構で分光し、 発振波長を決定する過程、 上記発振 波長によ り 、 上記第 1 の フ ア ブリ ペ ロ ーエ タ ロ ンを制御 して上記レーザ発振器の波長を安定化する過程、 上記レ 一ザビー ム の出力パワ ーを検出 し、 目標パワ ー と の差を 求める過程、 レーザ発振してか ら所定の時間の無制御時 間を設けて上記第 2 の フ ァ プ リ ぺ ロ 一エタ 口 ンの制御を 行なわず、 上記無制御時間の経過後に上記 レ ーザビー ム の上記出力パ ヮ 一 と上記目標パ ヮ 一 と の差が レーザ出力 のバラ ツ キ許容値を越えた と き 、 上記出力パヮ と上記目 標パ ワ ー と の差が最少になる よ う に上記第 2 の フ ァ ブ リ ペ ロ ーエタ 口 ン を制御する過程カゝ ら なる レーザ波長の安 定化方法。 (1)第 1 の フ ァ プ リ ペ ロ ーユ タ 口 ン及び第 2 の フ ァ プ リ ぺ ロ 一エタ 口 ン を用いて発振波長が可変な レ ーザ発振器 力 ら放射された レーザ ビー ム の一部を取 り 出して波長モ ニタ機構で分光し、 発振波長を決定する過程、 上記発振 波長によ り 、 上記第 1 の フ ア ブリ ペ ロ ーエタ ロ ンを制御 して上記レーザ発振器の波長を安定化する過程、 レーザ 媒質に供給する印加電圧を測定して、 上記第 2 の フ ァ ブ リ ペ ロ ーエタ 口 ン を制御し、 上記レーザ発振器の出力を 安定化する過程とか ら なる レーザ波長の安定化方法。 (2)光共振器内に レーザ発振波長を選択する ため の、 微 調用 フ ア ブリ ペ ロ ーエ タ ロ ンと粗調用フ ア ブリ ペ ロ ーェ タ ロ ンを有し、 波長が可変な レ ー ザ発振器と 、 こ の レ ー i 発振器から取 り 出された レーザビー ム の波長をモ ニ タ する波長モ ニ タ機構と 、 上記波長モ ニ タ 機構か ら の信号 を も と に上記微調用 フ ア ブリ ペ ロ ーエタ ロ ンを制御する - た め の第 1 のサーボ機構と、 レーザ媒体に供給する印加 電圧を測定して、 印加電圧の変化を解析する制御機構と, こ の制御機構からの信号を も と に上記粗調用 フ ア ブリ ぺ 口 一エタ 口 ンを制御するための第 2 のサーボ機構を備え た こ と を特徴とする波長安定化レーザ装置。 (1)第 1 の フ ァ ブ リ ぺ ロ 一エタ 口 ン及び第 2 の フ ァ プリ ぺ ロ 一エタ ロ ンを用いて発振波長が可変な レーザ発振器 力 ら放射された レ ーザ ビー ムを波長モ ニ タ 機構でモ ニ タ して発振波長を決定する過程、 上記発振波長によ り 上記 第 1 の フ ァ プリ ペ ロ ーエタ 口 ン を制御して上記レーザ発 振器の波長を安定化する過程、 上記レーザビー ム を パ ヮ — モニ タ機構で レ ーザ出力を測定して、 レ ーザ出力が一 定と なる よ う に レ ーザ媒質に供給する 印加電圧を制御す る過程、 上記印加電圧を測定して上記第 2 の フ ァ プ リ ぺ 口 一エ タ ロ ンを制御する過程と を備えた レ ーザ波長の安 定化方法。 (2)第 1 の フ ア ブリ ペ ロ ーエ タ ロ ン及び第 2 の フ ア ブ リ ' ペ ロ ーエタ ロ ンを用いて発振波長が可変な レ ーザ発振器 か ら放射された レーザ ビー ムを波長モ ニ タ 機構でモ ニ タ して発振波長を決定する過程、 上記発振波長によ り 上記 第 1 の フ ァ プ リ ぺ 口 一エ タ 口 ン を制御して上記レ ー ザ発 振器の波長を安定化する過程、 上記レーザ発振器の レ ー ザ媒質への供給電圧を検出し、 目標印加電圧と の差電圧 を求める過程、 レ ーザ発振してか ら所定の時間の無制御 時間を設けて上記第 2 -の フ ア ブ リ ペ ロ ーエ タ ロ ンの制御 を行なわず、 上記制御時間の経過後に上記差電圧が印加 電圧のバラ ツキ許容値を越えた と き 、 上記差電圧が最少 になる よ う に上記第 2 の フ ア ブ リ ペ ロ ーエタ ロ ンを制御 する過程か ら なる レ ーザ波長の安定化方法。
(1)第 1 の フ ア ブ リ ペ ロ ーエタ ロ ン及び第 2 の フ ア ブリ ペ ロ ーエ タ 口 ン を用いて発振波長が可変な レ ーザ発振器 か ら放射された レ ーザ ビー ム の一部を取 り 出 して波長モ ニ タ機構で分光し、 発振波長を決定する過程、 上記発振 波長によ り 、 上記第 1 の フ ア ブリ ペ ロ ーエ タ ロ ンを制御 して上記レーザ発振器の波長を安定化する過程、 上記レ 一ザビーム の一部を取 り 出してパ ワ ー モ ニ タ機構で レ 一 ザ出力を測定して、 レーザ出力が一定になる よ う に レ ー ザ媒質に供給する 印加電圧の制御と上記第 2 の フ ァ プリ ペ ロ ーエタ 口 ンの制御を時分割で行う こ と によ り 上記レ 一ザ発振器の出力を安定化する過程と を備えたレーザ波 長の安定化方法。
(2)光共振器内にレーザ発振波長を選択するため の微調 用の第 1 の フ マ ブリ ーペロ ーエ タ 口 ン と粗調用の第 2 の フ ァ プリ 一ペ ロ ーエタ 口 ンを有する波長が可変なレーザ 発振器と 、 こ の レーザ発振器から取 り 出 されたレーザビ ー ム の波長を モ ニ タ す る波長モ ニ タ機構と 、 こ の波長モ ニ タ機構か ら の信号を も と に上記第 1 の フ ア ブリ 一ぺ ロ —エタ ロ ンを制御する第 1 のサーボ機構と 、 上記レーザ ビーム の出力 を モニ タ する パ ワ ーモ ニ タ 機構 と 、 こ のパ ヮ一モニ タ機構か ら の信号を も と に、 上記レーザ発振器 のレーザ媒質に供給する印加電圧の制御と上記第 2 の フ ア ブリ 一ペ ロ ーヱタ 口 ンの制御信号の出力 と を時分割で 行な う 時分割制御手段と、 この時分割制御手段から の制 御信号によ つ て上記第 2 の フ ァ プリ 一ペ ロ ーエタ 口 ンを 制御する第 2 のサーボ機構と を備えた波長安定化レーザ 装
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3935081A1 (de) * 1988-10-20 1990-04-26 Mitsubishi Electric Corp Lasergeraet und verfahren zur steuerung

