WO1980000716A1 - Method of corrosion-resistant plating - Google Patents

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WO1980000716A1
WO1980000716A1 PCT/JP1979/000251 JP7900251W WO8000716A1 WO 1980000716 A1 WO1980000716 A1 WO 1980000716A1 JP 7900251 W JP7900251 W JP 7900251W WO 8000716 A1 WO8000716 A1 WO 8000716A1
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nickel
nickel plating
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corrosion resistance
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H Uchida
T Uotani
K Deguchi
M Kubo
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Uemura Kogyo Kk
H Uchida
T Uotani
K Deguchi
M Kubo
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    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
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    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/627Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance

Definitions

  • the present invention relates to a method for corrosion resistance, in particular,
  • the present invention relates to a corrosion-resistant plating process that provides an excellent corrosion-resistant electroplated coating as compared to the ROM plating method.
  • processes for corrosion resistance for automobile parts and the like include a two-layer nickel plating method in which nickel plating layers having mutually different sulfur contents are formed, and a three-layer nickel plating method.
  • Known plating method 6 Also, after nickel plating, apply a thin plating in a nickel plating bath that suspends 5 inorganic fine particles, and then perform Chrome plating. And have fine pores
  • the object of the present invention is most important as a corrosion resistant process.
  • the substrate can be directly or
  • the plated product obtained according to the corrosion-resistant plating method of the present invention is ⁇ high-stress nickel plating, and then subjected to a final bright nickel plating, '' whereby a chrome-plated film or other final plating is obtained. Micro-cracks occur on the membrane. High stress nickel plating-direct chrome plating afterwards
  • the method for corrosion resistance of the present invention is performed after performing high-nickel plating and then performing bright nickel plating.
  • the microplate or micropore
  • the microplate is not formed on the chromium plating film. It is surprising that a coating with superior corrosion resistance can be formed compared to i2f.
  • the corrosion resistance of the plating film is good, and the same level of corrosion resistance as that obtained by the conventional plating method can be maintained. ) It is possible to make the entire coating film thinner]), and to reduce the plating film thickness.] 3 It is possible to reduce the plating cost and shorten the plating time. Thus, the work efficiency can be improved.
  • the coating of the high current density portion (thick plating portion) and the low current density portion (thin plating portion) can be significantly improved.
  • the method of the present invention can be suitably applied to a component in which the generation of heat is easily observed from a low current density portion in the conventional method, such as a component having a complicated shape, a component having a deep depression, or the like.
  • a normal bright nickel plating bath can be used under normal working conditions.
  • PIG. I is a plan view showing the corrosion resistance evaluation section of the fitted test piece.
  • plating specimens according to the corrosion-resistant plating method of the present invention and the conventional micro-black ⁇ -mu plating method or the corrosion-resistant plating method of the present invention respectively.
  • the corrosion resistance of the comparative plating test piece according to the plating method different from the plating method is determined by the cast test method.
  • the figures marked with A show the degree of corrosion resistance of the high-current-density portion of the plated test piece.
  • the drawings marked with R and B are the graphs showing the degree of corrosion resistance at the current density portion during the plating of the test piece, respectively, and the drawings marked with C are the cross-sections of the test piece, respectively. This is a graph showing the degree of corrosion resistance in the low current density area.
  • the material of the covering object is not particularly limited, and may be iron, steel, zinc, aluminum, copper, copper-zinc alloy, other metal base materials, ABS resin, or other plastic.
  • the method of the present invention can be carried out on this.
  • a method of generally degreased the metal surface by a dipping method and Z or electrolytic method and then neutralizing with an acid can be adopted.
  • aluminum in the case of aluminum
  • the plastic surface is roughened by chemical etching with a mixture of chromic acid and sulfuric acid or by mechanical roughening. After that, an activation process is performed to attach catalytic metal nuclei such as palladium to the roughened plastic surface, and then electroless copper plating and electroless nickel plating Metallization of plastic surface by electroless plating such as
  • a desired undercoating can be performed.
  • the type of the undercoating is not particularly limited, and is selected according to the material, use, and the like of the covering object.
  • bright copper plating can be performed before nickel plating, which is the first process.
  • the bright copper plating use a normal copper sulfate plating bath, a copper chlorophosphate plating bath, a copper plating bath, and other copper plating baths with the usual bath composition and plating conditions.
  • the nickel plating (first nickel plating) as the first process is thus covered.
  • the bath used for the first-nickel plating may be any of a normal ordinary nickel bath, a semi-gloss nickel bath, and a gloss-nickel bath.
  • a watt bath mainly containing nickel sulfate, nickel chloride and boric acid is usually used, but is not necessarily limited to this.
  • nickel sulfate, nickel chloride and boric acid is usually used, but is not necessarily limited to this.
  • a nickel bath or a glossy nickel bath is preferably used from the viewpoint of improving the appearance of the plating and improving the repelling. In this case, it is necessary.
  • a conventionally known multi-layer nickel plating method can be adopted, for example, by performing gloss-nickel plating after semi-bright nickel plating. ⁇ ⁇ ⁇ .
  • the plating conditions for the first nickel plating ordinary conditions according to the type of bath and the like are employed.
  • a bath having the following composition is preferably used as the first nickel plating bath under the following conditions. Tori: Holiday
  • a semi-brightening agent and a brightening agent known ones which are usually used can be used in a usual addition amount, for example, a semi-brightening agent
  • coumarin, formalin, -zatin-1,4-diol and derivatives thereof can be used alone or in combination.
  • OMPI crane Sodium phosphate, 1,3,6-Naphthalene trisulfonate Sodium phosphate Pensence Sulfonates such as sodium phosphate Snorrenone amides such as sensnorehone amide, norat noren hen norenhon amide, etc., sulphone imids such as saccharin, Sulfuric acids, sulfones, etc.
  • 2-tin-1,4-diol and its derivatives can be used alone or in combination, and as a secondary brightener, 2-tin-1,4-diol and its derivatives, pronogyl Alcohol and its derivatives, water-sealable chloral and its derivatives, ethylene hydrin and its derivatives, thiocyanate urea and its derivatives azo, dyes and bears Lin, formalin, etc. can be used alone or in combination.
  • the bath may contain a humectant for preventing pitting and other desired components.
  • the thickness of the coating by the first nickel plating is determined by the method of the present invention.]), Because a coating having excellent corrosion resistance can be obtained as compared with a conventional corrosion-resistant coating process. ) Although it may be thin, for example, about 2 is acceptable, but from the viewpoint of providing high corrosion resistance, when the first nickel plating is applied directly to the object to be covered, about 5 ⁇ m or more is required. 3] Desirably 6 or more. After applying the undercoating to the object to be plated, and then applying the first nickel plating, the plating between the undercoating and the first nickel plating should be performed. The total film thickness is about 5 or more, and more preferably about 6 or more.
  • the total plating thickness before high-stress nickel plating to be described later is set to be about or more, preferably j or more.
  • the thickness of the copper plating is 6 to 8 mm or more, preferably 1 to 2 if the coating thickness of the first nickel plating is 1 to 2. At least 10 (that is, about twice or more the thickness of nickel plating alone); more preferred.
  • the corrosion resistance improves as the thickness of the first nickel plating or the total thickness of the first nickel plating and the undercoating increases, but from the economical point of view. Considering that the upper limit is about 50]), the thickness is usually about 30 or less.
  • high stress nickel plating is performed on the first nickel plating film.
  • the high-stress nickel plating bath known baths can be used. For example, when the high-stress nickel plating is applied directly to the chrome plating, the plating film is formed on the plating film.
  • a nickel electrodeposit having a high stress that is about the same as or higher than that of a bath that generates micro cracks or nickel electrodeposition obtained from this bath A bath or the like that gives a bath can be used under the usual plating conditions. More specifically, nickel chloride, nickel sulfamate or nickel sulfofinate disclosed in U.S. Pat. No. 3,388,049, and sulfuric acid, ammonium acetate Bath containing monium or nickel acetate; aminocarboxyl acrylates disclosed in U.S. Pat. No. 3,471,271; aminosulphonic ash And high chloride baths containing amino acids selected from the group consisting of aminophosphonic acid, described in US Pat. No. 3,563,864 and Japanese Patent Publication No. 45-18766.
  • an internal stress-forming additive selected from an aluminum compound, a pyridinium compound, a quinoline compound, and an isoquinoline compound.
  • a bath containing lactic acid, formic acid, citric acid, citric acid, succinic acid or its alkali and nickel salts and further disclosed in Japanese Patent Publication No. 46-37645.
  • additives such as xamethylene tetramin, piperazine, razin, and 2,6-dimethinolepyrazine, and has a high tensile stress of about 8400 ⁇ or more.
  • Nickel plating baths to be given can be used.
  • a bath having the following composition and plating conditions is also preferably used.
  • stirring may or may not be performed.
  • this bath is plated with this bath and then subjected to direct chrome plating, even in low current density areas, compared to the conventional bath, the number of fine cracks may increase. That is, (For example, a crack of 400 cm or more Z cm is generated in the portion where the current density is 2 A / d or more, and 100-400 cracks are generated in the portion of OS SAZC 2 .
  • the thickness of the high stress nickel plating is preferably about 0.5 or more, particularly about 0.5 to 3, and usually about 1 is sufficient.
  • final gloss nickel plating is performed.
  • a known bath can be used, and a known brightener can also be used.
  • baths and brighteners of the composition and conditions described in the description of the first nickel plating are preferably used.
  • the thickness of the final glossy nickel after high stress nickel plating is preferably about 0.5 ⁇ or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is generally 10. Particularly preferably, the film thickness is about 0.5 to 5 and usually 1 to 2 mm is sufficient.
  • the chrome plating is usually applied, but the chrome alloy plating (eg chrome-to-kernel) or tin-to-cobalt A desired final plating such as alloy plating can also be performed.
  • a bath having a normal composition according to the type of plating can be employed under normal plating conditions.
  • the chrome plating bath includes a surge bath, a fluoride-containing bath such as fluorinated fluoride, a bath made of trivalent chromium containing chromic acid, and other appropriate baths.
  • a bath is used, and the film thickness is 0.05 or more, usually 0.1 to 0.3.
  • the usual method can be used for post-processing after final plating. Generally, it is sufficient to wash with water and dry after final fixation.
  • the high corrosion resistance plating process according to the present invention is to apply the first nickel plating after directly or undercoating the object to be coated, and then perform the high stress plating. It is characterized by the application of a nickel plating, a final gloss-nickel plating, and finally a chrome plating or other final plating. (4) It was possible to form a coating with better corrosion resistance than the conventional micro black plating method.
  • the obtained plated test piece was divided into three parts: A part on the high current density part, B part on the medium current density part, and C part on the low current density part.
  • the sections were divided into sections, and the following cast tests (JIS D 201) were performed to examine the corrosion resistance of sections A, B, and C, respectively.
  • Contact, middle L 2 cm.
  • FIG. 2A, B, C and FIG. 3A, B, C The results are shown in FIG. 2A, B, C and FIG. 3A, B, C.
  • FIG. 2A, B, C The results are shown in FIG. 2A, B, C and FIG. 3A, B, C.
