TWM677828U - 基座減晃裝置 - Google Patents

Abstract

本創作提供一種基座減晃裝置，其包含一緩衝裝置、一基座、一固定架以及一調質阻尼裝置，該基座設置於該緩衝裝置之上方，該固定架設置於該基座之上方，該調質阻尼裝置設置並固定於該固定架之上，於另一實施例中，該調質阻尼裝置設置並固定於該基座之下方，其中，在該基座以及該固定架於該緩衝裝置之該上方發生晃動之狀況時，該調質阻尼裝置即對應反向振動，藉由該調質阻尼裝置而減緩該基座及該固定架之晃動狀況。

Description

基座減晃裝置　

本創作是關於一種基座減晃裝置，尤其係能減緩基座的晃動狀況的減晃裝置。

在習知技術中，用於高精度電子設備的被動式緩衝系統通常係採用在設備的基座下方裝設氣囊式緩衝系統的方式，來減少晃動對於設備所造成的影響，氣囊式緩衝系統具有良好的吸收晃動的效果，能夠有效減低其因設備的運轉而產生的晃動。然而，氣囊式緩衝系統卻不能有效降低設備上的震動現象，這在精密運作或檢測中仍會產生不良的影響。

為了解決設備的震動影響精密運作或檢測的問題，習知技術中提出了一種調整氣囊式緩衝系統其氣囊內的氣體壓力的方法，藉由控制氣囊內的氣體壓力，以減低設備的震動幅度。這種方法的原理是通過改變氣囊其內部氣體的壓力而調整氣囊的軟硬程度，來減低震動對於設備穩定性的影響。

根據實際經驗，調整氣囊式緩衝系統其氣囊內的氣體壓力確實能夠有效減低設備的震動情況，但這種改進措施卻不能有效吸收設備因運轉而產生的晃動。

晃動現象在高精度電子設備中是不容忽視的問題，特別是在對穩定性要求極高的應用場合，如精密光學儀器、微機電系統或超高分辨率檢測設備。因此，習知技術中的這一改進措施在減低震動的同時，卻不能有效降低晃動的問題，使得緩衝系統的設計在減低震動和減緩晃動之間需要進行更為複雜的平衡。

綜上所述，習知技術雖然能夠通過調整氣囊的軟硬度來減低設備的震動狀況，但仍存在晃動的問題，這對於高精度電子設備的使用效果產生了一定的限制，是故，產業界需要一種能在減低震動狀況的同時，亦可減緩晃動情況的減晃裝置。

有鑑於上述習知技術的問題，本創作提供一種基座減晃裝置，其係於基座或基座上之固定架設置調質阻尼裝置，以減緩基座及固定架的晃動狀況的減晃裝置。

本創作之一目的在於提供一種基座減晃裝置，其係於基座或基座上之固定架設置調質阻尼裝置，在基座及固定架有晃動之狀況時，調質阻尼裝置即對應反向振動，以減緩基座及固定架之晃動狀況。

為達到上述之目的與功效，本創作提供一種基座減晃裝置，其係置放於一地面之上方，該基座減晃裝置包含一緩衝裝置、一基座、一固定架以及一調質阻尼裝置，該基座設置於該緩衝裝置之上方，該固定架設置於該基座之上方，該調質阻尼裝置設置於該固定架之上，其中，該基座以及該固定架於該緩衝裝置之該上方晃動時，該調質阻尼裝置即對應反向振動，使該基座及該固定架之晃動情況得以減緩；以此結構提供可減緩晃動現象之減晃裝置。

為達到上述之目的與功效，本創作提供另一種基座減晃裝置，其係置放於一地面之上方，該基座減晃裝置包含一緩衝裝置、一基座、一固定架以及一調質阻尼裝置，該基座設置於該緩衝裝置之上方，該固定架設置於該基座之上方，該調質阻尼裝置設置並固定於該基座之下方，其中，該基座以及該固定架於該緩衝裝置之該上方晃動時，該調質阻尼裝置即對應反向振動，使該基座及該固定架之晃動狀況得以減緩；以此結構提供可減緩晃動現象之減晃裝置。

