TWM647716U - 寬幅轉印模製整合設備 - Google Patents

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TWM647716U
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TW
Taiwan
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wide
transfer molding
roller
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nozzle
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TW112203494U
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Inventor
林劉恭
Original Assignee
光群雷射科技股份有限公司
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

本創作公開一種寬幅轉印模製整合設備,其包括:一滾輪固定裝置、間隔地設置於滾輪固定裝置的一光阻噴塗裝置、一顯影裝置、一銀噴塗裝置、以及一浸潤裝置,並且銀噴塗裝置位置對應於光阻噴塗裝置。滾輪固定裝置用來固定包覆有一基板的一金屬滾輪,並且金屬滾輪的長度介於1.6米~1.8米之間。光阻噴塗裝置能用來對基板噴塗一光阻液。顯影裝置能用來對基板噴塗一顯影液。銀噴塗裝置能用來對基板噴塗一奈米銀溶液。浸潤裝置能用來容納一鉻金屬溶液,並且浸潤裝置能用來在基板形成有一鉻翻印層。

Description

寬幅轉印模製整合設備
本創作涉及一種模製設備,特別是涉及一種寬幅轉印模製整合設備。
現有的平板模製設備通常僅能對尺寸較小的基板進行加工以得到模板,若需要製作大型尺寸的模板,則需要透過組合多片模板的方式才能獲得。然,上述方法不僅耗時費力,且每一批模板儘管製程參數相同,但仍有可能有些許差異而導致多個模板組合時,無法達成預期的效果。
故,如何通過結構設計的改良,來克服上述的缺陷,已成為該項事業所欲解決的重要課題之一。
本創作實施例針對現有技術的不足提供一種寬幅轉印模製整合設備,其能有效地改善現有的平板模製設備所可能產生的缺陷。
本創作實施例公開一種寬幅轉印模製整合設備,其包括:一滾輪固定裝置,用來固定包覆有一基板的一金屬滾輪;其中,所述金屬滾輪的長度介於1.6米~1.8米之間,而所述金屬滾輪是一鉻金屬滾輪;一光阻噴塗裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述光阻噴塗裝置能用來對所述基板噴塗一光阻液;一顯影裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述顯影裝置能用來對所述基板噴塗一顯影液;一銀噴塗裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述銀噴塗裝置位置對應於所述光阻噴塗裝置;其中,所述銀噴塗裝置能用來對所述基板噴塗一奈米銀溶液;以及一浸潤裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述浸潤裝置能用來容納一鉻金屬溶液;其中,所述浸潤裝置能用來在所述基板形成有一鉻翻印層。
本創作的其中一有益效果在於,本創作所提供的所述寬幅轉印模製整合設備,其能通過“所述滾輪固定裝置用來固定包覆有所述基板的所述金屬滾輪;其中,所述金屬滾輪的長度介於1.6米~1.8米之間”的技術方案,使所述寬幅轉印模製整合設備能用來製作大型尺寸的模板。
為使能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容,請參閱以下有關本創作的詳細說明與圖式,然而所提供的圖式僅用於提供參考與說明,並非用來對本創作加以限制。
