UA8623A1 - Спосіб хіміко-термічhої обробки іhструмеhту - Google Patents

Спосіб хіміко-термічhої обробки іhструмеhту

Info

Publication number
UA8623A1
UA8623A1 UA4167775A UA4167775A UA8623A1 UA 8623 A1 UA8623 A1 UA 8623A1 UA 4167775 A UA4167775 A UA 4167775A UA 4167775 A UA4167775 A UA 4167775A UA 8623 A1 UA8623 A1 UA 8623A1
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
tool
thermo
plasma
chemical treatment
nitrogenization
Prior art date
Application number
UA4167775A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Inventor
Сергій Миколайович Григор'єв
Сергей Николаевич Григоръев
Анатолій Афанасійович Андреєв
Анатолий Афанасьевич Андреев
Анатолій Степанович Верещака
Анатолий Степанович Верещака
Леонід Павлович Саблєв
Леонид Павлович Саблев
Римма Іванівна Ступак
Римма Ивановна Ступак
Original Assignee
Харківський Фізико-Технічний Інститут
Харьковский физико-технический институт
Московський Станкоінструментальний Інститут
Московский станкоинструментальний институт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Харківський Фізико-Технічний Інститут, Харьковский физико-технический институт, Московський Станкоінструментальний Інститут, Московский станкоинструментальний институт filed Critical Харківський Фізико-Технічний Інститут
Priority to UA4167775A priority Critical patent/UA8623A1/uk
Publication of UA8623A1 publication Critical patent/UA8623A1/uk

Links

Landscapes

  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Abstract

Спосіб хіміко-термічної обробки інструменту включає нанесення покриття з нітридів тугоплавких металів методом конденсаційно-іонного бомбардування і подальше азотування в плазмі електричного газового розряду між оброблюваним інструментом-електродом і додатковим електродом. З метою підвищення експлуатаційної стійкості інструменту, азотування проводять в азотній плазмі несамостійного розряду, що ініціюється потоком електронів з плазми вакуумного дугового розряду. При цьому оброблюваний інструмент є анодом.
UA4167775A 1986-12-08 1986-12-08 Спосіб хіміко-термічhої обробки іhструмеhту UA8623A1 (uk)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UA4167775A UA8623A1 (uk) 1986-12-08 1986-12-08 Спосіб хіміко-термічhої обробки іhструмеhту

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UA4167775A UA8623A1 (uk) 1986-12-08 1986-12-08 Спосіб хіміко-термічhої обробки іhструмеhту

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA8623A1 true UA8623A1 (uk) 1996-09-30

Family

ID=74594479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UA4167775A UA8623A1 (uk) 1986-12-08 1986-12-08 Спосіб хіміко-термічhої обробки іhструмеhту

Country Status (1)

Country Link
UA (1) UA8623A1 (uk)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0885981A3 (de) Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung
CA2278751A1 (en) Atmospheric-pressure plasma jet
AU6708196A (en) An electrolytic process for cleaning and coating electrically conducting surfaces
TW348271B (en) Low pressure and low power Cl2/HCl process for sub-micron metal etching
TW376547B (en) Method and apparatus for plasma processing
EP0658918A3 (en) Plasma processing apparatus
US5294320A (en) Apparatus for cleaning a shield in a physical vapor deposition chamber
TW358964B (en) Method and apparatus for improving sidewall coverage during sputtering in a chamber having an inductively coupled plasma
GB2347148A (en) Enhanced macroparticle filter and cathode arc source
CA2234986A1 (en) Nitriding process and nitriding furnace therefor
EP0878823A3 (en) Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method M
EP0808918A3 (en) Plasma processing apparatus and processing method
JPS5713743A (en) Plasma etching apparatus and etching method
EP0446657A1 (en) Method for preparing a shield to reduce particles in a physical vapor deposition chamber
AU4607793A (en) Method and apparatus for carrying out surface processes
US3650930A (en) Glow discharge masking process
UA8623A1 (uk) Спосіб хіміко-термічhої обробки іhструмеhту
EP0730266A3 (en) Apparatus for plasma-processing a disk substrate and method of manufacturing a magnetic disk
US6346176B1 (en) Method of depositing thin films
EP0441368B1 (en) Method and device for removing excess material from a sputtering chamber
FR2403645A2 (fr) Four pour le traitement thermochimique, en continu, de pieces metalliques, par bombardement ionique
TW242591B (en) Method and apparatus for carrying out surface processes
UA14386A1 (uk) Засіб зміцhеhhя поверхhі виробів в вакуумі і пристрій для його здійсhеhhя
RU2058428C1 (ru) Устройство для нанесения покрытий в вакууме
UA8688A1 (uk) Спосіб хіміко-термічhої обробки виробів