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2028803A1 (en) * 1989-10-30 1991-05-01 Mitsugu Terada Laser device
US5243614A (en) * 1990-11-28 1993-09-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wavelength stabilizer for narrow bandwidth laser
US5390203A (en) * 1994-06-13 1995-02-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method and apparatus for locking laser wavelength to an atomic transition
JP3759640B2 (ja) * 1995-06-30 2006-03-29 日本原子力研究所 単一縦モード周波数可変レーザー発振器の発振周波数安定化装置及び方法と周波数掃引可能なレーザー発振装置及び方法
US5825792A (en) * 1996-07-11 1998-10-20 Northern Telecom Limited Wavelength monitoring and control assembly for WDM optical transmission systems
US6516010B1 (en) 1999-07-13 2003-02-04 Agere Systems, Inc. Method and apparatus for active numeric temperature compensation of an etalon in a wavelength stabilized laser
KR100334790B1 (ko) * 1999-09-13 2002-05-02 윤종용 레이저 다이오드를 위한 파장 안정화 장치
KR100337132B1 (ko) * 1999-10-15 2002-05-18 윤덕용 광 신호 대 잡음비를 측정하는 장치 및 방법
US6400737B1 (en) 1999-12-14 2002-06-04 Agere Systems Guardian Corp. Automatic closed-looped gain adjustment for a temperature tuned, wavelength stabilized laser source in a closed-loop feedback control system
CA2327715A1 (en) * 1999-12-16 2001-06-16 John William Stayt Jr. Method and apparatus for stabilizing laser wavelength
US7848660B1 (en) * 2001-06-20 2010-12-07 Cisco Technology, Inc. VSB transmitter using locked filter
US7058099B2 (en) * 2002-11-08 2006-06-06 Finisar Corporation Age compensation in optoelectronic modules with integrated temperature control
US20060176916A1 (en) * 2003-01-23 2006-08-10 Eckhard Zanger Laser resonator and frequency-converted laser
WO2016064983A1 (en) * 2014-10-22 2016-04-28 Massachusetts Institute Of Technology Systems and methods for laser frequency stabilization using an arbitrarily birefringent resonator
US9261794B1 (en) * 2014-12-09 2016-02-16 Cymer, Llc Compensation for a disturbance in an optical source
CN105470799A (zh) * 2015-12-30 2016-04-06 宁波中物激光与光电技术研究所 一种利用双f-p标准具调谐固体激光器输出波长的方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63160287A (ja) * 1986-12-23 1988-07-04 Nikon Corp フアブリペロ−エタロンを備えるエキシマレ−ザ−装置
WO1988007276A1 (en) * 1987-03-19 1988-09-22 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Device for controlling wavelength of laser beam
JPH0616479A (ja) * 1992-06-30 1994-01-25 Murata Mfg Co Ltd セラミック板分離装置
JP6237893B2 (ja) * 2013-06-07 2017-11-29 深▲せん▼市吉欣科技有限公司 電子タバコ

