TWM583911U - 磁吸固定座 - Google Patents

Abstract

本新型提供一種磁吸固定座，其包含一上蓋、一底座、一中心磁鐵、一阻擋件、一吸盤、一支架以及一環形磁鐵。其中上蓋可上下滑動地組接於底座上，中心磁鐵同軸設置且限位於旋轉凸部內，阻擋件可上下滑動地與中心磁鐵同軸設置，吸盤設置於底座之另一側，其中心具有一通氣孔，支架與阻擋件同軸設置，且其中心開設一空氣流道，空氣流道連通通氣孔並連接阻擋件，環形磁鐵與中心磁鐵同心設置。藉此，磁吸固定座透過下壓或上提上蓋，連動阻擋件以啟閉空氣流道，使磁吸固定座產生吸附狀態或未吸附狀態。

Description

磁吸固定座

本新型是關於一種磁吸固定座，特別是關於一種可吸附光滑表面以及金屬表面之磁吸固定座。

習知的吸盤以安裝快速、不會破壞欲設置之物體表面以及能輕易改變吸附位置為優點，常用來固定物體於平面上，例如桌面、磁磚牆壁以及玻璃等，增加物體的穩固性，使其不受外力的劇烈搖晃而傾倒。

吸盤大多以推力的方式或者以吸盤內形成負壓的方式來增加吸盤的吸附力，而解除吸盤的吸附力則是以拉扯吸盤邊緣，或者以反向強力拉起，使空氣進入吸盤內，讓吸盤脫落，但此種吸盤與吸附平面之間的吸附力不夠，存在難以長時間固定的問題。

近年來，有業者發展出底部裝有吸盤的杯體，透過杯體的放置或提起，造成杯體底部內的空氣流出或進入，進而導致吸盤吸附於桌面或失去吸附功能，但吸盤的吸附強度容易隨著吸盤材質變硬、變形以及失去彈性，導致吸 盤的真空效果降低或消失，使整個杯體都需汰換，造成成本上的損失以及不必要的浪費。

有鑑於此，如何有效改善含有吸盤的固定座，其構造簡單且可替換放置各種不同的物體，遂成相關業者努力的目標。

本新型之一目的在於提供一種磁吸固定座，並透過轉動或上下移動磁吸固定座，使磁吸固定座吸附於承載平面上，且不易推動或掉落。

本新型之另一目的在於提供一種磁吸固定座，並透過磁吸固定座內部之一大磁鐵，使磁吸固定座之一側吸附於承載平面上時，另一側可吸附磁性物質，使其應用更為廣泛。

依據本新型之一態樣之一實施方式提供一種磁吸固定座，其包含一上蓋、一底座、一中心磁鐵、一阻擋件、一吸盤、一支架以及一環形磁鐵。上蓋包含一旋轉凸部，其位於上蓋之中心處。上蓋可上下滑動地組接於底座上，且底座之中心具有一開孔。中心磁鐵同軸設置且限位於旋轉凸部內，阻擋件可上下滑動地與中心磁鐵同軸設置，且位於中心磁鐵以及上蓋之間。吸盤設置於底座之另一側，吸盤之中心具有一通氣孔，支架與阻擋件同軸設置，並位於阻擋件以及吸盤之間，且支架之中心開設一空氣流道，空氣流道連通通 氣孔並連接阻擋件，環形磁鐵設置於上蓋之一側，且環形磁鐵與中心磁鐵同心設置。

依據前段所述之磁吸固定座，其中阻擋件具有複數卡勾。

依據前段所述之磁吸固定座，其中吸盤可包含一吸盤支架，其設置於吸盤之中心處，並用以將吸盤定位於上蓋且與支架連接。

依據前段所述之磁吸固定座，其中旋轉凸部可包含複數凹槽，其供阻擋件之卡勾卡接於旋轉凸部。

依據前段所述之磁吸固定座，其中上蓋可更包含一環形凹部，其與旋轉凸部同心設置，且環形凹部供環形磁鐵限位設置。

依據前段所述之磁吸固定座，可更包含一頂層，其設置於環形磁鐵之上方。

藉此，本新型之磁吸固定座透過下壓或上提上蓋，以連動阻擋件啟閉空氣流道，使磁吸固定座產生吸附狀態或未吸附狀態。另外，當吸盤吸附於平滑表面上時，另一側因環形磁鐵而具有磁性，可吸附磁性物質，使磁吸固定座具有多功能、多應用之優點。

