JPH01184891A - レーザ波長の安定化方法 - Google Patents

レーザ波長の安定化方法

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JPH01184891A
JPH01184891A JP63006128A JP612888A JPH01184891A JP H01184891 A JPH01184891 A JP H01184891A JP 63006128 A JP63006128 A JP 63006128A JP 612888 A JP612888 A JP 612888A JP H01184891 A JPH01184891 A JP H01184891A
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laser
etalon
laser beam
output
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JP63006128A
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Inventor
Kenichi Yasuda
憲一 安田
Hiroyuki Mukumoto
椋本 裕之
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はレーザ波長の安定化方法に関するものである
〔従来の技術〕
第5図は例えば雑誌r CAN、J 、PHYS、VO
L63シ5s)214」に示された従来の狭帯域レーザ
を示す構成図である。
図においてζ(1)はレーザ媒質、(2)は全反射鏡、
(3)は部分反射鏡、(4)は粗調エタロン、(5)は
微調工タロン、(6)はレーザビームである。
次に動作について説明する。第5図において、通常、レ
ーザ媒質(1)は全反射鏡(2)と部分反射鏡(3)か
らなる光共振器に囲まれ光はこの光共振器を何度も往復
する間に増幅され、レーザビーム(6)として取り出さ
れる。ところで、レーザ発振器のうちのいくつかのもの
、たとえばエキシマレーザや半導体レーザ、色素レーザ
や一部の固体レーザは発振波長幅が広く、光共振器内に
分光素子を挿入することにより発振波長幅を狭くできる
。たとえば、この例のように複数個のファブリペローエ
タロン(以下エタロンと略す)を用いれば限りなく単色
光に近いレーザビームを得ることもできる。
ここでは、特に粗調用エタロン(4)と微調用エタロン
(5)の2枚のエタロンを光共振器内に挿入した場合に
ついて述べる。第6図はレーザの発振幅が狭くなる原理
を示した図で、(a)は粗調用エタロンの分光特性を示
す。この分光特性のそれぞれの山のピークの位置λml
は(υ式 %式% であられせる波長となる。ここで、nはエタロンを構成
する2枚の鏡面の間にある物質の屈折率、dは鏡面の間
の距離、θ1は光がエタロンに入射するときの角夏、m
は整数である。いくつかめるピークはmの違いに対応し
ている。この式から明らかなように、nやdやθを変え
ることにより山のピーク波長を自由に変えることができ
る。一方、ピークとピークの間の距離は自由スペクトル
領域(以下FSRと略す)と呼ばれ、(2)式で示され
る。また、それぞれのピークの半値幅△λ1は(3)式 で示される。ここでテはフィネスと呼び、エタロンの性
能により決まるものである。
一方、第6図(C)はレーザ媒質のゲインの分光特性を
示したものである。光共振器中に分光素子が存在しなけ
れば、このゲインが存在する範囲で光は増幅されレーザ
ビームとなる。その際、粗調用エタロンのピークの位置
λm1をゲインが存在する範囲のどこかの波長λ0に等
しくなるよう、しかも、ゲインが存在する波長内にλm
1以外の他のピークがこないようdl等を決定すれば、
粗調エタロンの存在によりλ。のところだけロスが少な
い状態が実現し、その波長附近でのみ光は増幅され発振
する。