以下是通過特定的具體實施例來說明本創作所公開有關“寬幅轉印模製整合設備”的實施方式,本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的優點與效果。本創作可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用,在不背離本創作的構思下進行各種修改與變更。另外,本創作的附圖僅為簡單示意說明,並非依實際尺寸的描繪,事先聲明。此外,以下如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示,其僅是用以強調於後續說明中,所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中,但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容,但所公開的內容並非用以限制本創作的保護範圍。
應當可以理解的是,雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號,但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件,或者一信號與另一信號。另外,本文中所使用的術語“或”,應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。
請參閱圖1至圖11所示,其為本創作的實施例,需先說明的是,本實施例所對應到的附圖及其所提及的相關數量與外形,僅用來具體地說明本創作的實施方式,以便於了解本創作的內容,而非用來侷限本創作的保護範圍。
參閱圖1至圖11所示,本創作實施例提供一種寬幅轉印模製整合設備100,其用來間隔地形成一鉻翻印層700於一基板300,並且所述基板300包覆於一金屬滾輪200。所述基板300於本實施例中主要由聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate, PET)製成,並且所述基板300的長度介於1.6米~1.8米之間,而所述基板300的寬度介於1米~1.2米之間,但本創作並不限於此。舉例來說,於本創作的其他實施例中,所述基板300也可以是由具有透明特性的任一樹脂製成。
需要說明的是,於本實施例中,所述金屬滾輪200的長度介於1.6米~1.8米之間,並且所述金屬滾輪200較佳一鉻金屬滾輪鉻。
所述寬幅轉印模製整合設備100包括一滾輪固定裝置01、一光阻噴塗裝置02、一軟烤裝置03、一光刻裝置04、一顯影裝置05、一銀噴塗裝置06、一浸潤裝置07、一拆板裝置08、一移動裝置09、一升降裝置10、一沖洗裝置11、以及一無塵腔體12,但本創作不限於此。舉例來說,於本創作未繪示的其他實施例中,所述寬幅轉印模製整合設備100也可以不包含有所述沖洗裝置11以及所述無塵腔體12。
以下為方便說明與理解,將逐個說明所述寬幅轉印模製整合設備100的各個元件,並適時地說明上述各個元件之間的相互位置及作動關係。如圖3所示,所述滾輪固定裝置01用來固定包覆有所述基板300的所述金屬滾輪200,並且所述滾輪固定裝置01包含一轉動機構011及安裝於所述轉動機構011的一夾持機構012。其中,所述轉動機構011能用來安裝於所述金屬滾輪200,並且所述夾持機構012用來夾持所述金屬滾輪200。進一步地說,當所述轉動機構011運作時,所述轉動機構011會轉動所述夾持機構012,使所述金屬滾輪200被所述夾持機構012轉動。
進一步地說,所述夾持機構012包含一圓形彈性筒夾(圖未繪),並且所述夾持機構012是透過油壓驅動的方式,使所述圓形彈性筒夾可以夾持所述金屬滾輪200,但本創作並不限於此。舉例來說,所述圓形彈性筒夾也可以是車床夾頭等其他夾具,並且所述夾持機構012也可以透過氣壓驅動或手動的方式,使所述圓形彈性筒夾能夾持所述金屬滾輪200。
