WO1988000108A1 - Laser beam forming apparatus - Google Patents

Laser beam forming apparatus Download PDF

Info

Publication number
WO1988000108A1
WO1988000108A1 PCT/JP1987/000420 JP8700420W WO8800108A1 WO 1988000108 A1 WO1988000108 A1 WO 1988000108A1 JP 8700420 W JP8700420 W JP 8700420W WO 8800108 A1 WO8800108 A1 WO 8800108A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
laser beam
beam forming
forming apparatus
cylinder
mirror
Prior art date
Application number
PCT/JP1987/000420
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Kazuo Okamura
Hideo Hisada
Hiroshi Maruo
Isamu Miyamoto
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP61158844A external-priority patent/JPS6316893A/ja
Priority claimed from JP61177666A external-priority patent/JPS6336991A/ja
Application filed by Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho filed Critical Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho
Priority to DE87904116T priority Critical patent/DE3787463T2/de
Publication of WO1988000108A1 publication Critical patent/WO1988000108A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073Shaping the laser spot
    • B23K26/0732Shaping the laser spot into a rectangular shape
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0994Fibers, light pipes

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus for forming a laser beam used for laser processing such as laser cutting, laser welding, and laser quenching, and in particular, to a stable apparatus.
  • the present invention relates to an apparatus for forming a laser beam having a uniform energy distribution.
  • a light beam for example, a laser beam optical system
  • an internal reflecting mirror with a mirror-finished surface is provided on the cylindrical circumference, and the laser beam is uniformly distributed through this.
  • a laser beam forming device capable of condensing light at a density (energy distribution) is disclosed in Japanese Patent Publication No. 472,491, 1982.
  • in order to form the internal mirror having a mirror-finished inner peripheral surface it is necessary to use a laser beam fist motive and an internal mirror. High-precision machining and assembling such that the mirror axis must exactly match the mirror axis are required. The high-precision machining and assembly required in practice is almost impossible, so that it is easy to obtain a laser beam with a uniform energy distribution. Was difficult.
  • the energy distribution of the laser beam irradiated on the irradiation object and the energy distribution of the laser beam before condensing incident on the converging lens are shown. Due to the similarity, if the energy distribution of the laser beam before focusing is not uniform, the irradiation of the target The laser beam also becomes uneven. For example, in the case of laser quenching, irradiation of a laser beam with a non-uniform energy distribution may result in non-uniform hardening patterns or partial surface melting. There is an inconvenience.
  • the laser beam is reflected through a plurality of mirrors divided in a grid pattern, and each reflected laser beam is condensed at the same location.
  • segment mirror system which attempts to equalize the energy distribution of an irradiated laser beam, is already well known. This has the following disadvantages. In other words, high precision is required for the processing and installation of the mirror, which increases the cost of producing the mirror and, because the laser beam shape remains constant, Mirrors must be replaced for each object to be irradiated.
  • a laser using a plurality of reflectors interposed with the above-mentioned segment mirror is used.
  • a laser beam forming device is known, but as the number of reflectors increases, the output of the laser beam will decrease and the size of the entire device will increase. Above, the energy distribution outside of the illuminated laser beam will be wide.
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks and problems of the conventional apparatus, and its purpose is to form a highly reflective mirror surface. Creates a laser beam with a macroscopically uniform energy distribution that does not require accuracy and even if the focused incident beam is non-uniform Provide a laser beam forming device that can be worn ⁇
  • Another object of the present invention is to apply a laser beam to one end of a cylindrical body having an inner surface mirror-finished so that the reflectance is extremely high.
  • Another purpose of the invention is to provide a cone-shaped mirror with a mirror-finished inner surface in a cylindrical body with a mirror-finished inner surface.
  • a condensed laser beam is incident from one side of the scope in which the concentric rays are arranged, and a ring-mode laser beam is incident on the other side of the scope. It is an object of the present invention to provide a laser beam forming apparatus adapted to obtain the same.
  • a laser including at least one focusing lens and one imaging lens in order to achieve the above-mentioned enormous features.
  • the laser beam passing through this optical system is changed into a predetermined beam shape having a macroscopically uniform energy distribution by multiple reflection in the beam optical system.
  • a laser beam forming apparatus characterized by interposing an internal reflecting cylindrical body to be interposed between the converging lens and the imaging lens.
  • the inner reflecting cylinder has a cross-sectional area of an entrance of the laser beam.
  • a laser beam forming apparatus characterized in that the laser beam forming apparatus has an inner surface which is inclined so as to form an exit having a different cross-sectional area with respect to the laser beam.
  • the laser beam reflecting pipe has an inner reflecting cylinder bent.
  • the inner reflecting cylinder is a cylinder, and the outer surface is formed therein.
  • Mirror-finished There is provided a laser beam forming apparatus characterized in that ring mirrors are concentrically arranged to obtain a laser beam in a ring mode. .
  • FIG. 1 is a schematic side view showing a main part of an optical system of a first example of a laser beam forming apparatus according to the present invention.
  • FIGS. 2 and 3 are side views along the ⁇ - ⁇ line and the in-m line, respectively, in FIG. 1;
  • FIG. 4 is a schematic side view showing a main part of an optical system of a second example of the laser beam forming apparatus according to the present invention.
  • FIGS. 5 and 6 are views from the side along the lines V—V and VI—VI in FIG. 4, respectively.
  • FIG. 7 is a schematic side view showing a main part of an optical system of a third example of the laser beam forming apparatus according to the present invention.
  • FIGS. 8 and 9 are schematic side views respectively showing the main parts of the optical system of the fourth and fifth specific examples of the laser beam forming apparatus of the present invention.
  • FIG. 1 ⁇ is a schematic side view showing a main part of an optical system according to a sixth embodiment of the laser beam forming apparatus of the present invention.
  • FIG. 11 is an explanatory view of a ring-mode laser beam formed by the laser beam forming apparatus shown in FIG. 1 and FIG. do it
  • Fig. 12 is an illustration of laser hardening using a laser beam in a Linda mode.
  • Fig. 1 shows the first embodiment.
  • the optical beam shown in the figure for example, a laser beam optical system, converts a given non-uniform distribution beam D of an arbitrary shape into a uniform distribution beam D 2 covering a single region or a plurality of regions.
  • 1 is the focusing lens
  • 2 is the imaging lens
  • 3 is the internal reflection interposed between the lenses 1 and 2 in the figure. It is a cylinder.
  • the inner reflective cylinder 3 is water-cooled.o
  • the laser beam is introduced at the entrance of the inner reflective cylinder 3 for lens 3
  • the imaging lens 2 expands the laser beam emitted from the inner reflecting cylinder 3 to the predetermined size by expanding the exit force of the inner reflecting cylinder 3 and the laser beam emitted from the inner reflecting cylinder 3. It works to shrink. Therefore, even if these lenses 1 and 2 are replaced by mirrors (R mirrors), the optical system can be established, and the entrance of the inner reflecting cylinder 3 can be achieved. If the dimensional force of the laser beam is larger than the laser beam, the focusing lens 1 may be omitted.
  • W is a work to be irradiated with a predetermined uniform distribution beam D 2. As shown in FIGS.
  • a beam region having a rectangular cross section is used.
  • a pair of left and right side plates 4 and 5 and a pair of side plates 4 and 5 are used.
  • Position change It is composed of the upper plate 6 and the lower plate 7 which are arranged at their own place.
  • the inner surface of each plate 4, 5, 6, 7 is mirror-finished to allow multiple reflections of the introduced laser beam.
  • An angle (0) is attached to the plate 7, and the size of the exit (cross-sectional area d'1 Xd'2) is smaller than the size of the entrance (cross-sectional area Xd2). It is set to be the same, or vice versa.
  • both side plates 4 and 5 are parallel to each other, and the upper and lower plates 6 and 7 force the laser beam at the entrance, the head at the exit and the force at the exit. They are each inclined at an angle of 0 so that they approach each other.
  • a wedge-shaped inner reflective cylindrical body 3 is shown.
