UA87880C2 - Вакуумно-дугове джерело плазми - Google Patents

Вакуумно-дугове джерело плазми Download PDF

Info

Publication number
UA87880C2
UA87880C2 UAA200706629A UAA200706629A UA87880C2 UA 87880 C2 UA87880 C2 UA 87880C2 UA A200706629 A UAA200706629 A UA A200706629A UA A200706629 A UAA200706629 A UA A200706629A UA 87880 C2 UA87880 C2 UA 87880C2
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
plasma
coil
channel
conductor
deflecting
Prior art date
Application number
UAA200706629A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Inventor
Дмитро Сергійович Аксьонов
Іван Іванович Аксьонов
Володимир Євгенійович Стрельницький
Володимир Васильович Васильєв
Original Assignee
Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" filed Critical Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт"
Priority to UAA200706629A priority Critical patent/UA87880C2/uk
Publication of UA87880C2 publication Critical patent/UA87880C2/uk

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

Винахід належить до галузі металургії, а саме до конструкції вакуумно-дугового джерела плазми. Вакуумно-дугове джерело плазми включає генератор плазми і фільтр для її очищення від макрочасток. До складу генератора плазми входить катод, анод та стабілізуюча й фокусуюча електромагнітні котушки, відповідно. Фільтр містить прямолінійний плазмовід, зовнішню транспортуючу електромагнітну котушку і внутрішню відхиляючу електромагнітну котушку. Усередині осьового каналу цієї котушки розміщена перегородка. Відстань від вхідного отвору осьового каналу цієї котушки до вказаної перегородки не менша за половину діаметра її каналу, а діаметр вказаного каналу не менший за третину зовнішнього діаметра цієї котушки. Винахід забезпечує зменшення втрат плазми при транспортуванні її через фільтр.

Claims (1)