需要說明的是,所述轉動機構011還進一步包含有一速度控制器(圖未繪),其能用來使所述金屬滾輪200以介於2900轉/分鐘(RPM)至4500轉/分鐘的一甩乾速度轉動,但本創作不限於此。舉例來說,於本創作未繪示的其他實施例中,所述速度控制器也能用來使所述金屬滾輪200以介於1轉/分鐘(RPM)至25轉/分鐘的一浸潤速度轉動。
如圖4所示,所述光阻噴塗裝置02間隔地設置於所述滾輪固定裝置01,並且所述光阻噴塗裝置02能用來對所述基板300噴塗一光阻液(圖未標)以對應形成一光阻層400。其中,於本實施例中,所述光阻液由正光阻劑形成,並且所述光阻液主要是由酚醛樹脂(Phenol-formaldehyde resin)製成,但本創作並不限於此。舉例來說,所述光阻液也可以由環氧樹脂(Epoxy resin)等正光阻劑材料製成。
具體來說,所述光阻噴塗裝置02包含間隔地設置於所述滾輪固定裝置01的一光阻槽022及一第一噴嘴021,並且所述第一噴嘴021連接於所述光阻槽022,而所述第一噴嘴021能用來噴塗所述光阻液。其中,所述光阻槽022內儲存有所述光阻液,而所述第一噴嘴021能自所述光阻槽022抽取所述光阻液,並將所述光阻液噴塗於包覆在所述金屬滾輪200的所述基板300。
需要說明的是,於本實施例中,所述第一噴嘴021為壓電式噴嘴,但本創作並不限於此。舉例來說,於其他實施例中,所述噴嘴11也可以為連續式噴嘴。更詳細地說,相比於現有的塗佈噴嘴,當所述第一噴嘴021為壓電式噴嘴時,所述光阻液形成液滴時的形狀更為規則,並且所述光阻液被噴塗時能被更加精準地設置於所述基板300。
此外,當所述第一噴嘴021為壓電式噴嘴時,所述光阻液不需加熱,因此所述光阻液不易發生化學變化,並且由於所述光阻液的溫度持續保持在穩定的狀態,即使所述光阻液被長時間不間斷地噴印後,所述光阻液的粘度及表面張力保持相對的穩定,從而可以使所述光阻液塗佈於所述基板300時的均勻度提升。
當所述第一噴嘴021為連續式噴嘴時,所述光阻液形成液滴的速度提升,進而使所述第一噴嘴021的噴塗速度增加。需要說明的是,當所述第一噴嘴021為壓電式噴嘴或連續式噴嘴時,所述第一噴嘴021同時也為溶劑型噴嘴,否則所述第一噴嘴021將容易被腐蝕而降低使用壽命。
具體來說,當所述光阻噴塗裝置02在包覆於所述金屬滾輪200的所述基板300上噴塗所述光阻液時,所述金屬滾輪200被所述滾輪固定裝置01夾持並轉動,以使所述基板300被所述光阻液均勻地噴塗,續而形成設置於所述基板300的所述光阻層400。
如圖5所示,所述軟烤裝置03間隔地設置於所述滾輪固定裝置01,所述軟烤裝置03包含多個軟烤燈031,並且每個所述軟烤燈031為一紅外線燈、一近紅外線燈、或一氙燈,而所述軟烤裝置03的每個所述軟烤燈031於本實施例中為較佳為近紅外線燈。其中,所述軟烤裝置03能用來烘烤所述光阻層400,並使所述光阻層400的溶劑含量降低。更詳細地說,所述軟烤裝置03能用來使所述光阻層400的溶劑及過多的水分自所述光阻層400中揮發出來,並使所述溶劑在所述光阻層400中的含量至少降低至5%左右。
如圖6所示,所述光刻裝置04間隔地設置於所述軟烤裝置03,並且所述光刻裝置04包含多個光刻光源041及間隔地設置於多個所述光刻光源041的一光罩(圖未繪),而所述光刻裝置04能用來對所述基板300上的部分所述光阻層400照射,進而對應形成一圖案化光阻層500。其中,多個所述光刻光源041包含多個發光二極體(圖未繪),其用來發出波長248奈米~365奈米的紫外光。
進一步地說,所述光刻裝置04的多個所述光刻光源041所發出的紫外光能通過所述光罩並對應形成一圖案化光線,所述圖案化光線照射於部分所述光阻層400時,所述金屬滾輪200被所述滾輪固定裝置01夾持並轉動,使部分所述光阻層400被所述圖案化光源均勻地照射,續而於所述光阻層400對應形成所述圖案化光阻層500。
