TWM650035U - 足部緩衝裝置 - Google Patents
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Abstract
一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置
至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一後足部位，該後足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該後足部位的一內側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導後足落地後產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態
Description
本案為一種足部緩衝裝置，尤指設置於一使用者足部與地面間的足部緩衝裝置。
人類腳掌的骨骼是由多個骨頭組成，這些骨骼之間則以關節、韌帶和肌腱來完成連接、維持穩定性與提供推進力。所以當人類腳掌的骨骼、肌腱和韌帶若產生協同運作上的異常，便可能導致多種問題和疾病，例如時常被診斷出的扁平足、高足弓、跟腱炎以及足底筋膜炎等各式足部缺陷與疾病。而市面上已有許多鞋款與鞋墊被設計出來，宣稱可以用來改善高弓足和扁平足的問題，用以提供對足弓的適當支撐，希望能減少高弓足或扁平足對足部的不良影響與不適感。但此類的鞋款與鞋墊的設計，多是從外顯的足弓靜態模型來進行矯正，並未能考慮到動態行走時的足部變化的根本問題。
根據研究(例如https：//sa.ylib.com/MagArticle.aspx？id=1486)指出，走路時足底的施力點與足弓結構有關。正常的足弓結構(俗稱正中足，Neutral pronation)在行走過程中，最大壓力點的移動路線901如圖1a之所示，其最大壓力點是從跟骨外側沿該路線移動到大拇趾。
圖1b則是表示出內旋足(Overpronation)在行走過程中，最大
壓力點的移動路線902。內旋足因前腳掌內旋幅度大，走路時重心會向內側偏移，致使最大壓力點的移動路線產生內偏，使得靠近第2、3個趾頭的前腳掌區域91及大拇趾內側區域92容易長足繭，往往也是鞋底磨損嚴重之處。
而圖1c則是表示出外旋足(supination)在行走過程中，最大壓力點的移動路線903示意圖。外旋足主要是因足弓下塌幅度小，外旋足壓力偏向外側前腳掌區域93及跟骨處區域94，使得該處易長足繭以及鞋底磨損嚴重。而如何改善上述問題，提供更佳的足部緩衝裝置的解決方案，係為發展本案之主要起點與目的。
本案為改善上述缺失，係發展出一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一後足部位，該後足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該後足部位的一內側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導後足落地後產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該後足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延伸方向逐漸變淺，使該緩衝主體邊緣區域中該凹槽結構的深度大於該緩衝主體中央區域中凹槽結構的深度。
本案為一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一後足部位，該後足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該後足部位的一外側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導後足落地後抑制過度內旋的傾向，進而達到對於足部過度內旋者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該後足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延
伸方向逐漸變淺，使該緩衝主體邊緣區域中該凹槽結構的深度大於該緩衝主體中央區域中凹槽結構的深度。
本案為一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一前足部位，該前足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該前足部位的一內側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導前足高檔推進的傾向，進而達到對於前足高檔推進不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該前足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延伸方向逐漸產生變化，使該凹槽結構隨其長邊的延伸方向的中央區域的深度最大。
本案為一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該
緩衝主體具有一前足部位，該前足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該前足部位的一外側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導前足低檔推進的傾向，進而達到對於足部過度高檔推進的步態矯正，使其修正成正常的步態。
本案為根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該前足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延伸方向逐漸產生變化，使該凹槽結構隨其長邊的延伸方向的中央區域的深度最大。
本案為一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一後足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該後足部位的一外側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強後足落地時的穩定度，並產生引導該使用者的足部產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該後足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導該使用者的足部產生內旋的傾向。
