TWM627617U

TWM627617U - 具有良好支撐性及回彈力之足弓墊結構

Info

Publication number: TWM627617U
Application number: TW110213938U
Authority: TW
Inventors: 柳慶鴻
Original assignee: 柳慶鴻
Priority date: 2021-11-24
Filing date: 2021-11-24
Publication date: 2022-06-01

Abstract

一種具有良好支撐性及回彈力之足弓墊結構，包括有一足弓墊，該足弓墊頂面設有足跟圓弧凹陷區、足心隆起區、外側足弓支撐區、內側足弓支撐區及抵靠區，該足心隆起區向該抵靠區方向延伸連接有至少一蹠骨支撐部，該足弓墊底面設有前結合部與後結合部，該底面之底面周緣設有一環繞斜面，該前結合部與相對於該抵靠區下方之該底面周緣之間形成一前接觸區，該環繞斜面與該後結合部之間形成一弧狀後接觸區，該底面由該弧狀後接觸區之弧頂處至該前接觸區之間形成一拱形支撐結構，該拱形支撐結構具有良好的支撐性與強力的回彈力。

Description

具有良好支撐性及回彈力之足弓墊結構

本創作係為一種鞋墊結構，尤指一種提供使用者良好的足弓支撐及強力回彈感受之足弓墊結構。

習知之鞋墊，多為一足部輪廓之墊體，透過彈性材質發泡技術製成，提供人體行走或站立時基本緩衝能力，具有柔軟並適時提供回彈力之特性，為現今穿鞋時不可或缺的構件之一，在眾多研發人員不斷求新求變的演變過程中，許多同時具有避震及緩衝功效之鞋墊也隨之產生，提供了使用者更多的選擇，然，一般的鞋墊雖然有針對足弓處提供相應的結構及保護，卻顯得太過於單薄或不足，忽略了行走及站立時，足弓所承受的壓力及緊繃感，透過圖式第一圖至第三圖可得知，足部(B)具有三大足弓：內側足弓(B4)、外側足弓(B5)及橫向足弓(B6)，若以全身施予足部的壓力來做初估計算，前掌部(B7)所承受壓力略為30%，後跟部(B8)所承受之壓力略為60%，且壓力大多集中於三大足弓之支撐端點處，即為前掌壓力區(B71)與後跟壓力區(81)，該內側足弓(B4)需同時支撐前掌部(B7)及後跟部(B8)，因此該內側足弓(B4)兩端之支撐端點處所需要的支撐力更高，若長期忽視該前掌壓力區(B71)與該後跟壓力區(81)所帶來的疲勞及緊繃感，沒有適當的休息與舒緩，症狀輕則感到疲勞與不適，嚴重可能會有足底筋膜炎的症狀。

一習知技術請查閱專利證書號M573592，專利名稱：足弓墊，該創作之主要目的乃在於，利用熱壓一體成型且密度不一之足弓墊，讓人體的重量平均分散於足底，以避免使用者久站或搬運重物時，產生疲勞、損傷膝蓋或腳踝之情形，且分別形成有足前區與足跟區，而該足弓墊於該足前區與該足跟區之間形成有足弓區，該足弓墊之該足弓區厚度大於該足前區與該足跟區，使該足弓區之密度低於該足前區與該足跟區，讓足弓區具有彈性支撐力，而該足前區與該足跟區能承受較大的壓力。

前述之該足弓墊設有符合人體工學之該足前區、該足弓區及該足跟區，並透過該足弓區提供人體足弓支撐，然，僅僅是提供了最基本足部的硬性支撐結構，由[0001]段落可知，人體重量下壓時，足部壓力皆由三大足弓提供支撐，而上述習知專利僅透過較低密度之該足弓區提供彈力與支撐，仍嫌不足，且該足弓區底部為實體平面，當人體足部壓力下壓時，該足弓區受壓後無法將壓力分散，全部集中於該足弓區，並僅透過該足弓區受壓後之該足弓區硬度來提供足部支撐力，屬於硬性的強迫支撐，足底會有強烈的異物感，且每個人的足弓高度不一樣，異物感的感受也會強弱不一，穿久了一樣會疲勞不適。

上述問題是本創作人親身感受到現今習知技術與習知專利的缺點，本創作人關注上述問題多年，因此經過不斷研究及改良，而終有本創作之產生，針對三大足弓支撐性及回彈力進行結構改良，以取代習知技術。