需要說明的是,並且所述光罩連接於所述移動裝置09,但本創作不限於此。舉例來說,於本創作未繪示的其他實施例中,所述光罩也可以被替換為一干涉件,並且所述干涉件亦連接於所述移動裝置09。
如圖7所示,所述顯影裝置05間隔地設置於所述滾輪固定裝置01,並且所述顯影裝置05能用來對所述基板300噴塗一顯影液(圖未繪)。具體來說,所述顯影裝置05包含間隔地設置於所述滾輪固定裝置01的一顯影槽051及一第二噴嘴052,並且所述第二噴嘴052連接於所述顯影槽051且能用來噴塗所述顯影液;其中,所述顯影槽051儲存有所述顯影液。
需要說明的是,所述顯影液的組成材料的種類與組成材料比例對應於所述光阻層400的組成材料的種類與組成材料比例。換句話說,所述顯影液包含的組成材料種類與組成材料比例會隨所述光阻層400的組成材料的種類與比例變動。所述顯影液於本實施例中包含溶解有四甲基氫氧化銨(TMAH)的鹼水溶液,但本創作並不限於此。舉例來說,於其他實施例中,溶解有四甲基氫氧化銨(TMAH)的所述鹼水溶液,也可以被替換成溶解有四乙基氫氧化銨(TEAH)、四丙基氫氧化銨(TPAH)、或四丁基氫氧化銨(TBAH)的鹼水溶液。
如圖8所示,所述銀噴塗裝置06間隔地設置於所述滾輪固定裝置01,並且所述銀噴塗裝置06位置對應於所述光阻噴塗裝置02,而所述銀噴塗裝置06能用來對所述基板300噴塗一奈米銀溶液(圖未標)。具體來說,所述銀噴塗裝置06包含間隔地設置於所述滾輪固定裝置01的一銀溶液槽062及一第三噴嘴061,並且所述第三噴嘴061連接於所述銀溶液槽062且能用來噴塗所述奈米銀溶液。其中,所述銀溶液槽062儲存有所述奈米銀溶液,並且所述第三噴嘴061能抽取所述銀溶液槽062中的所述奈米銀溶液,而後將所述奈米銀溶液噴塗於所述圖案化光阻層500且對應形成一銀金屬層600。
以下為方便說明與理解,所述浸潤裝置07與所述升降裝置10將共同描述。如圖9所示,所述浸潤裝置07間隔地設置於所述滾輪固定裝置01,並且所述浸潤裝置07能用來容納一鉻金屬溶液7S;所述升降裝置10承載所述浸潤裝置07,並且所述升降裝置10用來使所述滾輪固定裝置01與所述浸潤裝置07相對地移動,以使所述浸潤裝置07能用來將其所容納的所述鉻金屬溶液7S浸潤於局部所述基板300。
具體來說,所述浸潤裝置07包含一浸潤槽071及多個板蓋072,並且多個所述板蓋072設置於所述浸潤槽071相對鄰近於所述金屬滾輪200的一側,而所述浸潤槽071與多個所述板蓋072間隔地設置於所述滾輪固定裝置01;所述升降裝置10包含對稱的兩個升降軌道101及分別安裝於兩個所述升降軌道101上的兩個升降平台102,並且兩個所述升降軌道101分別鄰近設置於所述浸潤裝置07位於其長度方向的兩端。其中,每個所述升降軌道101的一端鄰近於所述滾輪固定裝置01,另一端鄰近於所述浸潤裝置07。
所述升降裝置10的兩個所述升降平台102能用來配合兩個所述升降軌道101,使所述浸潤槽071接近所述金屬滾輪200,進而使包覆於所述金屬滾輪200上的部分所述基板300及所述銀金屬層600浸潤於所述鉻金屬溶液7S,並對應形成所述鉻翻印層700。其中,當所述金屬滾輪200浸潤於所述浸潤槽071時,多個所述板蓋072將開啟以供所述金屬滾輪200進入所述浸潤槽071中。
如圖11所示,所述拆板裝置08間隔地設置於所述光刻裝置04,並且所述拆板裝置08可拆卸的安裝於所述滾輪固定裝置01,而所述拆板裝置08能用來分離所述基板300與所述金屬滾輪200。進一步地說,所述拆板裝置08包含一固定件081及間隔地設置於所述固定件081的一分離件082,所述分離件082能用來連接所述鉻翻印層700,而所述固定件081能用來固定所述金屬滾輪200及所述銀金屬層600。其中,所述分離件082與所述固定件081能相互分離,進而使所述鉻翻印層700與所述銀金屬層600相互分離。
需要說明的是,為了方便說明與理解,於圖11僅繪示所述金屬滾輪200及所述拆板裝置08,但實際上所述拆板裝置08是部分安裝於所述滾輪固定裝置01上,特此說明。