本案為一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一後足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該後足部位的一內側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強後足落地時的穩定度，並產生引導該使用者的足部產生外旋的傾向，進而達到對於足部內旋過度者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該後足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導該使用者的足部產生外旋的傾向。
本案為一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一前足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該前足部位的一內側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強前足落地時的穩定度，則可加強引導前足高檔推進
的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該前足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導前足高檔推進的傾向。
本案為一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一前足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該前足部位的一外側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強前足落地時的穩定度，並產生加強引導前足低檔推進的傾向，使其修正成正常的步態。
根據上述構想，本案所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該前足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導前足低檔推進的傾向。
901:最大壓力點的移動路線
902:最大壓力點的移動路線
91:前腳掌區域
92:大拇趾內側區域
903:最大壓力點的移動路線
93:外側前腳掌區域
94:跟骨處區域
71:後足部位
72:中足部位
73:前足部位
11:鞋底
119:抗壓縮形變能力降低結構
110:凹槽結構
111:側壁
112:底部
1101:第一開口
11011:長邊
11012:短邊
1102:第二開口
11021:高度
13:楔狀物
15:鞋墊
150:凹槽結構
310:凹槽結構
3101:第一開口
31011:長邊
31012:短邊
41:第一抗壓縮形變能力降低結構
42:第二抗壓縮形變能力降低結構
4201:短邊
4202:長邊
49:楔狀物
50:鞋底
51:凹槽結構
60:緩衝主體
61:後足部位
63:前足部位
601:第一傾斜導引結構
602:第二傾斜導引結構
691:虛線
692:虛線
78:第一落足穩定傾斜底部
781:第一斜面底部
782:第二斜面底部
79:第二落足穩定傾斜底部
791:第三斜面底部
792:第四斜面底部
圖1a、圖1b與圖1c，其係行走時三種最大壓力點的移動路線示意圖。
圖2a、圖2b、圖2c、圖2d以及圖2e，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來，關於位在使用者的足部與地面間的緩衝主體(例如鞋底
(outsole)或是鞋墊(insole))的第一實施例構造示意圖。
圖3，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來的鞋底結構的第二實施例構造示意圖。
圖4a、圖4b、圖4c以及圖4d，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來的鞋底(outsole)結構的第三實施例構造示意圖。
圖5a、圖5b、圖4c以及圖5d，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來的鞋底(outsole)結構的再一實施例構造示意圖。
圖6a以及圖6b，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來的鞋底(outsole)結構的另一實施例構造示意圖。
圖7a以及圖7b，其係分別為第一落足穩定傾斜底部與第二落足穩定傾斜底部的構造細節示意圖。
請參見圖2a、圖2b以及圖2c，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來，關於位在使用者的足部與地面間的緩衝主體(例如鞋底(outsole)或是鞋墊(insole))的第一實施例構造示意圖，本例的緩衝主體為一鞋底(outsole)結構，該鞋底結構(緩衝主體)主要分成後足部位71、中足部位72與前足部位73。其鞋底(outsole)結構中的後足部位71的材料具有第一抗壓縮形變能力，而第一抗壓縮形變能力可以用材料的硬度來定義。舉例來說，後足部位71的材料可以是橡膠、泡棉、塑膠或類似的聚合物，而其硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，是屬於感覺有彈性的緩衝物體。而本例主要是針對上述具有外旋足的異常足弓者所提出的改善方案。
圖2a係為將鞋底11朝上的俯視圖，其顯示出該鞋底11的後足部位的內側(本案係定義成右腳中線的左側邊緣以及左腳中線的右側邊緣)設置有一抗壓縮形變能力降低結構119。在本例中，該抗壓縮形變能力降低結構119係由同一材料所完成，該抗壓縮形變能力降低結構119主要包含有一凹槽結構110以及凹槽結構110週邊的側壁111與底部112，側壁111與底部112的材料與鞋底11後足部位的材料基本相同。基本上，凹槽結構110係可直接對該鞋底11的後足部位直接進行切削或是於鞋底以模具加工成形時便可一併完成。如此一來，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構119所具有的一第二抗壓縮形變能力便會小於後足部位71原本具有的該第一抗壓縮形變能力。
