TWM530178U - 含金屬殘液之淨化裝置 - Google Patents

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TWM530178U
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Dong-Shan Guo
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Dong-Shan Guo
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Description

含金屬殘液之淨化裝置
本創作係關於一種淨化設備,尤指一種含金屬殘液之淨化裝置。
工業間往往因為各種製程因素,會產生含金屬之殘液,此類殘液,該含金屬之殘液由於重金屬離子往往具有毒性,或者導致癌症、畸形等物質,對人類健康與環境影響至鉅。
因此對此類含金屬殘液,例如防護裝飾性之鎳鉻鍍層所需使用之鍍鎳鉻溶液等,工業間或是資源、環保業者,大多已經因應時代潮流或是法令規範而進行排放之改善,更甚而對於該金屬進行回收而有利於資源再生與應用。例如電鍍廢水處理設備各種流程進行調節、靜置蒸發、加藥、還原、中和反應、pH調節、沉澱、過濾等,有單獨流程也有複合之流程,視金屬殘液之濃度、種類、危害等而調整或設計。
在各種處理階段中,就物理性之靜置蒸發階段而言,目前多是藉由自然之風量與溫度對於金屬殘液進行分離,以自然之風量與溫度而將金屬殘液中之水分與金屬,利用自然蒸發而分離。然而此種自然蒸發並不能發揮較大之物理分離之效果。
有鑑於先前技術之問題,本創作人認為應有一種含金屬殘液 之淨化裝置,包括一箱體,該箱體包括一頂壁、一底壁、一前壁、一後壁、一第一側壁與一第二側壁相互框圍;該箱體內部於該頂壁與該底壁之間設直立之一第一隔板,該第一隔板與該底壁之間保持一第一通道;且該第一隔板與該第一側壁之間界定一第一容室;與該第一隔板相隔之位置,該箱體內部於該頂壁與該底壁之間設直立之一第二隔板,該第二隔板與該頂壁之間保持一第二通道;且該第二隔板與該第一隔板界定一第二容室;與該第二隔板相隔之位置,該箱體內部於該頂壁與該底壁之間設直立之一第三隔板,該第三隔板與該底壁之間保持一第三通道;且該第三隔板與該第二隔板之間界定一第三容室,且該第三隔板與該第二側壁界定一第四容室;且該箱體設一送風單元與該第一容室相通;該箱體設一金屬殘液輸入單元與該第一容室相通,該箱體設一金屬殘液排出單元與該第二容室相通,該箱體設一冷卻液輸入單元與該第三容室相通,該箱體設一排氣口與該第四容室相通,且該箱體設一冷卻液排出單元與該第四容室相通。
藉由自然之風量與溫度進行蒸發而初步分離水分與金屬外,更進一步將水分中之殘餘金屬再透過冷卻之進行,形成二度之水洗效果,對於排放之金屬更進一步減量。
(1)‧‧‧箱體
(11)‧‧‧頂壁
(12)‧‧‧底壁
(13)‧‧‧前壁
(14)‧‧‧後壁
(15)‧‧‧第一側壁
(16)‧‧‧第二側壁
(21)‧‧‧第一隔板
(21A)‧‧‧斜導板
(22)‧‧‧第二隔板
(23)‧‧‧第三隔板
(23A)‧‧‧斜導板
(3A)‧‧‧第一通道
(3B)‧‧‧第二通道
(3C)‧‧‧第三通道
(31)‧‧‧第一容室
(32)‧‧‧第二容室
(33)‧‧‧第三容室
(34)‧‧‧第四容室
(41)‧‧‧送風單元
(42)‧‧‧金屬殘液輸入單元
(43)‧‧‧金屬殘液排出單元
(44)‧‧‧冷卻液輸入單元
(45)‧‧‧排氣口
(46)‧‧‧冷卻液排出單元
(51)‧‧‧過濾板
(52A)‧‧‧過濾板
(52B)‧‧‧過濾板
(53)‧‧‧過濾板
(61)‧‧‧金屬殘液槽
(62)‧‧‧第一水洗槽
(63)‧‧‧第二水洗槽
第一圖係本新型創作之立體外觀圖
第二圖係本新型創作之立體分解圖
第三圖係本新型創作之內部示意圖
第四圖係本新型創作之相關系統示意圖