依據本新型之一態樣之另一實施方式提供一種磁吸固定座，其包含一上蓋、一底座、一中心磁鐵、一阻擋件、一吸盤、一支架以及一環形磁鐵。上蓋包含一旋轉凸部、至少一固定柱以及至少一彈力柱。旋轉凸部位於上蓋之中心處，固定柱環繞旋轉凸部而設置於上蓋之周緣，彈力柱設置 於上蓋之周緣且與固定柱連接，並位於固定柱與旋轉凸部之間。上蓋可旋轉及上下滑動地組接於底座上，且底座之中心具有一開孔，其中底座包含至少一斜坡以及至少二固定彈力柱。斜坡環繞開孔而設置於底座之周緣，固定彈力柱設置於底座之周緣且位於斜坡與開孔之間。中心磁鐵同軸設置且限位於旋轉凸部內。阻擋件可上下滑動地與中心磁鐵同軸設置，且位於中心磁鐵以及上蓋之間。吸盤設置於底座之另一側，吸盤之中心具有一通氣孔，支架與阻擋件同軸設置，並位於阻擋件以及吸盤之間，且支架之中心開設一空氣流道，空氣流道連通通氣孔並連接阻擋件，環形磁鐵設置於上蓋之一側，且環形磁鐵與中心磁鐵同心設置。