  • the drawing with A shows the corrosion resistance test results on the high current density side A
  • the drawing with B shows the corrosion resistance test results on the medium current density side B
  • the drawing with C shows the corrosion resistance test results on the low current density side C.
  • Nickel sulfate Ni S0 4 - 63 ⁇ 40
  • Ni nickel chloride Ni C ⁇ 2 ⁇ 6H 2 0
  • the nickel plating is higher than that of the conventional micro-clock plating method in which the plating is performed immediately after the high stress nickel plating. According to the method of the present invention in which the final nickel plating is further performed on the 'stress nickel plated' and then the chrome plating is performed, the corrosion resistance can be dramatically increased. Was found.
  • the corrosion resistance when a steel plate is subjected to direct nickel plating after 7 glossy nickel platings was applied, and the corrosion resistance was evaluated in one cycle (16 hours) of the cast test.
  • the average number was 6-8.
  • Example 1 a semi-bright nickel plating having the following composition was replaced by the first nickel plating instead of the first bright nickel plating.
  • Example 2 a semi-gloss-nickel-high-stress nickel-gloss nickel was applied on a polished steel plate.
  • Cup plating Halsell test was performed, and in the same way, a corrosion test was performed by performing a gas test. The results are shown in PIG. 4).
  • the corrosion resistance method of the present invention when nickel plating is directly applied to the material to be coated, the first nickel as a base for high stress nickel plating is applied. ⁇ ⁇ / ⁇ Even if the thickness is about 5 mm or less, corrosion resistance can be sufficiently provided as compared with the conventional micro-chrome chromium plating method, but the thickness of the first nickel plating is about 5 or more
  • Polished steel sheet which had been subjected to the same pretreatment as in Example 1 was subjected to No. 6 first gloss nickel plating using a gloss-nickel plating bath having the same composition as in Example 1, and then the following composition was obtained.
  • the corrosion resistance was very good, and almost no occurrence of ' ⁇ was observed even after 5 cycles of the cathode test.
  • composition and plating conditions of the Asahichrome NC bath are as follows.
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, a polished steel plate (10 OT X 5 cm) was subjected to electrolytic degreasing, followed by a pretreatment of pickling and washing. Next, the semi-bright nickel plating bath shown in Example 2, the bright nickel plating bath shown in Example 1, the high-stress nickel plating bath, and the chromium plating bath were used together. It was used under the following conditions and plating was performed in the following processes I and ⁇ .
  • the chrome plating was performed in a 10 ⁇ beaker at a cathode current density of 15 A / d ⁇ , a bath temperature of 45, and a plating time of 2 minutes and 30 seconds.
  • the plating thickness is as shown in Table 4.
  • the total nickel plating thickness was 10 ⁇ m, 15 ⁇ m, and 20 ⁇ m. (It was confirmed by the electrolytic film thickness meter that the plating thickness was the same.) did ) . '
  • the total nickel plating thickness was reduced in the same manner as in step (5) of Example 5. 15 ⁇ (Semi-gloss nickel plating 7.5 to 9 ⁇ , first gloss nickel plating 3.5, high stress nickel plating 0.5 to 2 ⁇ ⁇ final gloss nickel plating 2 Next, as a result of examining the corrosion resistance by a cast test, almost no ⁇ was observed even after the completion of 15 cycles. Rating, number 9 to 10).
  • Nickel sulfate (N i S0 4 63 ⁇ 40) 240 nickel chloride (Ni C 2 6H 2 0) 4 0 // boric acid 40, / Application Benefits Chiruami Nporan 1.0 / PH 3.5
  • the corrosion-resistant plating method according to the present invention provides a coating with high corrosion resistance, and is particularly suitable for plating of parts requiring high corrosion resistance, such as automobile parts, aircraft parts, and electric parts.

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Abstract

A method of providing a highly corrosion-resistant electroplated film, which comprises first nickel plating a material to be plated directly or after subjecting it to underplating, then subjecting it to high stress nickel plating and subsequently to final luster nickel plating, and finally conducting finish plating such as chromium plating. Unlike those formed according to a conventional microcracked chromium plating method wherein chromium plating is directly applied to form microcracks in the chromium film after high stress nickel plating, the thus formed highly corrosion-resistant plated film does not contain microcracks in the final film such as chromium film. Nevertheless, it exhibits excellent corrosion resistance.

Description

明 細 書 '  Specification '
耐 食 め つ き 方 法  Corrosion resistance method
' 技 術 分  '' Technology
本発明は耐食めつき方法に関 し、 特に - ッ ケ ル めっ き The present invention relates to a method for corrosion resistance, in particular,
5 後、 高応力ニ ッ ケ ルめっき を施 し、 次いでク ロ ム めつ き を行ってク 口 ムめっき膜にマ ィ ク 口 ク ラ ック を凳生させ るいわゆるマイ ク 口クラッ ク ク ロ ムめつき法に比較 して、 優れた耐食性電気めつき被膜を与える耐食めっき プ ロ セ スに関する。5 After that, high stress nickel plating is applied, and then chrome plating is performed, so that a so-called crack at the mouth plating film is generated. The present invention relates to a corrosion-resistant plating process that provides an excellent corrosion-resistant electroplated coating as compared to the ROM plating method.
0 背 景 技 術 0 Background technology
¾来、 自動車部品等に対する耐食めつき プ ロ セ ス と し ては、 互に硫黄含有量の異 るニ ッ ケ ル めつき層を形成 させる二層ニ ッ ケ ルめっき法、 三層ニッ ケルめっき法力ミ 知 られて る 6 また、 ニ ッ ケ ルめっき後、 無機微粒子を5 懸濁するニ ッ ケ ルめっき浴にて薄いめっき を施 し、 次い でク ロ ム めつき を行 う こ と に よ ]?、 微細ポァを有するク Traditionally, processes for corrosion resistance for automobile parts and the like include a two-layer nickel plating method in which nickel plating layers having mutually different sulfur contents are formed, and a three-layer nickel plating method. Known plating method 6 Also, after nickel plating, apply a thin plating in a nickel plating bath that suspends 5 inorganic fine particles, and then perform Chrome plating. And have fine pores
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ロ ム めつき被膜を得.'る イ ポーラ ス ク 口 ムめ っ き法、 ; び'に - ツ ^ルめつ 後.、 その被膜、上 ^高応力: .ッ :ケ ル : めっき被膜を形成 し、 .次いでク ロ ム めつき を行う とに0 よ ]? 、 ク ロ ム めつ き被膜に微細ク ラ ッ.久を形-成.させる、 も し く はニ ッ .ケ ルめっき被膜上に特殊^ ク め;^き浴 を用いて微細ク ラ. ッ ク ク ロ ムめつき被膜を得るマ イ ク ロ ク ラ ッ クク 口 ムめっき法が知 られてお ]?、 れらはいず れも耐食めつき法と じて実用化されている Obtain a chrome-plated film. 'Polar Squeeze Method'; び-'後 After 、 つ 上. 、 被膜 被膜 被膜 高 応 力 応 力 応 力 高 応 力 応 力 高 応 力When the chrome plating is performed, the fine plating is formed on the chromium plating film, or the nickel plating is performed. There is a known method of plating micro-plates with a fine black chroma coating using a special bath on the plating film. Have been put to practical use as the corrosion-resistant plating method.
5 特に、 高応力ニ ッ ケ ルめっき後、 ク ロ ムめつき を行つ  5 In particular, after high-stress nickel plating,
O PI • てク ロ ム めつ 腐 イ ク 口 ク ラ ック を発生' ϊせる方法 は、 耐食性が比較的良好であるため広 ぐ採用され、 また この方法に関する種々 の提案がな されている ( 米邇特許 第 3,388,049 号、 米国特許第 3,471, 27.1 号、 ;米国特 5 許第 3,563,864 号、 日本特公昭 4 5'— 1 8 7 6 6 、 '米国特許第 3, 759,802 号、 日本特公昭 48 Γ- 2 183号、 日本特開昭 49一 62334号、 日本特公昭 46 ^~ 37':645号)。 O PI • The method of generating cracks at the mouth of chrome is widely adopted because of its relatively good corrosion resistance, and various proposals for this method have been made (US U.S. Patent No. 3,388,049; U.S. Patent No. 3,471,27.1; U.S. Patent No. 3,563,864; Japanese Patent Publication No. 45'-187676; U.S. Patent No. 3,759,802, Japan JP-B-48-2183, JP-A-49-62334, JP-B-46 ^ -37 ': 645).
しかるに、 めっき被膜に対する耐食性の要求が益 々 厳 し く つて る現今においては、 よ 高度の: IT食性を与0 える高耐食めつき :° 口 セ ス が求め られている。 また一般  However, as the demand for corrosion resistance for plated coatings is becoming increasingly severe, there is a demand for a more advanced: high corrosion resistance, which provides IT corrosion resistance, and a mouth opening. Also general
にめつき被膜の耐食性を向上させる 7¾'.¾ ば-、 'めつき被 - 膜を厚 く すればする'程良いが、 厚 ^き''す-る こ とはめ つき コ ス ト の上昇を招 く 。 まだ'厚 く めつ':きするためには Improve the corrosion resistance of the plating film 7¾'¾-¾, 'The more the coating, the thicker the film', the better, but the thicker the coating and the higher the cost of the plating Invite. Still 'thick'
" めつ 時間を長 く し. ければ らお ^cfで、 作業能率上5 問題が多い。 特に、 従来法では比 :的低電流密度部分の " 膜厚の薄い部分の耐食性に問題がある。 このため比較的 '· 薄い膜厚にお い て も十分の耐食性 与えるめっき プ 口 セ ス が要求されて い る 。 " -"Make sure to increase the length of time. ^ Cf, there are 5 problems in terms of work efficiency. In particular, the conventional method has a problem in the corrosion resistance of the thin film part, which is relatively low in the current density. . For this reason, there is a demand for a plating process that provides sufficient corrosion resistance even at relatively thin film thicknesses. "-
- :' 発 明 の 開 示:-: 'Disclosure of the invention:
0 本発明の目的は、 耐食めつき プ ロ セ ス と して最も れ 0 The object of the present invention is most important as a corrosion resistant process.
て る も のの一つである といわれている従来のマ イ ク 口 ク ラ ック ク π ムめっき法に比較して、 よ ])優れた耐食電 気めつき被膜を形成でき る耐食めつき方法を提供する こ - と にある。 Compared to the conventional micro-mouth crack plating method, which is said to be one of the most popular methods, it is better than the conventional method.)) Excellent corrosion resistance Provide a method of attachment.
5 本発明に よれば、 被めつき物に直接も し く は下地め 5 According to the present invention, the substrate can be directly or
¾ ( ,.. - ?: した後第 1 ニ ッ ケ ルめっき を行い、 ^ い で高応力¾ (, ..- ? : After the first nickel plating, high stress
:: - r f ケ ルめっき を行 、 続 ;て最終光沢ニ ッ ケ ルめっき -I 固 :施 し、 最後にク ロ ム めつき も し く はその他の最終めつ き 行 う こ と か-ら る耐食めつき 方法が提供される。 :--Apply rf plating and then continue; Nickel plating with final gloss -I Fix: Apply and finish with chrome plating or other final plating- Such a method of corrosion resistance is provided.