本創作目的係提供使用者良好的足弓支撐及強力回彈感受之足弓墊結構，減緩站立或行走時足弓的疲勞與不適感。

為達上述目的，本創作提供了一種具有良好支撐性及回彈力之足弓墊結構，包括有一足弓墊，該足弓墊頂面設有足跟圓弧凹陷區、足心隆起區、外側足弓支撐區、內側足弓支撐區及抵靠區，該足心隆起區向該抵靠區方向延伸連接有至少一蹠骨支撐部，該足弓墊底面設有前結合部與後結合部，該底面之底面周緣設有一環繞斜面，該前結合部與相對於該抵靠區下方之該底面周緣之間形成一前接觸區，該環繞斜面與該後結合部之間形成一弧狀後接觸區，該底面由該弧狀後接觸區之弧頂處至該前接觸區之間形成一拱形支撐結構。

透過前一段落所敘述之結構，該足弓墊透過該前結合部與該後結合部於鞋體內穩固結合不滑動，該足心隆起區、該外側足弓支撐區與該內側足弓支撐區則提供足跟及足弓良好的舒適支撐性，該足心隆起區向該抵靠區方向延伸連接有至少一蹠骨支撐部，該蹠骨支撐部位於第三蹠骨與內收拇肌下方，該蹠骨支撐部藉由足部行走踩踏時，提供橫向足弓支撐並按摩舒緩該內收母肌，減緩行走或站立所帶來的疲勞感。

又，該拱形支撐結構加強了該足心隆起區、該外側足弓支撐區與該內側足弓支撐區的支撐性，且由於該拱形支撐結構下方形成容置空間，可接受因承受壓力而下壓之該足弓墊些微變形之體積，並將下壓之壓力分散至該足跟圓弧凹陷區及該抵靠區；以下例舉具體實施例，且佐以圖式作詳細說明，俾使審查委員能對於本創作之技術特徵，有更進一步之了解。

(A):足弓墊

(1):頂面

(11):頂面周緣

(12):足跟圓弧凹陷區

(13):足心隆起區

(14):外側足弓支撐區

(15):內側足弓支撐區

(16):抵靠區

(17):蹠骨支撐部

(2):底面

(21):底面周緣

(22):前結合部

(23):後結合部

(24):結合元件

(25):環繞斜面

(26):前接觸區

(27):弧狀後接觸區

(271):弧頂處

(28):拱形支撐結構

(29):容置空間

(B):足部

(B1):足部後跟

(B2):足心

(B3):前掌

(B4):內側足弓

(B5):外側足弓

(B6):橫向足弓

(B7):前掌部

(B71):前掌壓力區

(B8):後跟部

(B81):後跟壓力區

(C1):跟骨

(C2):舟狀骨

(C3):楔骨

(C4):蹠骨

(C5):第一蹠骨

(C51):第一趾蹠關節

(C6):第二蹠骨

(C7):第三蹠骨

(C8):第四蹠骨

(C9):第五蹠骨

(C91):第五趾蹠關節

(D1):內收拇肌

(D2):屈拇短肌

(E):鞋體

(E1):接觸面

(E2):結合元件

第一圖係為三大足弓位置參考示意圖。

第二圖係為足部壓力區參考示意圖(一)。

第三圖係為足部壓力區參考示意圖(二)。

第四圖係為足部足底肌肉參考示意圖。

第五圖係為本創作立體參考圖(一)。

第六圖係為本創作各結構位置參考示意圖。

第七圖係為本創作立體參考圖(二)。

第八圖係為本創作立體參考圖(三)。

第九圖係為本創作剖面位置參考示意圖。

第十圖係為本創作剖面參考示意圖(一)。

第十一圖係為本創作剖面參考示意圖(二)。

第十二圖係為本創作剖面參考示意圖(三)。

第十三圖係為本創作剖面參考示意圖(四)。

第十四圖係為本創作剖面參考示意圖(五)。

第十五圖係為本創作實施例參考示意圖(一)。

第十六圖係為本創作與足部壓力區相對位置參考示意圖。

第十七圖係為本創作與足部足底肌肉相對位置參考示意圖。

第十八圖係為本創作與足部骨頭相對位置參考示意圖(一)。

第十九圖係為本創作與足部骨頭相對位置參考示意圖(二)。

第二十圖係為本創作實施例參考示意圖(二)。

第二十一圖係為本創作實施例參考示意圖(三)。

第二十二圖係為本創作實施例參考示意圖(四)。

第二十三圖係為本創作實施例參考示意圖(五)。

第二十四圖係為本創作實施例參考示意圖(六)。

第二十五圖係為本創作實施例參考示意圖(七)。

第二十六圖係為本創作實施例參考示意圖(八)。

第二十七圖係為本創作實施例參考示意圖(九)。

請參閱圖式第一圖至第二十七圖，本創作提供了一種具有良好支撐性及回彈力之足弓墊結構，包括有一足弓墊(A)，該足弓墊(A)頂面(1)設有足跟圓弧凹陷區(12)，該足跟凹陷區(12)由該頂面(1)之頂面周緣(11)向內及向下呈現圓弧凹陷，以符合足部後跟(B1)之肌肉形狀，該足跟圓弧凹陷區(12)有助於該足部後跟(B1)肌肉聚攏，聚攏後的該肌肉形成天然的緩衝墊，可承受站立或行走時的下壓力。

