TWM600006U - 一種側射型雷射封裝結構 - Google Patents

Abstract

本揭露提供一種側射型雷射封裝結構，包括支架、反射體、至少一側射型雷射光源及至少一光學透鏡。支架具有底板。反射體設置於底板的中央區上。側射型雷射光源設置於支架的底板上，且具有朝向反射體的出光面。光學透鏡設置於支架上且覆蓋側射型雷射光源，其中側射型雷射光源的出光面發出的光線經由反射體反射而穿過光學透鏡。

Description

一種側射型雷射封裝結構

本揭露是有關一種側射型雷射封裝結構。

隨著科技的進步，各式使用光學技術的家電在我們的日常生活更為常見，例如真空管電視、液晶螢幕、電漿顯示器、觸控面板或投影機等，都是應用光學技術所製造的產品。

顯示裝置(例如投影機)的發光模組可具有多組獨立的發光二極體晶片組，並利用這些發光二極體晶片組產生不同色光，以達到混光的目的。然而，這樣的配置使得顯示裝置的體積難以縮小。因此，在使用光學技術顯像的同時，除了追求更細緻的畫質解析度之外，如何使設備的體積縮小，降低空間利用也是需重視的課題。

本揭露之一技術態樣為一種側射型雷射封裝結構。

根據本揭露一實施方式，一種側射型雷射封裝結構包括支架、反射體、側射型雷射光源及光學透鏡。支架具有底板。反射體設置於底板的中央區上。側射型雷射光源設置於支架的底板上，側射型雷射光源具有朝向反射體的出光面。光學透鏡設置於支架上且覆蓋側射型雷射光源。其中側射型雷射光源的出光面發出的光線經由反射體反射而穿過光學透鏡。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構進一步包括複數個側射型雷射光源，其中側射型雷射光源圍繞反射體。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構，其中側射型雷射光源的數量為三，且反射體具有三反射面，三側射型雷射光源分別位置對應於反射體的三反射面。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構，其中側射型雷射光源的數量為四，且反射體具有四反射面，四側射型雷射光源分別位置對應於反射體的四反射面。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構，其中側射型雷射光源的數量為五，且反射體具有五反射面，五側射型雷射光源分別位置對應於反射體的五反射面。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構，其中反射體具有頂面與鄰接頂面的反射面，反射面朝向側射型雷射光源，反射面與水平面之間的夾角在40度至50度的範圍中。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構，其中反射體的反射面為金屬鍍層的表面。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構，其中光學透鏡具有相對的頂面與底面，頂面與底面皆為平面，或者頂面與底面分別為凸面與平面。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構，其中光學透鏡的數量為二，其中一者位在另一者與反射體之間。

在本揭露一實施方式中，上述側射型雷射封裝結構進一步包括緩衝墊。緩衝墊位於支架的底面。

在本揭露上述實施方式中，由於側射型雷射封裝結構具有設置於底板之中央區上的反射體，且具有朝向反射體的側射型雷射光源，因此當側射型雷射光源發出光線時，光線可經由反射體反射，進而穿過光學透鏡。如此一來，側射型雷射光源的光線可經由反射體從水平方向的光路改變為垂直方向的光路。此外，經由上述配置，側射型雷射封裝結構中的空間可有效利用，並可搭配位在支架上的光學透鏡進一步改變光路，以滿足所欲達成之光線投射效果。

以下將以圖式揭露本揭露之複數個實施方式，為明確說明，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本揭露。也就是說，在本揭露部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。

第1圖繪示根據本揭露一實施方式之側射型雷射封裝結構100的立體圖。第2圖繪示第1圖之側射型雷射封裝結構100移除光學透鏡140的立體圖。同時參閱第1圖及第2圖，側射型雷射封裝結構100包括支架110、反射體120、至少一側射型雷射光源130以及至少一光學透鏡140。支架110具有底板111及圍繞底板111的側壁112。側壁112與底板111定義出容置空間113。反射體120設置於底板111的中央區上。側射型雷射光源130設置於支架110的底板111上。光學透鏡140設置於支架110上並覆蓋側射型雷射光源130。在本實施方式中，側射型雷射光源130的數量為四，支架110上設置單一光學透鏡140，但並不用以限制本揭露。