依據前段所述之磁吸固定座，其中阻擋件具有複數卡勾。

依據前段所述之磁吸固定座，其中吸盤可包含一吸盤支架，其設置於吸盤之中心處，並用以將吸盤定位於上蓋且與支架連接。

依據前段所述之磁吸固定座，其中旋轉凸部可包含複數凹槽，其供阻擋件之卡勾卡接於旋轉凸部。

依據前段所述之磁吸固定座，其中上蓋可更包含一環形凹部，其與旋轉凸部同心設置，且環形凹部供環形磁鐵限位設置。

依據前段所述之磁吸固定座，可更包含一頂層，其設置於環形磁鐵之上方。

依據前段所述之磁吸固定座，其中斜坡具有二阻擋塊，且二阻擋塊設置於斜坡之二端。

藉此，本新型之磁吸固定座可利用中心磁鐵與環形磁鐵之間的作用力，連動阻擋件堵住空氣流道，使吸盤具有吸附能力，且透過轉動上蓋使磁吸固定座產生不同大小的吸附力。

100、200‧‧‧磁吸固定座

110、210‧‧‧上蓋

111、211‧‧‧旋轉凸部

112、212‧‧‧凹槽

113‧‧‧環形凹部

214‧‧‧固定柱

215‧‧‧彈力柱

216‧‧‧卡接件

120、220‧‧‧底座

121、221‧‧‧開孔

222‧‧‧斜坡

223‧‧‧固定彈力柱

223a‧‧‧第一固定彈力柱

223b‧‧‧第二固定彈力柱

224‧‧‧扣接件

225‧‧‧阻擋塊

225a‧‧‧第一阻擋塊

225b‧‧‧第二阻擋塊

130、230‧‧‧中心磁鐵

140、240‧‧‧阻擋件

141、241‧‧‧卡勾

150、250‧‧‧吸盤

151、251‧‧‧通氣孔

152、252‧‧‧吸盤支架

160、260‧‧‧支架

161、261‧‧‧空氣流道

170、270‧‧‧環形磁鐵

180、280‧‧‧頂層

為讓本新型之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1圖係繪示依照本新型之一實施方式之一實施例之一種磁吸固定座的示意圖；第2圖係繪示第1圖實施例的磁吸固定座的爆炸圖；第3圖係繪示第1圖實施例的磁吸固定座之未吸附狀態的剖面圖；第4圖係繪示第1圖實施例的磁吸固定座之吸附狀態的剖面圖；第5圖係繪示依照本新型之另一實施方式之一實施例之一種磁吸固定座的爆炸圖；第6圖係繪示第5圖實施例的磁吸固定座中上蓋與底座之逆時針旋轉狀態的透視分解圖；第7圖係繪示第5圖實施例的磁吸固定座中上蓋與底座之順時針旋轉狀態的透視分解圖；第8圖係繪示第6圖實施例的磁吸固定座的剖面圖；以及 第9圖係繪示第7圖實施例的磁吸固定座的剖面圖。

以下將參照圖式說明本新型之實施例。為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，閱讀者應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本新型。也就是說，在本新型部分實施例中，這些實務上的細節是非必要的。而為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示；並且重複之元件將可能使用相同或類似的編號表示。

請參閱第1圖以及第2圖，其中第1圖繪示依照本新型之一實施方式之一實施例之一種磁吸固定座100的示意圖，第2圖繪示依照第1圖實施例之磁吸固定座100的爆炸圖。由第1圖以及第2圖可知，磁吸固定座100包含一上蓋110、一底座120、一中心磁鐵130、一阻擋件140、一吸盤150、一支架160以及一環形磁鐵170。

詳細來說，上蓋110包含一旋轉凸部111，旋轉凸部111位於上蓋110之中心處。上蓋110可上下滑動地組接於底座120上，且底座120之中心具有一開孔121。中心磁鐵130同軸設置且限位於旋轉凸部111內。阻擋件140可上下滑動地與中心磁鐵130同軸設置，且位於中心磁鐵130以及上蓋110之間。吸盤150設置於底座120之另一側，吸盤150之中心具有一通氣孔151。支架160與阻擋件140同軸設置，並位於阻擋件140以及吸盤150之間，支架160之中 心開設一空氣流道161，且空氣流道161連通通氣孔151並連接阻擋件140。環形磁鐵170設置於上蓋110之一側，且環形磁鐵170與中心磁鐵130同心設置。藉此，磁吸固定座100可藉由下壓或上拉上蓋110，連動阻擋件140以啟閉空氣流道161，使其產生吸附狀態或未吸附狀態。

第2圖實施例中，阻擋件140具有複數卡勾141。吸盤150可包含一吸盤支架152，其設置於吸盤150之中心處，並用以將吸盤150定位於上蓋110且與支架160連接。旋轉凸部111包含複數凹槽112，其供阻擋件140之卡勾141卡接於旋轉凸部111。

另外，磁吸固定座100可更包含一頂層180，頂層180設置於環形磁鐵170之上方，可用以放置一物體(未另標示)，而上蓋110可更包含一環形凹部113，其與旋轉凸部111同心設置，且供環形磁鐵170限位設置。詳細來說，當磁吸固定座100為吸附狀態時，於吸盤150之一側可吸附於任何承載平面(未另標示)上，例如桌面或牆上，而於頂層180之一側因環形磁鐵170的設置而具有磁性，可吸附磁性物質，例如鐵、鈷以及鎳等製品。

請參閱第3圖以及第4圖，其中第3圖繪示第1圖實施例的磁吸固定座100之未吸附狀態的剖面圖，第4圖繪示第1圖實施例的磁吸固定座100之吸附狀態的剖面圖。第3圖實施例中，當垂直向上提起上蓋110時，旋轉凸部111會跟著向上移動，此時，阻擋件140之卡勾141會卡接於旋轉凸部111之凹槽112中，進而帶動阻擋件140跟著上蓋110 一起向上移動，使阻擋件140與支架160脫離，空氣由空氣流道161流入通氣孔151，導致吸盤150失去吸附能力，則磁吸固定座100脫離承載表面。

