TWM575982U - Adjust the gait insole structure (2) - Google Patents

Abstract

一種調整步態之鞋墊結構，鞋墊包含有一墊體，該墊體設有前掌部及後跟部，該墊體兩側設有足弓部，該後跟部設有配合足部形狀之弧狀足杯部，該弧狀足杯部與兩側該足弓部相接，該墊體底面設有一支撐層，該支撐層底面相對於該後跟部位置設有後凹陷標示部，該後凹陷標示部設有後跟避震墊，該支撐層底面相對於該前掌部位置設有前凹陷標示部，該前凹陷標示部設有前掌減壓墊，透過本創作結構，提供人體足部之外側足弓、內側足弓及橫向足更強的立體支撐力，且加強整體足底避震及減壓之功效。

Description

調整步態之鞋墊結構(二)

本創作係為一種鞋墊結構，尤指一種提供良好支撐性及避震性之鞋墊結構。

習知之鞋墊，多為一足部輪廓之墊體，透過彈性材質發泡技術製成，提供人體行走或站立時基本緩衝能力，具有柔軟並適時提供回彈力之特性，為現今穿鞋時不可或缺的夠構件之一，在眾多創作人不斷求新求變的演變過程中，許多同時具有避震及緩衝功效之鞋墊也隨之產生，提供了使用者更多的選擇，其中，大多針對前掌處及後跟處設有加強墊體，令鞋墊的緩衝及避震功能更佳明顯，可以減輕使用者於長久穿著中及長久行走中所帶來的疲勞感，更可以適時的減少可能帶來的足部傷害。

然，一般的鞋墊並無針對高足弓使用者之問題提供相應的結構及保護，功能性高足弓之使用者，因足部旋後或旋前幅度不足，使足部落地時無法有效緩衝地面所回饋的衝擊力，使得衝擊力過度集中於前掌處及後跟處，進而導致膝蓋及髖關節容易緊繃、疲勞，請參閱圖式第一圖及第二圖，第一圖為正常足壓區(B1)重心線偏向外側示意圖，第二圖顯示出因足部(B)旋前不足，造成除了正常足壓區(B1)之外，足部之壓力過度集中於前掌處及後跟處，令外翻足壓區(B2)承受了過多的壓力，嚴重可能 造成足跟痛、足蹠膜痛、膝蓋及髖關節疼痛難耐等等問題。

上述問題是本創作人親身感受到的缺點，本創作人關注上述問題多年，因此經過不斷研究及改良，而終有本創作之產生，針對支撐性及穩定性的結構進行改良，以取代習知技術。

本創作目的係提供一個可以提供使用者良好的支撐性及避震性之鞋墊結構。

為達上述目的，本創作提供了一種調整步態之鞋墊結構，鞋墊包含有一墊體，該墊體設有前掌部及後跟部，該墊體兩側設有足弓部，該後跟部設有配合足部形狀之弧狀足杯部，該弧狀足杯部與兩側該足弓部相接，該墊體底面設有一支撐層，該支撐層底面相對於該後跟部位置設有後凹陷標示部，該後凹陷標示部設有後跟避震墊，該支撐層底面相對於該前掌部位置設有前凹陷標示部，該前凹陷標示部設有前掌減壓墊。

透過前段所敘述之結構，提供人體足部之外側足弓、內側足弓及橫向足弓更強的立體支撐力，且加強整體足底避震及減壓之功效，除了解決因高足弓或姿勢不良導致足後跟內旋幅度不足及足壓過度集中之痛點之外，更加地去導正行走時的步態，達到調整外偏步態至正常步態之目的；以下例舉一具體實施例，且佐以圖式作詳細說明，俾使審查委員能對於本創作之技術特徵，有更進一步之了解。

(A)‧‧‧鞋墊

(B)‧‧‧足部

(B1)‧‧‧正常足壓區

(B2)‧‧‧外翻足壓區

(1)‧‧‧墊體

(11)‧‧‧前掌部

(12)‧‧‧後跟部

(13)‧‧‧足弓部

(14)‧‧‧弧狀足杯部

(15)‧‧‧足心凸部

(2)‧‧‧支撐層

(21)‧‧‧後凹陷標示部

(211)‧‧‧溝槽

(22)‧‧‧前凹陷標示部

(3)‧‧‧前掌減壓墊

(4)‧‧‧後跟避震墊

(5)‧‧‧菱格紋路

(6)‧‧‧皮革層

(7)‧‧‧裁剪標示部

第一圖係為足部重心線偏向內側示意圖。

第二圖係為足部壓力分布示意圖。

第三圖係為本創作鞋墊之立體參考圖。

第四圖係為本創作鞋墊之另一角度立體參考圖。

第五圖係為前掌減壓墊之立體參考圖。

第六圖係為後跟避震之立體參考圖。

第七圖係為本創作鞋墊之實施例參考圖(一)。

第八圖係為本創作鞋墊之實施例參考圖(二)。

第九圖係為本創作鞋墊之實施例參考圖(三)。

第十圖係為本創作鞋墊之實施例參考圖(四)。

第十一圖係為足部與本創作鞋墊相對位置示意圖(一)。

第十二圖係為足部與本創作鞋墊相對位置示意圖(二)。

請參閱圖式第三圖至第十二圖，本創作提供了一種調整步態之鞋墊結構，鞋墊(A)包含有一墊體(1)，該墊體(1)設有前掌部(11)及後跟部(12)，該墊體(1)兩側設有足弓部(13)該後跟部(12)設有配合足部形狀之弧狀足杯部(14)，該弧狀足杯部(14)與兩側該足弓部(13)相接，該墊體(1)底面設有一支撐層(2)，該支撐層(2)之硬度大於該墊體(1)之硬度，由於該墊體(1)為人體足部主要踩踏接觸結構，因此設定較為柔軟舒適為主，請參閱第十五圖，而該支撐層(2)、該足弓部(13)及該弧狀足杯部(14)，需要提供該足部一定的支撐力，因此設定為硬度較高，該足弓部(13)及該弧狀足杯部(14)主要為控制該足部肌肉集中不向外擴散，令肌肉及脂肪層提供天然的緩衝支撐力。