ところで、ピークが1つだけになるようにするとFSR
lの最低値は決まり、また、フイネスブはエタロンの性
能により決まり、せいぜい20程度であるから、粗調用
エタロン1枚のみで狭くできる波長幅には限度がある。
そこで、もう1枚微調用のエタロン(5)を用いること
になる。その分光特性は例えば、第6図(b)のように
すればよい。その際ピーク波長λm2をλ0に等しくし
、FSR2はFSR,2Δλ1となるようにすればよい
さらに狭くしたい時には、また−枚エタロンを用いれば
よい。
このようにして、もともと第6図(c)のような分光特
性であったレーザビームは2枚のエタロンを用いること
により、第6図(d)に示すようにそれぞれのエタロン
のピークが重なるλ0を中心とした狭い範囲でのみ発振
することになる。実際には、発振中にエタロンを何度も
通るから、レーザビームの線幅は2枚のエタロンにより
決まる波長幅のi〜±となる。
さて、以上のようにして、レーザビームの波長幅を狭く
することができるのであるが、雑誌にも記されているよ
うに短期間の安定性については光共振器を改良したり入
射角θを小さくすることにより改善さねるが、長期的に
は熱的な問題、特にレーザビームがエタロンを透過する
時の発熱による波長シフトが大きな問題である。この問
題を第7図を用いて説明する。
第7図(a)は粗調用エタロンの分光特性を拡大したも
のであり、実線で描いであるのは発振直後の分光特性で
ある。ところで、発振後、レーザビームによる発熱が生
じエタロンが変形する。この変形はエタロンの特性を劣
化させる程ではないが、エタロンのギャップ長を変え、
その結果波長をシフトさせる。そのシフト量とエタロン
の変形によるdの変化との間には(4)式の関係がある
λm Δλ謡□Δd         ・・・(4)ここで、
波長シフトの方向はエタロンの構造等により決まり、特
定のエタロンを用いればレーザビームにより発熱によっ
て、一方向にシフトする。
その時のシフトの様子を第7図(a)の点線で示す。
一方、微調用エタロンもまた同様な波長シフトが生じて
いる。その様子は第7図(fi)のようになる。
微調エタロンの波長シフト量はエタロン間隔d2が粗調
エタロンのd2より大きい分だけ小さくなる。
さて、その際の問題は2枚のエタロンの分光特性のピー
ク波長λm1とλm2がずれることである。
その時、両者を重ねた時の光透過量はλm1−λm2の
場合にくらべて減少する。その際のレーザ発振の様子を
第7図(c)に示す。長時間発振後、レーザ出力は^。
からλm2に波長シフトするとともに出力が減少する。
またシフト量が大きい時は微調エタロンの他のモードの
発振も起こりうる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の狭帯域レーザ装置は以上のように構成されており
、エタロンの熱的な問題による波長シフトを補正する手
段を持たないばかりではなく、2枚のエタロンを用いた
時の出力減少を止める手段をも持たないため、熱的な変
形が小さい低出力レーザにしか適用できないという問題
があった。
この発明は上記のような問題点を解消するtこめになさ
れたもので、狭帯域化した際の波長の安定化が可能であ
るとともに出力の長時間安定化を可能にしたものである
この発明に係るレーザ波長の安定化方法は、2枚のエタ
ロンにより波長選択されたレーザビームの一部を分光し
、分光されたレーザビームの解析結果をもとに一枚のエ
タロンを制御することによって、レーザビームの波長を
安定化させるとともに、レーザビームの一部よりレーザ
出力の変化を測定し、上記出力変化を解析してもう一枚
のエタロンを制御することによって、レーザ出力が長時
間安定化した狭帯域レーザ装置を得ることを目的とする
〔課題を解決するための手段〕
また、本発明の別の発明に係る波長安定化レーザ装置は
、微調用エタロンと粗調用エタロンの2枚のエタロンを
備えることにより波長を選択するとともに、このレーザ
発振器から取り出されたレーザビームの一部を波長モニ
