TWM592346U

TWM592346U - 噴嘴裝置

Info

Publication number: TWM592346U
Application number: TW108215525U
Authority: TW
Inventors: 許文憲; 曹凱傑; 陳健南; 劉奇泳
Original assignee: 哈伯精密股份有限公司
Priority date: 2019-11-22
Filing date: 2019-11-22
Publication date: 2020-03-21

Abstract

一種噴嘴裝置，包含連接於一外管的一本體、連接於該本體的一噴嘴，及連接於該本體且環繞該噴嘴之部分且界定出一環室的一外罩。該本體包括界定出一通道的一圍繞壁。該通道適用於穿置一內管。該圍繞壁具有連通於該通道與外界的一孔道。該噴嘴包括連通於該通道的一大徑孔與一小徑孔、連接相鄰該小徑孔之端面的一錐面段，及連接相鄰該大徑孔之端面的一導引段。該大徑孔套接該內管。該小徑孔用於使通過的二氣化碳氣體因為相變化產生顆粒。當壓縮氣體由該孔道時進入該環室時，會依循該錐面段流動，並挾帶外界氣流與顆粒向前噴射。藉此，以該環室限制氣流只能沿該錐面段流動，不但能夠提升流速，且提升噴射時的準直度。

Description

噴嘴裝置

本新型是有關於一種噴嘴裝置，特別是指一種能夠噴射二氣化碳顆粒的噴嘴裝置。

參閱圖1，說明美國專利號第20070164130號專利案所揭露之一種習知的噴嘴裝置1，主要包含一本體11，及連接於該本體11的一噴嘴12。該本體11具有供壓縮氣體通過的一軸向孔111，及連通於該軸向孔111與外界的一環形腔室112。該噴嘴12用於噴灑二氧化碳顆粒。藉此，當壓縮氣體由該軸向孔111通過該環形腔室112向外界噴射時，會因為康達效應（Coandă Effect）挾帶外界氣流與二氧化碳顆粒向前噴射，進而提升流速，並產生更好的噴射效果。

惟，由於該環形腔室112具有多個轉折，因此，壓縮氣體在排出外界的過程中，會因為轉折而降低氣體壓力，且重要的是，壓縮氣體排出外界後，雖然有部分的氣體會沿著該噴嘴12外表面流動，但也會有另一部的氣體會在離開該主體11時就向外界溢散，以致於提升流速的效果仍然有待提升。

因此，本新型之目的，即在提供一種能夠提升流速，且提升噴射準直度的噴嘴裝置。

於是，本新型噴嘴裝置，適用於連接輸送壓縮氣體的一外管與輸送二氣化碳氣體的一內管，該噴嘴裝置包含：一本體、一噴嘴，及一外罩。

該本體連接於該外管，並包括環繞一軸線且界定出一通道的一圍繞壁，該通道適用於穿置該內管，該圍繞壁具有連通於該通道與外界的至少一孔道。

該噴嘴連接於該本體，並包括由一端面沿該軸線方向延伸至另一端面且連通於該通道的一大徑孔與一小徑孔、連接相鄰該小徑孔之端面的一錐面段，及連接相鄰該大徑孔之端面的一導引段，該大徑孔適用於套接該內管，該小徑孔適用於使通過的二氣化碳氣體因為相變化產生二氧化碳顆粒。

該外罩連接於該本體，且環繞該噴嘴的導引段與部分的錐面段，而界定出連通於該至少一孔道的一環室，當壓縮氣體由該至少一孔道進入該環室時，會依循該錐面段流動，並挾帶外界氣流與二氣化碳顆粒反向於該本體方向噴射。

本新型之功效在於：以該環室限制氣流只能沿該錐面段流動，不但能夠提升流速，且提升噴射時的準直度。

參閱圖2、圖3與圖4，本新型噴嘴裝置的一實施例，適用於連接輸送壓縮氣體的一外管2與輸送二氣化碳氣體的一內管3。該噴嘴裝置包含一本體4、一噴嘴5、一外罩6，及一氣密墊圈7。

