TWM582964U - 排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一) - Google Patents

排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一) Download PDF

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  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

一種排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一),包括:一電解槽,設有多個階層且下段具有一下隔板,其並與具有底部及透孔之階層間形成一下空間,該底部上端形成一底層空間,鄰接於階層設有一出入口且下方延伸至下空間設有一筒體且於內部置有一浮球;一上極板,設於電解槽其階層第二階;一矽膠框,設於階層第二階且包圍於上極板;一隔離膜,設於階層第二階且置於矽膠框及上極板下端;一框體,設於階層第一階且對應於矽膠框上端及隔離膜周圍;一下極板,設於電解槽第三階且鄰接隔離膜及底層空間。藉此,有效提升其使用方便性及鹼水純度,並提供隨時排放氧氣與酸水及下極板自動補水。

Description

排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一)
本創作係有關一種電解裝置,特別指一種能利用電解槽其階層鄰接設有出入口且延伸與下空間相通具有浮球之筒體,或於該筒體設有與下空間相通之透孔,或於下隔板設有套置於筒體之套柱筒且與下空間相通之缺口,或於具有透孔或及膜之下隔板與下座間設有逆止閥;或於下隔板之下透孔與下座間設有連接管且具有膜之底座與具有切縫之奶嘴頭之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一)。
按先前傳統電解水裝置,由於其沒有將電解後之氫氣、鹼水及氧氣、酸水分別隔離儲放,因此,會快速再度混合,該傳統電解水裝置是無法做出高純度及完全分離的含氫氧之鹼水與含氧氣之酸水,使得其在實用性上大打折扣,此乃為本領域技術人員及消費者極欲突破之處。
為解決上述之現有技術不足之處,本創作主要目的,在於提供一種排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一),利用電解槽其階層旁側鄰接設有出入口且延伸與下空間相通具有浮球之筒體,或於該筒體下段設有與下空間相通之透孔,或於下隔板向上延伸設有套置於筒體下段之套柱筒且與下空間相 通之缺口,或於具有透孔或及膜之下隔板與下座間設有逆止閥;或於下隔板之下透孔與下座間設有連接管且具有膜之底座與具有切縫之奶嘴頭,以期克服現有技術中之難處。
本創作次要目的,在於提供一種排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一),能透過出入口及具有浮球之筒體補水,利用筒體內部浮球及矽膠框與隔離膜使出入口與下空間及階層其上極板電解產生其含氫氣之鹼水與階層其下極板電解產生於下空間其含氧氣之酸水不互流,逆止閥其排水鈕按壓由下座洩出含氧氣之酸水,或由連接管其奶嘴頭排放氧氣。
本創作又一目的,在於提供一種排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一),其有效提升其使用方便性及鹼水純度,並提供隨時排放氧氣與酸水及下極板自動補水。
本創作所欲解決之問題,係按先前傳統電解水裝置,由於其沒有將電解後之氫氣、鹼水及氧氣、酸水分別隔離儲放,因此,會快速再度混合,該傳統電解水裝置是無法做出高純度及完全分離的含氫氧之鹼水與含氧氣之酸水,使得其在實用性上大打折扣。
解決問題之技術手段,為達上述之目的,本創作係提供一種排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一),包括:一電解槽,於中央設有多個階層,該電解槽下段設有一下隔板,該下隔板與階層間形成一下空間,該階層最下階具有一底部且設有作為水道之至少一透孔,該底部上端並形成一底層空間,鄰接於階層最上階旁側設有一出入口,該出入口下方周圍延伸至下空間設有一筒體且於內部置有一浮球;一上極板,設於電解槽其階層第二階中央; 一矽膠框,設於階層第二階且包圍於上極板外圍;一隔離膜,設於階層第二階,且置於矽膠框及上極板下端;一框體,設於階層第一階,且對應於矽膠框上端及其置於階層第二階之隔離膜周圍;一下極板,設於電解槽第三階,其上端及下端分別鄰接隔離膜及階層其底部上端之底層空間。
其中,本創作該電解槽其多個階層之第一階及第二階周圍設有至少一側孔。
其中,本創作該電解槽之側孔係呈傾斜。
其中,本創作該電解槽下端設有一下座,該下座並設有一下孔。
其中,本創作該電解槽其下隔板設有一透孔。