該足跟圓弧凹陷區(12)向相對於足心(B2)方向延伸有緩升隆起之足心隆起區(13)，該足心隆起區(13)之位置相對於該足部(B)跟骨(C1)前端、舟狀骨(C2)、楔骨(C3)與蹠骨(C4)後端之範圍，該足心隆起區(13)貼合於該足部(B)底面三大足弓：內側足弓(B4)、外側足弓(B5)及橫向足弓(B6)之間的內側區域，提供三大足弓內側支撐力，令該足部(B)之該跟骨(C1)前端、該舟狀骨(C2)、該楔骨(C3)與該蹠骨(C4)後端得以支撐。

該足心隆起區(13)兩側分別連接有向下漸緩圓弧凹陷至該頂面周緣(11)之外側足弓支撐區(14)，該外側足弓支撐區(14)之向下漸緩圓弧凹陷結構形狀符合該足部(B)外側肌肉形狀及線條，及緩升隆起至該頂面周緣(11)之內側足弓支撐區(15)，該內側足弓支撐區(15)之緩升隆起結構形狀符合該足部(B)內側肌肉形狀及線條，該內側足弓支撐區(15)之位置相對於該足部(B)屈拇短肌(D2)下方，該內側足弓區(15)不僅提供該內側足弓(B4)支撐力，更可舒緩該屈拇短肌(D2)的壓力。

該足心隆起區(13)向相對於前掌(B3)方向延伸設有漸緩圓弧凹陷之抵靠區(16)，該抵靠區(16)提供前掌部(B7)之前掌壓力區(B71)支撐力，該抵靠區(16)之該頂面周緣(11)相對位置位於第一趾蹠關節(C51)至第五趾蹠關節(C91)內側，令該第一趾蹠關節(C51)至該第五趾蹠關節(C91)不會踩踏到該抵靠區(16)，不會產生異物感。

又，該足心隆起區(13)向該抵靠區(16)方向延伸連接有至少一蹠骨支撐部(17)，該蹠骨支撐部(17)相對位置位於該足部(B)第三蹠骨(C7)與內收拇肌(D1)下方，當使用者站立或踩踏時，該蹠骨支撐部(17)可提供該蹠骨(C4)支撐與肌肉按摩舒緩，進而提供並維持該橫向足(B6)弓支撐力，減緩行走或站立所帶來的疲勞感。

該足弓墊(A)底面(2)設有前結合部(22)與後結合部(23)，該前結合部(22)與該後結合部(23)設有結合元件(24)，鞋體(E)之接觸面(E1)設有相對應之結合元件(E2)，該結合元件(24)(E2)為黏扣帶或具有磁性之元件，令該足弓墊(A)可以穩固的結合於該鞋體(E)之該接觸面(E1)上不滑動，幫助使用者可以更完整體驗該足弓墊(A)的支撐性與回彈力，該前結合部(22)設置位置相對於該頂面(1)之該抵靠區(16)下方，該後結合部(23)設置位置相對於該頂面(1)之該足跟圓弧凹陷區(12)下方。

該底面(2)之底面周緣(21)設有一環繞斜面(25)，該環繞斜面(25)設置位置相對於該頂面(1)之該內側足弓支撐區(15)、該足跟圓弧凹陷區(12)及該外側足弓支撐區(14)下方，該環繞斜面(25)可提供該足跟圓弧凹陷區(12)、該內側足弓支撐區(15)與該外側足弓支撐區(14)側向支撐力，輔助該足部(B)底面肌肉聚攏。

該前結合部(22)與相對於該抵靠區(16)下方之該底面周緣(21)之間形成一前接觸區(26)，該環繞斜面(25)與該後結合部(23)之間形成一弧狀後接觸區(27)，該底面(2)由該弧狀後接觸區(27)之弧頂處(271)至該前接觸區(26)之間形成一拱形支撐結構(28)，該拱形支撐結構(28)位置相對於該頂面(1)之該足跟圓弧凹陷區(12)、該足心隆起區(13)、該內側足弓支撐區(15)與該外側足弓支撐區(14)下方，該足跟圓弧凹陷區(12)、該足心隆起區(13)、該內側足弓支撐區(15)、該外側足弓支撐區(14)、該後結合部(23)與該弧狀後接觸區(27)呈現完全懸空之結構型態，該足弓墊(A)僅透過該弧頂處(271)與該前接觸區(26)放置於該鞋體(E)內部之該接觸面(E1)，令該拱形支撐結構(28)與該鞋體(E)之該接觸面(E1)之間形成一容置空間(29)，該足弓墊(A)為具有可撓性之材質製成，該足弓墊(A)承受下壓力後該拱形支撐結構(28)會向下些微變形，該容置空間(29)可容納該足弓墊(A)些微變形之體積，此時該弧狀後接觸區(27)會與該鞋體(E)之該接觸面(E1)貼合，令該足弓墊(A)之該前接觸區(26)與該弧狀後接觸區(27)皆完全與該鞋體(E)之該接觸面(E1)貼合，有效穩固使用者步態。