  • a square cross section with an entrance force ⁇ di X d 2 (d ⁇ d 2) and an exit with a predetermined size (d ' It has a rectangular cross section of 1 d '2).
  • the beam is irradiated by the beam of the internal reflecting cylinder 3.
  • Multiple reflections occur in the beam area, and the light beam is macroscopically changed to a predetermined beam shape having a uniform intensity distribution and exits from the exit. Then, a uniform rectangular beam image is drawn on the sample surface via the imaging lens 2.
  • the laser beam obtained by this type of optical system is locally uniform because it contains interference fringes. It is not a distribution.
  • the shape of the laser beam can be changed continuously, and the internal reflection can be achieved.
  • the size of the laser beam is changed. Can be changed continuously.
  • the upper surface 6 and the lower surface 7 of the inner reflecting cylinder 3 are arranged parallel to each other, and the introduced laser beam is changed to a beam having a square cross section.
  • the macroscopic distribution at the exit of the internal reflection cylindrical body 3 becomes more uniform as the number of laser beam reflections in the internal reflection cylindrical body 3 increases.
  • the cylinder length L is set within the range of the following equation, so that the inner plate is macroscopic due to internal reflection. Distribution can be made uniform 0
  • the number N of main interference fringes contributing to the formation of the laser beam at that time is given by the following equation. .
  • N d 2 / ⁇ ⁇ L (2)
  • is the wavelength of the incident laser beam. Therefore, when trying to form a square illuminated laser beam, Next formula
  • N d * DZ (3 to 5) *; i * f (3) gives a predetermined number of interference fringes, and a square having macroscopically uniform intensity (energy distribution)
  • the number N of interference fringes is inversely proportional to the length L of the tube.
  • the length L of the cylindrical body is determined by the long side and is given by the following equation.
  • N! d 1, D / (3 to 5) ⁇ ⁇ ⁇ f (5)
  • d 2 is the short side length, scan the wavelength of the incident bi chromatography beam, f is the focal path away condensing les emission's, D is the incident beam diameter, N i is the stripe number in the case of Tsu measured in Tsu it to the long side, N 2 is Ru Oh in the stripe number in the case of Tsu measured in Tsu it to the short side. Therefore, in the case of a rectangular beam with a large aspect ratio (di / d2) In this case, the number N 2 of interference fringes on the short side is reduced in inverse proportion to the square of the aspect ratio, even though the number N of the long sides is appropriate.
  • the upper and lower ⁇ 6, 7 of the inner reflecting cylinder 3 are angled at 0, and the exit cross section is the desired size (d '! X). d' 2 ), and the entrance cross section is large enough to secure the number of interference fringes (dXd2), thereby greatly increasing the number of beam reflections. Can be done. Therefore, the beam shape (aspect ratio) having a macroscopically uniform intensity distribution can be arbitrarily changed, and the number of interference pins can be changed independently. It will be. In other words, even when the aspect ratio of the beam on the sample surface is large, the number of reflections on the sides 4 and 5 and the upper and lower plates 6 and 7 can be the same. This will be. Also, by using the inner reflecting cylinder 3 having an angle, the number of reflections can be increased more than the above equation (1) with a limited cylinder length L even in a square beam. It becomes possible.
  • the number of reflections increases when the upper plate 6 and the lower plate 7 are parallel to each other, but the beam absorption loss at the mirror surface is increased. May be large Therefore, in such a case, a cylindrical lens (or a cylindrical mirror) and a convex lens may be used in place of the condenser lens 1 described above. Alternatively, the astigmatism of a spherical mirror may be used. This makes it possible to increase or decrease the number of reflections.
  • FIG. 1 shows the inner reflecting cylinder 3 having a smaller exit than the entrance, but conversely, the upper plate 6 and the lower plate 7 have a divergent force. By providing an angle to the angle, the number of reflections and the number of interference fringes along one side can be reduced as necessary.
  • Fig. 4 shows the second embodiment.
  • the inner reflecting cylinder 3 ⁇ in this embodiment has four upper and lower plates 6, 7, 7 between the pair of left and right side plates 4, 5. 8 and 9 are arranged at the position change itself. That is, in the above-described embodiment, a single beam area is provided, but this is configured in a plurality.
  • the middle plates 8 and 9 are mirror-finished on both the upper and lower surfaces.
  • FIG. 7 shows a third embodiment.
  • the shape may be changed.
  • the ratio of the area occupied by the beam at the entrance of the inner reflecting tube 31 (the ratio of the dome power allocated to each beam area) is adjusted.
  • the third embodiment is suitable for a case where a plurality of reflecting mirrors 12 are used.
  • the case where each of the bodies 6 to 9 ′ of the inner reflecting cylinder 31 is moved only in the vertical direction (one-dimensional direction) is described as an example. It is clear that it is acceptable to move in the direction.
  • the cross-section of the internal reflection tube 3 is not limited to a rectangular cross-section of the beam region, and may be, for example, a round-shaped cross-section. If neglected, polygons, ellipses, and composites of these can be used.
  • an inlet side focusing lens 1 for focusing a laser beam 11 is provided in a cylindrical main body 13, and an outlet side thereof is provided with an inner reflecting cylindrical body. Facing the exit-side imaging lens 2 via the laser reflection pipe 32, the laser reflection pipe 32 has a mirror-finished inner surface and extremely high reflectance. In addition to being bent at a right angle in a substantially L-shape, the exit-side imaging lens 2 faces the side surface S of the work W.
  • the incident laser beam 1 1 having a non-uniform distribution D ⁇ is radiated into the laser reflection pipe 3 2 after being focused at the entrance focusing lens 1.
  • the inner surface of the laser reflection pipe 32 The laser beam is combined at the exit of the laser reflection pipe 32 to form a uniform and complete rectangular energy distribution.
  • the energy distribution of the laser beam illuminated on the side S of the work W from the lens 2 is uniform and completely rectangular as shown in Fig. 8 D2. .
  • Le omit cylindrical word over click W 2 of the inner surface S the record over THE if you irradiated and bicycloalkenyl over beam exit side ⁇ Les emission's Remind as in FIG. 9 over the the reflection path b-flop 3 2 of exit on the inner surface S i of the word over click W 2 may be directly opposite.
  • the distance £ between the exit of the laser reflection pipe 32 and the inner surface S of the peak W 2 becomes shorter and shorter, and at the same time, the laser beam energy-saving distribution equalizing Remind as in Figure 2 D 2 - ing a rectangular with.
  • Each condenser lens and the laser reflection pipe 32 may be cooled if necessary, such as by water cooling.
  • the features of the fourth and fifth specific examples are that the same compact and inexpensive equipment as those of the first to third examples has a uniform energy distribution. In addition to being able to irradiate the laser beam, it is possible to change the direction to a desired place and irradiate the laser beam.
  • reference numeral 33a is a cylindrical inner reflecting tube, the inner surface of which is mirror-finished. Inside, a cone-shaped mirror 33b whose outer peripheral surface is mirror-finished is concentrically arranged. A scope 33 is formed from the inner reflecting cylinder 33a, the mirror 33b, and the force. Further, reference numeral 1 denotes a focusing lens provided on the entrance side of the scope 33, and reference numeral 2 denotes an image lens provided on the exit side. These focusing and imaging lenses 1 and 2 are respectively arranged on the cylindrical center axis of the scope 33 so that the centers of their respective optical axes coincide with each other. .
  • FIG. 11 is an incident laser beam having a non-uniform energy distribution D ⁇ , which is the optical system of the sixth example including a scope 33 that causes multiple reflections.
  • D ⁇ the optical system of the sixth example including a scope 33 that causes multiple reflections.
  • a ring-shaped laser beam having a uniform energy distribution D 2 as shown in Fig. 11 is irradiated on the work W. Can be.
  • the feature of this sixth embodiment is that a cone-shaped mirror 33 is provided inside the inner reflecting cylinder 33 a as described above in order to obtain a ring-mode laser beam. Since b is simply arranged concentrically and has no driving part, the stability of the formed laser beam having a uniform energy distribution is improved. In addition, it has the advantage that the size of the laser beam can be set arbitrarily.
  • Fig. 12 shows the use of this device for laser quenching of the sheet surface in ring mode.
  • quenching is performed.
  • a softened layer is formed at the end point of the filling.
  • the irradiation heating is performed in the ring-shaped mode as in the present invention, a sound hardened layer without a softened layer is obtained. Is possible.