  1. (51) МПК (2009) Кох с23с 14/00 М Сб23С 14/35 Сб23С 14/56 НОБН 1/00 НОБН 11/26 НОВ 7/00 нО1 37/08
    НО1. 37/30 МІНІСТЕРСТВО ОСВІТИ Ї НАУКИ УКРАЇНИ ДЕРЖАВНИЙ ДЕПАРТАМЕНТ о п И С ІНТЕЛЕКТУАЛЬНОЇ ДО ПАТЕНТУ НА ВИНАХІД ВЛАСНОСТІ ишиГлРОІОТЛМЛИЬЛЬЛИТЬЛЬЛЬЛИЛДИТЬТЬТЬЬТИЬНЬ6ИЬТЬШИЬИЬТЬТЬТНИТЬТНШЬЬИТСИТИТИОИООТИТИТОИОИИТИИЬЬИИИОИИИИОВЛЛЄОЄИЄЄИБИТНТЦИЖИЄ6ЦООЦТНИИТЛ ОІаІНШШШООЛІТОООЛЇИОООЛООЛЛЛТОООХТОЛИОІЕВПОВШ?ИЙЦТЬНТНТИТИТЬТЬТЬЬЬЬШЬОХОИТЬИЬТИТОИИОСХИХДТИОВИТХИХННЙКЙИХИТИИИИНИТТЯ (54) ВАКУУМНО-ДУГОВЕ ДЖЕРЕЛО ПЛАЗМИ 1 2 (21) а200706629 підключення транспортуючої котушки, яке відріз- (22) 13.06.2007 няється тим, що осьовий канал внутрішньої від- (24) 25.08.2009 хиляючої котушки відкритий принаймні з боку ка- (46) 25.08.2009, Бюл.Мо 16, 2009 р. тода, а всередині цього каналу розміщена (72) АКСЬОНОВ ДМИТРО СЕРГІЙОВИЧ, АКСЬО- перегородка, яка перекриває поперечний переріз НОВ ІВАН ІВАНОВИЧ, СТРЕЛЬНИЦЬКИЙ ВОЛО- цього каналу. ДИМИР ЄВГЕНІЙОВИЧ, ВАСИЛЬЄВ ВОЛОДИМИР 2. Вакуумно-дугове джерело плазми за п. 1, яке ВАСИЛЬОВИЧ й й відрізняється тим, що діаметр зазначеного осьо- (73) НАЦІОНАЛЬНИЙ НАУКОВИЙ ЦЕНТР "ХАР- вого каналу не менший за третину зовнішнього КІВСЬКИЙ ФІЗИКО-ТЕХНІЧНИИЙ ІНСТИТУТ" діаметра внутрішньої відхиляючої котушки, або (56) 5), 1 040 631, А, 07.09.1983 зовнішнього діаметра кожуха цієї котушки, якщо ОА, 44 842, С2, 15.03.2002 він є, а зазначена перегородка зміщена всередину с ОА, 46 887, С2, 17.06.2002 осьового каналу відносно його отвору з боку еро- (о) ОА, 84 675, С2, 25.11.2008 дуючого катода на відстань не меншу за половину є КИ, 2 180 472, 10.03.2002 його діаметра. мий МО, 92/16959, А1, 01.10.1992 3. Вакуумно-дугове джерело плазми за пп. 1 або 2, СА, 1 176 599, А1, 23.10.1984 яке відрізняється тим, що зазначена перегородка и, 4 551 221, А, 05.11.1985 електрично ізольована від конструктивних елеме- ав! и, 4 512 867, А, 23.04.1985 нтів цього джерела. со УР, 2007-046144, А, 22.02.2007 4. Вакуумно-дугове джерело плазми за будь-яким со Аксенов И.И., Белоус В.А. и др. Устройство для з пп. 1-3 яке відрізняється тим, що витки, які че очистки плазмь вакуумной дуги от микрочас- утворюють внутрішню відхиляючу котушку, вигото- со тиц//Приборь и техника зксперимента, 1978, Мо 5.- влені з електропровідної трубки з можливістю про- ра
    С.236-237 тікання по ній охолоджувача. в. (57) 1. Вакуумно-дугове джерело плазми, що 5. Вакуумно-дугове джерело плазми за будь-яким включає еродуючий катод, анод, охоплений елект- з пп. 1-4, яке відрізняється тим, що зовнішня ромагнітною фокусуючою котушкою, прямоліній- транспортуюча котушка складається принаймні з ний плазмовід, охоплений зовнішньою електрома- двох співвісних секцій. « гнітною транспортуючою котушкою, всередині б. Вакуумно-дугове джерело плазми за будь-яким в якого розташована внутрішня електромагнітна з пп. 1-5, яке відрізняється тим, що внутрішня 87 відхиляюча котушка з осьовим каналом і підклю- відхиляюча котушка складається принаймні з двох Кай ченням її до джерела електроструму зустрічно до співвісних секцій. Винахід належить до техніки формування по- користання в іонно-плазмовій обробці матеріалів. токів металевої й газо-металевої плазми для ви- Винахід може бути використаний для осадження високоякісних покриттів різного призначення - зно- 1984). Це вакуумно-дугове джерело плазми вклю- состійких, антифрикційних, декоративних, електро- чає еродуючий катод, анод, охоплений електрома- й теплопровідних, електро- й теплоізолюючих та. гнітною котушкою, прямолінійний плазмовід, охоп-
    ін., а також для поверхневого модифікування ма- лений зовнішньою транспортуючою теріалів опроміненням потоками іонів та/або елек- електромагнітною котушкою, всередині якого роз- тронів. ташована внутрішня відхиляюча електромагнітна Повнота реалізації надзвичайних можливостей котушка з осьовим каналом, із можливістю підклю- вакуумної дуги як інструмента для формування чення її до джерела електроструму зустрічно до високоякісних покриттів залежить від того, наскіль- транспортуючої котушки. Відхиляюча котушка ки успішно буде вирішена проблема так званих розміщена у кожусі, який забезпечує можливість макрочастинок - краплин та твердих фрагментів протоку охолоджувача. Осьовий канал цієї котуш- матеріалу еродуючого катода. Потрапляючи на ки з обох кінців закритий торцевими стінками ко- поверхню виробу, на якому формують покриття, жуха. Прямолінійний плазмовід із зовнішньою такі частинки погіршують його якість, знижують транспортуючою котушкою, внутрішньою відхиля- його службові характеристики. ючою котушкою і кожухом, що її охоплює, утворю- Відоме вакуумно-дугове джерело плазми ГИ. И. ють фільтр для запобігання потрапляння макроча- Аксенов, В.А. Белоус, В.Г. Падалка, В.М. Хороших стинок вна вихід вакуумно-дугового джерела. «Устройство для очистки плазмь! вакуумной дуги Транспортуюча й відхиляюча котушки включені от макрочастиц», ПТЗ, Мо5, 1978, с. 236-237), що зустрічно й генерують трубчастий магнітний потік в включає еродуючий катод і анод, охоплений елек- проміжку між кожухом відхиляючої котушки та пла- тромагнітною котушкою. Для формування потоків змоводом. Уздовж цього потоку в обхід відхиляю- очищеної від макрочастинок вакуумно-дугової чої котушки з кожухом плазма транспортується до плазми в цьому джерелі використовують криволі- виходу із плазмоводу на поверхню виробу. Зовні- нійний фільтр. Він містить у собі трубоподібний шній діаметр відхиляючої котушки обраний таким, плазмовід, зігнутий у вигляді чверті тора, і систему що між робочою поверхнею катода та вихідним магнітних котушок, розміщених уздовж плазмово- отвором плазмоводу відсутня пряма видимість.