如圖1所示,所述移動裝置09間隔地設置於所述滾輪固定裝置01,並且所述移動裝置09連接且能用來移動所述第一噴嘴021及所述第二噴嘴052。其中,所述移動裝置09亦連接且能用來移動所述軟烤裝置03、所述光刻裝置04、以及所述拆板裝置08。舉例來說,當所述第一噴嘴021或所述第二噴嘴052對包覆於所述金屬滾輪200的所述基板300進行噴塗作業時,所述移動裝置09能用來使所述第一噴嘴021或所述第二噴嘴052相對於所述金屬滾輪200移動,進而使所述基板300能被均勻地塗佈。
如圖10所示,所述沖洗裝置11間隔地設置於所述滾輪固定裝置01,並且所述沖洗裝置11能用來沖洗包覆於所述金屬滾輪200的所述基板300。具體來說,所述沖洗裝置11包含一水槽112及連接於所述水槽112的一第四噴嘴111,所述第四噴嘴111能用來在所述圖案化光阻層500離開所述浸潤裝置07內的所述顯影液時,自所述水槽112抽水並以水沖洗分布於所述圖案化光阻層500的所述顯影液。
需要說明的是,所述滾輪固定裝置01、所述光阻噴塗裝置02、所述軟烤裝置03、所述光刻裝置04、所述顯影裝置05、所述銀噴塗裝置06、所述浸潤裝置07、所述拆板裝置08、所述移動裝置09、所述升降裝置10、以及所述沖洗裝置11設置於所述無塵腔體12中,並且所述無塵腔體的等級於本實施例中為美國聯邦標準分級1~美國聯邦標準分級500。其中,所述無塵腔體12用來避免所述基板300被環境中的汙染源黏附。
[實施例的有益效果]
本創作的其中一有益效果在於,本創作所提供的所述寬幅轉印模製整合設備100,其能通過“所述滾輪固定裝置01用來固定包覆有所述基板300的所述金屬滾輪200;其中,所述金屬滾輪200的長度介於1.6米~1.8米之間”的技術方案,使所述寬幅轉印模製整合設備100能用來製作大型尺寸的模板。
以上所公開的內容僅為本創作的優選可行實施例,並非因此侷限本創作的申請專利範圍,所以凡是運用本創作說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本創作的申請專利範圍內。
100:寬幅轉印模製整合設備 01:滾輪固定裝置 011:轉動機構 012:夾持機構 02:光阻噴塗裝置 021:第一噴嘴 022:光阻槽 03:軟烤裝置 031:軟烤燈 04:光刻裝置 041:光刻光源 05:顯影裝置 051:顯影槽 052:第二噴嘴 06:銀噴塗裝置 061:第三噴嘴 062:銀溶液槽 07:浸潤裝置 071:浸潤槽 072:板蓋 7S:鉻金屬溶液 08:拆板裝置 081:固定件 082:分離件 09:移動裝置 10:升降裝置 101:升降軌道 102:升降平台 11:沖洗裝置 111:第四噴嘴 112:水槽 12:無塵腔體 200:金屬滾輪 300:基板 400:光阻層 500:圖案化光阻層 600:銀金屬層 700:鉻翻印層
圖1為本創作實施例的金屬滾輪與基板的示意圖。
圖2為本創作實施例的基板包覆於金屬滾輪的動作示意圖。
圖3為本創作實施例的寬幅轉印模製整合設備的立體示意圖。
圖4為本創作實施例的光阻噴塗裝置的動作示意圖。
圖5為本創作實施例的軟烤裝置的動作示意圖。
圖6為本創作實施例的光刻裝置的動作示意圖。
圖7為本創作實施例的顯影裝置的動作示意圖。
圖8為本創作實施例的銀噴塗裝置的動作示意圖。
圖9為本創作實施例的浸潤裝置與升降裝置的動作示意圖。
圖10為本創作實施例的沖洗裝置的動作示意圖。
圖11為本創作實施例的拆板裝置的動作示意圖。
100:寬幅轉印模製整合設備
01:滾輪固定裝置
011:轉動機構
012:夾持機構
02:光阻噴塗裝置
03:軟烤裝置
04:光刻裝置
05:顯影裝置
06:銀噴塗裝置
07:浸潤裝置
09:移動裝置
10:升降裝置
101:升降軌道
102:升降平台
11:沖洗裝置
12:無塵腔體
200:金屬滾輪
300:基板

Claims (10)