Description

明 細 書
レ ー ザ ビ ー ム 形成装置
発明 の技術分野
こ の発明 は レ ー ザ切断、 レ ー ザ溶接、 レ ー ザ焼入れ等 の レ ー ザ加工 に用 い ら れ る レ ー ザ ビ ー ム を形成す る 装置 に関 し 、 特に、 安定 し た かつ均一な エネ ルギ分布を有す る レ ー ザ ビ ー ム の形成装置 に関す る 。
発明の背景技術
光 ビー ム 、 例え ば レ ー ザ ビー ム光学系中 に 、 円筒状円 周面に鏡面仕上 げ し た 内部反射鏡を設け、 こ れを介 し て レ ー ザ ビー ム を均等な エ ネ ルギ密度 (エ ネ ルギ分布) で 集光せ し め る よ う に し た レ ー ザ ビー ム形成装置力く 日 本特 許公告昭和 5 7 年第 4 7 2 4 9 号公報に 開示 さ れて い る こ の よ う な 従来の装置 に お い て は、 内周面に鏡面仕上げ し た前記内部反射鏡を形成す る に は、 レ ー ザ ビ ー ム の 拳由 心 と 内部反射鏡の鏡面軸心 と を正確に一致 さ せな ければ な ら な い と 云 う 高精度な加工 と 組立て と が要求 さ れ る 。 し 力、 し 、 実際に は要求 さ れ る 高精度な 加工 と 組立て は不 可能に近 く 、 そ の結果、 均一な エ ネ ルギ分布を有す る レ 一ザ ビー ム を容易 に得 る こ と は困難で あ っ た。 さ ら に 、 照射対象物に照射 さ れ る レ ー ザ ビー ム の エ ネ ルギ分布 と 集光 レ ン ズ に入射 さ れ る 集光前の レ ー ザ ビー ム の エ ネ ル ギ分布 と が相似関係を持つ こ と か ら 、 集光前の レ ー ザ ビ ー ム の エ ネ ルギ分布が不均一で あ る と 、 対象物への照射 レ ー ザ ビー ム も 不均一に な る 。 例え ば、 レ ー ザ焼入れの 場合、 エネ ルギ分布の不均一な レ ーザ ビー ムが照射 され る と 、 硬化パ タ ー ン が不均一に な っ た り 、 部分的 に表面 溶融が発生 し て し ま う と云 う 不都合があ る。
—方、 格子状に分割 し た複数の ミ ラ ー を介 し て レ ーザ ビー ム を反射 さ せ、 各反射 レ ーザ ビー ム を同一箇所に集 光さ せ る こ と に よ っ て照射 レ ーザ ビー ムの エネ ルギ分布 を均一化さ せよ う と す る 、 所謂、 セ グ メ ン ト ミ ラ ー方式 も 既に良 く 知 られてい る 。 こ れに は次の よ う な欠点があ る 。 つ ま り 、 ミ ラ ー の加工や取付け に高い精度が要求さ れる ため に、 ミ ラ ー の制作費が高 く な る と共に、 レ ーザ ビー 厶形状が一定であ る め に、 レ ー ザ ビー ム照射対象 物毎に ミ ラ ー も交換 し な ければな ら な い こ とであ る 。
さ ら に、 照射 レ ー ザ ビー ム のエネ ルギ分布をよ り 均一 化せ し め る べ く 、 前記セ グ メ ン ト ミ ラ ー を介在 さ せた複 数の反射鏡を用 い た レ ーザ ビー ム形成装置が知 ら れてい る が、 反射鏡の数が多 く なればな る ほ ど レ 一ザ ビ ー ム の 出力低下が大き く な り 、 ま た装置全体が大型化する 上に 照射 レー ザ ビ ー ム の外側の エネ ルギ分布がすそ の の広い も の にな っ て し ま う 。
さ ら に ま た、 特に リ ン グ状の エネルギ分布を有す る レ 一ザ ビー ム の成形に関 し ては、 不安定型共振器を使用 し た装置が従来一般的に知 ら れて い るが、 形成 さ れた照射 レ ー ザ ビー ムの エネ ルギ分布に は安定性 と 均一性に欠け て い た。 こ れを改良す る た め に 、 傾斜偏心軸を有す る ミ ラ 一を高速で回転 さ せて見掛け状の リ ン グモ ー ドを有す る レ ー ザ ビー ム を形成す る 装置が開発 さ れて い る o し 、 し 、 こ の 改良装置 に おい て、 ( a ) 乇 一 タ 駆動部を持 つ て い る の で モ ー ド形成の安定性に欠 け る 、 ( b ) ビ一ム サ イ ズの 設定が困難であ る 、 ま た ( c ) 形成 さ れ る レ ー ザ ビー ム の エ ネ ルギ分布の良否は集光前の レ ー ザ ビ一ム が有す る ェ ネ ルギ分布の良否 に左右 さ れ る 、 と 云 つ た 問 題点が残 っ て い 0
発明 の 開示
本発明 は前記 し た従来装置 に お け る 欠点や問題点を解 決す る た め に な さ れた も のであ っ て、 そ の 目 的 は、 反射 に鏡面を形成す る 際 に高度の精度を必要 と せず、 ま た た と え集光 さ れた入射 ビー ム が不均一で あ っ て も 、 容 に 巨視的 に均一な エネ ルギ分布を有す る レ ー ザ ビー ム を 形成す る こ と ので き る レ ー ザ ビー ム 形成装置を提供す る こ と でめ る ο
本発明 の も う 一つ の 目 的 は、 反射率が極め て高 く な る よ う に鏡面仕上げ さ れた 内面を有す る 筒体の一端力、 ら レ ― ザ ビ一ム を入射せ し め、 該筒体内で多重反射 さ せ た 後 筒体の他端側に お い て多重反射 レ ー ザ ビー ム を合成す る よ う に し た レ ー ザ ビー ム 形成装置を提供す る こ と で あ る
^発明 の さ ら に も う 一つ の 目 的 は、 鏡面加工を施 し た 内面を有す る 円筒体中 に外面を鏡面加工 し た コ ー ン 状 ミ ラ ーを同心的 に配置 し た ス コ ー プの一側か ら 集光 レ ーザ ビー ム を入射 し 、 ス コ ー プの他側に リ ン グモ ー ドの レ ー ザ ビ ー ム を得る よ う に し た レ ーザ ビー ム形成装置を提供 す る こ と であ る 。
前記 し た諸 巨的を達成する た め に、 本発明の第一態様 に よれば、 少な く と も 1 個の集光 レ ン ズ と 1 個の結像 レ ン ズ と を含む レ ーザ ビー ム光学系中に、 こ の光学系を適 過す る レ ー ザ ビー ム を多重反射 さ せ る こ と に よ り 巨視的 に均一な エネ ルギ分布を有す る 所定 ビー ム形状に変化せ し め る 内面反射筒体を前記集光 レ ン ズ と結像 レ ン ズ と の 間 に介設 し た こ と を特徵 と す る レ ーザ ビー ム形成装置が 提供さ れ る 。