本発明の耐食めっき方法に従って得 られるめっき物は '' 高応力ニ ッ ケ ルめっき後、 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき を施 すこ と 'に よ 、 ク ロ ム めつき膜或いはその他の最終めつ き膜にマイ ク ロ ク ラ ッ クが生 じるい。 高応力ニ ッ ケ ル め つき-後直接ク ロ ムめっき を行い、 ク 口 ムめっき膜にマイ The plated product obtained according to the corrosion-resistant plating method of the present invention is `` high-stress nickel plating, and then subjected to a final bright nickel plating, '' whereby a chrome-plated film or other final plating is obtained. Micro-cracks occur on the membrane. High stress nickel plating-direct chrome plating afterwards
10 ク ロ ク ラ ッ ク を発生させる従来のマ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ム め き法. ;^、 ク ロ ム めつ き膜に生 じたマ イ ク ロ ク ラ ッ ク に よ 腐食電流を分散させ、 これに よつて耐食性を向 上させ 考え方である ( お、 ク ロ ム メ ツ キ膜に多数の 微小ポアを発生させる マ イ ク 口 ポー ラ ス ク 口 ムめっき法10 A conventional micro-clock plating method that generates a clock.; ^ The micro-clock generated on the plating film The idea is to disperse the corrosion current and thereby improve the corrosion resistance (note that the micro-porous plating method, which produces many micropores in the chrome plating film).
15 も 同様の考え方に基づ く も のである ) のに比較 して、 本 発明の耐食めつ き方法が高応力ニ ッ ケ ルめっき後、 光沢 ニ ッ ケ ル め つ き を行ってか らク ロ ム め つ き を行 、 ク ロ ム めっき膜にマ イ ク ロ ク ラ ッ ク ( 又は微小ポア )..を生じ させないで、 従来のヌ ィ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ム め つ き法に i 2f 比較 して優れた耐食性めつ き被膜を形成 し得る こ とは驚15 is also based on the same concept.) Compared with the method of the present invention, the method for corrosion resistance of the present invention is performed after performing high-nickel plating and then performing bright nickel plating. In the case of chromium plating, the microplate (or micropore) is not formed on the chromium plating film. It is surprising that a coating with superior corrosion resistance can be formed compared to i2f.
:' . く べき こ とである。 : '.
¾ ;; 本発明においては.、 この よ う に高応力ニ ッ ケ ルめっき 後、 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき を行 う こ とが重要であ !)、 高応力ニ ッ ケ ルめっき被膜の上に光沢ニ ッ ケ ルめっき被 ¾;;. In the present invention, after the high-stress two Tsu Ke Le plated cormorants this good, the final gloss two-Tsu Ke Le plating and line cormorant this important! ), Bright nickel plating coating on high stress nickel plating coating.
25 膜を形成させてか ら、 最終のク ロ ムめつきその他の最終 めっき を行い、 高応力ニ ッ ケ ルめっき被膜と最終めつき の被膜との間に光沢ニ ッ ケルめつき被膜を介在させる こ と に よ ]? 、 従来の マ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ム めつ き 法で達 成される耐食性を飛躍的に凌駕する耐食性被膜の形成を 達成 したも のであ る。 25 After film formation, final chrome plating and other final Plating and interposing a bright nickel plating film between the high-stress nickel plating film and the final plating film. ??, a conventional micro crack It has achieved the formation of a corrosion-resistant coating that dramatically surpasses the corrosion resistance achieved by the ROM plating method.
本発明によれば、 上述 したよ う にめつき被膜の耐食性 が良好であるため、 従来のめつき方法に よって得ためつ き被膜と同程度の耐食性を維持するので よければ、 従来 法よ !) も めつき被膜全体を'薄 く する こ とが可能であ ])、 めっき膜厚を減少させる こ と に よ ]3 めっき コ ス ト の低減 及びめつき時間の短縮を計る こ とができ て、 作業能率の 改善を計る こ とができ る。 本発明の耐食めつき方法に よ れば、 高電流密度部分 ( めっき の厚い部分 ) はも と よ 低電流密度部分 ( めっき の薄い部分 ) の被膜 o耐食性を 著し く 向上し得るので、 形状が複雑な部品、 深い窪みを 有する部品等、 従来法では低電流密度部分から容易に鐯 の発生がみ られた部品に対して、 本発明法は好適に採用 でき る。  According to the present invention, as described above, the corrosion resistance of the plating film is good, and the same level of corrosion resistance as that obtained by the conventional plating method can be maintained. ) It is possible to make the entire coating film thinner]), and to reduce the plating film thickness.] 3 It is possible to reduce the plating cost and shorten the plating time. Thus, the work efficiency can be improved. According to the method of corrosion resistance of the present invention, the coating of the high current density portion (thick plating portion) and the low current density portion (thin plating portion) can be significantly improved. The method of the present invention can be suitably applied to a component in which the generation of heat is easily observed from a low current density portion in the conventional method, such as a component having a complicated shape, a component having a deep depression, or the like.
更に本発明に よれば、 高応力ニ ッ ケ ルめっき後に行う 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき と して 、 通常の光沢ニ ッ ケ ル め つき浴を通常の作業条件で使用する こ とができ、 また従 来のマ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ム めつき工程において、 高応 力ニ ッ ケ ルめっ き 後に こ の最終光沢ニ ッ ケ ルめっき工程 を単に付加するだけで よ く 、 従つて本発明の耐食めつき 方法を容易に採用する こ とができ る特徵も ある 図 面 の簡単 な 説 明 Furthermore, according to the present invention, as a final bright nickel plating performed after high stress nickel plating, a normal bright nickel plating bath can be used under normal working conditions, In addition, in the conventional micro-chroming process, it is sufficient to simply add the final gloss nickel plating process after the high stress nickel plating. Therefore, there is also a feature that the corrosion resistance method of the present invention can be easily adopted. Brief explanation of the drawing
PIG. i はめつき試験片の耐食性評価区画部分を示す 平面図である。  PIG. I is a plan view showing the corrosion resistance evaluation section of the fitted test piece.
F I G . 2 か ら F IG. 9 ま では、 それぞれ本発明の耐食 めっき方法.に従っためっき試験片 と従来のマ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク σ ム めっき法も し く は本発明の耐食めつき方法と 異なるめっき法に従った比較めつき試験片の耐食性をキ ヤ ス試験法に よ ·]?試験 した場合におけるサ イ ク ル数と レ ィ テ ィ ン グ ナ ン バー と の関係を示すグ ラ フ で、 FIG. 2 か ら : PIG. 6 ま での図面において、 Aを付してある図面 はそれぞれめっき試験片のク 口 ムめっき高電流密度部分 の耐食性の程度を示すグ ラ フ 、 B を付 してある図面はそ れぞれ試験片のク 口 ムめっき 中電流密度部分の耐食性の 程度を示すグ ラ フ 、 C を付してある図面はそれぞれ試験 片のク ロ ム めつき低電流密度部分の耐食性の程度を示す ク ラ フ である。  From FIG. 2 to FIG. 9, plating specimens according to the corrosion-resistant plating method of the present invention and the conventional micro-black σ-mu plating method or the corrosion-resistant plating method of the present invention, respectively. The corrosion resistance of the comparative plating test piece according to the plating method different from the plating method is determined by the cast test method.] Relationship between the number of cycles and the rating number in the test In the drawings from FIG. 2 to PIG. 6, the figures marked with A show the degree of corrosion resistance of the high-current-density portion of the plated test piece. The drawings marked with R and B are the graphs showing the degree of corrosion resistance at the current density portion during the plating of the test piece, respectively, and the drawings marked with C are the cross-sections of the test piece, respectively. This is a graph showing the degree of corrosion resistance in the low current density area.
発明を実施するための最良の形態  BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
本発明におい て 、 被めつき物の材質には特に制限はる く 、 鉄鋼、 亜鉛、 ア ル ミ ニ ウ ム 、 銅、 銅 - 亜鉛合金その 他の金属素地や A B S樹脂その他のプ ラ ス チ ッ ク素地上 にその材質に応じた通常の方法で所定の前処理を行った 後、 これに本発明方法を実施 し得る。 例えば、 前処理と して金属素地の場合には、 一般に金属表面を浸漬法及び Z又は電解法に よ Dアルカ リ 脱脂 した後、 酸で中和する 方法が採用で き る。 ア ル ミ ニ ウ ム素地の場合には表面を  In the present invention, the material of the covering object is not particularly limited, and may be iron, steel, zinc, aluminum, copper, copper-zinc alloy, other metal base materials, ABS resin, or other plastic. After performing a predetermined pre-treatment on the metal substrate by a normal method according to the material, the method of the present invention can be carried out on this. For example, in the case of a metal substrate as the pretreatment, a method of generally degreased the metal surface by a dipping method and Z or electrolytic method and then neutralizing with an acid can be adopted. In the case of aluminum
OMPI一 fお WIPO— OMPI-ichi WIPO—
, 活性化 した後、 亜鉛置換を行 う 方法が採用でき る。 -また プ ラ ス チ ッ ク素地の場合には、 ク ロ ム酸 - 硫酸混合液で 化学エ ッ チ ン グする方法或いは機械的粗化法を採用 して プ ラ ス チ ッ ク表面を粗化 した後、 こ の粗化 したプ ラ ス チ ッ ク表面にパ ラ ジ ウ ム等の触媒金属核を付着させる活性 化工程を行い、 次いで無電解銅めつき、 無電解ニ ッ ケ ル めっき等の無電解めつき を行って、 プラ スチック.表面を 金属化する方法が採用で き る。 , After activation, a method of performing zinc substitution can be adopted. -In the case of plastic substrates, the plastic surface is roughened by chemical etching with a mixture of chromic acid and sulfuric acid or by mechanical roughening. After that, an activation process is performed to attach catalytic metal nuclei such as palladium to the roughened plastic surface, and then electroless copper plating and electroless nickel plating Metallization of plastic surface by electroless plating such as
本発明の耐食めつき方法の第 1 プ ロ セ スであるニ ッケ ルめっき を行 う 前に、 必要に よ ]? 所望の下地めつき を行 う こ とができ る。 この場合、 この下地めつきの種類は特 に限定されず、 被めつき物の材質、 用途等に応 じて'選択 される。 例えば、 第 1 プ ロ セ スであるニ ッ ケ ルめっきの 前に、 光沢銅めつき を.行 う こ とができ る。 光沢銅めつき と しては通常の硫酸銅めつき浴、 ヒ° ロ リ ン 酸銅めつき浴 實化銅めつき浴、 その他の銅めつき浴を通常の浴組成、 めっき条件で使用する こ と に よ J?実施する こ とができ る 本発明において、 第 1 プ ロ セ ス と してのニ ッ ケ ルめつ き ( 第 1 ニ ッ ケ ルめっき ) は、 この よ う に被めつき物表 面上に直接も し く は所定の下地めつき被膜を形成 した後 に行われる。 こ の第 1 - ッ ケ ルめっき に用いる浴と して は.、 通常の普通ニ ッ ケ ル浴、 半光沢ニ ッ ケ ル浴、 光沢- ッ ケ ル浴のいずれでも よい。 ま た浴組成も硫酸ニ ッ ケ ル 塩化ニ ッ ケ ル、 ホ ウ酸を主体 とする ワ ッ ト 浴が通常は用 い られるが、 必ず しも これに限定されない。 しか し、 通  Necessary before nickel plating, which is the first process of the corrosion-resistant plating method of the present invention.]? A desired undercoating can be performed. In this case, the type of the undercoating is not particularly limited, and is selected according to the material, use, and the like of the covering object. For example, bright copper plating can be performed before nickel plating, which is the first process. For the bright copper plating, use a normal copper sulfate plating bath, a copper chlorophosphate plating bath, a copper plating bath, and other copper plating baths with the usual bath composition and plating conditions. In the present invention which can be carried out by this, the nickel plating (first nickel plating) as the first process is thus covered. This is performed directly or after forming a predetermined undercoating film on the surface of the attachment. The bath used for the first-nickel plating may be any of a normal ordinary nickel bath, a semi-gloss nickel bath, and a gloss-nickel bath. As for the bath composition, a watt bath mainly containing nickel sulfate, nickel chloride and boric acid is usually used, but is not necessarily limited to this. However,
RE RE
O PI O PI
/,, WIPO 常、 めっき物の外観を良好に し、 レ ペ リ ン グを良好にす る点か ら半^沢ニ ッ ケ ル浴、 光沢ニ ッ ケ ル浴が好適に使 用される。 この場合、 必要に よ ]?半光沢ニ ッ ケ ルめっき 後、 光沢- ッ ケ ルめっき を行 う等、 従来公知の多層ニ ッ ケ ルめっ き法を採用する こ と も でき る。 ¾ぉ.、 こ の第 1 ニ ッ ケ ルめっき のめっき条件は、 浴の種類等に応 じた通 常の条件が採用される。 /, WIPO Usually, a nickel bath or a glossy nickel bath is preferably used from the viewpoint of improving the appearance of the plating and improving the repelling. In this case, it is necessary. ?? A conventionally known multi-layer nickel plating method can be adopted, for example, by performing gloss-nickel plating after semi-bright nickel plating.め っ き. As the plating conditions for the first nickel plating, ordinary conditions according to the type of bath and the like are employed.