其中,本創作該電解槽其下隔板之透孔設有膜。
其中,本創作該電解槽之下隔板與下座間設有一逆止閥且於下端具有一排水鈕,該逆止閥上端係相通於電解槽其下隔板之透孔,其下端之排水鈕係對應下座其下孔。
其中,本創作該電解槽之筒體係延伸至下隔板上端,該筒體下段設有與下空間相通之至少一透孔。
其中,本創作該下隔板相對於筒體延伸設有套置於該筒體下段之一套柱筒,該套柱筒設有與下空間相通之至少一缺口。
其中,本創作該下座設有一排氣孔,該電解槽之下隔板設有對應下座之排氣孔設有一下透孔。
其中,本創作該電解槽其下隔板之下透孔設有一連接管,該連接管上端具有對應下透孔之一底座且具有一階梯凹座,該階梯凹座設有一膜,該連接管下端設有一奶嘴頭且於下端具有至少一切縫,該奶嘴頭之切縫並對應下座其一排氣孔。
其中,本創作該連接管其底座之階梯凹座之膜上端設有固定其周圍之一壓環。
對照先前技術之功效,藉此,本創作利用電解槽其階層旁側鄰接設有出入口且延伸與下空間相通具有浮球之筒體,或於該筒體下段設有與下空間相通之透孔,或於下隔板向上延伸設有套置於筒體下段之套柱筒且與下空間相通之缺口,或於具有透孔或及膜之下隔板與下座間設有逆止閥;或於下隔板之下透孔與下座間設有連接管且具有膜之底座與具有切縫之奶嘴頭;進而達成,能透過出入口及具有浮球之筒體補水,利用筒體內部浮球及矽膠框與隔離膜使出入口與下空間及階層其上極板電解產生其含氫氣之鹼水與階層其下極板電解產生於下空間其含氧氣之酸水不互流,逆止閥其排水鈕按壓由下座洩出含氧氣之酸水,或由連接管其奶嘴頭排放氧氣;有效提升其使用方便性及鹼水純度,並提供隨時排放氧氣與酸水及下極板自動補水,符合進步、實用與使用者之所需,足見其增益之處。
1‧‧‧電解槽
10‧‧‧底部
100‧‧‧底層空間
101‧‧‧透孔
102‧‧‧出入口
103‧‧‧框體
104‧‧‧隔離膜
1041‧‧‧矽膠框
11‧‧‧階層
111‧‧‧側孔
12‧‧‧上極板
13‧‧‧下極板
14‧‧‧筒體
140‧‧‧透孔
141‧‧‧浮球
142‧‧‧套柱筒
1421‧‧‧缺口
15‧‧‧下透孔
16‧‧‧下隔板
160‧‧‧透孔
1600‧‧‧膜
161‧‧‧下空間
162‧‧‧連接管
1621‧‧‧奶嘴頭
1622‧‧‧切縫
163‧‧‧底座
1631‧‧‧階梯凹座
1632‧‧‧膜
1633‧‧‧壓環
17‧‧‧逆止閥
171‧‧‧排水鈕
2‧‧‧下座
20‧‧‧下孔
21‧‧‧排氣孔
3‧‧‧水
31‧‧‧鹼水
310‧‧‧氫氣
32‧‧‧酸水
320‧‧‧氧氣
第一圖:為本創作之立體分解圖。
第二圖:為本創作之立體組合圖。
第三圖:為本創作之組合剖面圖。
第四圖:為本創作第三圖其水透過電解槽具有透孔之筒體並經由階層其底部之透孔到達電解槽其底層空間與下極板電解之實施例圖。
第五圖:為本創作第四圖透過按壓逆止閥其排水鈕洩出含氧氣之酸水之實施例圖。
第六圖:為本創作第四圖其下隔板其下空間之氧氣透過具有膜之連接管由奶嘴頭排出之實施例圖。
第七圖:為本創作另一實施例之立體分解圖。
第八圖:為本創作另一實施例之立體組合圖。
第九圖:為本創作另一實施例之組合剖面圖。
第十圖:為本創作第九圖其水透過具有缺口之套柱筒並經由階層其底部之透孔到達電解槽其底層空間與下極板電解之實施例圖。
為利 貴審查員瞭解本創作之創作特徵、內容與優點及其所能達成之功效,茲將本創作配合附圖,並以實施例之表達形式詳細說明如下,而於文中所使用之圖式,其主旨僅為示意及輔助說明書之用,未必為本創作實施後之真實比例與精準配置,故不應就所附之圖式的比例與配置關係侷限本創作於實際實施上的專利範圍,合先敘明。
請參閱第一圖、第二圖、第三圖、第四圖、第五圖、第六圖及第七圖、第八圖、第九圖、第十圖所示,係為本創作之立體分解圖、本創作之立體組合圖、本創作之組合剖面圖、本創作第三圖其水透過電解槽具有透孔之筒體並經由階層其底部之透孔到達電解槽其底層空間與下極板電解之實施例圖、本 創作第四圖透過按壓逆止閥其排水鈕洩出含氧氣之酸水之實施例圖、本創作第四圖其下隔板其下空間之氧氣透過具有膜之連接管由奶嘴頭排出之實施例圖及本創作另一實施例之立體分解圖、本創作另一實施例之立體組合圖、本創作另一實施例之組合剖面圖、本創作第九圖其水透過具有缺口之套柱筒並經由階層其底部之透孔到達電解槽其底層空間與下極板電解之實施例圖,本創作之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置(一)於一較佳之實施例中包括有一電解槽1、一上極板12、一矽膠框1041、一隔離膜104、一框體103、一下極板13。