    ду. Заряджені компоненти плазми катодного мате- Тому макрочастинки, рухаючись прямолінійними ріалу - іони та електрони - транспортуються за траєкторіями, перехоплюються відхиляючою ко- допомогою магнітоелектричних полів уздовж кри- тушкою в кожусі і на вихід плазмоводу не потрап- волінійного плазмоводу від катода до поверхні ляють. Торцева стінка цього кожуху, звернена до виробу, на якій іони, конденсуючись, утворюють катоду, виконує роль екрана, який перехоплює покриття. Макрочастинки у порівнянні з іонами макрочастинки, які рухаються в напрямку осьового мають дуже велику масу, майже незаряджені, й каналу відхиляючої котушки. тому не реагують ні на магнітні ні на електричні Недоліком пристрою є низька ефективність поля. Рухаючись по прямолінійним траєкторіям пропускання плазми через фільтр. Це обумовлено вони стикаються (можливо декілька разів) з повер- тим, що значна частина первинного потоку іонів хнею плазмоводу, висаджуються на ній але на втрачається, попадаючи на екран, тобто на торце- вихід з фільтра майже не потрапляють. ву поверхню кожуха відхиляючої котушки. Недоліками цього пристрою, які заважають йо- Задачею, на вирішення якої направлений ви- го широкому застосуванню в практиці високих тех- нахід, є удосконалення вакуумно-дугового джере- нологій, є складність. Громіздкість і порівняно ни- ла плазми для зменшення втрат плазми під час її зька ефективність транспортування плазми через фільтрування від макрочастинок і транспортуван- криволінійний фільтр. ня в плазмоводі. Задача повинна вирішуватися Відоме також вакуумно-дугове джерело плаз- шляхом конструктивних змін, які для досягнення ми (І. Аксенов, 05, 4 551221, 1981), яке містить зазначеного результату, повинні створити певні циліндричний або конічний катод з робочою пове- геометричні та магнітоелектричні конфігурації в рхнею, що випаровується катодною плямою дуги, плазмоводі вакуумно-дугового пристрою. трубоподібний циліндричний анод і електромагніт- Поставлена задача вирішується у вакуумно- ні котушки. Останні утворюють магнітні поля для дуговому джерелі плазми, яке також, як і джерело, утримання катодної плями на робочій поверхні прийняте за прототип, включає еродуючий катод, катода і фокусують плазмовий потік, який еміту- анод, охоплений електромагнітною фокусуючою ється катодною плямою. В цьому джерелі внаслі- котушкою, прямолінійний плазмовід, охоплений док того, що практично уся іонна складова спря- зовнішньою електромагнітною транспортуючою мовується фокусуючим магнітним полем на вихід котушкою, всередині якого розташована внутрішня джерела, а макрочастинки, рухаючись переважно електромагнітна відхиляюча котушка з осьовим у радіальних напрямках, перехоплюються стінками каналом, з підключенням її до джерела електро- анода, концентрація макрочастинок у вихідному струму зустрічно до транспортуючої котушки. потоці плазми знижується, а ефективність транс- Відповідно до винаходу, осьовий канал відхи- портування плазми зростає. Конструкція джерела ляючої котушки відкритий, принаймні з боку като- порівняно проста, але ступінь видалення макроча- ду, а всередині цього каналу розміщена перегоро- стинок із плазми значно нижчий, ніж у попере- дка, яка перекриває поперечний переріз цього дньому пристрої з криволінійним фільтром. каналу. Більш ефективне видалення макрочастинок із Діаметр осьового каналу відхиляючої котушки, плазми і значне спрощення конструкції властиві або її кожуху, якщо він є, у кращому варіанті пови- пристрою, що надалі розглядатиметься як прото- нен бути не меншим за третину її зовнішнього діа- тип: (І. Ахепом еї аї., Сападіап Раїепі Мео1176599, метра (або зовнішнього діаметра кожуху), а зазна-
    чену перегородку треба змістити усередину цього варіанті виконання відхиляючої котушки їй не по- каналу відносно його отвору з боку катода на від- трібен кожух, в якому циркулює охолоджувач. стань не меншу за половину його діаметра. Відхиляюча та/або транспортуюча котушки Зазначена перегородка може бути електрично можуть складатися з кількох (принаймні з двох) ізольована від конструктивних елементів джерела. секцій для забезпечення тонкої настройки розпо- Для того, щоб відхиляючу котушку можна було ділу магнітних полів в плазмоводі з метою оптимі- використовувати без кожуху, витки, які її утворю- зації умов транспортування плазми. ють, можна виготовити з електропровідної трубки Суть винаходу пояснюється графічними мате- із можливістю протоку по ній охолоджувача. ріалами. Транспортуюча котушка може складатися, На Фіг.1 зображена загальна схема пропонує- принаймні, з двох співвісних секцій. мого пристрою в одному із варіантів його виконан- Відхиляюча котушка також може складатися ня без кожуху відхиляючої котушки. принаймні з двох співвісних секцій. На Фіг.2 показаний подовжній переріз відхи- Завдяки зазначеним особливостям винаходу, ляючої котушки у кожусі відповідно до пристрою, на відміну від пристрою-прототипу, в якому вхід до прийнятому за прототип. осьового каналу відхиляючої котушки перекритий На Фіг.3 наведено схему варіанта плазмового екраном (торцевою стінкою кожуха), на якому пла- фільтра пропонуємого пристрою з секціонованими зма, що надходить від джерела, втрачається, в електромагнітними котушками. пристрої за даним винаходом ця частина плазми На Фіг.4 наведено схему варіанта пропонуємо- проходить