具体的には、 第 1 ニ ッ ケ ルめっき浴と して下記組成の 浴が下記条件にお い て好適に用い られる。 取 : 假  Specifically, a bath having the following composition is preferably used as the first nickel plating bath under the following conditions. Tori: Holiday
Ni S04 · 6¾0 00~400^ ¾ 280 Ni S0 4 6¾0 00 ~ 400 ^ 280 280
Ni C 2 · 6H20 30〜 60^ ¾ 45 Ni C 2 6H 20 30〜60 ^ ¾ 45
H3B03 20〜 60 ^ 40 / H 3 B0 3 20-60 ^ 40 /
半光沢剤又は光沢剤 τΜ. 直 PH 3.5 5.5 4, 2  Semi brightener or brightener τΜ. Straight PH 3.5 5.5 4, 2
めっき温度 4 0 - 6 5 °C 5 5 °C  Plating temperature 40-65 ° C 55 ° C
陰極電流密度 1 ~ 10
Figure imgf000009_0001
Cathode current density 1 to 10
Figure imgf000009_0001
攪 拌 空気、 機械 空気、 機械 また、 半光沢剤、 光沢剤 と しては通常使用されている 公知の も のを通常の添加量にお て用 る と とができ る , 例えば、 半光沢剤 と してク マ リ ン 、 ホ ル マ リ ン 、 - ザ チ ン - 1,4 - ジオー ル及びその誘導体を単独で又は組み 合せて使用する こ とができ る。 光沢剤と しては一次光沢 剤と して 1 , 5 - , 1,6 - 又は 2 , 5 - ナ フ タ リ ン ジ ス ル ホ  Stirring air, machine air, machine In addition, as a semi-brightening agent and a brightening agent, known ones which are usually used can be used in a usual addition amount, for example, a semi-brightening agent As such, coumarin, formalin, -zatin-1,4-diol and derivatives thereof can be used alone or in combination. 1,5-, 1,6-or 2,5-naphthalene sulfone as primary brightener
Α Α
OMPI 鶴 ン酸 ソ 一'ダ、 1 , 3 , 6 - ナ フ タ リ ン ト リ ス ル ホ ン酸ソ ーダ ペ ン ゼ ン ス ノレ ホ ン酸ソ 一ダ等のス ル ホ ン酸類、 ペ ン ゼ ン ス ノレ ホ ン ア ミ ド、 ノ ラ ト ノレ ェ ン ス ノレ ホ ン ア ミ ド等の ス ノレ ホ ンア ミ ド類、 サ ッ カ リ ン等のス ル ホ ン イ ミ ド 類、 ス ル フ ィ ン酸類、 ス ル ホ ン類等を単独で又は組合せて用いる こ とができ、 ま た二次光沢剤と して 2 - チ ン - 1 , 4 - ジオー ル及びその誘導体、 プロノ ギル 了 ル コ ー ル及びそ の誘導体、 包水ク ロ ラ ー ル及びその誘導体、 エ チ レ ン シ ア ン ヒ ド リ ン 及びその誘導体、 チ才尿素及びその誘導体 ァ ソ、、染料、 ク マ リ ン 、 ホ ル マ リ ン等を単独で又は組合せ て用いる こ とができ る。 OMPI crane Sodium phosphate, 1,3,6-Naphthalene trisulfonate Sodium phosphate Pensence Sulfonates such as sodium phosphate Snorrenone amides such as sensnorehone amide, norat noren hen norenhon amide, etc., sulphone imids such as saccharin, Sulfuric acids, sulfones, etc. can be used alone or in combination, and as a secondary brightener, 2-tin-1,4-diol and its derivatives, pronogyl Alcohol and its derivatives, water-sealable chloral and its derivatives, ethylene hydrin and its derivatives, thiocyanate urea and its derivatives azo, dyes and bears Lin, formalin, etc. can be used alone or in combination.
お、 前記浴にはピ ッ ト 防止のための湿潤剤、 その他 の所望の成分を加えて も よい。  The bath may contain a humectant for preventing pitting and other desired components.
前記第 1 ニ ッ ケ ルめっき に よ る被膜厚さは、 本発明方 法に よ ])、 従来の耐食めつき プロ セ スに比較 して優れた 耐食性めつき被膜が得 られるので、 か ])薄 く ても よ く 例えば約 2 で も差支えないが、 よ 高度な耐食性を与 える点か らは、 被めつき物に直接第 1 ニ ッ ケ ルめっき を 施す場合は約 5 μ以上、 よ ]3望ま し く は 6 以上である 被めつき物に下地めつき を行つた後、 この第 1 ニ ッ ケ ル めっき を施す場合は、 下地めつき と第 1 ニ ッ ケ ルめっき との総計膜厚が約 5 以上、 よ 望ま し く は約 6 以上 である。 即ち、 後述する高応力ニ ッ ケ ルめっき前の総計 めっき厚さが約 以上、 よ j?望ま し く は 6 以上に ¾ る よ う にめつき する こ とが好ま しい。 特に、 下地めつき と して銅めつき を施す場合は、 第 1 ニ ッ ケルメ ツ キに よ る被膜厚さを 1 〜 2 と した場合、 銅メ ツ キの厚さは 6 〜 8 ί以上、 よ 1?望ま し く は 1 0 以上とする ( 即ち、 ニ ッ ケ ルめっき単独の場合の約 2 倍以上の厚さ ) こ と力; 更に好ま しい。 ま た、 第 1 ニ ッ ケ ルめっき厚さ或いは第 1 ニ ッ ケ ルめっき と下地めつ き と の総計膜厚は、 厚 く れば る程耐食性は向上するが、 経済性の点か ら考えて 約 5 0 が上限であ ]) 、 通常は約 3 0 以下の膜厚で よ 次に、 本発明では前記第 1 ニ ッ ケ ルめっき被膜上に高 応力ニ ッ ケ ルめっき を施す。 この高応力ニ ッ ケ ルめっき 浴と しては、 公知の も のが使用で き、 例えば高応力ニ ッ ケ ルめっき後、 直接ク ロ ム めつき を施す場合にク 口 ム め つき膜に対しマ イ ク ロ ク ラ ッ ク を発生させる浴、 或いは こ の浴か ら得 られるニ ッ ケ ル電着 とほぽ同程度 も し ぐは それ以上の高応力を有する二 ッ ケ ル電着物を与える浴等 をその通常のめっ き条件で使用する こ とができ る。 具体 的には、 米国特許第 3,388,049 号に開示されている塩 ィ匕ニ ッ ケ ル 、 ス ル フ ア ミ ン 酸 ニ ッ ケ ル又はホ ウ フ ツイ匕二 ッ ケル と齚酸、 酢酸ア ン モ ニ ゥ ム 又は酢酸ニ ッ ケル と を 含む浴、 米国特許第 3,471,271 号に開示されているァ ミ ノ カ ル ボ キ シ リ ッ ク ァ シ ド、 ア ミ ノ ス ル ホ ニ ッ ク ァ シ ド、 ァ ミ ノ ホ ス ホ ニ ッ ク ァ シ ド力 ら選ばれる ア ミ ノ 酸を 含有する高塩化物浴、 米国特許第 3, 563,864 号及び日 本特公昭 45— 18766号に記載されているニ ッ ケ ルィ 才 The thickness of the coating by the first nickel plating is determined by the method of the present invention.]), Because a coating having excellent corrosion resistance can be obtained as compared with a conventional corrosion-resistant coating process. ) Although it may be thin, for example, about 2 is acceptable, but from the viewpoint of providing high corrosion resistance, when the first nickel plating is applied directly to the object to be covered, about 5 μm or more is required. 3] Desirably 6 or more. After applying the undercoating to the object to be plated, and then applying the first nickel plating, the plating between the undercoating and the first nickel plating should be performed. The total film thickness is about 5 or more, and more preferably about 6 or more. That is, it is preferable that the total plating thickness before high-stress nickel plating to be described later is set to be about or more, preferably j or more. In particular, When the copper plating is applied, the thickness of the copper plating is 6 to 8 mm or more, preferably 1 to 2 if the coating thickness of the first nickel plating is 1 to 2. At least 10 (that is, about twice or more the thickness of nickel plating alone); more preferred. Also, the corrosion resistance improves as the thickness of the first nickel plating or the total thickness of the first nickel plating and the undercoating increases, but from the economical point of view. Considering that the upper limit is about 50]), the thickness is usually about 30 or less. Next, in the present invention, high stress nickel plating is performed on the first nickel plating film. As the high-stress nickel plating bath, known baths can be used. For example, when the high-stress nickel plating is applied directly to the chrome plating, the plating film is formed on the plating film. On the other hand, a nickel electrodeposit having a high stress that is about the same as or higher than that of a bath that generates micro cracks or nickel electrodeposition obtained from this bath A bath or the like that gives a bath can be used under the usual plating conditions. More specifically, nickel chloride, nickel sulfamate or nickel sulfofinate disclosed in U.S. Pat. No. 3,388,049, and sulfuric acid, ammonium acetate Bath containing monium or nickel acetate; aminocarboxyl acrylates disclosed in U.S. Pat. No. 3,471,271; aminosulphonic ash And high chloride baths containing amino acids selected from the group consisting of aminophosphonic acid, described in US Pat. No. 3,563,864 and Japanese Patent Publication No. 45-18766. Nicky
O PI ン と ァ ミ ン ポ ラ ン化合物、 ピ リ ジ - ゥ ム化合物、 キ ノ リ ニ ゥ ム化合物、 イ ソ キ ノ リ ニ ゥ ム化合物か ら選ばれる内 部応力形成添加剤 とを含むニ ッ ケ ルめっき浴、 米国特許 第 3,7 5 9,8 0 2 号に記載されている塩化二 ッ ケ ル、 ス ル フ ア ミ ン 酸 ニ ッ ケ ル又はホ ウ フ ツ イ匕ニ ッ ケ ル と ク、、ル コ ン 酸、 ぎ酸、 ]?んご酸、 乳酸、 く えん酸、 こは く 酸又はそ の - ッ ケ ル塩と を含む浴、 日本国特公昭 48— 2 7 1 8 3号 に記載されている塩化ニ ッ ケ ル と ナ ト リ ウ ム 、 カ リ ウ ム 又はア ン モ ニ ゥ ム の塩化物と酢酸、 ダル コ ン 酸、 酒石酸、 ]? んご酸、 乳酸、 ぎ酸、 く えん酸、 こは く 酸又はそのァ ル カ リ 塩、 ニ ッ ケ ル塩と を含む浴、 更には日本国特公昭 4 6— 3 7 64 5号公報に開示されているへキサメ チ レ ン · テ ト ラ ミ ン 、 ピ ペ ラ ジ ン 、 ラ ジ ン 、 2,6 - ジ メ チ ノレ ピ ラ ジ ン等の添加剤を含み、 約 840 0 ^ 以上の高引張 応力を与えるニ ッ ケ ルめっき浴る どが使用でき る。 O PI And an internal stress-forming additive selected from an aluminum compound, a pyridinium compound, a quinoline compound, and an isoquinoline compound. Nickel chloride, nickel nickel sulfamate, or nickel sulfide, described in U.S. Pat. No. 3,759,820 Bath containing sodium chloride, luconic acid, formic acid, malic acid, lactic acid, citric acid, succinic acid or its salt, Japanese Patent Publication 48-27 183 Nickel chloride and sodium, potassium or ammonium chloride and acetic acid, dalconic acid, tartaric acid, and] taronic acid described in No. A bath containing lactic acid, formic acid, citric acid, citric acid, succinic acid or its alkali and nickel salts, and further disclosed in Japanese Patent Publication No. 46-37645. To Includes additives such as xamethylene tetramin, piperazine, razin, and 2,6-dimethinolepyrazine, and has a high tensile stress of about 8400 ^ or more. Nickel plating baths to be given can be used.