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3546622A (en) * 1965-10-29 1970-12-08 Lockheed Aircraft Corp Laser having controlled frequency translation
US3628173A (en) * 1969-04-28 1971-12-14 Bell Telephone Labor Inc Laser mode selection and stabilization apparatus employing a birefringement etalon
US3676799A (en) * 1970-12-28 1972-07-11 Bell Telephone Labor Inc Frequency stabilized laser
US3967211A (en) * 1974-01-17 1976-06-29 Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. Laser wavelength stabilization
US4150342A (en) * 1977-07-05 1979-04-17 Coherent, Inc. Method and apparatus for automatically reacquiring a predetermined output radiation frequency in a tunable laser system despite momentary perturbations of laser oscillation
JPS6016479A (ja) * 1983-07-08 1985-01-28 Mitsubishi Electric Corp 単一周波数発振レ−ザ装置
JPS6237893A (ja) * 1985-08-09 1987-02-18 タバイエスペツク株式会社 ヒ−タ
FR2598815B1 (fr) * 1986-05-14 1988-09-09 Electricite De France Dispositif pour le pilotage et le controle d'un laser continument accordable et spectralement fin, et application a un radar optique pour mesures meteorologiques.
WO1989003132A1 (en) * 1987-09-26 1989-04-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Laser device
KR910006307B1 (ko) * 1987-09-26 1991-08-19 미쓰비시덴기 가부시기가이샤 레이저 파장의 안정화 방법 및 파장 안정화 장치
GB2224389B (en) * 1988-10-20 1993-04-21 Mitsubishi Electric Corp Laser device with wavelength stabilization control and method of operating the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63160287A (ja) * 1986-12-23 1988-07-04 Nikon Corp フアブリペロ−エタロンを備えるエキシマレ−ザ−装置
WO1988007276A1 (en) * 1987-03-19 1988-09-22 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Device for controlling wavelength of laser beam
JPH0616479A (ja) * 1992-06-30 1994-01-25 Murata Mfg Co Ltd セラミック板分離装置
JP6237893B2 (ja) * 2013-06-07 2017-11-29 深▲せん▼市吉欣科技有限公司 電子タバコ

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP0341315A4 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3935081A1 (de) * 1988-10-20 1990-04-26 Mitsubishi Electric Corp Lasergeraet und verfahren zur steuerung

Also Published As

Publication number Publication date
EP0341315A4 (en) 1990-03-21
CA1313688C (en) 1993-02-16
EP0341315B1 (en) 1994-01-19
DE3887322D1 (de) 1994-03-03
KR890702304A (ko) 1989-12-23
US5107511A (en) 1992-04-21
EP0341315A1 (en) 1989-11-15
DE3887322T2 (de) 1994-05-05

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