タ機構に導いて、発振波長を測定し、上記測定波長によ
り微調用エタロンを駆動し、波長を変化させるサーボ機
構を備えたこと。
さらに、波長モニタ機構とは別にレーザ出力の変化を測
定するためのパワーメータと、出力変化を記録する部分
からなるパワーモニタ機構を備え、上記パワーモニタ機
構からの信号をもとに粗調エタロンを制御するサーボ機
構を備えたものである。
〔作用〕
本発明におけるレーザ波長の安定化方法及び波長安定化
レーザは波長のズレを測定して任意の波長に固定できる
とともに、波長がずれた際に生ずる出力減少を抑えるこ
とができる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図について説明する。
第1図及び第2図において、(1)〜(6)は従来例と
同様のものである。(7)は波長モニタ機構、(8)は
制御機構、(9)はパワーモニタ機構、CIG gnは
エタロンを制御するためのサーボ機構、口はインテグレ
ータ、口はファブリペローエタロン、α4は結像レンズ
、明はファブリペローエタロンロにより生じた干渉縞を
観測するための撮像素子であり、例えば−次元のイメー
ジセンサである。(4)は干渉縞を解析するための画像
処理部である。
次に動作について説明する。従来例と同様に2枚のエタ
ロン(41(5)を光共振器内に挿入することにより発
振波長幅が狭く、かつゲインが存在する範囲の任意の波
長人。のレーザビーム(6)を得ることができる。しか
し、それだけではすでに述べたように波長も出力も不安
定であるから、以下に述べるようなエタロンの制御機構
が必要となる。
まず、微調用エタロンの制御機構から説明する。
第2図において、レーザビーム(6)の一部を波長モニ
タ機構(7)に導く。波長モニタ機構(7)は例えば雑
誌[IEEE Journal Quantum El
ectronics QE−14(’78 J17 J
にあるようにエタロンを用いたり、プリズム、グレーテ
ィングフィゾーの干渉計等を用いて分光する機能を持て
ばよいが、本実施例では第2図に示したようにエタロン
と撮像素子を用いた場合について説明する。
波長モニタ機構(7)はレーザビームを弱めたり、拡散
させたりす゛るインチグレータロとエタロン酸とレンズ
口とからなっている。インチグレータロにより生じた発
散成分のうち特定の入射角度θを持つ成分のみがエタロ
ンを透過し結像レンズα4にいたる。レンズの焦点距離
をfとすね、ば、θの成分を持つ光は焦点位置において
レンズの軸よりfθ離ねたところに集まり、円形の干渉
縞を形成する。そこで、撮像素子(至)により光の集ま
る位置を観測すればθがもとまり、先に示したエタロン
の透過波長の式よりλが計算できるというわけである。
ところで、撮像素子上の光の強度分布は第3図のように
なっている。縦軸は出力、横軸は干渉縞の中心からの距
[Xを示す。冬山はエタロンの次数mの違いに対応して
いる。そして、冬山の間隔は自由スペクトル領域と呼ば
れ、この範囲で波長を一意的に決めることができる。し
かも自由スペクトル領域はEPの設計により決めること
ができるので波長シフトが予想される値よりも広めに設
計しておく。
また、冬山はレーザビームの波長分布に対応した光強度
分布を持つからこれを処理して、θを出すために画像処
理部Q6が必要となる。さらにここでは現在の波長人を
計算し、サーボ機構αOを通じて発振器の波長の調整を
行なう。
第4図囚は、本発明の一実施例によるレーザ波長の安定
化方法の概略を示すフロチャート図であり、レーザビー
ムの空間的な光強度分布が最大になる位置を求めて、発
振波長の制御を行なう例を示す。
ステップαηでエタロン口によりレーザビームを分光し
、ステップ(至)で撮像素子αeにより一次元の光強度
分布を測定する。ステップαlではこの測定データを平
滑化し、ノイズをとる等の画像処理をし、ステップ翰で
最大強度を示す位texを求め、次にステップゆで得ら
れる値X。(指定波長に対応する指定された位置座!!