本創作之一實施例中，其中該緩衝裝置之下方設置一支架件，該固定架之一側設置一檢測裝置。

本創作之一實施例中，其中該緩衝裝置之下方設置一支架件，該調質阻尼裝置設置於該支架件以及該基座之間，該固定架之一側設置一檢測裝置。

本創作之一實施例中，其中該緩衝裝置係一氣壓彈簧。

本創作之一實施例中，其中該調質阻尼裝置包含一第一框架以及一第一質量塊，該第一框架設置於該固定架之上，該第一質量塊懸吊於該第一框架之內側之頂面。

本創作之一實施例中，其中該調質阻尼裝置包含一第一框架以及一第一質量塊，該第一框架設置並固定於該基座之該下方，該第一質量塊懸吊於該第一框架之內側之頂面。

本創作之一實施例中，其中該調質阻尼裝置包含：一第二框架，其設置於該固定架之上，該第二框架之內側其與地面垂直之一側設置一第一彈性件；一第二質量塊，其設置於該第一彈性件之伸縮方向之一側，該第二質量塊並設於該第二框架之內側其平行於地面之一側，且該第二質量塊以平行於該平行於地面之該側之方式往返移動；一第三框架，其設置於該第二框架之上方，該第三框架之內側其與地面垂直之一側設置一第二彈性件；一第三質量塊，其設置於該第二彈性件之伸縮方向之一側，該第三質量塊並設於該第三框架之內側其平行於地面之一側，且該第三質量塊以平行於該平行於地面之該側之方式往返移動；其中，該第二質量塊之移動方向與該第三質量塊之移動方向為交叉。

本創作之一實施例中，其中該調質阻尼裝置包含：一第二框架，其設置並固定於該基座之該下方，該第二框架之內側其與地面垂直之一側設置一第一彈性件；一第二質量塊，其設置於該第一彈性件之伸縮方向之一側，該第二質量塊並設於該第二框架之內側其平行於地面之一側，且該第二質量塊以平行於該平行於地面之該側之方式往返移動；一第三框架，其設置於該第二框架之下方，該第三框架之內側其與地面垂直之一側設置一第二彈性件；一第三質量塊，其設置於該第二彈性件之伸縮方向之一側，該第三質量塊並設於該第三框架之內側其平行於地面之一側，且該第三質量塊以平行於該平行於地面之該側之方式往返移動；其中，該第二質量塊之移動方向與該第三質量塊之移動方向為交叉。

本創作係一基座設置於一緩衝裝置之上方，且一固定架設置於該基座之上方，於一實施例中，該固定架之上方設置一調質阻尼裝置，在該基座以及該固定架於該緩衝裝置之該上方晃動時，該調質阻尼裝置即對應反向振動，藉由該調質阻尼裝置使該基座及該固定架之晃動狀況得以減緩，解決習知基座於減低震動時，仍產生晃動現象之問題。

請參閱第1圖，其為本創作之結構之第一實施例示意圖，如圖所示，本實施例係一種基座減晃裝置1，其係置放於一地面2之上方，該基座減晃裝置1包含一緩衝裝置10、一基座20、一固定架30以及一調質阻尼裝置40；其中該緩衝裝置10放置於該地面2之上方，並支撐該基座20，該固定架30設置於該基座20之上方，該調質阻尼裝置40設置於該固定架30之上方，且該調質阻尼裝置40固定於該固定架30之上方。

再請參閱第1圖以及第2A圖至第2B圖，第2A圖至第2B圖為本創作之結構之第一實施例之晃動示意圖，如圖所示，當該地面2震動（例如地震、周圍設備運轉所產生之震動）時，該緩衝裝置10可消減該地面2之震動傳導至該基座20以及該固定架30之程度，但該基座20及該固定架30仍會因運轉而有晃動之狀況，此時該調質阻尼裝置40即對應於該基座20以及該固定架30之晃動方向，往相反之方向振動，以減緩該基座20以及該固定架30因運轉所產生之晃動。

於一實施例中，該緩衝裝置10係一氣壓彈簧，例如被動式防震所使用之氣壓彈簧，氣壓彈簧以氣體壓縮為主要減振/減震手段，其阻尼特性與自我調節功能可以有效減少震動的傳導，並在多種環境下提供穩定的防震效果，但該基座20以及該固定架30仍會因運轉而有晃動之情況，因此設置該調質阻尼裝置40，以減緩該晃動。

接續上述，於一實施例中，該基座20之上方設置一移動裝置3，該移動裝置3之上方置放一待測物4，該移動裝置3帶動該待測物4移動。

接續上述，該調質阻尼裝置40可減緩該基座20以及該固定架30因運轉所產生之晃動，使該基座20保持平穩，進一步使該移動裝置3之該上方之該待測物4之檢測不受晃動所影響。