由於該拱形支撐結構(28)提供向中央及向上的支撐力，整體具有良好的支撐性，因此該足跟圓弧凹陷區(12)、該足心隆起區(13)、該內側足弓支撐區(15)、該外側足弓支撐區(14)與該蹠骨支撐部(17)，皆可提供使用者強而有力的支撐性，且該內側足弓支撐區(15)提供該內側足弓(B4)支撐，該外側足弓支撐區(14)提供該外側足弓(B5)支撐，該抵靠區(16)與該蹠骨支撐部(17)提供該橫向足弓(B6)支撐，當三大足弓皆得到強力的支撐性時，該足心隆起區(13)更有效承受三大足弓區的內側壓力，平均分散下壓力至該足跟圓弧凹陷區(12)、該足心隆起區(13)、該內側足弓支撐區(15)、該外側足弓支撐區(14)與該蹠骨支撐部(17)，當下壓力消失後，該足弓墊(A)即恢復原本之該拱形支撐結構(28)，由於該拱形支撐結構(28)提供向中央及向上的支撐力，因此該拱形支撐結構(28)同樣具有強力的回彈力。

該足弓墊(A)之該足跟圓弧凹陷區(12)、該足心隆起部(13)、該內側足弓支撐區(15)、該外側足弓支撐區(14)、該抵靠區(16)及該蹠骨支撐部(17)皆為一體成形相互連接之連續弧面結構，因此該頂面(1)皆無溝槽、無縫隙，而該頂面周緣(11)為無刮手感之邊緣結構，整體結構線條相當符合人體工學設計，令使用者在使用該足弓墊(A)時，放入該鞋體(E)內不會佔據多餘空間，該足弓墊(A)貼合於該足部(B)底面相當服貼，不會有異物感，相當自然舒適。

另一實施例，該蹠骨支撐部(17)相對位置位於該足部(B)第一蹠骨(C5)、第二蹠骨(C6)、第三蹠骨(C7)、第四蹠骨(C8)與第五蹠骨(C9)中之任兩根蹠骨下方，透過該蹠骨支撐部(17)可提供蹠骨(C4)支撐力，令該橫向足弓(B6)更穩固不易疲勞。

另一實施例，該蹠骨支撐部(17)相對位置位於該足部(B)該第一蹠骨(C5)、該第二蹠骨(C6)、該第三蹠骨(C7)、該第四蹠骨(C8)與該第五蹠骨(C9)中之任三根蹠骨下方，透過該蹠骨支撐部(17)可提供該蹠骨(C4)支撐力，令該橫向足弓(B6)更穩固不易疲勞。

另一實施例，該蹠骨支撐部(17)相對位置位於該足部(B)該第一蹠骨(C5)、該第二蹠骨(C6)、該第三蹠骨(C7)、該第四蹠骨(C8)與該第五蹠骨(C9)中之任四根蹠骨下方，透過該蹠骨支撐部(17)可提供該蹠骨(C4)支撐力，令該橫向足弓(B6)更穩固不易疲勞。

另一實施例，該蹠骨支撐部(17)相對位置位於該足部(B)該第一蹠骨(C5)、該第二蹠骨(C6)、該第三蹠骨(C7)、該第四蹠骨(C8)與該第五蹠骨(C9)下方，透過該蹠骨支撐部(17)可提供該蹠骨(C4)支撐力，令該橫向足弓(B6)更穩固不易疲勞。

整體來說，透過該足弓墊(A)可有效支撐該內側足弓(B4)、該外側足弓(B5)及該橫向足弓(B6)，可有效減緩該前掌部(B7)之該前掌壓力區(B71)與後跟部(B8)之後跟壓力區(B81)之疲勞感，並透過該足弓墊(A)可撓性材質特性，與該拱形支撐結構(28)提供向中央向內之支撐力特點，提供該足弓墊(A)強而有力的回彈力；上述各實施例僅為說明本創作之原理及其功能，並非限制本創作，因此習於此技術之人士對上述實施例進行修改及變化，仍不脫本創作之精神；本創作已具備產業上利用性、新穎性及進步性，並符合新型專利要件，爰依法提起申請。