さ ら に、 本発明の第二態様に よれば、 前記 し た第一態 様の レ ーザ ビー ム形成装置に おい て、 内面反射筒体が レ 一ザ ビ ー ム の入射口の断面積に対 し て異な る 断面積を有 する 出射 口 を形成 し得 る よ う に傾斜 し た 内面を備え てい る こ と を特徵と す る レ ー ザ ビー ム形成装置が提供さ れ る ま た、 本発明の第三態様によ れば、 前記 し た第一態様 の レ ー ザ ビー ム形成装置に お い て、 内面反射筒体が折曲 し た レ ーザ ビー ム反射パイ プであ る こ と を特徵と す る レ 一ザ ビー ム形成装置が提供 さ れ る 。
ま た さ ら に、 本発明の第四態様に よ れば、 前記 し た第 一態様の レ ー ザ ビー ム形成装置におい て、 内面反射筒体 が円筒であ り 、 かつ その 中に外面を鏡面仕上げさ れた コ 一 ン 状 ミ ラ ー を同心的 に配置 し て リ ン グモ ー ドの レ ー ザ ビー ム を得 る よ う に し た こ と を特徵 と す る レ ー ザ ビー ム 形成装置が提供 さ れ る 。
前記な ら びに他の 本発明 の利点、 態様、 そ し て 目 的 は 本発明 の原理に合致す る 好適な 具体例が実施例 と し て示 さ れて い る 以下の記述お よ び添付の 図面に関連 し て説明 さ れ る こ と に よ り 、 当該技術の熟達者に と っ て明 ら か に な る であ ろ う 。
図面の簡単な 説明
第 1 図 は本発明 の レ ー ザ ビ ー ム 形成装置 に 係 る 第一具 体例の光学系要部を示す概略側面図であ り 、
第 2 図お よ び第 3 図は第 1 図に お け る そ れぞれ Π — Π 線お よ び in - m線に沿 っ た側力、 ら の矢視図で あ り 、
第 4 図 は本 明 の レ ー ザ ビー ム 形成装置 に 係 る 第二具 体例の光学系要部を示す概略側面図で あ り 、
第 5 図お よ び第 6 図 は第 4 図 に お け る そ れぞれ V — V 線お よ び VI— VI線に沿 っ た 側か ら の矢視図であ り 、
第 7 図 は本発明 の レ ー ザ ビー ム形成装置 に係 る 第三具 体例の光学系要部を示す概略側面図で あ り 、
第 8 図お よ び第 9 図 は本発明 の レ ー ザ ビ ー ム 形成装置 に係 る 第 四お よ び第五具体例 の光学系要部を そ れぞれ示 す概略側面図であ り 、
第 1 ◦ 図 は本発明 の レ ー ザ ビ ー ム 形成装置 に 係 る 第六 具体例の光学系要部を示す概略側面図で あ り 、 第 1 1 図 は第 1 〇 図 に示 さ れ る レ ー ザ ビー ム 形成装置 に よ っ て形成 さ れる リ ン グモ 一 ド状の レ ー ザ ビ一厶 の説 明 図であ り 、 そ し て
第 1 2 図 は リ ン ダモ ー ド状の レ ー ザ ビー ム を利用 し た レ ー ザ焼入れの説明 図であ る 。
明 の最良の態様の説明
本発明の レ ー ザ ビー ム 形成装置に係 る 幾つ か の具体例 を添付の 図面に関連 し て以下詳細に説明す る ο
第 1 図 に第一実施例を示す。 図に示す光 ビ ー ム 、 例え ば レ ー ザ ビー ム光学系は、 与え ら れた任意形状の不均一 分布 ビー ム D を単一ま た は複数領域にわた る 均一分布 ビー ム D 2 に変換す る も の であ つ て、 図 に お い て 1 は集 光 レ ン ズ、 2 は結像 レ ン ズ、 3 は両 レ ン ズ 1 , 2 の間 に 介設さ れた 内面反射筒体であ る 。 な お こ の 内面反射筒体 3 は水冷式 と す る の が好ま し い o 3し集 ~ l レ ン ズ 1 は上 記内面反射筒体 3 の入 口 に レ ー ザ ビー ム を導入す る 働 き をなす も の であ り 、 上記結像 レ ン ズ 2 は 内面反射筒体 3 の 出 口力、 ら射出 さ れ た レ ーザ ビー ム を所定の 大き さ に拡 大ま たは縮小す る 働 き をなす も のであ る 。 し たがつ て こ れ ら の レ ン ズ 1 , 2 に代えて ミ ラ ー ( R射鏡) を用 い て も 本光学系は成立す る し 、 ま た 内面反射筒体 3 の入 口 の 寸法力《 レ ー ザ ビ ー ム よ り も 大 き い場合に は、 集光 レ ン ズ 1 を省略す る こ と も あ る 。 W は所定の均一分布 ビー ム D 2 が照射 さ れ る ワ ー ク であ る ό 上記内面反射筒体 3 ほ 第 2 図、 第 3 図 に示す よ う に 、 ビー ム領域が四角 形断面 と な る も のが用 い ら れてお り 、 左右一対の側板 4 , 5 と 、 両側板 4 , 5 間 に位置変更 自 在 に配設 さ れた 上板 6 お よ び下扳 7 と か ら 構成 さ れて い る 。 各板 4 , 5 , 6 , 7 の 内面 は導入 さ れた レ ー ザ ビ ー ム を多重反射 さ せ る ベ く 鏡 面仕上げ さ れて お り 、 必要に応 じ て上扳 .6 と 下板 7 に 角 度 ( 0 ) が付 け ら れ、 入 口 の大 き さ (断面積 X d 2 ) よ り 出 口 の大 き さ (断面積 d ' 1 X d ' 2 ) が小 さ く な る よ う に 、 あ る い は そ の逆 に設定 さ れ る 。 第 1 図で は両 側板 4 , 5 が互に平行で あ り 、 上、 下板 6 , 7 力 レ ー ザ ビー ム入 口 力、 ら 出 口 に 向力、 う に し た力く つ て互 に接近す る よ う に そ れぞれ角度 0 で傾斜せ し め ら れて い る 。 すな わ ち 、 内面反射筒体 3 を く さ び状 に 形成 し た も の が示 さ れ て い る 。 こ の場合、 第 2 図お よ び第 3 図 に 示す よ う に 、 入 口力 < d i X d 2 ( d ι = d 2 ) の正方形断面で、 出 口 が所定の大 き さ ( d ' 1 d ' 2 ) の矩形断面 と な る 。 つ ま り 不均一入射 ビー ム が集光 レ ン ズ 1 を介 し て こ の 内 面反射筒体 3 の入 口 に導入 さ れ る と 、 該 ビ ー ム は 内面反 射筒体 3 の ビ ー ム 領域内で多重反射 し 、 巨視的 に均一強 度分布の所定 ビ ー ム 形状 に変化せ し め ら れて 出 口 か ら 出 て行 く こ と と な る 。 そ し て結像 レ ン ズ 2 を介 し て試料面 上に均一矩形 ビー ム 像を描 く こ と に な る 。 上述の よ う に 巨視的 に と い う の は、 こ の種の光学系 に よ り 得 ら れ る レ 一ザ ビ ー ム は干渉縞を含ん で い る た め に局所的 に は均一 分布ではな い か らであ る 。 そ し て上扳 6 と 下扳 7 の 位置 を変化 さ せ る こ と に よ り 、 レ ー ザ ビー ム の形状を連続的 に変化 さ せ る こ と が可能と な り 、 ま た 内面反射筒体 3 の 出 口 と 結像 レ ン ズ 2 間の距離 a 及び結像 レ ン ズ 2 と 試料 面間の距離 b を変化さ せ る こ と によ り レ ー ザ ビー ム の サ ィ ズを連続的に変化 さ せ る こ と が可能 と な る 。