再請參閱第1圖以及第3圖，第3圖為本創作之調質阻尼裝置之第一實施例示意圖，如圖所示，本實施例係立基於上述本創作之結構之第一實施例，在本實施例中，該調質阻尼裝置40包含一第一框架42以及一第一質量塊M1，該第一框架42設置並固定於該固定架30之該上方，該第一質量塊M1懸吊於該第一框架42之內側之頂面，而該頂面係與該地面2平行，以使該第一質量塊M1可於該第一框架42之內部擺動，於該基座20以及該固定架30因運轉以致有晃動之情況時，該第一質量塊M1於該第一框架42之該內部即對應反向擺動，以減緩該基座20及該固定架30之晃動狀況。

接續上述，於本實施例中，該第一質量塊M1可產生至少二個方向（該二個方向為相反）之擺動。

再請參閱第1圖以及第4圖，第4圖為本創作之調質阻尼裝置之第二實施例示意圖，如圖所示，本實施例係立基於上述本創作之結構之第一實施例，在本實施例中，該調質阻尼裝置40包含一第二框架44、一第二質量塊M2、一第三框架46以及一第三質量塊M3，該第二框架44設置並固定於該固定架30之該上方，該第二框架44之內側其與該地面2垂直之一側設置一第一彈性件F1，該第二質量塊M2設置於該第一彈性件F1之伸縮方向之一側，且該第二質量塊M2設於該第二框架44之內側其與該地面2平行並位於底部之一側，該第二質量塊M2以平行於該位於底部之一側之方式往返移動；該第三框架46則設置於該第二框架44之上方，該第三框架46之內側其與該地面2垂直之一側設置一第二彈性件F2，該第三質量塊M3設置於該第二彈性件F2之伸縮方向之一側，且該第三質量塊M3設於該第三框架46之內側其與該地面2平行並位於底部之一側，該第三質量塊M3以平行於該位於底部之一側之方式往返移動；其中，該第二質量塊M2之移動方向與該第三質量塊M3之移動方向為交叉，例如該第二質量塊M2以第一軸向移動，該第三質量塊M3以第二軸向移動，俯視該第一軸向與該第二軸向，二者為垂直交叉。

請參閱第5圖，其為本創作之基座實施例之其他結構示意圖，如圖所示，本實施例係立基於上述本創作之結構之第一實施例、調質阻尼裝置之第一實施例或調質阻尼裝置之第二實施例，在本實施例中，該緩衝裝置10之下方設置一支架件50，該支架件50支撐該緩衝裝置10，並可使該基座20處於水平位置。

接續上述，該固定架30之一側更設置一檢測裝置32，該基座20之該上方所設置之該移動裝置3帶動該移動裝置3之該上方所置放之該待測物4移動至該檢測裝置32之檢測範圍內，由該檢測裝置32檢測該待測物4，該調質阻尼裝置40則可減緩因運轉所產生之晃動，而提升該檢測裝置32之檢測精密度。

請參閱第6圖，其為本創作之結構之第二實施例示意圖，如圖所示，本實施例係一種基座減晃裝置1，其係置放於一地面2之上方，該基座減晃裝置1包含一緩衝裝置10、一基座20、一固定架30以及一調質阻尼裝置40；其中該緩衝裝置10放置於該地面2之上方，並支撐該基座20，該固定架30設置於該基座20之上方，該調質阻尼裝置40設置於該基座20之下方，且該調質阻尼裝置40固定於該基座20。

再請參閱第6圖以及第7A圖至第7B圖，第7A圖至第7B圖為本創作之結構之第二實施例之晃動示意圖，如圖所示， 當該地面2震動（例如地震、周圍設備運轉所產生之震動）時，該緩衝裝置10可消減該地面2之震動傳導至該基座20以及該固定架30之程度，但該基座20及該固定架30仍會因運轉而有晃動之狀況，此時該調質阻尼裝置40即對應於該基座20以及該固定架30之晃動方向，往相反之方向振動，以減緩該基座20以及該固定架30因運轉所產生之晃動。