該凹槽結構110的第一開口1101基本上為一四邊形，該四邊形的長邊11011與鞋底上方足部的一系列橫弓(transverse arch)延伸方向大致平行，而該四邊形的短邊11012則與鞋底上方足部的一系列縱弓(longitudinal arch)延伸方向大致平行。如此一來，使用者靜態站立時，該抗壓縮形變能力降低結構仍保持足夠的支撐強度來抵抗體重對該鞋底所造成的壓縮形變，使得使用者不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感。但於行走時，則可因較易變形而加強引導後足落地後產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足(外旋足)者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
圖2b則是從長邊11011的延伸方向看過去的結構示意圖，由此角度可以看到該凹槽結構110的第二開口1102，其高度11021可設計成約為3到5mm，而寬度11022則可設計成為5到7mm左右，而該凹槽結構110的深度則隨著長邊11011的延伸方向，由邊緣處到中央處逐漸變淺，也就是鞋底
邊緣區域中凹槽結構110的深度大於鞋底中央區域中凹槽結構110的深度，可以讓鞋底邊緣區域中凹槽結構110的可壓縮形變能力大於鞋底中央區域中凹槽結構110的可壓縮形變能力。如此一來，便可因較易變形而加強引導後足落地後產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足(外旋足)者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
再者，凹槽結構110除了以製作方便的空腔來完成外，當然也可以使用其它材料的填充物。如圖2c之所示，則表示出與凹槽結構110的形狀相同的楔狀物13，其側壁同樣具有高度11021與寬度11022，其可以用抗壓縮形變能力較低的材料來完成，將其填入該凹槽結構110中，同樣可以達到與以空腔完成的凹槽結構110類似的功效，還可以防止異物(例如地上小碎石)不慎卡入。例如，其楔狀物13的材料硬度可選用較緩衝主體為軟(即較易形變)即可達到目的，當後足部位71的材料硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間時，楔狀物13的材料硬度範圍則可選用蕭氏00(Shore 00)硬度指數30±20的範圍即可。
另外，上述的凹槽結構110，除了可以如圖2a與圖2b所示，設置在鞋底11的下表面之外，凹槽結構110還可以完成在其他的緩衝主體實施例中。例如圖2d所示，凹槽結構110可完成在鞋底11的上表面而被鞋墊(insole)15覆蓋。另外，也可以如圖2e所示，凹槽結構150被完成在鞋墊15中，而鞋墊15材料的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間。為求使用者無不適感，凹槽結構150係可設於距鞋墊15的上表面有一適當距離即可。當然，凹槽結構110除了以空腔來完成之外，也可以是其它材料的楔狀填充物來填充至凹槽結構110(或150)中，其可以選用抗壓縮形變能力較
低的材料來完成，將其填入該凹槽結構110中，同樣可以達到與填充空氣的凹槽結構110一樣的功效。楔狀填充物材料的材料硬度範圍則可選用蕭氏00(Shore 00)硬度指數30±20的範圍即可。
再請參見圖3，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來的鞋底結構的第二實施例構造示意圖，其鞋底(outsole)結構的材料(例如橡膠、泡棉、塑膠或類似的聚合物)硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，其主要是針對上述具有內旋足的異常足弓者所提出的改善方案。圖3係為將鞋底11朝上的俯視圖，其顯示出該鞋底11的後足部位的外側(右腳中線的右側邊緣以及左腳中線的左側邊緣)設置有一抗壓縮形變能力降低結構，在本例為一凹槽結構310及其週邊的側壁與底部，該凹槽結構310的第一開口3101基本上為一四邊形，該四邊形的長邊31011與鞋底上方足部的一系列橫弓(transverse arch)延伸方向大致平行，而該四邊形的短邊31012則與鞋底上方足部的一系列縱弓(longitudinal arch)延伸方向大致平行。如此一來，使用者靜態站立時，該抗壓縮形變能力降低結構仍保持足夠的支撐強度來抵抗體重對該鞋底所造成的壓縮形變，使得使用者不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感。但於行走時，則可引導後足落地後降低產生內旋的傾向，進而達到對於足部過度內旋(內旋足)者的步態矯正，使其修正成正常的步態。至於凹槽結構310的細節與完成位置，其與第一實施例的作法基上上是相同的，因此可以參考圖2b與圖2c的範例，在此便不再贅述。
再請參見圖4a，其係本案為改善習用手段缺失所發展出來的鞋底(outsole)結構的第三實施例構造示意圖，其主要是針對上述具有外旋足
的異常足弓者所提出的另一改善方案，其鞋底(outsole)結構的材料(例如橡膠、泡棉、塑膠或類似的聚合物)硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間。與第三實施例的不同處在於，除了在該鞋底11的後足部位的內側(右腳中線的左側邊緣以及左腳中線的右側邊緣)設置有一第一抗壓縮形變能力降低結構41，更在該鞋底11的前足區域的內側(右腳中線的左側邊緣以及左腳中線的右側邊緣)增設有一第二抗壓縮形變能力降低結構42。該第一抗壓縮形變能力降低結構41的實例可以是一第一凹槽結構以及週邊的側壁與底部，其設計可以沿用圖2a至圖2e的凹槽結構110(150)以及其週邊，在此不再贅述。至於該第二抗壓縮形變能力降低結構42則可以是以一第二凹槽結構以及週邊的側壁與底部來完成，該第二凹槽結構的開口基本上為一四邊形，該四邊形的短邊4201與鞋底上方足部的一系列橫弓(transverse arch)延伸方向大致平行，但該四邊形的長邊4202則與鞋底上方足部的一系列縱弓(longitudinal arch)延伸方向大致平行。其底面則為一具有兩斜面的底部，而與該第二凹槽結構的形狀相同的楔狀物49，其外型則如圖4b之所示。此一設計係再透過第二抗壓縮形變能力降低結構42的組合，在後足落地後重心由中足移到前足時，引導最大壓力點沿著正確的路線移動，進而達到對於足部內旋不足(外旋足)者的步態矯正，使其修正成正常的步態。另外，也可於中足部位72設置一第三抗壓縮形變能力降低結構(圖未能示出)，其係特別針對過度足弓塌陷(腳掌未貼地時足弓就已塌陷)的使用者，可以在中足區域的外側增設有該第三抗壓縮形變能力降低結構(抑制過度足弓塌陷)，使其修正成正常內旋的步態。該第三抗壓縮形變能力降低結構的細節可以選用與第一抗壓縮形變能力降低結構與第二抗壓縮形變能