と こ ろ で、 上記内面反射筒体 3 の上扳 6 と下扳 7 を互 に平行に配置 し 、 導入さ れた レ ー ザ ビー ム を正方形断面 の ビー ム に変化 さ せ る場合につ い て説明す る 。 一般に 内 面反射筒体 3 の 出 口 に おけ る 巨視的分布は、 該内面反射 筒体 3 内での レ ーザ ビー ム の反射回数が多 い ほ ど均一に な る 。 上板 6 と下扳 7 が平行 ( 0 - 0 ) で正方形断面で あ る 場合は そ の筒長 L を次式の範囲 に取 る こ と に よ り 内 部の反射に よ つ て 巨視的な分布を均一にする こ とがで き 0
L - ( 3 〜 5 ) * d , f Z D ( 1 ) ただ し 、 d は内面反射筒体 3 の辺長、 f は集光 レ ン ズ の 焦点距離、 D は入射 ビ ー ム の 直径であ る 。
ま た多 く の干渉縞が形成 さ れ る 内面反射筒体 3 の断面 が正方形の場合、 そ の 際 レ ー ザ ビー ム形成に寄与する 主 干渉縞数 N は、 次式で与え ら れ る 。
N = d 2 / λ · L ( 2 ) た だ し 、 λ は入射 レ ーザ ビー ム の波長であ る 。 従 っ て、 正方形の照射 レ ー ザ ビー ム を形成 し ょ う と す る と き は、 次式
N = d * D Z ( 3 〜 5 ) * ;i * f ( 3 ) に よ っ て所定の干渉縞数が与え ら れ、 巨視的 に均一な 強 度 (エ ネ ルギ分布) を有す る 正方形の照射 レ ー ザ ビー ム を得 る 場合に は、 干渉縞数 N は管長 L に逆比例す る こ と に な る 。
—方、 矩形 ビ ー ム に変化 さ せ る 場合、 限 ら れた長 さ L の範囲内で は、 巨視的均一性 と 長短両辺 に わ た る 十分な 干渉縞数の確保は必ず し も 両立 さ せ る こ と はで き な い。 すな わ ち 短辺側 と な る 側板 4 , 5 か ら よ り も 長辺側であ る 上下の板 6 , 7 で の反射回数が少な い た め、 巨視的均 一性の確保 さ れ る 筒体長 さ L は長辺 に よ っ て決 ま り 、 次 式で与え ら れ る 。
^ ( ョ 〜 :! , /^ ( 4 ) そ し て干渉縞数 は長辺側で は次式で与え ら れ る 。
N ! = d 1 , D / ( 3 〜 5 ) · λ · f ( 5 ) ま た一方、 短辺側で は
N 2 = d ! - D / ( 3-5 ) - λ · f · ( d 2 )
( 6 )
と な る 。 た だ し d は長辺の長 さ 、 d 2 は短辺の長 さ 、 ス は入射 ビ ー ム の波長、 f は集光 レ ン ズの 焦点路離、 D は入射 ビー ム の 直径、 N i は長辺 に そ っ て測 っ た 場合の 縞数、 N 2 は短辺 に そ っ て測 っ た場合の縞数で あ る 。 そ れ故、 縦横比 ( d i / d 2 ) の大 き い矩形 ビ ー ム の場合 で は、 長辺側の干涉鎬数 N が適正で も短辺側の干渉縞 数 N 2 は縦横比の 2 乗に逆比例 し て少な く な る 。 そ の た め、 縦横比を大 き く し て、 かつ短辺側の缟数を十分多 ぐ 確保す る 必要があ る 場合に は、 d i を大 き く 取 る 必要が あ り 、 そ う す る と ( 4 ) 式に従 っ て、 内面反射筒体 3 の 長 さ L を長 く し な ければな ら ず、 筒体 3 は巨大な も の と 'よ る 。 —
そ こ で第 1 図〜第 3 図 に示 し た よ う に、 内面反射筒体 3 の上下の扳 6 , 7 に角度 0 を付け、 出 口断面は 目的の 大 き さ ( d ' ! X d ' 2 ) の ビー ム形状 と し 、 入口断面 は干渉縞数を十分確保で き る大 き さ ( d X d 2 ) と す る こ と に よ り 、 ビー ム反射回数を大幅に増加 さ せる こ と がで き る 。 し たがっ て巨視的 に均一強度分布を有する ビ ー ム形状 (縦横比) を任意に変化 さ せ る こ と がで き る と 共に、 干渉鎬数を独立に変化 さ せ る こ と がで き る こ と に な る 。 すな わ ち試料面上での ビー ム の縦横比が大 き い場 合で も 側扳 4 , 5 及び上下の板 6 , 7 に おけ る 反射回数 を同一にす る こ とがで き る こ と に な る 。 ま た こ の角度付 の 内面反射筒体 3 を用 い る こ と に よ り 、 正方形 ビー ム で も 限 ら れた筒体長 さ L で上記式 ( 1 ) よ り も反射回数を 増大 さ せ る こ と が可能と な る 。
と こ ろ で上記角度付ぎの 内面反射筒体 3 に よ る と 、 上 板 6 と下板 7 と が互に平行な場合よ り 反射回数が増大す る が、 鏡面での ビ ー ム吸収損失が大き く な る こ と があ る の で、 こ の よ う な場合 は上記集光 レ ン ズ 1 に 代え て シ リ ン ダー レ ン ズ ( ま た は シ リ ン ダー 鏡) と 凸 レ ン ズを使用 し て も よ い し 、 球面鏡の非点収差を利用 す る よ う に し て も よ い。 こ れに よ り 、 反射回数の増減が可能 と な る 。 ま た第 1 図で は入 口 に較べて出 口 の 小 さ い 内面反射筒体 3 を示 し て い る が、 逆 に末広力《 り と な る よ う に上板 6 と 下 板 7 に 角度を付け る こ と に よ り 、 必要に応 じ て、 反射回 数を減少 さ せた り 、 一方の辺 に沿 う 干渉縞数を減少 さ せ る こ と が可能 と な る 。
第 4 図 に第 2 実施例を示す。 こ の 実施例 に お け る 内面 反射筒体 3 ◦ は第 5 図、 第 6 図か ら も 明 ら かな よ う に 、 左右一対の側板 4 , 5 間 に上下四枚の板 6 , 7 , 8 , 9 が位置変更 自 在に配設 さ れて成 る 。 すな わ ち上記実施例 の も の は単一の ビー ム領域を有 し て い たが、 こ れを複数 に構成 し た も ので あ る 。 し た力く つ て中 間段の板 8 , 9 は 上下面共に鏡面仕上げ さ れて い る 。 こ の よ う な 構成の 内 面反射筒体 3 0 を用 い る こ と に よ り 、 レ ー ザ ビ ー ム を複 数領域 に わ た っ て均一でかつ各 々 の領域間で強度の 異な る ビー ム を得 る こ と が可能 と な る 。 し-たが っ て例え ば歯 車等 の 曲面を良好に硬化 さ せ る こ と が可能で あ る 。