через відкритий отвір усередину осьо- го пристрою з плазмоводом, який виконує функцію вого каналу котушки. Тут вона взаємодіє з магніт- анода джерела плазми, і з перегородкою, розмі- ним полем, що посилюється до центру котушки. щеною на утримувачі всередині осьового каналу Таке поле являє собою так зване "магнітне дзер- відхиляючої котушки. кало", яке навіть при невеликих значеннях магніт- На Фіг.5 показане тривимірне зображення ва- ної індукції ефективно відбиває електронну компо- ріанта пристрою з трьома генераторами плазми. ненту плазми. Цього достатньо для того, щоб На Фіг.6 зображений подовжній переріз фільт- услід за електронами рухалися у зворотному на- ра з відхиляючою котушкою, витки якої виготовле- прямку і іони в результаті електростатичної взає- ні з трубчастого провідника. модії з негативним просторовим зарядом електро- На Фіг.7 та 8 зображені схеми силових ліній нів, відбитих від магнітного дзеркала. Таким магнітних полів у пропонуємо-му пристрої з двома чином, принцип квазінейтральності плазми при і чотирма секціями транспортуючої котушки відпо- цьому зберігається. Отже, частина плазми, що відно. надходить до відхиляючої котушки, не втрачаєть- На Фіг.9 зображений графік залежності іонного ся. Вона відбивається магнітним дзеркалом, що струму на виході пристрою, що пропонується, від всередині цієї котушки і, змішавшись з основним відстані між вхідним отвором осьового каналу та потоком плазми, направляється до виходу при- перегородкою всередині відхиляючої котушки (у строю за допомогою магнітного поля між плазмо- відносних величинах). водом і відхиляючою котушкою. Розглянемо варіанти практичного виконання Як показали дослідження, зазначені вище діа- пропонуємого пристрою. метр осьового каналу відхиляючої котушки і вели- Вакуумно-дугове джерело плазми, схема якого чина зміщення перегородки всередину цього ка- зображена на Фіг.1, складається з генератора пла- налу забезпечують оптимальний процес відбиття зми і плазмового фільтра. До складу генератора плазми відхиляючою котушкою і, як наслідок, під- плазми входить еродуючий катод 1, з матеріалу вищення ефективності проходження плазми до (металу, сплаву або графіту) для утворення відпо- виходу пристрою. відної плазми, анод 2, та стабілізуюча й фокусую- Слід також зазначити, що плазма, яка руха- ча електромагнітні котушки З і 4. Фільтр містить ється точно уздовж осі пристрою, не відбивається прямолінійний плазмовід 5, зовнішню транспорту- згаданим вище магнітним дзеркалом і безпереш- ючу електромагнітну котушку б і внутрішню відхи- кодно потрапляє до перегородки всередині каналу ляючу електромагнітну котушку 7. Усередині осьо- котушки й осаджується на цій перегородці. Якщо вого каналу 8 котушки 7 розміщена перегородка 9. ця перегородка електрично ізольована, то, внаслі- Відстань від вхідного отвору осьового каналу ко- док більш високої рухливості, електрони в більшій тушки 7 до цієї перегородки не менша за половину кількості, ніж іони, потрапляють на неї. Вона набу- діаметра її каналу 8, а цей діаметр не менший за ває негативного плаваючого потенціалу, який третину зовнішнього діаметра котушки 7. Пристрій утруднює подальше "витікання" електронів (а від- вихідним отвором 10 плазмоводу пристикований так - і іонів) з плазми перед відхиляючою котуш- до робочої камери технологічної установки (на кою. Отже, втрати плазми внаслідок її "витікання" Фіг.1 не показана), всередині якої проти зазначе- уздовж осі всередину відхиляючої котушки змен- ного вихідного отвору 10 розміщений виріб 11, шуються. поверхня якого обробляється. Живлення вакуум- Якщо витки відхиляючої котушки виготовити з но-дугового розряду між катодом З та анодом 4 електропровідної трубки із забезпеченням можли- здійснюється від джерела струму 12. Підпалюючий вості протоку по ній охолоджувача, то її можна пристрій (на Фіг.1 не показаний) будь-якого відомо- буде примусово охолоджувати рідиною або газом, го типу розміщений біля катоду 3. За допомогою що дасть можливість посилити електричний струм джерела напруги 13 забезпечується можливість у котушці для підсилення магнітного поля і, відпо- подачі на плазмовід 5 примусового позитивного відно, його відбиваючої дії на плазму. При такому потенціалу зміщення. Живлення котушок 3, 4,6 і 7 здійснюється від джерел струму 15, 16 і 14. Зовні- шній діаметр котушки 7 обраний таким, що вихід- р-М /о-М тс/98. ний отвір 10 плазмоводу 5 знаходиться поза пря- мої видимості з робочої поверхні катода 1. На Фіг.1 Тут М. - складова швидкості частинки, перпен- зона відсутності прямої видимості зі зазначеної дикулярна напрямку магнітного поля з індукцією В. поверхні катода знаходиться між двома штрихо- Якщо магнітне поле обране таким, що викону- вими лініями праворуч від котушки 7. Транспорту- ється ліва частина нерівності (1), то електрони, юча й відхиляюча котушки 6 ї 7 можуть підключа- вільно рухаючись уздовж ліній магнітного поля із тися до джерел живлення 16 і 14 зустрічно, тобто подовжньою швидкістю М/, на стінки плазмоводу 5 так, щоб струми у витках цих котушок протікали в і котушки 7 потрапити не можуть, бо їх поперечний протилежних напрямках. направлений рух у магнітному полі перетворився в Описаний пристрій працює наступним чином. круговий з ларморівським радіусом ре значно При заданому тиску залишкової атмосфери або меншим за відстань до зазначених стінок.