また、 高応力ニ ッ ケ ルめっき浴と して、 下記組成及び めっき条件の浴も好ま し く 使用される。  Further, as a high stress nickel plating bath, a bath having the following composition and plating conditions is also preferably used.
最適範囲 塩化ニッケル( 6水塩) 70〜4 QQS^/i 50〜300 /¾ ホ ウ酸 3~45 I' 7~30 " アル力リ土類金属の塩化物 5~200 I' 10〜100 "  Optimum range Nickel chloride (hexahydrate) 70-4 QQS ^ / i 50-300 / ¾ Boric acid 3-45 I '7-30 "Al-chlorite earth metal chloride 5-200 I' 10-100 "
(特に塩化バリゥム )  (Especially barium chloride)
塩化アンモニゥム 0~50 " 30 /^ 以下 一次系光沢剤 週 直  Ammonium chloride 0 ~ 50 "30 / ^ or less Primary brightener Weekly
二次系光沢剤  Secondary brightener
Ο ΓΙ AT pH 3〜 5 3〜 5 ΓΙ ΓΙ AT pH 3 ~ 5 3 ~ 5
めっき温度 - 室温〜 6 0で 5 0で Plating temperature-room temperature ~ 60 at 50
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お、 この浴の場合攪拌は行って も行わる く て も よい。 特に、 こ.の浴は、 この浴でめっき した後、 直接ク ロ ムめ つ き を行 う と低電流密度部分において も、 従来浴と 比較 してか ]) 多 く の微細ク ラ ック が発生する も のである。 ( 例えば電流密度 2A/d 以上の部分で 4 0 0 本以上 Z cm、 O.S S AZC 2 の部分で 1 0 0〜 4 0 0本ノ an の ク ラ ッ ク が生成する。 ) In this bath, stirring may or may not be performed. In particular, if this bath is plated with this bath and then subjected to direct chrome plating, even in low current density areas, compared to the conventional bath, the number of fine cracks may increase. That is, (For example, a crack of 400 cm or more Z cm is generated in the portion where the current density is 2 A / d or more, and 100-400 cracks are generated in the portion of OS SAZC 2 .
前記高応力ニ ッ ケ ルめっき の膜厚は約 0.5 以上、 特 に約 0.5 〜 3 とする こ とが好ま し く 、 通常は 1 程度 で十分である。  The thickness of the high stress nickel plating is preferably about 0.5 or more, particularly about 0.5 to 3, and usually about 1 is sufficient.
本発明においては、 高応力ニ ッ ケ ルめっき を行った後、 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき を行 う。 最終光沢ニ ッ ケ ルめつ き の浴と しては公知の も のを使用する こ とができ、 また その光沢剤も公知の も のを使用 し得る。  In the present invention, after performing high stress nickel plating, final gloss nickel plating is performed. As the bath for the final gloss nickel, a known bath can be used, and a known brightener can also be used.
具体的には、 前記第 1 ニ ッ ケ ルめっき の説明の と ころ で述べた組成、 条件の浴、 光沢剤 ( 一次光沢剤、 二次光 沢剤 ) が好ま し く 用い られる。  Specifically, baths and brighteners (primary brighteners, secondary brighteners) of the composition and conditions described in the description of the first nickel plating are preferably used.
お、 高応力ニ ッ ケ ルめっき後の最終光沢ニ ッ ケ ル の 厚さは、 約 0.5 ^以上とする こ と .が好ま しい。 その上限 は特に制限は いが、 一般には 1 0 である。 特に好ま し く は約 0.5 〜 5 の膜厚であ 、 通常は 1 〜 2 « で十 分 ご る。 前記最終光沢 - ッ ケ ルめつき を行った後は、 '通常はク ロ ム めつき を施すが、 ク ロ ム合金めつき ( 例えばク ロ ム - - ッ ケル ) 、 或いは錫 - コ バ ル ト 合金めつき等の所望 の最終めつき を施すこ と も でき る。 これ ら最終めつき と しては、 そのめつき の種類に応 じた通常の組成の浴を通 常のめっき条件で採用でき る。 例えば、 ク ロ ム めつき浴 と しては、 サージェ ン ト 浴、 ケィ フ ッ化物等のフ ッ化物 含有浴、 ク ロ ム酸を含有 し い三価のク ロ ムか らなる浴 その他適宜 浴が用い られ、 またその膜厚は 0.0 5 以 上、 通常は 0.1 〜 0.3 である。 最終めつき後の後処理 と しては通常の方法が採用でき る。 一般には'、 最終めつ き後、 水洗、 乾燥すれば よい。 The thickness of the final glossy nickel after high stress nickel plating is preferably about 0.5 ^ or more. The upper limit is not particularly limited, but is generally 10. Particularly preferably, the film thickness is about 0.5 to 5 and usually 1 to 2 mm is sufficient. After the final gloss-to-kernel plating, the chrome plating is usually applied, but the chrome alloy plating (eg chrome-to-kernel) or tin-to-cobalt A desired final plating such as alloy plating can also be performed. For these final platings, a bath having a normal composition according to the type of plating can be employed under normal plating conditions. For example, the chrome plating bath includes a surge bath, a fluoride-containing bath such as fluorinated fluoride, a bath made of trivalent chromium containing chromic acid, and other appropriate baths. A bath is used, and the film thickness is 0.05 or more, usually 0.1 to 0.3. The usual method can be used for post-processing after final plating. Generally, it is sufficient to wash with water and dry after final fixation.
本発明に係る高耐食めつき プ 3 セ スは、 上述 した よ う に被めつき物に直接も し く は下地めつき を施 した後第 1 ニ ッ ケ ルめっき を行い、 次いで高応力ニ ッ ケ ルめっき を 行い、 更に最終光沢 - ッ ケ ルめっき を施 し、 最後にク ロ ムめっき も し く はその他の最終めつき を行 う こ と を特徵 とする も ので、 これに よ j?従来のマ イ ク ロク ラ ック ク ロ ムめっき法に比較 して更に優れた耐食性めつき被膜を形 成 し得たも のである。  As described above, the high corrosion resistance plating process according to the present invention is to apply the first nickel plating after directly or undercoating the object to be coated, and then perform the high stress plating. It is characterized by the application of a nickel plating, a final gloss-nickel plating, and finally a chrome plating or other final plating. (4) It was possible to form a coating with better corrosion resistance than the conventional micro black plating method.
以下、 実施例を示 して本発明を更に具体的に説明する が、 本発明は下記の実施例に限定される も のでは い。 〔 実施例 1 〕  Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. [Example 1]
- 下記に示すめっ き工程に したがい、 1 0 OT X 6.5 の みがき鋼板を常法に よ ]?電解脱脂、 酸洗処理 して表面を 清浄、 活性化 し'た後、 下記組成の光沢ニ ッ ケ ルめっき浴 にて第 1 表に示 し 厚さのめっき ( 第 1 光沢ニ ッ ケ ル め つき ) を施 した。 次いで下記組成の高応力ニ ッ ケ ルめつ 'き浴にて l ί のめつ き を施 し、 更に前記光沢ニ ッ ケ ル め つき浴と同組成の浴にて所定厚さのめっ き ( 最終光沢二 ッ ケ ルめっき ) を施 した。 次に、 通常のハ ル セ ル試験器 を使用 して 1 O A、 1 分間の条件でク π ム めつき を行つ た ( 下記ク ロ ム めつき浴使用 ) 。 -In accordance with the following plating process, use a 10 OT X 6.5 polished steel plate in the usual manner.]? Electrolytic degreasing and pickling to make the surface After cleaning and activating, plating was performed in a bright nickel plating bath of the following composition with the thickness shown in Table 1 (with the first bright nickel plating). Next, a high-strength nickel plating bath having the following composition is subjected to l 更 に plating, and a plating having a predetermined thickness is performed in a bath having the same composition as the above-mentioned glossy nickel plating bath. Final gloss nickel plating) was applied. Next, using a normal Hall cell tester, the pi-membrane plating was performed under the conditions of 1 OA and 1 minute (using the chrome plating bath described below).
上記方法に よ ]? 得られためっき試験片を F IG. 1 に示 した よ う に ·高電流密度部側 A部分、 中電流密度部側 B部 分、 低電流密度部側 C部分の 3 部分に区画 し、 下記記載 の キ ャ ス試験 ( JIS D 201 ) を行って A , B , C部分 の耐食性をそれぞれ検討 した。 お、 中 L = 2 cmである。  According to the above method]? As shown in Fig. 1, the obtained plated test piece was divided into three parts: A part on the high current density part, B part on the medium current density part, and C part on the low current density part. The sections were divided into sections, and the following cast tests (JIS D 201) were performed to examine the corrosion resistance of sections A, B, and C, respectively. Contact, middle L = 2 cm.