第4圖實施例中，當中心磁鐵130與環形磁鐵170之間的磁力為平衡狀態時，中心磁鐵130位於環形磁鐵170之中空處且偏上方，而當下壓上蓋110時，環形磁鐵170會隨著上蓋110向下移動，破壞了中心磁鐵130與環形磁鐵170之間的平衡狀態，因此為了復原平衡狀態，中心磁鐵130會跟著向下移動，使其達到與環形磁鐵170磁力平衡之位置，並進而連動阻擋件140向下移動以堵住空氣流道161，使空氣由通氣孔151排出，導致吸盤150形成真空狀態，則磁吸固定座100吸附於承載表面上。

藉此，本新型之磁吸固定座100透過下壓或上提上蓋110，使磁吸固定座100吸附或脫離承載平面，而此作動方式可運用於不倒杯座。舉例來說，可於磁吸固定座100之頂層180之上方裝設杯座，當放置杯體於杯座時，會將上蓋110往下壓以連動阻擋件140堵住空氣流道161，使磁吸固定座100為吸附狀態，此時，杯體則不易受外力而傾倒。另外，若需將磁吸固定座100移至其他位置，則將上蓋110垂直向上提起，其中阻擋件140之卡勾141因卡接於旋轉凸部111之凹槽112中，亦會跟著上蓋110向上移動，使磁吸固定座100為未吸附狀態，可隨意放置任何承載平面。

請繼續參閱第5圖，其係繪示依照本新型之另一實施方式之一實施例之一種磁吸固定座200的爆炸圖。由第 5圖可知，磁吸固定座200包含一上蓋210、一底座220、一中心磁鐵230、一阻擋件240、一吸盤250、一支架260以及一環形磁鐵270。

詳細來說，上蓋210包含一旋轉凸部211、至少一固定柱214以及至少一彈力柱215。旋轉凸部211位於上蓋210之中心處，固定柱214環繞旋轉凸部211而設置於上蓋210之周緣，彈力柱215設置於上蓋210之周緣且與固定柱214連接，並位於固定柱214與旋轉凸部211之間。上蓋210可旋轉及上下滑動地組接於底座220上，且底座220之中心具有一開孔221，其中底座220包含至少一斜坡222以及至少二固定彈力柱223。斜坡222環繞開孔221而設置於底座220之周緣，固定彈力柱223設置於底座220之周緣且位於斜坡222與開孔221之間。中心磁鐵230同軸設置且限位於旋轉凸部211內。阻擋件240可上下滑動地與中心磁鐵230同軸設置，且位於中心磁鐵230以及上蓋210之間。吸盤250設置於底座220之另一側，吸盤250之中心具有一通氣孔251。支架260與阻擋件240同軸設置，並位於阻擋件240以及吸盤250之間，支架260之中心開設一空氣流道261，且空氣流道261連通通氣孔251並連接阻擋件240，環形磁鐵270設置於上蓋210之一側，且環形磁鐵270與中心磁鐵230同心設置。藉此，磁吸固定座200可藉由旋轉以及上下移動上蓋210，使其產生不同狀態。

第5圖實施例中，阻擋件240具有複數卡勾241。吸盤250包含一吸盤支架252，其設置於吸盤250之中 心處，並用以將吸盤250定位於上蓋210且與支架260連接。旋轉凸部211包含複數凹槽212，其供阻擋件240之卡勾241卡接於旋轉凸部211。另外，配合第2圖實施例，第5圖實施例中，磁吸固定座200之環形磁鐵270以及頂層280的配置及作用皆與第2圖實施例之磁吸固定座100所述相同，在此不另贅述。以下將詳細介紹磁吸固定座200於順時針及逆時針旋轉時，上蓋210與底座220之間的連接關係。