    У таких робочого газу (зазвичай у межах від 10 до 10" Па) випадках говорять, що електрони плазми замагні- та при ввімкнутих джерелах живлення 12-16 ваку- чені. умно-дугового розряду та котушок за допомогою Що ж стосується позитивно заряджених іонів підпалюючого вузла в генераторі плазми між ано- металу, з яких складається іонна складова плаз- дом 2 і катодом 1 підпалюється дуговий розряд. ми, то ці важкі частинки (маса іона титану, напри- Катодна пляма розряду дією магнітного поля, що клад, вища за масу електрона у 88000 разів) на генеруються котушкою 3, утримується на робочій магнітне поле в проміжку між плазмоводом 5 і ко- поверхні катода 1. Ця катодна пляма емітує плаз- тушкою 7 майже не реагують тому, що їх лармо- мовий потік, що складається з електронів, позити- рівський радіус рі є більшим за ширину 4 цього вних іонів та макрочастинок катодного матеріалу. проміжку, і тому іони з швидкістю М ; мали б руха- Цей потік магнітним полем котушки 4 направля- тись поперек магнітного поля до стінок зазначено- ється у бік плазмоводу 5. Діянням поля, що утво- го проміжку.
    Але цього не трапляється, бо іони рюється котушками 4 і 6, плазмовий потік входить утримуються електростатичним полем негативно- у плазмовід.
    Тут усереднена в часі периферійна го просторового заряду замагнічених електронів і частина потоку без перешкоди дрейфує плазмо- разом з ними рухаються уздовж магнітного поля ведучим трактом, який утворюється проміжком з до виходу 10 і далі - до поверхні виробу 11. При кільцевим поперечним перерізом між плазмово- цьому виконується принципова умова квазінейт- дом 5 і котушкою 7, уздовж магнітного поля, утво- ральності плазми.
    Слід зазначити, що найбільш реного зустрічно увімкнутими котушками 6 і 7. Си- високоенергетичні іони все ж переборюють силу лові лінії цього поля на Фіг.1 схематично зображені притягання замагнічених електронів і потрапляють тонкими безперервними лініями.
    У той же час за- на стінки плазмоводу 5, заряджаючі їх позитивно. значене магнітне поле унеможливлює рух заря- Цей позитивний заряд стінок утворює в проміжку джених частинок плазми до стінок плазмоводу 5 і додаткове електростатичне поле, що перешко- поверхні котушки 7. , . джає рухові подальших порцій іонів до стінки пат- Механізм транспортування плазми від робочої рубку і, таким чином, сприяє зменшенню втрат цих поверхні катоду 1 через плазмоведучий тракт до частинок при проходженні плазми через плазмо- вихідного отвору 10 може бути описаний наступ- від. ним чином. | | Для пристроїв за даним винаходом, що мають Інтенсивність магнітних полів, що утворюються ширину а проміжку між плазмоводом і відхиляю- котушками З, 4, 6 ї 7 вибирають такою, щоб вико- чою котушкою від кількох сантиметрів до десяти нувалась умова: сантиметрів, співвідношення (1), яке забезпечує оптимальні умови транспортування плазми через рекка-Ка- Кері (1) фільтр, виконується при магнітних полях приблиз- но від 5 до 50мтТл. де: | | | | шо Особливості руху середньої частини плазмо- Ре І рі - ларморівські радіуси електронів та іонів вого потоку, що надходить від плазмового джере- ВІДПОВІДНО, ла до плазмоводу, полягають у наступному.
    В а - ширина плазмоведучого тракту, пристрої, який прийнято за прототип (див.
    Фіг.2), Ві РК» - внутрішній радіус плазмоводу 5 і зов- отвір каналу 8 відхиляючої котушки 7 перекритий нішній радіус відхиляючої котушки 7, відповідно. екраном, який є торцевою стінкою кожуху 17, що В магнітному полі з індукцією В заряджені час- обіймає котушку 7. На такому екрані середня час- тинки плазми рухаються уздовж магнітних силових тина плазмового потоку (на Фіг.2 вона умовно зо- лініи за ларморівськими спіралями, обертаючись бражена стрілками) втрачається.
    В пристрої за навколо цих ліній з циклотронною частотою даним винаходом ця частина потоку проходить через відкритий отвір осьового каналу 8 котушки 7 о-дВ/те, (див.
    Фіг.1) у середину цього каналу.
    Тут плазма взаємодіє з магнітним полем, що посилюється до де: центру порожнини.
    Таке поле являє собою так 4 - заряд частинки, зване "магнітне дзеркало". В умовах, що розгля- т - її маса, даються, таке дзеркало навіть при порівняно не- с - швидкість світла. великій індукції магнітного поля, що задовольняє Радіус спіралі (ларморівський радіус) стано- співвідношенню (1), відбиває електронну складову вить: плазми.
    На Фіг.1 траєкторію окремого електрона схематично показано лінією зі стрілками всередині ратора плазми до виходу пристрою, забезпечу- каналу 8. Услід за електронами у зворотному на- ються, якщо діаметр ЮО, каналу 8 становить прямі зміщуються і іони в результаті електроста- величину не меншу за третину зовнішнього діаме- тичної взаємодії з просторовим зарядом електро- тра О кожуха 17. Ці дані будуть такими ж і для від- нів, відбитих від магнітного дзеркала, внаслідок хиляючої котушки без кожуха. В цьому випадку О - чого й зберігається принцип квазінейтральності це зовнішній діаметр цієї котушки. плазми в цілому. Таким чином плазма, що надхо- Експериментально виявлено також, що ефек- дить до котушки 7, відбивається від неї та, змішу- тивне відбиття плазми відбувається за умов, якщо ючись з периферійним потоком, рухається уздовж плазма при своєму поздовжньому русі у осьовому магнітного поля через проміжок між відхиляючою каналі 8 не наштовхується на перепону, подолав- котушкою і плазмоводом до отвору 10 їі далі - до ши відстань від вхідного отвору цього каналу не поверхні виробу 11. меншу, ніж половина його діаметра. На графіку На відміну від іонно-електронної складової Фіг.9 показано характер впливу