力降低結構類似的設計，故不再此贅述。
另外，如圖4c所示，其與圖4a的設計大致相同，差別在於第二抗壓縮形變能力降低結構42的位置。其係可視需求而從原本的前足內側邊緣，移動至如圖所示的中內側(也可以是虛線方框處)，用以引導最大壓力點沿著正確的路線移動，進而達到對於足部內旋不足(外旋足)者的步態矯正，使其修正成正常的步態。當然，也可以如圖4d所示，僅完成第二抗壓縮形變能力降低結構42而省去第一抗壓縮形變能力降低結構41的設置，同樣可以達到對於足部內旋不足(外旋足)者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
與圖3類似，針對上述具有內旋足的異常足弓者所提出的改善方案，圖5a係表示出將第一抗壓縮形變能力降低結構41與第二抗壓縮形變能力降低結構42分別設於後足部位的外側(右腳中線的右側邊緣以及左腳中線的左側邊緣)與前足部位的外側(右腳中線的右側邊緣以及左腳中線的左側邊緣)，至於圖5b則是省去第一抗壓縮形變能力降低結構41，而僅於前足部位的外側設置第二抗壓縮形變能力降低結構42的實施例。如此皆可達到對於足部過度內旋(內旋足)者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
而在上述的第一抗壓縮形變能力降低結構41與第二抗壓縮形變能力降低結構42中，除了可以使用單一凹槽結構來完成外，也可以使用多個凹槽結構來完成，例如圖5c與圖5d之所示，其係於鞋底50表面以多個凹槽結構51來組合完成。如此一來，使用者靜態站立時，該抗壓縮形變能力降低結構仍保持足夠的支撐強度來抵抗體重對該鞋底所造成的壓縮形變，使得使用者不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感。
但於行走時，則可因較易變形而發揮修正步態的攻效。
另外，當上述足部緩衝裝置選用硬度範圍大於蕭氏A型(Shore A)硬度指數90的材料(例如木屐或硬底皮鞋等堅硬材質的鞋類)時，本案係可如圖6a之所示，分別於緩衝主體60的後足部位61的外側與前足部位63的內側上設置一第一傾斜導引結構601以及一第二傾斜導引結構602，該第一傾斜導引結構601包含有一第一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該第一落足穩定傾斜底部可用以加強後足落地時的穩定度，並產生引導該使用者的足部產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。而該第二傾斜導引結構602包含有一第二落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該第二落足穩定傾斜底部可用以加強前足落地時的穩定度，則可加強引導前足進行高檔推進(high gear push off)的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。圖6b則是分別於緩衝主體60的後足部位61的內側與前足部位63的外側上設置一第一傾斜導引結構601以及一第二傾斜導引結構602，承圖6a的概念，該第一傾斜導引結構601包含有第一落足穩定傾斜底部，該第二傾斜導引結構602包含有一第二落足穩定傾斜底部。該使用者於行走時，第一落足穩定傾斜底部用以加強後足落地的穩定度，並產生引導該使用者的足部產生外旋的傾向，進而達到對於足部內旋過度者的步態矯正，使其修正成正常的步態。該第二落足穩定傾斜底部可用以加強前足落地的穩定度，產生加強引導前足低檔推進的傾向，使其修正成正常的步態。
而上述第一落足穩定傾斜底部的構造細節，則可參見圖7a的示意圖，其係沿虛線691的切線，並由鞋後跟往鞋前端看過去的截面圖，
該第一落足穩定傾斜底部78主要包含有一第一斜面底部781與一第二斜面底部782，該第一斜面底部781提供該後足落在地面77時的穩定接觸表面(配合內旋不足者的落地角度)，該第二斜面底部782則用以加強引導該使用者的足部產生內旋(本圖是順時針轉動)的傾向。
至於第二落足穩定傾斜底部的構造細節，則可參見圖7b的示意圖，其係沿虛線692的切線，並由鞋內側往鞋外側看過去的截面圖，該第二落足穩定傾斜底部79主要包含有一第三斜面底部791與一第四斜面底部792，該第三斜面底部791提供該前足落到地面77時的穩定接觸表面，該第四斜面底部792則用以加強引導前足高檔推進(high gear push off)的傾向。
綜上所述，雖然本新型以實施例揭露如上，但並非用以限定本新型。本新型所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本新型之技術精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍請求項所界定者為準。
71:後足部位
72:中足部位
73:前足部位
11:鞋底
119:抗壓縮形變能力降低結構
110:凹槽結構
111:側壁
112:底部
1101:第一開口
11011:長邊
11012:短邊
Claims (16)
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一後足部位，該後足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該後足部位的一內側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導後足落地後產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
- 如請求項1所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該後足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延伸方向逐漸變淺，使該緩衝主體邊緣區域中該凹槽結構的深度大於該緩衝主體中央區域中凹槽結構的深度。
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一後足部位，該後足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該後足部位的一外側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導後足落地後抑制過度內旋的傾向，進而達到對於足部過度內旋者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