ま た比較のため、 光沢ニ ッ ケ ルめっき、 高応力ニ ッ ケ ルめっき を順次施 した後、 最終の光沢ニ ッ ケ ルめっき を 行わず、 そのま ま ク ロ ム め っ き を施 した試験片の耐食性 を同様に して検討 した。  For comparison, bright nickel plating and high-stress nickel plating were sequentially performed, and then the final bright nickel plating was not performed, and the chrome plating was performed as it was. The corrosion resistance of the test specimen was examined in the same manner.
結果を FIG. 2 A , B , C及び FIG. 3 A , B , Cに 示す。 お、 FIG. 2 から FI G. 6 ま での図面において The results are shown in FIG. 2A, B, C and FIG. 3A, B, C. In the drawings from FIG. 2 to FIG. 6
Aを付 した図面は高電流密度側 A部分、 B を付した図面 は中電流密度側 B部分、 C を付した図面は低電流密度側 C部分の耐食性試験結果をそれぞれ示すも の である。 めっき工程 The drawing with A shows the corrosion resistance test results on the high current density side A, the drawing with B shows the corrosion resistance test results on the medium current density side B, and the drawing with C shows the corrosion resistance test results on the low current density side C. Plating process
1.陰極電解脱脂 .  1.Cathode electrolytic degreasing.
WIPO 組成 メタケイ酸ナト リウム 1 09/ & WIPO Composition Sodium metasilicate 1 09 / &
ソ一ダ灰 1 0 n 水酸化ナト リウム 30 〃  Sodium ash 10 n sodium hydroxide 30 〃
ト リポリ リン酸ナト リウム 1 0 " ァニオン活性剤 0.1 II 陰極電流密度 1 OAZd^  Tripoly sodium phosphate 10 "Anionic activator 0.1 II Cathode current density 1 OAZd ^
時 間 1 〜 2 分  Time 1-2 minutes
6 0 〜 6 5。C  60-65. C
2.水!Π  2. Water! Π
3.酸洗 1 0重量 硫酸水溶液  3.Pickling 10 weight sulfuric acid aqueous solution
' 時間 1 0 秒 '' Time 10 seconds
温度 2 0 ¾  Temperature 20 ¾
4.水洗  4.Washing
5.第 1 光沢ニ ッ ケ ルめっき  5.First bright nickel plating
6.水洗  6.Washing
7.高応力ニ ッ ケ ルめっき  7.High stress nickel plating
8.水洗  8.Washing
9.最終光沢ニ ッ ケ ルめっき  9.Final gloss nickel plating
10.水洗  10.Washing
11.ク 口 ムめ-つき ( ハ ル セ ル試験 )  11.Cock mouth (with Hall cell test)
12.水洗  12.Washing
13.乾燥  13.drying
光沢ニ ッ ケ ルめっき浴 Bright nickel plating bath
硫酸ニッケル(Ni S04 - 6¾0) 280 i 塩化ニッケル( Ni C^2 · 6H20) 45 " Nickel sulfate (Ni S0 4 - 6¾0) 280 i nickel chloride (Ni C ^ 2 · 6H 2 0) 45 "
〇:: π ν, ?0 ホ ウ酸 40 Ά サッカリン 2 " 〇 :: π ν,? 0 Boric acid 40 Ά saccharin 2 "
2 -ザ千ン― , 4 -ジオール 0.2 " pH 4  2-Sen-, 4-diol 0.2 "pH 4
めっき条件
Figure imgf000017_0001
Plating conditions
Figure imgf000017_0001
攪 拌 空 気  Stir air
高応力 - ッ ケ ルめっき浴 High stress-nickel plating bath
塩化ニッケル(NiC_^2 · 6¾0) 250 / Nickel chloride (NiC_ ^ 2 · 6¾0) 250 /
酢酸ソーダ 50 〃 塩^ アンモニゥム 5  Sodium acetate 50 〃 salt ^ ammonium 5
サッカ リン ' 2 "  Saccharin '2 "
2 - チン - 4 -ジ才一ル 0.2  2-Chin-4-Jiichi 0.2
PH 4.0  PH 4.0
30。C  30. C
8 A/d^ 攪 捽 空 気  8 A / d ^ Agitated air
ク ロ ム め つ き浴 Chrome bath
無水クロム酸(Cr03 ) 250 ^/& 三価ク πム ( C r 3+ ) 2.0 " 硫 酸 2-5 // Chromic anhydride (Cr0 3) 250 ^ / & trivalent click π-time (C r 3+) 2.0 "sulfuric acid 2-5 //
45 °0  45 ° 0
讀 0 . お、 キ ャ ス試験は下記組 ·成の塩溶液 Reader 0 Note that the following tests were conducted for the salt solution.
塩化ナ ト リ ウム 5.0重量  Sodium chloride 5.0 weight
蒸留水 9 5.0  Distilled water 9 5.0
塩化第二銅 0.2 6 ^/&  Cupric chloride 0.2 6 ^ / &
CCnC£2 · 2¾0) 氷酢酸で PH 3.1 に調整 を使用 し、 この塩溶液を 4 9 丄 2 での温度雰囲気下にお いて 1.0 の圧力で噴霧する こ と に よ 行った。 試 験は 1 サ イ ク ルを連続 1 6 時間'噴霧と し、 所定サ イ ク ル 行った。 一定サ イ ク ル毎に試験片を取 出 し、 鏡の発生 を レ イ テ ィ ングナ ンパ一で評価 した。 図面に示す結果は サ イ ク ル数 ( 横軸 ) と レ ィ テ ィ ングナ ンパ一 ( 縦軸 ) の 関係を示 した も のである o CCnC £ 2 · 2¾0) using adjusted to PH 3.1 with glacial acetic acid, was carried out good in the arc spraying at a pressure of 1.0 to have you in an ambient temperature of the salt solution at 4 9丄2. In the test, one cycle was sprayed for 16 hours continuously, and the cycle was carried out as prescribed. Specimens were taken out at regular intervals, and the occurrence of mirrors was evaluated using a rating tamper. The results shown in the drawing show the relationship between the number of cycles (horizontal axis) and the rating number (vertical axis).
こ こ で、 レ イ テ ィ ングナ ンパ一 と鐳発生率 ( 腐食面積 率 ) の関係を示すと下記の通 !) である。 .  Here, the relationship between the rating number and the 鐳 occurrence rate (corrosion area rate) is shown below. ). .
レイテンク、'ナンノ ー 腐食面積率 ( )  Latency, 'Nanno' Corrosion area rate ()
1 0 0  1 0 0
9 0.1 0未満  9 Less than 0.10
8 0.1 0以上 0.2 5未満  8 0.10 or more and less than 0.25
7 0.2 5以上 0.5 0未満  7 0.2 5 or more and less than 0.5 0
6 0.5 0以上 1.0 未満  6 0.5 0 or more and less than 1.0
5 1.0 以上 2.5 未  5 1.0 or more 2.5 Not yet
4 2.5 以上 5.0 未 ιίΐ¾  4 2.5 or more 5.0 Not yet
3 5.0 以上 1 0 未眄  3 5.0 or more 1 0
2 1 0 以上 2 5 朱満  2 1 0 or more 2 5
25 以上 5 0 未満  25 or more and less than 50
0 5 0 以上  0 5 0 or more
V>i?〇 » 1 ¾ V> i? 〇 »1 ¾
Figure imgf000019_0001
及び 3 の結果か ら、 高応力ニ ッ ケ ルめっき後 直ちにク 口 ムめっき を施す従来のマ イ ク ロ ク ラ ック ク 口 ム めっき法に比較 して、 ニ ッ ケ ルめっき後、 高応力ニ ッ ケ ルめっき を施 した'上に更に最終光沢ニ ッ ケ めっき を 行い、 次いでク ロ ム めつき を行 う本発明方法に よ ]?、 飛 躍的に耐食性を増大 し得る こ とが知見された。
Figure imgf000019_0001
From the results of and 3, the nickel plating is higher than that of the conventional micro-clock plating method in which the plating is performed immediately after the high stress nickel plating. According to the method of the present invention in which the final nickel plating is further performed on the 'stress nickel plated' and then the chrome plating is performed, the corrosion resistance can be dramatically increased. Was found.
お、 鋼板に光沢ニ ッ ケ ルめっき を 7 施 した後、 直 接ク ロ ム めつき を行った場合の耐食性は、 キ ャ ス試験 1 サ イ ク ル ( 1 6 時間 ) で レ イ テ ィ ン グ ナ ン パ一 6 〜 8 で あった。  The corrosion resistance when a steel plate is subjected to direct nickel plating after 7 glossy nickel platings was applied, and the corrosion resistance was evaluated in one cycle (16 hours) of the cast test. The average number was 6-8.
〔 実施例 2 〕  [Example 2]
実施例 1 において、 第 1 光沢ニ ッ ケ ルめっき の代 に 下記組成の半光沢ニ ッ ケ ルめっき を第 1 ニ ッ ケ ルめっき . V. : 0 と して第 2表に示す通 ]? の膜厚で施 した以外は実施例 1 と同様に して、 みがき鋼板上に半光沢 - ッ ケル ー高応力 ニ ッ ケ ル一光沢ニ ッ ケ ル — ク 口 ムめっき ( ハ ル セ ル試験 を行い、 同様にキ ャ ス試験を行って耐食性を評価 した。 結果を; PI G. 4 に示す。 In Example 1, a semi-bright nickel plating having the following composition was replaced by the first nickel plating instead of the first bright nickel plating. In the same manner as in Example 1 except that the film thickness was as shown in Table 2] ?, a semi-gloss-nickel-high-stress nickel-gloss nickel was applied on a polished steel plate. — Cup plating (Halsell test was performed, and in the same way, a corrosion test was performed by performing a gas test. The results are shown in PIG. 4).
半光沢 - ッ ケ ルめっき浴  Semi-gloss-nickel plating bath
硫酸ニッケル(NiS04 · 6Η20) 280 ^/& Nickel sulfate (NiS0 4 · 6Η 2 0) 280 ^ / &
塩ィ匕-ッケル(NiC 220) 45 Shio-Dai-Kel (NiC 220 ) 45
ホウ酸 40 "  Boric acid 40 "
クマリ ン 0.1 "  Kumarin 0.1 "
PH 4.0  PH 4.0
めっき条件  Plating conditions
50°C 攪 拌 空 気 第 2表  50 ° C stirring air Table 2
Figure imgf000020_0001
Figure imgf000020_0001
FI G.4 の結果か ら、 本発明の耐食めつき方法におい て、 被めつき素材に直接ニ ッ ケ ルめっき を施す場合、 高 応力ニ ッ ケ ルめっき の下地 と るる第 1 ニ ッ ケ ルめっ きの / ΟΜΡΪ 厚さが約 5 ί 以下で も 、 従来のマ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ム めっき法に比較 して十分 耐食性を与える こ とができ る が、 第 1 二 ッ ケ ルめっき厚を約 5 以上にする こ と に よAccording to the results of FI G.4, in the corrosion resistance method of the present invention, when nickel plating is directly applied to the material to be coated, the first nickel as a base for high stress nickel plating is applied.め の / ΟΜΡΪ Even if the thickness is about 5 mm or less, corrosion resistance can be sufficiently provided as compared with the conventional micro-chrome chromium plating method, but the thickness of the first nickel plating is about 5 or more
D、 非常に良好 耐食性を与える こ とができ る こ とが知 見された。 D, It was found that very good corrosion resistance could be given.