前述之一電解槽1,於中央設有多個階層11,該電解槽1下段設有一下隔板16,該下隔板16與階層11間形成一下空間161,該階層11最下階具有一底部10且設有作為水道之至少一透孔101,該底部10上端並形成一底層空間100,鄰接於階層11最上階旁側設有一出入口102,該出入口102下方周圍延伸至下空間161設有一筒體14且於內部置有一浮球141,該多個階層11之第一階及第二階周圍設有至少一側孔111,於本實施例該電解槽1之側孔111係呈傾斜,但並不以此限制本創作,又本實施例該筒體14係延伸至下隔板16上端,且於該筒體14下段設有與下空間161相通之至少一透孔140(如第一圖、第二圖、第三圖、第四圖、第五圖、第六圖所示);本創作另一實施例該下隔板16相對於筒體14延伸設有套置於該筒體14下段之一套柱筒142,該套柱筒142設有與下空間161相通之至少一缺口1421(如第七圖、第八圖、第九圖、第十圖所示)。
前述之一上極板12,設於電解槽其階層11第二階中央。
前述之一矽膠框1041,設於階層11第二階且包圍於上極板12外圍。
前述之一隔離膜104,設於階層11第二階,且置於矽膠框1041及上極板12下端。
前述之一框體103,設於階層11第一階,且對應於矽膠框1041上端及其置於階層11第二階之隔離膜104周圍。
前述之一下極板13,設於電解槽1第三階,其上端及下端分別鄰接隔離膜104及階層11其底部10上端之底層空間100。
更進一步,本創作該電解槽1下端設有一下座2,該下座2並設有一下孔20,該下隔板16設有一透孔160,或於該透孔160以選擇性設有一膜1600,於該下隔板16與下座2間設有一逆止閥17且於下端具有一排水鈕171,該逆止閥17上端係相通於電解槽1其下隔板16之透孔160或具有膜1600之透孔160,其下端之排水鈕171係對應下座2其下孔20。
本創作其下座21另設有一排氣孔21,該電解槽1之下隔板16設有對應下座21其排氣孔21設有一下透孔15,並於該下透孔15設有一連接管162,該連接管162上端具有對應下透孔15之一底座163且具有一階梯凹座1631,該階梯凹座1631設有一膜1632,該連接管162下端設有一奶嘴頭1621且於下端具有至少一切縫1622,該奶嘴頭1621之切縫1622並對應下座2其一排氣孔21,於本實施例該該底座163其階梯凹座1631之膜1632上端設有固定其周圍之一壓環1633。
本創作其水3經由電解槽1上端而與上極板12電解產生含有氫氣310之鹼水31,該水3並通過電解槽1其出入口102及具有浮球141之筒體14其透孔140(如第四圖所示),或通過電解槽1其出入口102及具有浮球141且套設於筒體14之套柱筒142其缺口16(如第十圖所示)而達下隔板16上端之下空間161,透過電解槽1其階層11其底部10之透孔101與下極板13電解產生含有氧氣320之酸水32,當水3將下空間161及底層空間100充滿時,該浮球141即將出入口102 頂住使水3不再補充,當水3其水位下降時,浮球141落下使出入口102開啟,使水3再次自動補充,又本創作受到矽膠框1041及隔離膜104之阻隔,因此不會與電解槽1上端之水3與上極板12電解產生含氫氣310之鹼水31混合,下空間161其含有氧氣320之酸水32經由下座2按壓逆止閥17之排水鈕171,即可將含氧氣320之酸水32洩出(如第五圖所示);而經下極板13電解產生氧氣320,並可透過具有膜1632之連接管162而由其下端之奶嘴頭1621之切縫1622經由下座2之排氣孔21排出(如第六圖所示)。
藉此,本創作利用電解槽1其階層11旁側鄰接設有出入口102且延伸與下空間161相通具有浮球141之筒體14,或於該筒體14下段設有與下空間161相通之透孔140,或於下隔板16向上延伸設有套置於筒體14下段之套柱筒142且與下空間161相通之缺口1421,或於具有透孔160或及膜1600之下隔板16與下座2間設有逆止閥17;或於下隔板16之下透孔15與下座2間設有連接管162且具有膜1632之底座163與具有切縫1622之奶嘴頭1621;進而達成,能透過出入口102及具有浮球141之筒體14補水,利用筒體14內部浮球141及矽膠框1041與隔離膜104使出入口102與下空間161及階層11其上極板12電解產生其含氫氣310之鹼水31與階層11其下極板13電解產生於下空間161其含氧氣320之酸水32不互流,逆止閥17其排水鈕171按壓由下座2洩出含氧氣320之酸水32,或由連接管162其奶嘴頭1621排放氧氣320;有效提升其使用方便性及鹼水31純度,並提供隨時排放氧氣320與酸水32及下極板13自動補水3,符合進步、實用與使用者之所需,足見其增益之處。
綜觀上述可知,本創作在突破先前之技術結構下,確實已達到所欲增進之功效,且也非熟悉該項技藝者所易於思及,再者,本創作申請前未曾公 開,其所具之進步性、實用性,顯已符合創作專利之申請要件,爰依法提出創作申請,懇請 貴局核准本件創作專利申請案,以勵創作,至感德便。
以上所述之實施例僅係為說明本創作之技術思想及特點,其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本創作之內容並據以實施,當不能以之限定本創作之專利範圍,即大凡依本創作所揭示之精神所作之均等變化或修飾,仍應涵蓋在本創作之專利範圍內。