- 如請求項3所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該後足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延伸方向逐漸變淺，使該緩衝主體邊緣區域中該凹槽結構的深度大於該緩衝主體中央區域中凹槽結構的深度。
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一前足部位，該前足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該前足部位的一內側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導前足高檔推進的傾向，進而達到對於前足高檔推進不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
- 如請求項5所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該前足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延伸方向逐漸產生變化，使該凹槽結構隨其長邊的延伸方向的中央區域的深度最大。
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍約在蕭氏00(Shore 00)硬度指數範圍30至90之間，該緩衝主體具有一前足部位，該前足部位的材料具有一第一抗壓縮形變能力；以及一抗壓縮形變能力降低結構，設置於該前足部位的一外側，以同一材料所完成的該抗壓縮形變能力降低結構所具有的一第二抗壓縮形變能力小於該第一抗壓縮形變能力，該第二抗壓縮形變能力使得使用者於靜態站立時不會於該抗壓縮形變能力降低結構的設置處產生異物感，但於使用者行走時，則可因較易變形而加強引導前足低檔推進的傾向，進而達到對於足部過度高檔推進的步態矯正，使其修正成正常的步態。
- 如請求項7所述之足部緩衝裝置，其中該抗壓縮形變能力降低結構包含有一凹槽結構以及該凹槽結構週邊的至少一側壁與一底部，該側壁與該底部的材料與該前足部位的材料相同，該凹槽結構的長邊與該使用者的足部縱弓延伸方向大致平行，而該凹槽結構的短邊則與該使用者的足部橫弓延伸方向大致平行，該凹槽結構的深度則隨其長邊的延伸方向逐漸產生變化，使該凹槽結構隨其長邊的延伸方向的中央區域的深度最大。
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該 裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一後足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該後足部位的一外側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強後足落地時的穩定度，並產生引導該使用者的足部產生內旋的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
- 如請求項9所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該後足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導該使用者的足部產生內旋的傾向。
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一後足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該後足部位的一內側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強後足落地時的穩定度，並產生引導該使用者的足部產生外旋的傾向，進而達到對於足部內旋過度者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
- 如請求項11所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該後足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導該使用者的足部產生外旋的傾向。
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該 裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一前足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該前足部位的一內側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強前足落地時的穩定度，則可加強引導前足高檔推進的傾向，進而達到對於足部內旋不足者的步態矯正，使其修正成正常的步態。
- 如請求項13所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該前足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導前足高檔推進的傾向。
- 一種足部緩衝裝置，設置於一使用者的足部與地面之間，該裝置至少包含有：一緩衝主體，位於該使用者的足部與地面之間，該緩衝主體的硬度範圍大於蕭氏00(Shore 00)硬度指數90，該緩衝主體具有一前足部位；以及一傾斜導引結構，設置於該前足部位的一外側區域，該傾斜導引結構包含有一落足穩定傾斜底部，該使用者於行走時，該落足穩定傾斜底部可用以加強前足落地時的穩定度，並產生加強引導前足低檔推進的傾向，使其修正成正常的步態。
- 如請求項15所述之足部緩衝裝置，其中該落足穩定傾斜底部包含有一第一斜面底部與一第二斜面底部，該第一斜面底部提供該前足落地時的穩定接觸表面，該第二斜面底部則用以加強引導前足低檔推進的傾向。
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| TW112208029U TWM650035U (zh) | 2023-07-31 | 2023-07-31 | 足部緩衝裝置 |
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