〔 実施例 3 ]  [Example 3]
みがき鋼板 ( 1 0 c7« X 6.5 OT ) を実施例 1 と同様に前 処理 した後、 下記組成の實化銅ス ト ラ イ ク を行い、 水洗 後、 下記組成の銅めつき浴で所定厚さのめっき を行るつ た。 次いで実施例 1 と 同様に して第 1 光沢ニ ッ ケ ルめつ き 、 高応力ニ ッ ケ ルめっき、 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき、 ク ロ ム めつき ( ハ ル セ ル試験 ) を順次施 し、 得 られため つ き試験片の耐食性をキ ャ ス試験に よ ]) 評価 し 0 1¾木 を F I G . 5 及び FI G . 6 に示す After pre-treating a polished steel plate (10c7 «X 6.5 OT ) in the same manner as in Example 1, a solidified copper strike having the following composition was performed. Plating. Next, in the same manner as in Example 1, the first gloss nickel plating, the high stress nickel plating, the final gloss nickel plating, and the chrome plating (Hall cell test) were sequentially performed. 5) Fig. 5 and Fig. 6 show the 01 trees.
なお比較のため、 銅めつき後 、 第 1 ニ ッ ケ ルめっき を 施 'さずに直接高応力ニ ッ ケ ル めつき を行 、 次いで光沢 ニ ッ ケ ノレ めつ き 、 ク ロ ム めつ き を行った場合の耐食性試 験の結果を示す。  For comparison, after copper plating, high-stress nickel plating was performed directly without first nickel plating, followed by gloss nickel plating and chrome plating. The results of the corrosion resistance test in the case where the corrosion was performed are shown.
青化銅ス ト ラ イ ク浴  Copper bronze strike bath
實化第一銅 25 Ά  Cuprous material 25 Ά
遊離青化ソ一 12 . //  Free blue soup 12. //
口ッセル塩 10 //  Mouth salt 10 //
PH 12 .0  PH 12.0
inn ¾. 40 °C inn ¾. 40 ° C
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000021_0001
¾ΕΛ Γ ¾ΕΛ Γ
ΟΙνΙΡΙ _ 時 間 1 分 ΟΙνΙΡΙ _ Time 1 minute
銅めつき浴  Copper plating bath
青化第一銅 8 0 Ά  Cuprous blue 800 0 Ά
遊離實化ソ一ダ 10  Free realization soda 10
πッセル塩 30  Pissel salt 30
ロダン力リ 15  Rodin Power 15
PH 0.5  PH 0.5
温 度 60 °0  Temperature 60 ° 0
攪 拌 空 気 Stir air
P R ㊉ 3 : Θι 0 第 3 表  P R ㊉ 3: Θι 0 Table 3
Figure imgf000022_0001
Figure imgf000022_0001
FI G . 5 及び 6 の結果 よ ]? 、 高応力ニ ッ ケ ル め つ き前 の下地めつ き厚が約 5 以上の場合に、 よ 優れた耐食5 and 6], excellent corrosion resistance when the thickness of the underlayer before high stress nickel plating is about 5 or more.
-一 -one
C.:FI o 効果を与える と共に、 高応力ニ ッ ケ ル'めっき直前の下地 めっき と して - ッ ケ ルめっき を行 う必要がある こ とが認 め られた。 C.:FI o In addition to the effect, it was recognized that it was necessary to perform -nickel plating as a base plating immediately before high-stress nickel 'plating.
〔 実施例 4 〕  [Example 4]
実施例 1 と 同様の前処理を行ったみがき鋼板に実施例 1 と同様な組成の光沢 - ッ ケ ルめっき浴を使用 して 6 の第 1 光沢ニ ッ ケ ルめっき を行った後、 下記組成  Polished steel sheet which had been subjected to the same pretreatment as in Example 1 was subjected to No. 6 first gloss nickel plating using a gloss-nickel plating bath having the same composition as in Example 1, and then the following composition was obtained.
塩化ニッケル(Ni C^2 · 6¾0) 2 50 Ά Nickel chloride (Ni C ^ 2 · 6¾0) 2 50 Ά
ホウ酸 1 0 //  Boric acid 1 0 //
塩化パリウム 20 〃  Parium chloride 20 〃
' 塩化アンモニゥム 10 //  '' Ammonium chloride 10 //
ΡΗ 4.0 //  ΡΗ 4.0 //
の高応力ニ ッ ケ ルめっき浴を使用 し、 浴温 5 0 で、 陰極 電流密度 5 A / d^、空気攪捽の条件で 1 ί のめつ き を行 い、 次いで上記 と同様の光沢ニ ッ ケ ルめっき浴にて 1 の最終光沢ニ ッ ケ ルめっき を行い、 最後にア サ ヒ ク ロ ム N C浴 ( 上衬工業株式会社製 ) にて約 0.2 の ク ロ ム め つき を ピ一力一中で行った。 Using a high-stress nickel plating bath with a bath temperature of 50, a cathode current density of 5 A / d ^, and a 1-cm plating under air-turbulent conditions, then the same luster as above A final gloss nickel plating of 1 is performed in a nickel plating bath, and finally a chrome plating of about 0.2 in an Asahichrome NC bath (manufactured by Kamimitsu Kogyo Co., Ltd.) is selected. I went all the way.
その耐食性は非常に良好で、 キ ャ ス試験 5 サ イ ク ルを 行って も殆んど'鐯の発生はみ られなかった。  The corrosion resistance was very good, and almost no occurrence of '鐯 was observed even after 5 cycles of the cathode test.
¾お、 アサ ヒ ク ロ ム N C 浴の組成、 めっき条件は下記 の通 である。  ¾ The composition and plating conditions of the Asahichrome NC bath are as follows.
アサヒクロム NC 1 8 09-/ Ά  Asahichrome NC 1 8 09- / Ά
(無水クロム酸 1 78 " )  (Chromic anhydride 1 78 ")
三価クロム (Cr3T) 硫 酸 0.9 Trivalent chromium (Cr 3T ) Sulfuric acid 0.9
¾3 §C 45で ¾3 §C at 45
Figure imgf000024_0001
Figure imgf000024_0001
このア サ ヒ ク 口 ム N C浴は無水ク 口 ム 酸 (Cr03) l 78重 量部にフ ッ化物系添加剤 2重量部を混合 してる る も ので あ ]) 、 フ ツイ匕浴の一種である。 マ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ム めっき浴とは異 ¾ る。 Since Again A non click port beam NC baths that are a mixture of full Tsu fluoride-based additive 2 parts by weight of anhydrous click port beam acid (Cr0 3) l 78 by weight part a]), the full Tsui匕浴It is a kind. It is different from a micro black plating bath.
〔 実施例 5 〕  [Example 5]
実施例 1 と同様に してみがき鋼板 ( 1 0 OT X 5 cm ) を 電解脱脂 した後、 酸 _洗する前処理を施 した。 次に、 実施 例 2 に示 した半光沢ニ ッ ケ ルめっき浴、 実施例 1 に示 し た光沢ニ ッ ケ ルめっき浴、 高応力ニ ッ ケ ルめっき浴及び ク π ムめっき浴を同めつき条件で使用 し、 下記 I 及び Π の工程でめつき を行った。 In the same manner as in Example 1, a polished steel plate (10 OT X 5 cm) was subjected to electrolytic degreasing, followed by a pretreatment of pickling and washing. Next, the semi-bright nickel plating bath shown in Example 2, the bright nickel plating bath shown in Example 1, the high-stress nickel plating bath, and the chromium plating bath were used together. It was used under the following conditions and plating was performed in the following processes I and Π.
I. 半光沢ニ ッ ケ ルめっき 一高応力 - ッ ケ ルめつき 一 最終光沢ニ ッ ケ ル め っ き ー ク 口 ムめっき  I. Semi-bright nickel plating One high stress-Nickel plating One final gloss nickel plating
Π. 半光沢ニ ッ ケルめつき 一第 1 光沢ニ ッ ケ ルめっき Π. Semi-gloss nickel plating 1st gloss nickel plating
—高応力ニ ッ ケ ルめっき 一最終光沢 - ッ ケ ルめつ き 一 ク ロ ム め つ き —High stress nickel plating-final gloss-nickel plating
ま た比較のため、 I [ の工程でめっき を行った。  For comparison, plating was performed in the step I [.
I. 半光沢ニ ッ ケ ルめっき 一第 1 光沢ニ ッ ケ ルめっき 一高応力ニ ッ ケ ル めつき 一ク 口 ムめっき  I. Semi-bright nickel plating-1st bright nickel plating-1 high stress nickel plating-1 hole plating
お、 ク ロ ムめつき は 1 0 ^ のビ一 カ ー中で陰極電流 密度 1 5 A/d^ , 浴温 4 5 で , めっき時間 2 分 3 0 秒の 条件で行った。 また、 めっき厚さは第 4 表に示す通 で  The chrome plating was performed in a 10 ^ beaker at a cathode current density of 15 A / d ^, a bath temperature of 45, and a plating time of 2 minutes and 30 seconds. The plating thickness is as shown in Table 4.
\/ v 、'二リ あ 、 総計ニ ッ ケ ルめっき厚さが 1 0 μ , 1 5 μ , 2 0 と る よ う にめつき した ( なお、 めっき厚さがその通 である こ と を電解膜厚計に よ 確認 した ) 。 ' \ / v, 'Nii Oh, the total nickel plating thickness was 10 μm, 15 μm, and 20 μm. (It was confirmed by the electrolytic film thickness meter that the plating thickness was the same.) did ) . '
次に、 各めつき試験片の耐食性をキ ャ ス試験に よ j?調 ベた。 結果を F I G . 7 乃至 F I G . 9 に示す。.  Next, the corrosion resistance of each of the plating specimens was determined by a cast test. The results are shown in FIGS. 7 to 9. .
第 4 表  Table 4
Figure imgf000025_0001
乃至? 1 &. 9 に示す結果ょ 、 本発明の耐食 めつき方法は従来のマ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ムめつき法に 比較 して耐食性を顕著に向上させる も のである こ とが知 見された。
Figure imgf000025_0001
Or? As shown in Figs. 1 & 9, it is clear that the corrosion resistance plating method of the present invention significantly improves the corrosion resistance as compared with the conventional micro-chromic plating method. Was seen.