另，該支撐層(2)底面相對於該後跟部(12)位置設有後凹陷標示部(21)，該後凹陷標示部(21)設有後跟避震墊(4)，該支撐層(2)底面相對於該前掌部(11) 位置設有前凹陷標示部(22)，該前凹陷標示部(22)設有前掌減壓墊(3)，該前掌減壓墊(3)及該後跟避震墊(4)利用具有較低硬度之特性，提供軟硬適中之踩踏感受，且可有效吸收緩衝力及提供良好回彈力，減緩了功能性高足弓使用者，因壓力過度集中於前掌處及後跟處之痛點。

該墊體(1)於兩側該足弓部(13)之間設有足心凸部(15)，該足心凸部(15)概呈倒三角狀，該足心凸部(15)提供橫向足弓更佳的支撐力，本創作底面設有菱格紋路(5)，該菱格紋路(5)提供本創作於鞋體內側接觸時產生止滑力，該墊體(1)頂面組設有皮革層(6)，該皮革層(6)則提供吸濕、止滑及舒適之感觸。

另，該後凹陷標示部(21)設有複數溝槽(211)，該後凹陷標示部(21)、複數該溝槽(211)及該前凹陷標示部(22)，主要是用來清楚表示出該前掌減壓墊(3)及該後跟避震墊(4)組設之位置，令使用者可以清楚瞭解相關位置後進行組設貼合。

若無該後凹陷標示部(21)、複數該溝槽(21)及該前凹陷標示部(22)，本創作同樣可以組設該前掌減壓墊(3)及該後跟避震墊(4)，因此另一實施例為：一種調整步態之鞋墊結構，包含有一墊體(1)，該墊體(1)設有前掌部(11)及後跟部(12)，該墊體(1)兩側設有足弓部(13)，該後跟部(12)設有配合足部形狀之弧狀足杯部(14)，該弧狀足杯部(14)與兩側該足弓部(13)相接，該墊體(1)底面設有一支撐層(2)，該支撐層(2)底面相對於該後跟部(12)位置設有後跟避震墊(4)，該支撐層(2)底面相對於該前掌部(11)位置設有一前掌減壓墊(3)。

整體來說，該支撐層(2)使該墊體(1)具有良好的支撐，兩側該足弓部(13)提供了外側足弓及該內 側足弓基本支撐，該弧狀足杯部(14)提供該足部後跟良好的包覆性，該足心凸部(15)提供了該橫向足弓更好的支撐力，另，該前掌減壓墊(3)及該後跟避震墊(4)可有效吸收緩衝力並提供良好回彈力，進而達到導正外偏步態至正常步態之目的，改善了習知技術之缺點，減緩了習知技術可能帶來的膝蓋及髖關節疼痛之問題，又，該墊體(1)底面設有裁剪標示部(7)，使用者可以根據該足部(B)大小，進行裁剪至適當大小；上述實施例僅為說明本創作之原理及其功能，並非限制本創作，因此習於此技術之人士對上述實施例進行修改及變化，仍不脫本創作之精神；本創作已具備產業上利用性、新穎性及進步性，並符合新型專利要件，爰依法提起申請。

Claims (10)

1. 一種調整步態之鞋墊結構，鞋墊包含有一墊體，該墊體設有前掌部及後跟部，該墊體兩側設有足弓部，該後跟部設有配合足部形狀之弧狀足杯部，該弧狀足杯部與兩側該足弓部相接，該墊體底面設有一支撐層，該支撐層底面相對於該後跟部位置設有後凹陷標示部，該後凹陷標示部設有複數溝槽。
2. 如申請專利範圍第1項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該後凹陷標示部設有後跟避震墊。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該支撐層底面相對於該前掌部位置設有前凹陷標示部，該前凹陷標示部設有前掌減壓墊。
4. 如申請專利範圍第3項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該墊體於兩側該足弓部之間設有足心凸部。
5. 如申請專利範圍第4項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該支撐層底面設有菱格紋路。
6. 如申請專利範圍第5項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該墊體頂面組設有皮革層。
7. 如申請專利範圍第6項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該墊體底面設有裁剪標示部。
8. 一種調整步態之鞋墊結構，包含有一墊體，該墊體設有前掌部及後跟部，該墊體兩側設有足弓部，該後跟部設有配 合足部形狀之弧狀足杯部，該弧狀足杯部與兩側該足弓部相接，該墊體底面設有一支撐層。
9. 如申請專利範圍第8項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該支撐層底面相對於該後跟部位置設有後跟避震墊。
10. 如申請專利範圍第8項或第9項所述之調整步態之鞋墊結構，其中，該支撐層底面相對於該前掌部位置設有一前掌減壓墊。