зміщення І пере- плазми, що транспортується до отвору 10 магніт- городки 9 на величину відношення ІЙ. Тут безпе- ним полем в обхід котушки 7, макрочастинки като- рервна лінія відповідає електроізольованій пере- дного матеріалу внаслідок їхньої великої маси городці 9У, а штрихова - перегородці, електрично (найменші з них на кілька порядків масивніші за з'єднаній з кожухом. Як можна побачити, значне іони металів) ні на магнітні, ні на електричні поля підвищення відношення І відбувається, коли зна- майже не реагують, рухаються прямолінійно і тому чення Г/О, становить 0,5. Саме цим, згідно з вина- на поверхню виробу не потрапляють, оскільки во- ходом, визначається місцеположення екрана 9 в на знаходиться в зоні відсутності прямої видимості порожнині 8. з робочої поверхні катоду 1. На шляху до виходу На Фіг.3 схематично зображений плазмовий макрочастинки наштовхуються на "непрозору" для фільтр іншого варіанта пристрою за винаходом, в них перешкоду - котушку 7, канал 8 якої також "не- якому, на відміну від зображеного на Фіг.1 варіан- прозорий", тому що перекритий перегородкою 9. ту, відхиляюча котушка 7 розміщена у захисному Зона відсутності прямої видимості з поверхні като- кожусі 17 із немагнітного матеріалу, наприклад, з да 1 (а відтак - і недосяжності для макрочастинок, нержавіючої сталі. Стінки кожуха облягають із за- що емітуються з цієї поверхні) на Фіг.1 знаходить- зором усі поверхні котушки - як зовнішню, так і ся між двома штриховими лініями праворуч від внутрішню. При цьому стінки кожуха, що обляга- котушки 7. Однак, в цю зону, до отвору 10 можуть ють внутрішню поверхню котушки 7, утворюють потрапити макрочастинки, що відскочили (рикоше- осьовий канал 8. При цьому більша частина плаз- тували) від стінок плазмоводу 5. Запобігти цьому ми, що налітає на отвір цього каналу кожуха, по- можна відомим способом, розміщуючи на стінках трапляє в простір з магнітним дзеркалом, від якого плазмоводу поперечні ребра, що відіграють роль ця плазма відбивається. Магнітне дзеркало як бу- пастки для макрочастинок (на фігурах не показані). ло зазначено вище, утворюється відхиляючою Щоб відбити від котушки 7 якомога більшу ча- котушкою 7. Ця котушка для забезпечення більш стину плазми, що налітає на торець цієї котушки, й тонкого регулювання розподілу магнітного поля в мінімізувати таким чином втрати потоку плазми на фільтрі складається з двох секцій. З цією ж метою зазначеному торці, діаметр каналу 8, як виявлено транспортуюча котушка б також секціонована. У експериментально, має бути не меншим за трети- цьому варіанті ця котушка складається з трьох ну зовнішнього діаметру котушки 7, або її кожуху, секцій. Охолоджувальна рідина (вода) й струмо- якщо він є. При цьому більша частина плазми, що води електроживлення до відхиляючої котушки 7 налітає на цю котушку, потрапляє до осьового ка- надходять через патрубок 18. Подача охолоджую- налу 8 з магнітним дзеркалом, від якого ця плазма чої води здійснюється за будь-якою відомою схе- й відбивається. Ефективність джерела плазми, мою й на Фіг.3 не відображена. Патрубок 18 про- характеризується проходженням плазмового пото- ходить крізь стінку плазмоводу 5 за допомогою ку від генератора до вихідного отвору. Її можна герметичного ізолятора. Електроізольованість визначити відношенням ІЙ (І - іонний струм на кожуха 17 дозволяє при необхідності подавати на виході пристрою, І - струм дугового розряду). Ці нього додатково позитивний електричний потенці- величини для різних відношень Бу - діаметра ал зміщення від окремого джерела (на Фіг.3 не осьового каналу відхиляючої котушки в кожусі й показане), що сприяє утриманню іонів у плазмове- зовнішнього діаметра кожуха наведені у таблиці. дучому просторі між кожухом і плазмоводом 5. З цією ж метою може бути поданий додатковий (крім Таблиця плаваючого) позитивний потенціал зміщення від джерела 16 (див. Фіг.1) на плазмовід 5. В осьовому каналі 8 перегородка 9 розміщена на відстані від (В) " ' ' торця кожуху 17, зверненого до катоду, не меншій за половину діаметра цього осьового каналу. Для Ї , , , , зменшення втрат плазми, що рухається по осі ка- налу 8 і від магнітного дзеркала не відбивається,
    (0. для прототипу. 0//0-0 відповідає вхідному перегородка 9, згідно з винаходом, може бути еле- отвору осьового каналу 8, перекритому торце- ктроізольвана від кожуху 17. У такому разі зазна- вості електронів (у порівнянні з іонами), З наведених у таблиці даних виходить, що оп- заряджається негативно, що утрудняє подальший тимальні умови транспортування плазми від гене-
    рух електронів, як наслідок - і іонів, а отже і плазми ми (на Фіг.б не показано), поступившись при цьому в цілому, у бік перегородки 9. можливістю регулювати магнітне поле незалежно На Фіг.А4 схематично зображений ще один ва- від струму дуги генератора плазми. ріант вакуумно-дугового джерела плазми за вина- Як зазначено вище, внаслідок того, що транс- ходом. У цьому варіанті джерела плазми з метою портуюча котушка та відхиляюча котушка генеру- спрощення його конструкції функції анода вакуум- ють протилежно спрямовані магнітні поля, навпро- но-дугового генератора плазми виконує плазмовід ти обох торців відхиляючої котушки утворюються