  1. 一種寬幅轉印模製整合設備,其包括: 一滾輪固定裝置,用來固定包覆有一基板的一金屬滾輪;其中,所述金屬滾輪的長度介於1.6米~1.8米之間,並且所述金屬滾輪是一鉻金屬滾輪; 一光阻噴塗裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述光阻噴塗裝置能用來對所述基板噴塗一光阻液; 一顯影裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述顯影裝置能用來對所述基板噴塗一顯影液; 一銀噴塗裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述銀噴塗裝置位置對應於所述光阻噴塗裝置;其中,所述銀噴塗裝置能用來對所述基板噴塗一奈米銀溶液;以及 一浸潤裝置,間隔地設置於所述滾輪固定裝置,並且所述浸潤裝置能用來容納一鉻金屬溶液;其中,所述浸潤裝置能用來在所述基板形成有一鉻翻印層。
  2. 如請求項1所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述寬幅轉印模製整合設備進一步包括一無塵腔體,並且所述滾輪固定裝置、所述光阻噴塗裝置、所述顯影裝置、所述銀噴塗裝置、以及所述浸潤裝置設置於所述無塵腔體中。
  3. 如請求項1所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述寬幅轉印模製整合設備進一步包括間隔地設置於所述滾輪固定裝置的一沖洗裝置,並且所述沖洗裝置能用來沖洗包覆於所述金屬滾輪的所述基板。
  4. 如請求項1所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述光阻噴塗裝置包含間隔地設置於所述滾輪固定裝置的一第一噴嘴,並且所述顯影裝置包含間隔地設置於所述滾輪固定裝置的一第二噴嘴;其中,所述第一噴嘴能用來噴塗所述光阻液,並且所述第二噴嘴能用來噴塗所述顯影液。
  5. 如請求項4所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述寬幅轉印模製整合設備進一步包括一移動裝置,連接且能用來移動所述第一噴嘴及所述第二噴嘴。
  6. 如請求項1所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述銀噴塗裝置包含間隔地設置於所述滾輪固定裝置的一第三噴嘴,並且所述第三噴嘴能用來噴塗所述奈米銀溶液。
  7. 如請求項1所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述寬幅轉印模製整合設備進一步包括一升降裝置,其承載所述浸潤裝置,並且所述升降裝置用來使所述滾輪固定裝置與所述浸潤裝置相對地移動,以使所述浸潤裝置能用來將其所容納的所述鉻金屬溶液浸潤於局部所述基板。
  8. 如請求項1所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述滾輪固定裝置進一步包含一轉動機構,所述轉動機構能用來安裝於所述金屬滾輪,並且所述轉動機構包含一速度控制器,其能用來使所述金屬滾輪以介於2900轉/分鐘(RPM)至4500轉/分鐘的一甩乾速度轉動。
  9. 如請求項1所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述滾輪固定裝置進一步包含一轉動機構,所述轉動機構能用來安裝於所述金屬滾輪,並且所述轉動機構包含一速度控制器,其能用來使所述金屬滾輪以介於1轉/分鐘(RPM)至25轉/分鐘的一浸潤速度轉動。
  10. 如請求項9所述的寬幅轉印模製整合設備,其中,所述滾輪固定裝置包含一夾持機構,所述夾持機構安裝於所述轉動機構,並且所述夾持機構用來夾持所述金屬滾輪;其中,當所述轉動機構運作時,所述轉動機構會轉動所述夾持機構,使所述金屬滾輪被所述夾持機構轉動。
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