本實施例之其他元件及作動關係皆與上述本創作之結構之第一實施例相同，故於此不再贅述。

再請參閱第6圖以及第8圖，第8圖為本創作之調質阻尼裝置之第三實施例示意圖，如圖所示，本實施例係立基於上述本創作之結構之第二實施例，在本實施例中，該調質阻尼裝置40包含一第一框架42以及一第一質量塊M1，該第一框架42設置並固定於該基座20之該下方，該第一質量塊M1懸吊於該第一框架42之內側之頂面，而該頂面係與該地面2平行，以使該第一質量塊M1可於該第一框架42之內部擺動，於該基座20以及該固定架30因運轉以致有晃動之情況時，該第一質量塊M1於該第一框架42之該內部即對應反向擺動，以減緩該基座20及該固定架30之晃動狀況。本實施例之其他元件及作動關係皆與上述本創作之調質阻尼裝置之第一實施例相同，故於此不再贅述。

再請參閱第6圖以及第9圖，第9圖為本創作之調質阻尼裝置之第四實施例示意圖，如圖所示，本實施例係立基於上述本創作之結構之第二實施例，在本實施例中，該調質阻尼裝置40包含一第二框架44、一第二質量塊M2、一第三框架46以及一第三質量塊M3，該第二框架44設置並固定於該基座20之該下方，該第二框架44之內側其與該地面2垂直之一側設置一第一彈性件F1，該第二質量塊M2設置於該第一彈性件F1之伸縮方向之一側，且該第二質量塊M2設於該第二框架44之內側其與該地面2平行並位於底部之一側，該第二質量塊M2以平行於該位於底部之一側之方式往返移動；該第三框架46則設置於該第二框架44之一下方，該第三框架46之內側其與該地面2垂直之一側設置一第二彈性件F2，該第三質量塊M3設置於該第二彈性件F2之伸縮方向之一側，且該第三質量塊M3設於該第三框架46之內側其與該地面2平行並位於底部之一側，該第三質量塊M3以平行於該位於底部之一側之方式往返移動；其中，該第二質量塊M2之移動方向與該第三質量塊M3之移動方向為交叉，例如該第二質量塊M2以第一軸向移動，該第三質量塊M3以第二軸向移動，俯視該第一軸向與該第二軸向，二者為垂直交叉。本實施例之其他元件及作動關係皆與上述本創作之調質阻尼裝置之第二實施例相同，故於此不再贅述。

請參閱第10圖，其為本創作之基座實施例之其他結構另一示意圖，如圖所示，本實施例係立基於上述本創作之結構之第二實施例、調質阻尼裝置之第三實施例或調質阻尼裝置之第四實施例，在本實施例中，該緩衝裝置10之下方設置一支架件50，該支架件50支撐該緩衝裝置10，並可使該基座20處於水平位置。

接續上述，該固定架30之一側更設置一檢測裝置32，該基座20之該上方所設置之該移動裝置3帶動該移動裝置3之該上方所置放之該待測物4移動至該檢測裝置32之檢測範圍內，由該檢測裝置32檢測該待測物4，該調質阻尼裝置40則可減緩因運轉所產生之晃動，而提升該檢測裝置32之檢測精密度。

綜上所述，本創作提供一種基座減晃裝置，其係於基座或固定架設置調質阻尼裝置，該調質阻尼裝置在該基座及該固定架發生晃動之狀況時，即對應反向振動，而減緩該基座及該固定架之晃動狀況，解決習知技術之緩衝系統於減緩晃動卻不能有效降低震動，以及雖能夠減低震動，但仍不能有效減緩晃動之問題。

故本創作實為一具有新穎性、進步性及可供產業上利用者，應符合我國專利法專利申請要件無疑，爰依法提出新型專利申請，祈    鈞局早日賜准專利，至感為禱。

惟以上所述者，僅為本創作之較佳實施例而已，並非用來限定本創作實施之範圍，舉凡依本創作申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包含於本創作之申請專利範圍內。

1:基座減晃裝置 2:地面 3:移動裝置 4:待測物 10:緩衝裝置 20:基座 30:固定架 32:檢測裝置 40:調質阻尼裝置 42:第一框架 44:第二框架 46:第三框架 50:支架件 M1:第一質量塊 M2:第二質量塊 M3:第三質量塊 F1:第一彈性件 F2:第二彈性件