該本體4包括環繞一軸線X且界定出一通道40的一圍繞壁41。該通道40的最小孔徑大於該內管3的最大外徑，而適用於穿置該內管3。該圍繞壁41具有沿該軸線X方向延伸的一第一連接段411、一第二連接段412與一第三連接段413，及形成在該第一連接段411與該第二連接段412間的一環緣414。該第一連接段411套接於該外管2。該第二連接段412的外徑>該第三連接段413的外徑。該第三連接段413具有沿垂直於該軸線X方向延伸且連通於該通道40與外界的數孔道415(如圖5)。該環緣414適用於抵靠該外管2。

該噴嘴5套接於該本體4的第三連接段413且抵靠於該本體4的環緣414，並包括由一端面沿該軸線方向延伸至另一端面且連通於該通道40的一大徑孔51與一小徑孔52、界定在該大徑孔51與該小徑孔52間的一抵靠面53、連接相鄰該小徑孔之端面52的一錐面段54，及連接相鄰該大徑孔之端面52的一導引段55。該大徑孔51適用於套接該內管3。該小徑孔52適用於使通過的二氣化碳氣體因為相變化產生二氧化碳顆粒。該抵靠面53抵靠於該內管3，防止該內管3因為內部壓縮空氣壓力而移動。該導引段55沿該軸線X方向的長度L1大於該錐面段54沿該軸線X方向的長度L2。且該錐面段54的外徑由鄰近該本體4的一端朝遠離該本體4的另一端由大漸小。

該外罩6連接於該本體4的第二連接段412，且環繞該噴嘴5的導引段55與部分的錐面段54，而界定出連通於該等孔道415的一環室60。該外罩6呈錐形，且外徑由鄰近該本體4的一端朝遠離該本體4的另一端由大漸小。

該氣密墊圈7設置在該噴嘴5的大徑孔51與該本體4的第二連接段412間，適用於阻擋該本體4之通道40內的壓縮氣體進入該噴嘴5的大徑孔51。

參閱圖5與圖6，當二氧化碳氣體通過該內管3朝向該噴嘴5的小徑孔52流動時，會因為壓差發生相變化並產生顆粒，形成氣態-固態共存的二氧化碳與二氧化碳顆粒，且二氧化碳顆粒會在該小徑孔52的行程中愈滾愈大。

當壓縮氣體通過該外管2進入該本體4的通道40時，壓縮氣體會由該通道40經該等孔道415進入該環室60，且在受阻於該外罩6的情形下，形成依循該噴嘴5之導引段55與該錐面段54行進的氣流，且在脫離該環室60後，因為康達效應（Coandă Effect）挾帶外界氣流依循該錐面段54朝遠離該本體4之方向流動，而與二氧化碳氣體匯集成流速更快、推進力更強、指向性更準直的氣流，同時挾帶二氧化碳顆粒噴射至外界。藉此，在切削製程中，可以藉由噴幅面積較小的噴射氣流與二氧化碳顆粒，順利地將工件表面的粉屑帶走，達到冷卻、清潔的效果。

值得說明的是，該外管2不限於只輸送壓縮氣體，在本實施例的其它樣態中，該外管2也可以穿置一用於輸送潤滑劑的中間管(圖未示)，藉此，該中間管(圖未示)的潤滑劑，也會隨該外管2中的壓縮氣體進入該環室60，且與前述氣態-固態二氧化碳混合後噴射至外界，進而能夠達到潤滑效果，提升加工刀具的壽命與工件表面的光滑度。

由於本領域中具有通常知識者根據以上說明可以推知擴充細節，因此不多加說明。

經由以上的說明，可將前述實施例的優點歸納如下：

1、由於該外罩6環繞該噴嘴5部分的錐面段54，因此，本新型能夠以該外罩6及其環室60限制氣流只能沿該錐面段54流動，進而大幅減溢散的壓縮氣體，不但能夠提升噴射氣流的流速，重要的是，能夠提升噴射時的準直度，縮小噴幅面積。