3)と比較し、異なる時はx > XQかX<X、によ
りサーボ機構αOを通じて微調エタロン(5)を制御し
てエタロンの透過域の中心波長λm2を変化させ(ステ
ップ(財)〕、再びステップ時にもどりX ” x(、
となるまでこの動作をくり返す。
以上のようにして微調用エタロンを調整することにより
レーザの発振波長は一定に保たれる。
次に、粗調用エタロン(旬の制御機構について説明する
。第1図において、レーザビーム(6)の一部はパワー
モニタ機m(9)に導かれている。パワーモニタ機構(
9)はレーザ出力を測定する部分と得られたレーザ出力
を記録する部分からできており、粗調用エタロン(4)
をどちらかの方向に制御した時、レーザ出力が増加する
か減少するかを判定し、次に粗調エタロン(4)をいか
に調整するかを決定する。
この決定に従って、サーボ機構部により粗調エタロン(
4]の中心波長λm2を調整する。この調整のフローチ
ャートを第4図(6)に示す。レーザ発振が始まると第
7図で示したことが生じ、レーザ出力が変化する。そこ
で、ステップ■で出力pを測定し、その結果を記憶して
おき、ステップ(至)において前回の測定結果poと比
較する。出力が異なる時はp > poかp < po
によりサーボ機構部を用いて粗調用エタロン(4)をレ
ーザ出力が最大になるように調整する。この制御はレー
ザ発振期間中継続する。
次に、レーザ出力に目標値(目標値くレーザ最大出力で
ある。]を設定し、この目標値にレーザ出力を安定化す
るとともに発振開始直後に無制御時間を設けた場合の粗
鯛エタロン(4)の制御について、フローチャート第4
図(Oで説明する。まずステップ(至)でレーザ出力の
測定を行ない、ステップ勿で8回の測定データの平均値
処理により現在のレーザ出力PNを求め、ステップ(至
)で現在のレーザ出力PNとレーザ出力の目標値(外部
より設定可能な値)Poとの差の絶対値1Pxlを求め
る。次に発振開始からの時間が無制御陵内以内かどうか
の判断を行ない、無制御時間以内であれば粗調エタロン
(4)の制御は行なわず、レーザ発振中であることを確
認してステップ(至)にもどる。発振開始からの時間が
無制御時間をこえると、上記IPxlと指定されたレー
ザ出力のバラツキ許容値(外部より設定可能な値)PA
との比較を行ない1PxlsPAの場合は粗調エタロン
(4)の制御は行なわずステップ(至)にもどり、IP
XI>PAの場合は、ステップ四で1Pxlにより制御
量を計算し、ステップ(7)でPx■PN−p、の極性
から制御方向を決め、ステップc3pでサーボ機構回を
駆動し粗調エタロン(4)をレーザ出力が設定された目
標値と一致するように調整する。
この制御レーザ発振期間中継続して行うことにより、長
時間のレーザ出力の安定化を行う。
なお、上記実施例では波長モニタ機構(7)とパワーモ
ニタ機構(9)を別に設けたが、そもそも波長モニタ機
構の画像処理部では第3図のような光強度分布が得られ
ており、制御をかけずに長時間動作させると破線で示し
たように、波長シフトと出力変化が生じる。そこで、画
像処理部にあられれたピークの強度変化を測定すれば、
パワーモニタ機構を設けたのと同等の効果がある。
また、上記実施例では波長モニタ機構としてエタロンを
用いたが、フィゾーの干渉計や、グレーティングやプリ
ズム等の分光素子であればよく、分光された光強度分布
を測定することにより、上記実施例と同様の効果を奏す
る。
また、上記実施例では波長モニタ機構として分光された
レーザ光の光強度分布を画像処理して波長ズレを求め微
調用エタロンを駆動する方法を示したが、光強度分布を
画像処理しなくとも波長モニタできる方法であれば同様
の効果を奏することは言うまでもない。光強度分布を画
像処理しない方法として、例えば第3図のX ” x(
1に光センサーを配置して波長モニタ機構とし、gIt
調用エタロンを最適状態から前後に変化させて、その時
のX=xgにおける光強度の変化具合から微調用エタロ
ンの最適状態の方向を予測して微調用エタロンの制御を
かけるという方法もめる。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明によれば、2枚のエタロンを用い
たレーザ発振器において、一方はレーザビームの分光結
果をもとに制御し、他方はレーザパワーによって制御す
るようにしたので、波長を安定化できるとともにレーザ
出力の変動も小さくできるという効果がある。
また、本発明の別の発明によれば、光共振器内に粗調用
と微調用の2枚のエタロンを配してレーザ発振波長を選
択できるレーザ発振器、このレーザ発振器から取り出さ
れたレーザビームの一部を分光し、発振波長を決め、上
記の結果により微調用エタロンを制御するサーボ機構と
、レーザビームの出力を測定し、出力変化の方向により
粗調用エタロンを制御するサーボ機構とを設けたので、
レーザの発振波長が安定に保たれるばかりではなく、出
力も安定になるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による波長安定化レーザを示