    5. Фокусуюча котушка 4 у цьому випадку розміще- області, в яких ці поля взаємно компенсують одне на на вхідній частині плазмоводу, який підключено одного. Це, так звані, області мінімуму магнітного до позитивного полюса джерела живлення 12 ду- поля. На Фіг.7, показані результати комп'ютерних гового розряду (див. Фіг.1). розрахунків проходження силових ліній магнітних На Фіг4А показана також одна з можливих полів у варіанті пристрою, плазмовід якого виконує конструкцій перегородки 9. Вона складається з також функції анода (відповідно до варіанту на двох частин, прикріплених з обох боків за допомо- Фіг.4). Всередині кожної такої області магнітне гою ізоляторів 20 до утримувача 19, механічно поле майже відсутнє й зростає у периферійному з'єднаного з кожухом 17. В такій конструкції необ- напрямі, являючи собою магнітну пастку для елек- хідного негативного плаваючого потенціалу набу- тронів, які покидають цю пастку, головним чином, вають електроізольвані частини перегородки. Пе- через канал між секціями транспортуючої 6 і секці- рекриття каналу 8, необхідне для запобігання ями відхиляючої 7 котушок. Негативний просторо- проходження макрочастинок, забезпечується вий заряд електронів, що деякий час утримується утримувачем 19, а ізолятори 20, розміщені між зазначеною пасткою, являє собою "потенціальну зазначеними частинами перегородки і утримувача, яму" для позитивно заряджених іонів. Отже іонна надійно захищені від прямого попадання на них складова плазмового потоку, що має на своєму плазми й утворення на їхній поверхні електропро- шляху таку потенціальну яму, дещо уповільнюєть- відної плівки. ся, енергія напрямного руху іонів помітно знижу- На Фіг.5 наведене тривимірне зображення ще ється. Наприклад, енергія іонів титану при прохо- одного варіанта вакуумно-дугового пристрою за дженні плазми через плазмовід зменшується винаходом. Головною відмінністю цього варіанту майже вдвічі. Ефект зниження енергоємності пла- пристрою є те, що він містить кілька генераторів змового потоку, що конденсується, вкрай важли- плазми. На Фіг.5 їх три, один з них показано у роз- вий при осадженні покрить на вироби з матеріалів, різі. Кожен з цих генераторів містить катод 1, анод які мають низьку границю допустимого теплового 2 і магнітну котушку 3. Плазма з цих катодів через навантаження (наприклад, у випадку нанесення аноди надходить до спільного плазмоводу 5 з захисного покриття на активний шар магнітних прямокутним поперечним перерізом, охопленого носіїв інформації - жорстких дисків пам'яті, або на секціонованою транспортуючою котушкою 6. В поверхні виробів з полімерних матеріалів). плазмоводі встановлені відповідної форми відхи- На Фіг.7, праворуч від виробу 11, показана ляюча котушка 7 в кожусі 17 і перегородка 9. Для форма радіального розподілу товщини осаджува- подальшого підвищення ступеню непрозорості ного покриття на його поверхні, характерна для фільтра для макрочастинок (а отже - і ступеню пристрою з магнітними полями, силові лінії яких очищення плазми) плазмовід 5 на виході має зву- зображені на цій фігурі. Мінімум розподілу у центрі жену ділянку з додатковою секцією транспортую- підкладки обумовлений значним "затіненням" цієї чої котушки б. Для конструктивного спрощення області відхиляючою котушкою 7 та екраном 9. пристрою аноди 2 генераторів поєднані з плазмо- Подовжена вихідна частина плазмоводу 5 з роз- водом 5 в один блок, так що внутрішня поверхня міщеними на ній додатковими секціями котушки б плазмоводу являє собою додаткову струмоприй- (Фіг.8) забезпечують можливість корекції розподілу мальну анодну поверхню, що, як відомо, сприяє густини плазмового потоку на виході пристрою, а стабільності горіння вакуумного дугового розряду. відтак - і розподілу товщини покриття по поверхні Такий варіант вакуумно-дугового пристрою доці- виробу (наприклад, так, як показано на діаграмі льно використовувати для формування покрить на праворуч від виробу на Фіг.8). листові вироби 11 або на рулонні матеріали при Вакуумно-дуговий пристрій за винаходом у ва- забезпеченні їхнього руху поперек вихідного пря- ріанті за схемою Фіг.1 був виготовлений і випробу- мокутного отвору фільтра (можливі напрямки руху ваний на установці для вакуумно-дугового оса- показані стрілками). дження покрить. Пристрій мав наступні параметри. Відхиляюча котушка 7 вакуумно-дугового дже- Анод 2 мав форму відрізка труби з подвійними рела плазми за винаходом може бути виготовлена стінками. Через створену ним порожнину пропус- у вигляді одношарового соленоїда з металевої калась охолоджувальна вода. Внутрішній діаметр трубки, через яку пропускається охолоджувач (во- анода 2 дорівнював 130мм, довжина - 190мм. Ка-
    да). Схема пристрою з таким варіантом відхиляю- тод 1 мав форму зрізаного конуса висотою 45мМм з чої котушки 7 показана на Фіг.б. Котушка 7 з пере- основами діаметром 60 і 4А5мм. Водоохолоджува- городкою 9 розташовані в плазмоводі 5, ний плазмовід 5 довжиною 2боОмм і внутрішнім охопленому секціонованою транспортуючою коту- діаметром 210мм також мав подвійні стінки для шкою б. Для живлення котушки 7, виготовленої з протоку води. На плазмоводі 5 була розміщена трубки, має бути використане окреме потужност- двосекційна транспортуюча котушка 6. Відхиляюча румове джерело. Для спрощення схеми живлення двосекційна котушка 7 була розміщена у кожусі 17, цієї котушки доцільно включити її послідовно в розміри якого були наступні: довжина - 100мм, електричний контур живлення дуги джерела плаз- внутрішній і зовнішній діаметри - 40 і 110 мілімет-
UAA200706629A 2007-06-13 2007-06-13 Вакуумно-дугове джерело плазми UA87880C2 (uk)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA200706629A UA87880C2 (uk) 2007-06-13 2007-06-13 Вакуумно-дугове джерело плазми