第1圖：其為本創作之結構之第一實施例示意圖； 第2A圖至第2B圖：其為本創作之結構之第一實施例之晃動示意圖； 第3圖：其為本創作之調質阻尼裝置之第一實施例示意圖； 第4圖：其為本創作之調質阻尼裝置之第二實施例示意圖； 第5圖：其為本創作之基座實施例之其他結構示意圖； 第6圖：其為本創作之結構之第二實施例示意圖； 第7A圖至第7B圖：其為本創作之結構之第二實施例之晃動示意圖； 第8圖：其為本創作之調質阻尼裝置之第三實施例示意圖； 第9圖：其為本創作之調質阻尼裝置之第四實施例示意圖；以及 第10圖：其為本創作之基座實施例之其他結構另一示意圖。

1:基座減晃裝置

2:地面

3:移動裝置

4:待測物

10:緩衝裝置

20:基座

30:固定架

32:檢測裝置

40:調質阻尼裝置

Claims (10)

1. 一種基座減晃裝置，其係置放於一地面之上方，該基座減晃裝置包含： 一緩衝裝置； 一基座，其設置於該緩衝裝置之上方； 一固定架，其設置於該基座之上方；以及 一調質阻尼裝置，其設置於該固定架之上； 其中，該基座以及該固定架於該緩衝裝置之上方晃動時，該調質阻尼裝置即對應反向振動，而減緩該基座及該固定架之晃動。
2. 如請求項1所述之基座減晃裝置，其中該緩衝裝置之下方設置一支架件，該固定架之一側設置一檢測裝置。
3. 如請求項1所述之基座減晃裝置，其中該緩衝裝置係一氣壓彈簧。
4. 如請求項1所述之基座減晃裝置，其中該調質阻尼裝置包含一第一框架以及一第一質量塊，該第一框架設置並固定於該固定架之上，該第一質量塊懸吊於該第一框架之內側之頂面。
5. 如請求項1所述之基座減晃裝置，其中該調質阻尼裝置包含： 一第二框架，其設置於該固定架之上，該第二框架之內側其與該地面垂直之一側設置一第一彈性件； 一第二質量塊，其設置於該第一彈性件之伸縮方向之一側，該第二質量塊並設於該第二框架之內側其平行於該地面之一側，且該第二質量塊以平行於該平行於該地面之該側之方式往返移動； 一第三框架，其設置於該第二框架之上方，該第三框架之內側其與該地面垂直之一側設置一第二彈性件；以及 一第三質量塊，其設置於該第二彈性件之伸縮方向之一側，該第三質量塊並設於該第三框架之內側其平行於該地面平行之一側，且該第三質量塊以平行於該平行於該地面之該側之方式往返移動； 其中，該第二質量塊之移動方向與該第三質量塊之移動方向為交叉。
6. 一種基座減晃裝置，其係置放於一地面之上方，該基座減晃裝置包含： 一緩衝裝置； 一基座，其設置於該緩衝裝置之上方； 一固定架，其設置於該基座之上方；以及 一調質阻尼裝置，其設置並固定於該基座之下方； 其中，該基座以及該固定架於該緩衝裝置之上方晃動時，該調質阻尼裝置即對應反向振動，而減緩該基座及該固定架之晃動。
7. 如請求項6所述之基座減晃裝置，其中該緩衝裝置之下方設置一支架件，該調質阻尼裝置設置於該支架件以及該基座之間，該固定架之一側設置一檢測裝置。
8. 如請求項6所述之基座減晃裝置，其中該緩衝裝置係一氣壓彈簧。
9. 如請求項6所述之基座減晃裝置，其中該調質阻尼裝置包含一第一框架以及一第一質量塊，該第一框架設置並固定於該基座之該下方，該第一質量塊懸吊於該第一框架之內側之頂面。
10. 如請求項6所述之基座減晃裝置，其中該調質阻尼裝置包含： 一第二框架，其設置並固定於該基座之該下方，該第二框架之內側其與該地面垂直之一側設置一第一彈性件； 一第二質量塊，其設置於該第一彈性件之伸縮方向之一側，該第二質量塊並設於該第二框架之內側其平行於該地面之一側，且該第二質量塊以平行於該平行於該地面之該側之方式往返移動； 一第三框架，其設置於該第二框架之一下方，該第三框架之內側其與該地面垂直之一側設置一第二彈性件；以及 一第三質量塊，其設置於該第二彈性件之伸縮方向之一側，該第三質量塊並設於該第三框架之內側其平行於該地面之一側，且該第三質量塊以平行於該平行於該地面之該側之方式往返移動； 其中，該第二質量塊之移動方向與該第三質量塊之移動方向為交叉。