ま た第 7 図 に第 3 実施例を示すが、 図の よ う に 内面反 射筒体 3 1 の 出 口 に お い て各 ビー ム領域を必ず し も 互い に 隣接 さ せ る 必要は な く 、 目 的 に応 じ て上下 5 枚の 板 6 7 , 8 1 , 8 2 , 9 ' の距離を隔て、 かつ互 い に 異 な つ た形状 と し て も よ い。 上記第 2 実施例の も の は、 内面反 射筒体 3 1 入 口 での ビ ー ム の 占め る 面積割合 (各 ビー ム 領域に配分 さ れ る ド ー ム パ ワ ー の割合) を調整する の に 適 し 、 こ の第 3 実施例の も の は複数の反射鏡 1 2 を用い る場合に適 し てい る 。 な お上記各実施例 に おい て は内面 反射筒体 3 1 の 各扳体 6 〜 9 ' を上下方向 (一次元方向 ) に の み移動 させる も の を例 に挙げたが左右方向 (二次元 方向) に移動さ せて も よ い こ と は明 ら かで あ る 。 ま た 内 面反射筒休 3 はそ の ビー ム領域の断面が四方形の も の に 限 ら れず、 例え ば丸形の も のであ っ て も よ い し 、 ま た若 干の均一性を無視すれば、 多角形、 楕円形及び こ れ ら を 合成 し た形 と する こ と も可能であ る 。
次に、 本発明の第四お よ び第五具体例が第 8 図およ び 第 9 図を参照 し て それぞれ説明 さ れ る。
第 8 図 にお いて筒状の本体 1 3 内 に は レ ー ザ ビー ム 1 1 を集光する入口側集光 レ ン ズ 1 が設け ら れ、 そ の 出 口側 は内面反射筒体 と な る レ ー ザ反射パイ プ 3 2 を介 し て出 口側結像 レ ン ズ 2 に対向 し 、 レ ー ザ反射パ イ プ 3 2 は内 面が鏡面仕上げ加工 さ れて反射率の極め て良い も の と な り 、 かつ略 L 字状に直角 に折曲 し てい る と 共に、 出 口側 結像 レ ン ズ 2 は ワ ー ク W の側面 S と 対向 し てい る 。
し か し て、 不均一分布 D τ を有す る 入射 レ ー ザ ビー ム 1 1 は入口 側集光 レ ン ズ 1 で集光 さ れた後に レ ーザ反射 パ イ プ 3 2 内に照射 さ れ、 レ ー ザ反射パイ プ 3 2 の 内面 で多重反射を行な い レ ー ザ反射パ イ プ 3 2 の 出 口 に て合 成 さ れてエ ネ ルギ分布が均一でかつ完全な矩形状 と な る の で 、 出 口側結像 レ ン ズ 2 よ り ワ ー ク W の側面 S に照 射 さ れ る レ ー ザ ビ ー ム の エ ネ ノレギ分布 は第 8 図 D 2 に 示 す よ う に均一でかつ完全な矩形状 と な る 。
ま た 、 第 9 図 に示す よ う に 円筒状の ワ ー ク W 2 の 内面 S , に レ ー ザ ビ ー ム を照射す る 場合 は 出 口 側锆像 レ ン ズ を省略 し て レ ー ザ反射パ イ プ 3 2 の 出 口 を ワ ー ク W 2 の 内面 S i に 直接対向 し て も 良い。
こ の よ う にすれば、 レ ー ザ反射パイ プ 3 2 の 出 口 と ヮ ー ク W 2 の 内面 S と の距離 £ が短力、 く な る と 共 に 、 レ 一ザ ビ ー ム の エネ ルギ分布 は第 2 図 D 2 に示す よ う に均 —で矩形状 と な る 。
な お、 各集光 レ ン ズや レ ー ザ反射パ イ プ 3 2 は必要に 応 じ て水冷等の 冷却を施 こ す も の と す る 。
上記第四お よ び第五具体例の特徵 は、 第一か ら 第三具 体例 と 同様の コ ン パ ク 卜 で安価な装置 に よ っ て均一な ェ ネ ルギ分布を有す る レ ー ザ ビー ム を照射可能 と す る ほ か に 、 所望の場所へ方向転換 し て レ ー ザ ビー ム を照射す る こ と を可能 にす る こ と であ る 。
さ ら に 、 第 1 0 図か ら 第 1 2 図を参照 し て本発明 の第 六具体例が以下 に説明 さ れ る 。
第 1 ◦ 図 に お い て、 参照数字 3 3 a は 円筒状の 内面反 射筒体で、 そ の 内面 は鏡面仕上げが施 さ れて お り 、 ま た 内部に は外周面が鏡面仕上げ さ れた コ ー ン状の ミ ラ ー 3 3 b が同心的 に配置 さ れてい る 。 内面反射筒体 3 3 a と ミ ラ ー 3 3 b と 力、 ら ス コ ー プ 3 3 が形成 さ れてい る。 ま た、 参照数字 1 はス コ ー プ 3 3 の入口側に設け た集光 レ ン ズであ り 、 2 は出 ロ側に設けた锆像 レ ン ズであ る 。 こ れ ら の集光およ び結像 レ ン ズ 1 , 2 はそれぞれス コ ー プ 3 3 の 円筒中心軸線上にそれ ら 各々 の光軸の中心が― 致す る よ う に配置さ れてい る 。 1 1 は不均一な エネ ルギ 分布 D ¾ を有す る 入射 レ ー ザ ビー ム であ り 、 こ れが多重 反射を起 こ すス コ ー プ 3 3 を含む第六具体例の光学系を 通過せ し め ら れる こ と に よ っ て ワ ー ク W上に第 1 1 図 に 示すよ う な均一なエネ ルギ分布 D 2 を有す る リ ン グ状の レ ーザ ビー ムが照射され得る 。
こ の第六具体例の特徵は リ ン グモ ー ドの レ ー ザ ビー ム を得 る ため に、 前記 し た通 り 内面反射円筒体 3 3 a 内 に コ ー ン状の ミ ラ ー 3 3 b を単に同心的 に配置 し た こ と で あ り 、 何の駆動部 も持た な い た め、 形成 さ れ る 均一エネ ルギ分布の レ ーザ ビー ム の安定性が良 く な る 。 そ の上、 レ ーザ ビー ム の大き さ を任意に設定で き る 利点 も 有 し て い る 。
なお第 1 2 図は こ の装置の用途と し て リ ン グモ ー ドに よ る シ ー ト 面の レ ーザ焼入れを示 し た も の であ る 。 こ の よ う に 円筒状の シ ー 面を レ ー ザ焼入れす る 場合、 例え ばス ポ ッ ト ビー ム に よ る 移動焼入れ等の従来法では、 焼 入れ終点部で軟化層 (つ な ぎ 目 ) が生 じ る が、 こ の発明 の よ う に リ ン グ状モ ー ドに よ っ て照射加熱す る と 、 軟化 層の な い 健全な焼入れが可能 と な る 。
以上の説明 は単 に本発明 の好適 な実施具体例の例証で あ り 、 本発明の範囲 は こ れに 限定 さ れ こ と は な い。 本発 明 に関す る 更に多 く の変形例や改造例が本発明 の範囲を 逸脱す る こ と な く 当該技術の熟達者 に と っ てみれ.は容易 に達成 さ れ得 る 。