請參閱第6圖以及第7圖，其中第6圖繪示依照第5圖實施例的磁吸固定座200中上蓋210與底座220之逆時針旋轉狀態的透視分解圖，第7圖繪示依照第5圖實施例的磁吸固定座200中上蓋210與底座220之順時針旋轉狀態的透視分解圖。第6圖以及第7圖實施例中，上蓋210更包含複數卡接件216，而底座220更包含複數扣接件224，其中卡接件216卡接於扣接件224以防止底座220脫落。另外，斜坡222具有二阻擋塊225，且二阻擋塊225設置於斜坡222之二端，分別為一第一阻擋塊225a以及一第二阻擋塊225b，其中第一阻擋塊225a設置高於第二阻擋塊225b，而二固定彈力柱223分別為一第一固定彈力柱223a以及一第二固定彈力柱223b，其中第一固定彈力柱223a對應於第一阻擋塊225a，第二固定彈力柱223b對應於第二阻擋塊225b。

由第6圖以及第7圖實施例可知，當逆時針旋轉上蓋210時，固定柱214沿著斜坡222向下滑動，接觸到第二阻擋塊225b即停止，而彈力柱215則隨著固定柱214移動 並進入到第二固定彈力柱223b以及第二阻擋塊225b之間，且固定於第二固定彈力柱223b。相反地，當順時針旋轉上蓋210時，固定柱214沿著斜坡222向上滑動，接觸到第一阻擋塊225a即停止，且彈力柱215隨著固定柱214移動並進入到第一固定彈力柱223a以及第一阻擋塊225a之間，且固定於第一固定彈力柱223a。然而，磁吸固定座200於逆時針旋轉或順時針旋轉狀態時，皆呈現吸附狀態，詳細作動方式如下所述。另外，第6圖以及第7圖實施例中，固定柱214、彈力柱215以及斜坡222的數量皆為四，但其數量及連接關係不以本揭示內容為限。

請參閱第8圖以及第9圖，其中第8圖繪示第6圖實施例的磁吸固定座200的剖面圖，第9圖繪示第7圖實施例的磁吸固定座200的剖面圖。由第8圖以及第9圖實施例可知，當中心磁鐵230與環形磁鐵270之間的磁力為平衡狀態時，中心磁鐵230位於環形磁鐵270之中空處且偏上方，且無論是逆時針旋轉或順時針旋轉，皆會破壞中心磁鐵230與環形磁鐵270之間的平衡狀態，因此為了復原平衡狀態，中心磁鐵230會移動至與環形磁鐵270磁力平衡之位置，並進而連動阻擋件240向下移動以堵住空氣流道261，使空氣由通氣孔251排出，導致吸盤250形成真空狀態，吸附於承載表面上。然而，透過逆時針或順時針旋轉可使磁吸固定座200對於承載平面的吸附力有所改變。

另外，若需將吸附於承載表面上之磁吸固定座200脫離承載表面，則透過垂直向上提起上蓋210，此時， 阻擋件240之卡勾241會卡接於旋轉凸部211之複數凹槽212中，可帶動阻擋件240跟著上蓋210一起向上提起，使阻擋件240與支架260脫離，空氣由空氣流道261流入通氣孔251，導致吸盤250失去吸附能力，使磁吸固定座200脫離承載表面。

藉此，本新型之磁吸固定座200透過中心磁鐵230以及環形磁鐵270之間的作用力，帶動阻擋件240向下堵住空氣流道261，使磁吸固定座200具有吸附力，可吸附於任何承載平面，且可透過逆時針或順時針旋轉，使其產生不同大小的吸附力，而此作動方式可運用於將磁吸固定座200吸附於牆上，以防止磁吸固定座200因吸附力太弱而掉落。

綜上所述，本新型之磁吸固定座透過轉動以及上下移動上蓋，使磁吸固定座吸附或脫離於承載平面，而其頂層可裝設杯座、掛勾或者各種需被固定之物體，另外在磁吸固定座的內部之一環形磁鐵，可使其上蓋之一側具有磁性，能夠吸附磁性物質。藉此，本新型之磁吸固定座可符合使用者的需求，提供更廣泛之應用。

雖然本新型已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本新型，任何熟習此技藝者，在不脫離本新型之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (13)