す構成図、第2図は本発明における波長モニタ機構を示
す構成図、第3図は波長モニタ部の撮像素子上での干渉
縞の強度分布を示す分布図、第4図は本発明の一実施例
によるレーザ波長の安定化方法の概略を示すフローチャ
ート図、第5図は従来の狭帯域化レーザを示す構成図、
第6図は2枚のエタロンによる波長の決定方性を説明す
るための説明図、@7図は2枚のエタロンの波長シフト
の違いにより出力変化が生ずることを説明した説明図で
ある。 図において、(1]はレーザ媒質、(4)は粗調エタロ
ン、(5)は微調エタロン、(7)は波長モニタ機構、
(8)は制御機構、(9)はパワーモニタ機構、αO1
αυハサーボ機構である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1.  (1)第1のフアブリペローエタロン及び第2のフア
    ブリペローエタロンを用いて発振波長が可変なレーザ発
    振器から放射されたレーザビームの一部を取り出して波
    長モニタ機構で分光し、発振波長を決定する過程、上記
    発振波長により、上記第1のフアブリペローエタロンを
    制御して上記レーザ発振器の波長を安定化する過程、上
    記レーザビームの一部を取り出してパワーモニタ機構で
    レーザ出力を測定して上記第2のフアブリペローエタロ
    ンを制御し、上記レーザ発振器の出力を目標値に安定化
    する過程からなるレーザ波長の安定化方法。
  2.  (2)第1のフアブリペローエタロン及び第2のフア
    ブリペローエタロンを用いて発振波長が可変なレーザ発
    振器から放射されたレーザビームの一部を取り出して波
    長モニタ機構で分光し、発振波長を決定する過程、上記
    発振波長により、上記第1のフアブリペローエタロンを
    制御して上記レーザ発振器の波長を安定化する過程、上
    記レーザビームの出力を検出し、目標電力との差電力を
    求める過程、レーザ発振してから所定の時間の無制御時
    間を設けて上記第2のフアブリペローエタロンの制御を
    行なわず、上記無制御時間の経過後に上記差電力がレー
    ザ出力のバラツキ許容値を越えたとき、上記差電力が最
    少になるように上記第2のフアブリペローエタロンを制
    御ずる過程からなるレーザ波長の安定化方法。
JP63006128A 1987-10-28 1988-01-13 レーザ波長の安定化方法 Pending JPH01184891A (ja)

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CA000581509A CA1313688C (en) 1987-10-28 1988-10-27 Method of stabilizing a wavelength of a laser beam and wavelength stabilizing laser device
US07/381,723 US5107511A (en) 1987-10-28 1988-10-28 Method of stabilizing laser wavelength and laser device with stabilized wavelength
EP88909365A EP0341315B1 (en) 1987-10-28 1988-10-28 Method of stabilizing laser wavelength and laser device with stabilized wavelength
PCT/JP1988/001102 WO1989004075A1 (en) 1987-10-28 1988-10-28 Method of stabilizing laser wavelength and laser device with stabilized wavelength
DE88909365T DE3887322T2 (de) 1987-10-28 1988-10-28 Verfahren zur stabilisierung der laserwellenlänge und so stabilisierte laseranordnung.
KR1019890701213A KR890702304A (ko) 1987-10-28 1989-06-29 레이저파장의 안정화 방법 및 파장 안정화 레이저 장치

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01251769A (ja) * 1988-03-31 1989-10-06 Komatsu Ltd エキシマレーザの制御方法

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JPH01251769A (ja) * 1988-03-31 1989-10-06 Komatsu Ltd エキシマレーザの制御方法

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