Claims

請求の範囲
1 . 少な く と も 1 個の集光 レ ン ズ と 1 個の結像 レ ン ズ と を含む レ ーザ ビ ー ム光学系中の前記集光 レ ン ズ と前記結 像 レ ン ズと の 間 に設け ら れ、 前記光学系を通過す る レ 一 ザ ビ ー ム を多重反射さ せ る こ と に よ つ て 巨視的 に均一な エネ ルギ分布を有す る 所定 ビー ム形状に変化せ し め得る よ う に内面に鏡面仕上げが施 さ れた 内面反射筒体を具備 し た こ と を特徵 と する レ ー ザ ビー ム形成装置。
2 . 請求の範囲第 1 項記載の レ ー ザ ビー ム形成装置であ つ て、 前記内面反射筒体がと も に 四角形の レ ーザ ビー ム 入口 と 同出 口 と を有する こ と を特徵とす る レ ー ザ ビ一ム 形成装置。
3 . 請求の範囲第 1 項記載の レ ー ザ ビ ー ム形成装置であ つ て、 前記内面反射筒体が円筒体状を有す る こ と を特徴 と する レ ー ザ ビー ム形成装置。
4 請求の範囲第 2 項記載の レ ーザ ビー ム.形成装置であ つ て、 前記四角形の 内面反射筒体が、 互に平行.な両側扳 と 、 こ れ ら両側板の 間 に位置変更自 在に配設さ れた上 ♦ 下扳と か ら 成 る こ と を特徵と す る レ ー ザ ビー ム 形成装.置
5 . 請求の範囲第 3 項に記載の レ ー ザ ビー ム形成装置で あ っ て、 前記円筒状の 内面反射筒体が折曲 し た レ ー ザ ビ ー ム反射パ イ プであ る こ と を特徴とす る レ ー ザ ビー ム形 成装置。
6 . 請求の範囲第 3 項記載の レ ー ザ ビー ム形成装置で あ つ て、 前記円筒状の 内面反射筒体が、 そ の 中 に外面を鏡 面仕上げ さ れた コ ー ン状 ミ ラ ー を同心的 に配設 し た ス コ ー プであ り 、 そ れに よ つ て リ ン グモ ー ドの レ 一 ザ ビ ー ム を形成 し 得 る よ う に し た こ と を特徵 と す る レ ー ザ ビ ー ム 形成装置。
7 . 請求の範囲第 2 項記載の レ ー ザ ビ ー ム 形成装置であ つ て、 前記四角 形の 内面反射筒体が レ ー ザ ビー ム 入 口 の 断面積 に対 し て異な る 断面積を有す る 出 口 を有す る こ と を特徵 と す る レ ー ザ ビ ー ム 形成装置。
8 . 請求の範囲第 2 項記載の レ ー ザ ビー ム 形成装置で あ つ て、 前記四角 形の 内面反射筒体が、 いずれ も 位置変更 自 在な両側板な ら びに上 · 下板 と か成 る こ と を特徵 と す る レ ー ザ ビー ム形成装置。
9 . 請求の範囲第 3 項記載の レ ー ザ ビー ム 形成装置で あ っ て、 前記円筒状の 内面反射筒体が レ ー ザ ビー ム 入 口 の 断面積 に対 し て異な る 断面積を有す る 出 口 を有す る こ と を特徵 と す る レ ー ザ ビ ー ム 形成装置。
1 0 . 請求の範囲第 2 項記載の レ ー ザ ビ ー ム 形成装置で あ っ て、 前記出入 口 が複数の ビー ム領域を形成 し 得 る よ う に複数の板に よ っ て分割 さ れて い る こ と を特徵 と す る レ ー ザ ビ ー ム 形成装置。
1 1 . 請求の範囲第 7 項記載の レ ー ザ ビー ム 形成装置で あ っ て、 前記内面反射筒体の 出 口 断面積が入 口 断面積 よ り も 小 さ い こ と を特徴 と す る レ ー ザ ビ ー ム 形成装置。 ― 丄 8 ―
1 2 . 請求の範囲第 1 項記載の レ ーザ ビ ー ム形成装置で あ っ て、 前記集光 レ ン ズ と し て シ リ ン ダ レ ン ズま た は シ リ ン ダ鏡 と 凸 レ ン ズと の組み合わせが用 い ら れ る こ と を 特徵とす る レ ーザ ビ ー ム形成装置。
1 3 . 請求の範囲第 1 項記載の レ ーザ ビー ム形成装置で あ っ て、 前記集光 レ ン ズ と し て球面鏡が用 い ら れる こ と を特徵と す る レ ー ザ ビ ー ム形成装置。
PCT/JP1987/000420 1986-07-08 1987-06-25 Laser beam forming apparatus WO1988000108A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE87904116T DE3787463T2 (de) 1986-07-08 1987-06-25 Vorrichtung zum formen eines laserstrahls.