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA200706629A UA87880C2 (uk) 2007-06-13 2007-06-13 Вакуумно-дугове джерело плазми

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA87880C2 true UA87880C2 (uk) 2009-08-25

Family

ID=46583049

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UAA200706629A UA87880C2 (uk) 2007-06-13 2007-06-13 Вакуумно-дугове джерело плазми

Country Status (1)

Country Link
UA (1) UA87880C2 (uk)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012064311A1 (ru) 2010-11-08 2012-05-18 Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" (Ннц Хфти) Способ транспортировки вакуумно- дуговой плазмы и устройство для его осуществления
RU2507305C2 (ru) * 2011-09-01 2014-02-20 Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" (Ннц Хфти) Способ транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы и устройство для его осуществления

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012064311A1 (ru) 2010-11-08 2012-05-18 Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" (Ннц Хфти) Способ транспортировки вакуумно- дуговой плазмы и устройство для его осуществления
CN103298969A (zh) * 2010-11-08 2013-09-11 哈尔科夫国家科技中心物理科技学院(Nsckipt) 用于传输真空电弧等离子体的方法和装置
US9035552B2 (en) 2010-11-08 2015-05-19 National Science Center “Kharkov Institute of Physics and Technology” Method and device for transporting vacuum arc plasma
CN103298969B (zh) * 2010-11-08 2015-09-16 哈尔科夫国家科技中心物理科技学院(Nsckipt) 用于传输真空电弧等离子体的方法和装置
KR101575145B1 (ko) * 2010-11-08 2015-12-07 내셔널 사이언스 센터 하이코프 인스티튜트 오브 피직스 앤드 테크놀로지 (앤에스씨 케이아이피티) 진공 아크 플라즈마 이송 방법 및 장치
RU2507305C2 (ru) * 2011-09-01 2014-02-20 Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" (Ннц Хфти) Способ транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы и устройство для его осуществления

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5480527A (en) Rectangular vacuum-arc plasma source
Karpov Cathodic arc sources and macroparticle filtering
JP6305950B2 (ja) 真空アークプラズマを輸送するための方法
US7381311B2 (en) Filtered cathodic-arc plasma source
US5468363A (en) Magnetic-cusp, cathodic-arc source
US5733418A (en) Sputtering method and apparatus
US4122347A (en) Ion source
KR101064567B1 (ko) 빔폭 제어 가능한 전자빔 제공 장치
KR20140143352A (ko) 여과된 음극 아크 증착 장치 및 방법
JP2005060841A (ja) カソードスパッタリング装置
MX2007005041A (es) Fuente de plasma de arco filtrado bidireccional.
GB2331768A (en) Apparatus for sputtering or arc evaporation including elongated rectangular target
US20070034501A1 (en) Cathode-arc source of metal/carbon plasma with filtration
US5997705A (en) Rectangular filtered arc plasma source
US6465793B1 (en) Arc initiation in cathodic arc plasma sources
US4542321A (en) Inverted magnetron ion source
US6756596B2 (en) Filtered ion source
US6089186A (en) Vacuum coating forming device
US6465780B1 (en) Filters for cathodic arc plasmas
UA87880C2 (uk) Вакуумно-дугове джерело плазми
JP5496223B2 (ja) アーク・エバポレーターおよびアーク・エバポレーターの操作方法
RU2097868C1 (ru) Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц (его варианты)
MXPA96005104A (en) Rectangular source of plasma de arco al va
MXPA98009912A (en) Apparatus for spraying or evaporation by a
UA63164A (en) A plasma apparatus