お、 実験番号 1 7 〜 2 5 ©試験片にっき、 ク ロ ム め つき後下記組成の液  Experiment No. 17 to 25 © After the test piece was attached and chromed, a solution of the following composition
..· -" :ι .. ·-": ι
¾ τΐο 硫酸銅 CuSO4 · 5H20 220 ¾ τΐο Copper sulfate CuSO 4 · 5H 2 0 220
硫 酸 60 //  Sulfuric acid 60 //
に浸漬 し、 温度 2 0 で、 陰極電流密度 0.5 A/d^ 、 時間 1 分の条件でめっき した。 その結果は、 実験番号 1 9 , 2 2 , 2 5 の試験片 ( 従来のマ イ ク ロ ク ラ ッ ク ク ロ ムめ つき法 ) の場合はク ラ ック箇所に銅が電析 し、 ク ロ ム め つき膜にマ イ ク ロ ク ラ ッ クが発生 している こ とが確認さ れた。 これに対 し、 本発明方法に よ る試験片 ( 実験番号 1 7 , 1 8 , 2 0 , 2 1 , 2 3 , 2 4 ) は銅が電析せず ク ラ ッ ク が発生 してい いこ とが認め られた。 And plated at a temperature of 20 at a cathode current density of 0.5 A / d ^ for 1 minute. The results show that, in the case of the test pieces of Experiment Nos. 19, 22 and 25 (conventional micro-black and chrome plating method), copper was deposited at the cracks, It was confirmed that micro cracks were generated on the chromium plating film. On the other hand, in the test pieces (experiment numbers 17, 18, 20, 21, 23, 24) obtained by the method of the present invention, copper was not deposited and cracks were not generated. Was recognized.
〔 実施例 6 '〕  (Example 6 ')
高応力ニ ッ ケ ルめっき浴と して下記組成の(1)〜(5)の浴 を用いた以外は実施例 5 の Π の工程と同様に して、 総計 ニ ッ ケ ルめっき厚さが 1 5 μ ( 半光沢ニ ッ ケ ルめっき 7·5 〜 9 ^ 、 第 1 光沢ニ ッ ケ ルめっき 3.5 、 高応力二 ッ ケ ルめっき 0.5 〜 2 μ ヽ 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき 2 になる よ う にめつき を行った。 次に、 キ ャ ス試験に よ その耐食性を調べた結果は、 いずれも 1 5 サ イ ク ル終了 後において も鐯の発生は殆んど認め られるかった ( レイ テ ィ ン グ、ナ ン ζ 一 9 〜 1 0 ) 。  Except that the baths (1) to (5) having the following composition were used as the high-stress nickel plating bath, the total nickel plating thickness was reduced in the same manner as in step (5) of Example 5. 15 μ (Semi-gloss nickel plating 7.5 to 9 ^, first gloss nickel plating 3.5, high stress nickel plating 0.5 to 2 μ ヽ final gloss nickel plating 2 Next, as a result of examining the corrosion resistance by a cast test, almost no 鐯 was observed even after the completion of 15 cycles. Rating, number 9 to 10).
浴 (1)  Bath (1)
塩化ニッケル(NiC_^2 · 6¾0) 3 7 5 Nickel chloride (NiC_ ^ 2 · 6¾0) 3 7 5
酢酸ニッケル 1 0 0 I'  Nickel acetate 100 I '
2 -ァミノ -チア ール 10 /  2-Amino-Cial 10 /
PH 4.0  PH 4.0
ΟΜΡΪΟΜΡΪ
0 1 0 A/d 温 度 25 °G 攪 拌 空 気 浴 (2) 0 10 A / d Temperature 25 ° G Stirred air bath (2)
塩ィヒニッケル(NiC_^2 - 6¾0) 1 5 09/£ 醉酸アンモニゥム 50 // 塩化アンモニゥム 1 20 „ サッカリ ン 1.0 /Salts Ihinikkeru (NiC_ ^ 2 - 6¾0) 1 5 09 / £醉酸Anmoniumu 50 // chloride Anmoniumu 1 20 "Sakkari emissions 1.0 /
2 - チン - 1,4 -ジオール · 0.1 " PH 4.02-Tin-1,4-diol · 0.1 "PH 4.0
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000027_0001
2 5。C 攪 拌 空 気 浴 (3)  twenty five. C Stirred air bath (3)
硫酸ニッケル(N i S04 6¾0) 240 塩化ニッケル(Ni C 2 6H20) 4 0 // ホウ酸 40 ,/ ト リ チルァミ ンポラン 1.0 / PH 3.5 Nickel sulfate (N i S0 4 6¾0) 240 nickel chloride (Ni C 2 6H 2 0) 4 0 // boric acid 40, / Application Benefits Chiruami Nporan 1.0 / PH 3.5
5 A/d^
Figure imgf000027_0002
5 A / d ^
Figure imgf000027_0002
攪 拌 空 気 浴 (4)  Stir air bath (4)
塩化ニッケル(Ni C · 6H20) 3509-/i ホウ酸 20 1! E D A - 2 N a 20 /ί Nickel chloride (Ni C · 6H 2 0) 3509- / i boric acid 20 1! EDA-2 N a 20 / ί
サッカ リ ン 2 "  Saccharin 2 "
2 - チン - 1 ,4 -ジ才一ル 0.2 〃  2-Chin-1,4-Di 0.2 l
pH 2
Figure imgf000028_0001
pH 2
Figure imgf000028_0001
攪 拌 空 気  Stir air
浴(5) P N S - 1 0 0浴(米国のハーショ • ケミ カルネ土製)  Bath (5) PNS-100 bath (Hersho • Chemi-Carne clay, USA)
塩化ニッケル(Ni C^2 · 6¾O) 25 0 Nickel chloride (Ni C ^ 2 · 6¾O) 25 0
PN - l 50 〃 PN-l 50 〃
Figure imgf000028_0002
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PH (氷酢酸で調製) 4.0 PH (prepared with glacial acetic acid) 4.0
Figure imgf000028_0003
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30。G  30. G
攪 拌 空 気 産業上の利用可能性  Stirred air Industrial applicability
本発明に係る耐食めつき方法は、 高耐食性めつき被膜 を与えるの で、 自動車部品、 航空機部品、 電気部品な ど 高耐食性を要求する部品のめっき に特に適 している。  The corrosion-resistant plating method according to the present invention provides a coating with high corrosion resistance, and is particularly suitable for plating of parts requiring high corrosion resistance, such as automobile parts, aircraft parts, and electric parts.
リ-;Re;
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,

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1. 被めつき物に必要に応 じて下地めつき を施 した後、 第 1 ニ ッ ケ ルめっき を行い、 次いで高応力ニ ッ ケ ル め つ き を行い、 続いて最終光沢ニ ッ ケ ルめっき を施 し、 最後に最終めつき を行 う こ とか ら る高耐食性電気め つき被膜を与える耐食めつき 方法。1. If necessary, apply a first nickel plating after applying an undercoating to the object to be coated, then apply a high-stress nickel plating, and then apply a final gloss nickel. This is a corrosion-resistant plating method that provides a high corrosion-resistant electrical plating film by applying a plating and finally performing a final plating.
2. 高応力ニ ッ ケ ルめっき に用いる浴が、 この浴でめつ き した後直接ク D ム めっき を行 う場合にはク 口 ムめつ き膜にマ イ ク 口 ク ラ ヅ ク を凳生させる浴及びこの浴か ら得 られる ニ ッ ケ ル電着とほぽ同等以上の応力を有す るニッ ケ ル電着を与える浴か ら選ばれる も のである請 求の範囲 1 記載の方法。 2. If the bath used for high-stress nickel plating is to be used for direct plating after plating in this bath, apply a micro-opening to the plating film. The claim 1 which is selected from a bath for producing and a bath which gives nickel electrodeposition having a stress substantially equal to or higher than that of nickel bath obtained from this bath. Method.
3. 第 1 ニ ッ ケ ルめっきが半光沢ニ ッ ケ ルめっ き、 光沢 ニ ッ ケ ルめっき、 及び半光沢ニ ッ ケ ルめっき後光沢二 ッ ケ ルめっき を行 う 二層ニ ッ ケ ルめっきカゝ ら選ばれる も の'であ ]9 、 かつ最終めつきがク ロ ムめつき である請 求の範囲 1 又は 2 記載の方法。  3. The first nickel plating is a semi-gloss nickel plating, a glossy nickel plating, and a two-layer nickel plating with a glossy nickel plating followed by a glossy nickel plating 3. The method according to claim 1 or 2, wherein the final plating is a chrome plating.
4. 高応力ニ ッ ケ ルめっき 前のめっき の合計膜厚が約 2 以上であ 、 高応力ニ ッ ケ ルめっき の膜厚が約 0 . 5 〜 3 であ ]5、 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき の膜厚が約 0 . 5 以上で'ある請求の範囲 1 又は 2記載の方法。 4. The total thickness of the plating before high stress nickel plating is about 2 or more, and the thickness of the high stress nickel plating is about 0.5 to 3] 5. 3. The method according to claim 1, wherein the thickness of the plating is not less than about 0.5.
5. 高応力ニ ッ ケ ルめっき 前のめっき の合計膜厚が約 5 〜 3 0 * であ ]? 、 最終光沢ニ ッ ケ ルめっき の膜厚が約 0 . 5 〜 1 O ί である請求の範囲 4 記載の方法。 5. The total thickness of the plating before high stress nickel plating is about 5 to 30 *], and the thickness of the final bright nickel plating is about 0.5 to 1 Oί. The method according to range 4.
o、: VI iru o ,: VI iru
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102703935A (en) * 2012-06-12 2012-10-03 宁波华楷汽车零部件有限公司 Novel electroplating solution for microcrack nickel electroplating and plastic part electroplating technology adopting electroplating solution

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2188942B (en) * 1986-04-11 1990-04-04 Rolls Royce Plc Protective coating
JPH07111000B2 (en) * 1990-04-09 1995-11-29 荏原ユージライト株式会社 High corrosion resistance nickel plating method
JP4911622B2 (en) * 2007-09-21 2012-04-04 柿原工業株式会社 Defect prevention method for microporous plating

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1991747A (en) * 1933-12-30 1935-02-19 Hanson Van Winkle Munning Co Electroplating sequence
US3090733A (en) * 1961-04-17 1963-05-21 Udylite Res Corp Composite nickel electroplate
US3703448A (en) * 1971-08-31 1972-11-21 Oxy Metal Finishing Corp Method of making composite nickel electroplate and electrolytes therefor

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE555339A (en) * 1956-03-12
JPS4222424Y1 (en) * 1965-08-12 1967-12-21
JPS4325847Y1 (en) * 1966-01-31 1968-10-29

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1991747A (en) * 1933-12-30 1935-02-19 Hanson Van Winkle Munning Co Electroplating sequence
US3090733A (en) * 1961-04-17 1963-05-21 Udylite Res Corp Composite nickel electroplate
US3703448A (en) * 1971-08-31 1972-11-21 Oxy Metal Finishing Corp Method of making composite nickel electroplate and electrolytes therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102703935A (en) * 2012-06-12 2012-10-03 宁波华楷汽车零部件有限公司 Novel electroplating solution for microcrack nickel electroplating and plastic part electroplating technology adopting electroplating solution
CN102703935B (en) * 2012-06-12 2014-08-13 宁波华楷汽车零部件有限公司 Novel electroplating solution for microcrack nickel electroplating and plastic part electroplating technology adopting electroplating solution

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