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61/158844 1986-07-08
JP61158844A JPS6316893A (ja) 1986-07-08 1986-07-08 リングモ−ド成形装置
JP61177666A JPS6336991A (ja) 1986-07-30 1986-07-30 レ−ザビ−ム成形装置
JP61/177666 1986-07-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO1988000108A1 true WO1988000108A1 (en) 1988-01-14

Family

ID=26485842

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP1987/000420 WO1988000108A1 (en) 1986-07-08 1987-06-25 Laser beam forming apparatus

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0282593B1 (ja)
DE (1) DE3787463T2 (ja)
WO (1) WO1988000108A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2228344A (en) * 1989-02-17 1990-08-22 Mezhotraslevoi Nt Komplex Mikr Ophthalmological lasers
US5374563A (en) * 1990-09-01 1994-12-20 Fisons Plc Surface plasmon resonance device and method of determining biological, biochemical, or chemical analyte
US5601733A (en) * 1993-09-30 1997-02-11 Cymer, Inc. Full field mask illumination enhancement methods and apparatus
EP3096419A1 (en) * 2015-05-08 2016-11-23 Novanta Corporation Waveguide beam conditioning for a high powered laser
CN110058335A (zh) * 2019-04-30 2019-07-26 西安炬光科技股份有限公司 光学元件、治疗仪和光斑变换的实现方法
CN111070700A (zh) * 2019-12-20 2020-04-28 宁波为森智能传感技术有限公司 激光焊接治具

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8902485A (nl) * 1989-10-06 1991-05-01 Optische Ind De Oude Delft Nv Inrichting voor het verschaffen van een bundel laserstraling met een homogene energieverdeling.
US5170029A (en) * 1990-04-19 1992-12-08 Matsushita Electric Works, Ltd. Energy-beam welding method
US5638211A (en) 1990-08-21 1997-06-10 Nikon Corporation Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system
US7656504B1 (en) 1990-08-21 2010-02-02 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
US6897942B2 (en) 1990-11-15 2005-05-24 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6885433B2 (en) 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6967710B2 (en) 1990-11-15 2005-11-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5719704A (en) 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6710855B2 (en) 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6252647B1 (en) 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
DE4429913C1 (de) * 1994-08-23 1996-03-21 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zum Plattieren
US5754719A (en) * 1996-11-22 1998-05-19 Cogent Light Technologies, Inc. Method for coupling light from single fiberoptic to a multi-fiber bundle with enhanced field uniformity and better coupling efficiency
EP0881514A1 (fr) * 1997-05-30 1998-12-02 Lasag Ag Elément optique de couplage pour confiner spatialement et homogénéiser un faisceau ayant une grande ouverture
DE10323984A1 (de) * 2003-05-27 2004-12-16 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co.Kg Vorrichtung zur Transformation eines Lichtstrahls
EP1508397B1 (de) * 2003-08-21 2006-06-07 Leister Process Technologies Verfahren und Vorrichtung zum simultanen Erwärmen von Materialien
DE10339636B4 (de) * 2003-08-28 2013-02-07 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum simultanen Laserschweißen
US20070127005A1 (en) 2005-12-02 2007-06-07 Asml Holding N.V. Illumination system
DE102012109937A1 (de) 2012-10-18 2014-04-24 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Beaufschlagung einer Innenseite eines Zylinders mit Licht sowie Strahltransformationsvorrichtung für eine derartige Vorrichtung
DE102012110165A1 (de) * 2012-10-24 2014-02-13 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Vorrichtung zum Verbinden zweier Werkstückteile mit Bereichen unterschiedlicher Eigenschaften mittels Durchstrahlschweißen
EP3138650A1 (de) * 2015-09-03 2017-03-08 Ewm Ag Vorrichtung und verfahren zum lichtbogenschweissen oder lichtbogenlöten mit einer abschmelzenden elektrode
DE102016103230B3 (de) * 2016-02-24 2017-07-06 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Vorrichtung zum Lasertransmissionsschweißen einer ringförmigen Schweißnaht

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59150684A (ja) * 1983-02-18 1984-08-28 Hitachi Ltd レ−ザ加工装置
JPS61103693A (ja) * 1984-10-24 1986-05-22 Hitachi Ltd レ−ザ加工機

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3947093A (en) * 1973-06-28 1976-03-30 Canon Kabushiki Kaisha Optical device for producing a minute light beam
US3972599A (en) * 1974-09-16 1976-08-03 Caterpillar Tractor Co. Method and apparatus for focussing laser beams
US4547044A (en) * 1983-03-31 1985-10-15 International Business Machines Corporation Beam-folding wedge tunnel
US4564736A (en) * 1984-05-07 1986-01-14 General Electric Company Industrial hand held laser tool and laser system

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59150684A (ja) * 1983-02-18 1984-08-28 Hitachi Ltd レ−ザ加工装置
JPS61103693A (ja) * 1984-10-24 1986-05-22 Hitachi Ltd レ−ザ加工機

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP0282593A4 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2228344A (en) * 1989-02-17 1990-08-22 Mezhotraslevoi Nt Komplex Mikr Ophthalmological lasers
US5374563A (en) * 1990-09-01 1994-12-20 Fisons Plc Surface plasmon resonance device and method of determining biological, biochemical, or chemical analyte
US5601733A (en) * 1993-09-30 1997-02-11 Cymer, Inc. Full field mask illumination enhancement methods and apparatus
EP3096419A1 (en) * 2015-05-08 2016-11-23 Novanta Corporation Waveguide beam conditioning for a high powered laser
CN110058335A (zh) * 2019-04-30 2019-07-26 西安炬光科技股份有限公司 光学元件、治疗仪和光斑变换的实现方法
CN111070700A (zh) * 2019-12-20 2020-04-28 宁波为森智能传感技术有限公司 激光焊接治具
CN111070700B (zh) * 2019-12-20 2022-01-18 浙江舜宇智领技术有限公司 激光焊接治具

Also Published As

Publication number Publication date
EP0282593A1 (en) 1988-09-21
DE3787463D1 (de) 1993-10-21
EP0282593A4 (en) 1989-01-24
EP0282593B1 (en) 1993-09-15
DE3787463T2 (de) 1994-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1988000108A1 (en) Laser beam forming apparatus
US5684642A (en) Optical transmission system and light radiating method
US5003567A (en) Soft x-ray reduction camera for submicron lithography
US5005969A (en) Optical projection apparatus with the function of controlling laser coherency
US5223693A (en) Optical machining apparatus
JP2002524839A (ja) レーザ増幅システム
JPS62178904A (ja) レ−ザ光照射装置
JPH11501738A (ja) 反射光学付きレーザー走査装置
JP2720811B2 (ja) レーザ集光方法及び装置
CN112630984A (zh) 可改变激光焦点位置光斑大小及形貌的激光扫描装置与扫描方法
JP2003149392A (ja) X線増強反射板及びx線検査装置
CN109283805A (zh) 基于达曼光栅的激光直写装置
JP2002519715A (ja) 孔部連動レーザー走査装置
JPH05145148A (ja) 固体レーザ共振器
JPH11314184A (ja) 光学素子加工装置
US4657721A (en) Target illumination
RU2811392C1 (ru) Устройство формирования пучка лазерного излучения с сечением прямоугольной формы и равномерным распределением интенсивности
JP2002283085A (ja) レーザ装置
JP2003275888A (ja) レーザ加工装置及び加工方法
JP2800006B2 (ja) レーザ装置
JP2580148B2 (ja) 光ミキサ−
JP3479197B2 (ja) レーザ装置
RU2811390C1 (ru) Способ формирования пучка лазерного излучения с сечением прямоугольной формы и равномерным распределением интенсивности
JPH0882677A (ja) 反射測定装置
JP3055312B2 (ja) レーザビーム均一照射光学系

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): DE FR GB

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1987904116

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1987904116

Country of ref document: EP

WWG Wipo information: grant in national office

Ref document number: 1987904116

Country of ref document: EP