1. 一種磁吸固定座，包含：一上蓋，包含：一旋轉凸部，其位於該上蓋之中心處；一底座，該上蓋可上下滑動地組接於該底座上，且該底座之中心具有一開孔；一中心磁鐵，其同軸設置且限位於該旋轉凸部內；一阻擋件，其可上下滑動地與該中心磁鐵同軸設置，且位於該中心磁鐵以及該上蓋之間；一吸盤，其設置於該底座之另一側，該吸盤之中心具有一通氣孔；一支架，其與該阻擋件同軸設置，並位於該阻擋件以及該吸盤之間，且該支架之中心開設一空氣流道，該空氣流道連通該通氣孔並連接該阻擋件；以及一環形磁鐵，其設置於該上蓋之一側，且該環形磁鐵與該中心磁鐵同心設置。
2. 如申請專利範圍第1項所述之磁吸固定座，其中該阻擋件具有複數卡勾。
3. 如申請專利範圍第1項所述之磁吸固定座，其中該吸盤包含： 一吸盤支架，其設置於該吸盤之中心處，並用以將該吸盤定位於該上蓋且與該支架連接。
4. 如申請專利範圍第2項所述之磁吸固定座，其中該旋轉凸部包含：複數凹槽，其供該阻擋件之該些卡勾卡接於該旋轉凸部。
5. 如申請專利範圍第1項所述之磁吸固定座，其中該上蓋更包含：一環形凹部，其與該旋轉凸部同心設置，且該環形凹部供該環形磁鐵限位設置。
6. 如申請專利範圍第1項所述之磁吸固定座，更包含：一頂層，其設置於該環形磁鐵之上方。
7. 一種磁吸固定座，包含：一上蓋，包含：一旋轉凸部，其位於該上蓋之中心處；至少一固定柱，其環繞該旋轉凸部而設置於該上蓋之周緣；以及 至少一彈力柱，其設置該上蓋之周緣且與該至少一固定柱連接，並位於該至少一固定柱與該旋轉凸部之間；一底座，該上蓋可旋轉及上下滑動地組接於該底座上，且該底座之中心具有一開孔，其中該底座包含：至少一斜坡，其環繞該開孔而設置於該底座之周緣；以及至少二固定彈力柱，其設置於該底座之周緣且位於該至少一斜坡與該開孔之間；一中心磁鐵，其同軸設置且限位於該旋轉凸部內；一阻擋件，其可上下滑動地與該中心磁鐵同軸設置，且位於該中心磁鐵以及該上蓋之間；一吸盤，其設置於該底座之另一側，該吸盤之中心具有一通氣孔；一支架，其與該阻擋件同軸設置，並位於該阻擋件以及該吸盤之間，且該支架之中心開設一空氣流道，該空氣流道連通該通氣孔並連接該阻擋件；以及一環形磁鐵，其設置於該上蓋之一側，且該環形磁鐵與該中心磁鐵同心設置。
8. 如申請專利範圍第7項所述之磁吸固定座，其中該阻擋件具有複數卡勾。
9. 如申請專利範圍第7項所述之磁吸固定座，其中該吸盤包含：一吸盤支架，其設置於該吸盤之中心處，並用以將該吸盤定位於該上蓋且與該支架連接。
10. 如申請專利範圍第8項所述之磁吸固定座，其中該旋轉凸部包含：複數凹槽，其供該阻擋件之該些卡勾卡接於該旋轉凸部。
11. 如申請專利範圍第7項所述之磁吸固定座，其中該上蓋更包含：一環形凹部，其與該旋轉凸部同心設置，且該環形凹部供該環形磁鐵限位設置。
12. 如申請專利範圍第7項所述之磁吸固定座，更包含：一頂層，其設置於該環形磁鐵之上方。
13. 如申請專利範圍第7項所述之磁吸固定座，其中該至少一斜坡具有二阻擋塊，且該二阻擋塊設置於該至少一斜坡之二端。