2、且該內管3是固定在該噴嘴5的大徑孔51中，而該噴嘴5則連接固定於該本體4的第三連接段413，因此，能夠加強組件間的穩定性，減少晃動的情形。

惟以上所述者，僅為本新型之實施例而已，當不能以此限定本新型實施之範圍，凡是依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。

2:外管 3:內管 4:本體 40:通道 41:圍繞壁 411:第一連接段 412:第二連接段 413:第三連接段 414:環緣 415:孔道 5:噴嘴 51:大徑孔 52:小徑孔 53:抵靠面 54:錐面段 55:導引段 6:外罩 60:環室 7:氣密墊圈 X:軸線 L1:長度 L2:長度

本新型之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一剖視圖，說明美國專利號第20070164130號專利案所揭露之一種習知的噴嘴裝置；圖2是一剖視圖，說明本新型噴嘴裝置的一實施例；圖3是該實施例的一立體分解圖；圖4是該實施例的一組合立體圖；圖5是沿著圖2中之線Ⅴ-Ⅴ所截取的一剖視圖；及圖6是該實施例的一剖視示意圖。

2:外管

3:內管

4:本體

40:通道

41:圍繞壁

411:第一連接段

412:第二連接段

51:大徑孔

52:小徑孔

53:抵靠面

54:錐面段

55:導引段

6:外罩

60:環室

413:第三連接段

414:環緣

415:孔道

5:噴嘴

7:氣密墊圈

X:軸線

L1:長度

L2:長度

Claims

一種噴嘴裝置，適用於連接輸送壓縮氣體的一外管與輸送二氣化碳氣體的一內管，該噴嘴裝置包含：一本體，連接於該外管，並包括環繞一軸線且界定出一通道的一圍繞壁，該通道適用於穿置該內管，該圍繞壁具有連通於該通道與外界的至少一孔道；一噴嘴，連接於該本體，並包括由一端面沿該軸線方向延伸至另一端面且連通於該通道的一大徑孔與一小徑孔、連接相鄰該小徑孔之端面的一錐面段，及連接相鄰該大徑孔之端面的一導引段，該大徑孔適用於套接該內管，該小徑孔適用於使通過的二氣化碳氣體因為相變化產生二氧化碳顆粒；及一外罩，連接於該本體，且環繞該噴嘴的導引段與部分的錐面段，而界定出連通於該至少一孔道的一環室，當壓縮氣體由該至少一孔道進入該環室時，會依循該錐面段流動，並挾帶外界氣流與二氣化碳顆粒反向於該本體方向噴射。
如請求項1所述的噴嘴裝置，其中，該本體的圍繞壁具有沿該軸線方向延伸的一第一連接段、一第二連接段與一第三連接段，該第一連接段套接於該外管，該第二連接段套接於該外罩，該第三連接段套接於該噴嘴，且具有該至少一孔道。
如請求項2所述的噴嘴裝置，其中，該本體之通道的最小孔徑大於該內管的最大外徑，且該第二連接段的外徑>該第三連接段的外徑。
如請求項2所述的噴嘴裝置，其中，該本體還包括形成在該第一連接段與該第二連接段間的一環緣，該環緣適用於抵靠該外管。
如請求項2所述的噴嘴裝置，還包含一氣密墊圈，該氣密墊圈設置在該噴嘴的大徑孔與該本體的第二連接段間，適用於阻擋該本體之通道內的壓縮氣體進入該噴嘴的大徑孔。
如請求項2所述的噴嘴裝置，該第二連接段的該至少一穿孔沿垂直於該軸線方向延伸。
如請求項1所述的噴嘴裝置，其中，該噴嘴還包括界定在該大徑孔與該小徑孔間的一抵靠面，該抵靠面抵靠於該內管。
如請求項7所述的噴嘴裝置，其中，該噴嘴之導引段沿該軸線方向的長度大於該錐面段沿該軸線方向的長度。
如請求項1所述的噴嘴裝置，其中，該噴嘴之錐面段的外徑由鄰近該本體的一端朝遠離該本體的另一端由大漸小。
如請求項1或9所述的噴嘴裝置，其中，該外罩呈錐形，且外徑由鄰近該本體的一端朝遠離該本體的另一端由大漸小。