第3圖繪示第1圖之側射型雷射封裝結構100沿線段3-3之剖面圖。如圖所示，側射型雷射光源130具有朝向反射體120的出光面131。由於側射型雷射封裝結構100具有設置於底板111之中央區上的反射體120，且具有朝向反射體120的側射型雷射光源130，因此當側射型雷射光源130的出光面131發出光線L時，光線L可經由反射體120反射，進而穿過位在反射體120與側射型雷射光源130上方的光學透鏡140。如此一來，側射型雷射光源130的光線L可經由反射體120從水平方向的光路改變為垂直方向的光路。此外，經由上述配置，側射型雷射封裝結構100中的空間可有效利用，並可搭配位在支架110上的光學透鏡140進一步改變光路，以滿足所欲達成之光線投射效果。

在本實施方式中，反射體120具有頂面122及鄰接於頂面122的反射面121，且反射面121與水平面夾角θ為40度角至50度角。反射面121可以為金屬鍍層123的表面。舉例來說，反射體120的材質可為玻璃切割加工後再形成金屬鍍層123於表面，或者用塑膠射出成型後再形成金屬鍍層123。在其他實施方式中，反射面121可以是反射體120本身的材料表面具有反射效果，例如反射體120為金屬塊體。在本實施方式中，反射體120具有四個反射面121，四個反射面121分別朝向四個側射型雷射光源130的發光面131，且四個側射型雷射光源130分別位置對應反射體120的四個反射面121。反射體120的俯視形狀為矩形。

側射型雷射光源130設置於支架110的底板111上，且具有朝向反射體120的出光面131。在此實施方式中，側射型雷射光源130對應反射體120的反射面121的數量，但不以此為限。其中，側射型雷射光源130圍繞反射體120設置。此外，側射型雷射光源130的出光面131大致與底板111相互垂直，也就是以水平方向出光。側射型雷射光源130可以為單色光，且多個側射型雷射光源130可發出不同波長、不同顏色的光線L。這些光線L經反射體120的反射面121反射後可穿過光學透鏡140，利用反射面121傾斜角度與特定功能的光學透鏡140，可讓側射型雷射封裝結構100具有混光效果。

光學透鏡140具有相對的頂面與底面。在本實施方式中，如第1圖與第3圖所示，光學透鏡140的頂面與底面皆為平面。在其他實施方式中，光學透鏡140的頂面與底面也可分別為凸面與平面，或是頂面與底面皆為凸面，可藉由光學透鏡140的光學折射原理以達成聚焦或散焦的目的。

第4A圖及第4B圖分別繪示根據本揭露一實施方式之側射型雷射封裝結構100a的上視圖及剖面圖。如圖所示，側射型雷射封裝結構100a包括支架110、反射體120a、側射型雷射光源130以及光學透鏡140a。本實施方式中與第1圖實施方式不同的地方在於側射型雷射封裝結構100a的側射型雷射光源130數量為三個，並且，反射體120a具有三個反射面121。三個側射型雷射光源130分別位置對應於反射體120a的三個反射面121。也就是說，三個側射型雷射光源130的三出光面131分別朝向對應的三個反射面121。反射體120a的俯視形狀為三角形。此外，在本實施方式中，光學透鏡140a的頂面與底面分別為凸面與平面。

第5A圖及第5B圖分別繪示根據本揭露一實施方式之側射型雷射封裝結構100b的上視圖及剖面圖。如圖所示，側射型雷射封裝結構100b包括支架110、反射體120b、側射型雷射光源130以及光學透鏡140b。本實施方式中與第1圖實施方式不同的地方在於側射型雷射封裝結構100b的側射型雷射光源130數量為五個，並且，反射體120b具有五個反射面121，五個側射型雷射光源130分別位置對應於反射體120b的五個反射面121。也就是說，五個側射型雷射光源130的五出光面131分別朝向對應的五個反射面121。反射體120b的俯視形狀為五邊形。此外，在本實施方式中，光學透鏡140b的頂面與底面皆為凸面。

第6圖繪示第1圖之側射型雷射封裝結構100另一角度之立體圖。本揭露之一實施方式之側射型雷射封裝結構100更包括緩衝墊150。緩衝墊150設置於支架110的底面。緩衝墊150的材質可以包含陶瓷。陶瓷材質的緩衝墊150具有高硬度、耐高溫及抗腐蝕的特性，可降低側射型雷射封裝結構100碰撞損壞的可能性。

第7圖繪示根據本揭露另一實施方式之側射型雷射封裝結構100c的剖面圖。側射型雷射封裝結構100c包括支架110、反射體120、側射型雷射光源130以及兩光學透鏡140a、140b。光學透鏡140a、140b依序設置在支架110上。光學透鏡140a位在反射體120與光學透鏡140b之間，也就是光學透鏡140a較光學透鏡140b靠近反射體120。