Claims (16)

  1. 一種排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,包括:一電解槽,於中央設有多個階層,該電解槽下段設有一下隔板,該下隔板與階層間形成一下空間,該階層最下階具有一底部且設有作為水道之至少一透孔,該底部上端並形成一底層空間,鄰接於階層最上階旁側設有一出入口,該出入口下方周圍延伸至下空間設有一筒體且於內部置有一浮球;一上極板,設於電解槽其階層第二階中央;一矽膠框,設於階層第二階且包圍於上極板外圍;一隔離膜,設於階層第二階,且置於矽膠框及上極板下端;一框體,設於階層第一階,且對應於矽膠框上端及其置於階層第二階之隔離膜周圍;一下極板,設於電解槽第三階,其上端及下端分別鄰接隔離膜及階層其底部上端之底層空間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽之筒體係延伸至下隔板上端,該筒體下段設有與下空間相通之至少一透孔。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述下隔板相對於筒體延伸設有套置於該筒體下段之一套柱筒,該套柱筒設有與下空間相通之至少一缺口。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽其多個階層之第一階及第二階周圍設有至少一側孔。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽之側孔係呈傾斜。
  6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽下端設有一下座,該下座並設有一下孔。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽其下隔板設有一透孔。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽其下隔板之透孔設有膜。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽之下隔板與下座間設有一逆止閥且於下端具有一排水鈕,該逆止閥上端係相通於電解槽其下隔板之透孔,其下端之排水鈕係對應下座其下孔。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽之下隔板與下座間設有一逆止閥且於下端具有一排水鈕,該逆止閥上端係相通於電解槽其透孔,其下端之排水鈕係對應下座其下孔。
  11. 如申請專利範圍第9項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述下座設有一排氣孔,該電解槽之下隔板設有對應下座之排氣孔設有一下透孔。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述下座設有一排氣孔,該電解槽之下隔板設有對應下座之排氣孔設有一下透孔。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽其下隔板之下透孔設有一連接管,該連接管上端具有對應下透孔之一底座且具有一階梯凹座,該階梯凹座設有一膜,該連接管下端設有一奶嘴頭且於下端具有至少一切縫,該奶嘴頭之切縫並對應下座其一排氣孔。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述電解槽其下隔板之下透孔設有一連接管,該連接管上端具有對應下透孔之一底座且具有一階梯凹座,該階梯凹座設有一膜,該連接管下端設有一奶嘴頭且於下端具有至少一切縫,該奶嘴頭之切縫並對應下座其一排氣孔。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述連接管其底座之階梯凹座之膜上端設有固定其周圍之一壓環。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之排酸水氧氣之下極板自動補水電解裝置,其中,所述連接管其底座之階梯凹座之膜上端設有固定其周圍之一壓環。
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