依設計需求，所選用的透鏡類型可控制聚光與散光的效果，例如平透鏡不具聚光的作用，凸透鏡不論是平凸透鏡或是雙凸透鏡皆可使光線匯聚，若是選用多個凸透鏡搭配組合的透鏡組則可以產生更佳的光線匯聚效果，可用於將側射型雷射光束匯聚集中並應用如光纖電纜等科技。

第8圖繪示根據本揭露一實施方式之側射型雷射封裝結構100應用於投影設備中的示意圖。如圖所繪示，側射型雷射封裝結構100作為後射式投影(Rear projection display)的光源可取代傳統多組單色側射型雷射晶片結合稜鏡的複雜配置，以側射型雷射封裝結構100發出光源後經由數字微鏡裝置D (Digital micromirror device；DMD)及投影透鏡P(Projection lens)顯像於後射式螢幕S(Rear projection screen)。

雖然本揭露已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本揭露，任何熟習此技藝者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本揭露之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100、100a、100b、100c:側射型雷射封裝結構 110:支架 111:底板 112:側壁 113:容置空間 120、120a、120b:反射體 121:反射面 122:頂面 123:金屬鍍層 130:側射型雷射光源 131:出光面 140、140a、140b:光學透鏡 150:緩衝墊 3-3、4B-4B、5B-5B:線段 θ:夾角 L:光線 D:數字微鏡裝置 P:投影透鏡 S:後射式螢幕

為讓本揭露之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下： 第1圖繪示根據本揭露一實施方式之側射型雷射封裝結構的立體圖。 第2圖繪示第1圖之側射型雷射封裝結構移除光學透鏡的立體圖。 第3圖繪示第1圖之側射型雷射封裝結構沿線段3-3之剖面圖。 第4A圖繪示根據本揭露另一實施方式之側射型雷射封裝結構的上視圖。 第4B圖繪示第4A圖沿線段4B-4B的剖面圖。 第5A圖繪示根據本揭露另一實施方式之側射型雷射封裝結構的上視圖。 第5B圖繪示第5A圖沿線段5B-5B的剖面圖。 第6圖繪示第1圖之側射型雷射封裝結構另一角度之立體圖。 第7圖繪示根據本揭露另一實施方式之側射型雷射封裝結構的剖面圖。 第8圖繪示根據本揭露一實施方式之側射型雷射封裝結構應用於投影設備中的示意圖。

100:側射型雷射封裝結構

110:支架

111:底板

112:側壁

120:反射體

130:側射型雷射光源

140:光學透鏡

Claims (10)

1. 一種側射型雷射封裝結構，包括： 一支架，具有一底板； 一反射體，設置於該底板的中央區上； 至少一側射型雷射光源，設置於該支架的該底板上，該側射型雷射光源具有朝向該反射體的一出光面；以及 至少一光學透鏡，設置於該支架上且覆蓋該側射型雷射光源， 其中該側射型雷射光源的該出光面發出的光線經由該反射體反射而穿過該光學透鏡。
2. 如請求項1所述之側射型雷射封裝結構，包括複數個該側射型雷射光源，其中該些側射型雷射光源圍繞該反射體。
3. 如請求項2所述之側射型雷射封裝結構，其中該側射型雷射光源的數量為三，且該反射體具有三反射面，該三側射型雷射光源分別位置對應於該反射體的該三反射面。
4. 如請求項2所述之側射型雷射封裝結構，其中該側射型雷射光源的數量為四，且該反射體具有四反射面，該四側射型雷射光源分別位置對應於該反射體的該四反射面。
5. 如請求項2所述之側射型雷射封裝結構，其中該側射型雷射光源的數量為五，且該反射體具有五反射面，該五側射型雷射光源分別位置對應於該反射體該五反射面。
6. 如請求項1所述之側射型雷射封裝結構，其中該反射體具有一頂面與鄰接該頂面的至少一反射面，該反射面朝向該側射型雷射光源，該反射面與一水平面之間的夾角在40度至50度的範圍中。
7. 如請求項6所述之側射型雷射封裝結構，其中該反射體的該反射面為金屬鍍層的表面。
8. 如請求項1所述之側射型雷射封裝結構，其中該光學透鏡具有相對的一頂面與一底面，該頂面與該底面皆為一平面，或者該頂面與該底面分別為一凸面與一平面。
9. 如請求項1所述之側射型雷射封裝結構，其中該光學透鏡的數量為二，其中一者位在另一者與該反射體之間。
10. 如請求項1所述之側射型雷射封裝結構，更包括： 一緩衝墊，位於該支架的底面。

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