以下藉由圖式說明本新型創作之內容、特點以及實施例,俾使 貴審查人員對於本新型創作有更進一步之了解。
請參閱第一圖、第二圖與第三圖綜合觀示,本新型創作係關於一種含金屬殘液之淨化裝置,包括一箱體(1),該箱體(1)包括一頂壁(11)、一底壁(12)、一前壁(13)、一後壁(14)、一第一側壁(15)與一第二側壁(16)相互框圍;該箱體(1)內部於該頂壁(11)與該底壁(12)之間設直立之一第一隔板(21),該第一隔板(21)與該底壁(12)之間保持一第一通道(3A);且該第一隔板(21)與該第一側壁(15)之間界定一第一容室(31);與該第一隔板(21)相隔之位置,該箱體(1)內部於該頂壁(11)與該底壁(12)之間設直立之一第二隔板(22),該第二隔板(22)與該頂壁(11)之間保持一第二通道(3B);且該第二隔板(22)與該第一隔板(21)板界定一第二容室(32);與該第二隔板(22)相隔之位置,該箱體(1)內部於該頂壁(11)與該底壁(12)之間設直立之一第三隔板(23),該第三隔板(23)與該底壁(12)之間保持一第三通道(3C);且該第三隔板(23)與該第二隔板(22)之間界定一第三容室(33),且該第三隔板(23)與該第二側壁(16)界定一第四容室(34);且該箱體(1)設一送風單元(41)與該第一容室(31)相通;該箱體(1)設一金屬殘液輸入單元(42)與該第一容室(31)相通,該箱體(1)設一金屬殘液排出單元(43)與該第二容室(32)相通,該箱體(1)設一冷卻液輸入單元(44)與該第三容室(33)相通,該箱體(1)設一排氣口(45)與該第四容室(34)相 通,且該箱體(1)設一冷卻液排出單元(46)與該第四容室(34)相通。
請參閱第四圖,配合第一至第三圖所示,當工業用之金屬殘液流至一金屬殘液槽(61)中置放,將其汲導至該金屬殘液輸入單元(42)而至該箱體(1)內部,此時由於藉由該送風單元(41)之汲風進入,可以將該金屬殘液流冷卻,少量含金屬之熱氣繼續上揚,經由該第一通道(3A)繼續上揚至該第二容室(32),而金屬殘液中之金屬因為比重較大而下沉,而經由該第一通道(3A)由該金屬殘液排出單元(43)將其導出至該金屬殘液槽(61)內部等待繼續分離。此時在第一容室(31)與第二容室(32)雖可以完成初步之金屬與水分離。但仍然未能盡善。
少量含金屬之熱氣繼續上揚,藉由該第二通道(3B)逸至該第三容室(33),此時藉由該冷卻液輸入單元(44)之冷液進入,進一步冷卻該少量含金屬之熱氣,使得內部之金屬再因冷卻而隨冷卻液由該第三通道(3C)而由該冷卻液排出單元(46)排出而依序至外部之第一水洗槽(62)、第二水洗槽(63)為後續之淨化處理。該第二水洗槽(63)內之水洗液亦可充作前述之該冷卻液輸入單元(44)之冷液,以循環並節省用水。
而熱氣藉由該排氣口(45)排出,當然該熱氣可以再經由檢測,符合環保法令要求再排出外界,否則可以再收集處理。然而本新型創作至少可以藉由自然之風量與溫度進行蒸發而初步分離水分與金屬外,更進一步將水分中之殘餘金屬再透過冷卻之進行,形成二度之水洗(冷卻)效果,對於排放之金屬更進一步減量。
本新型創作之較佳實施例,該第一容室(31)於該前壁(13)與該後壁(14)間設一過濾板(51),且該金屬殘液輸入單元(42)設置位置之高於該過濾板(51)上方。可以使得該金屬殘液第一度經過過濾,更佳達到分離效果。
該第二容室(32)於該前壁(13)與該後壁(14)間設上下相隔之二過濾板(52A)、(52B),且該金屬殘液排出單元(43)設置位置低於該下方之過濾板(52B)。更可以使得該金屬殘液第二度與第三度經過過濾,更佳達到分離效果。
該第四容室(34)於該前壁(13)與該後壁(14)間設一過濾板(53),且該冷卻液排出單元(46)設置位置低於該過濾板(53)。更可以使得該金屬殘液第四度經過過濾,更佳達到分離效果。
其中該第一隔板(21)下方延伸一斜導板(21A),協助該殘餘金屬導至該金屬殘液排出單元(43)。
其中該第三隔板(23)下方延伸一斜導板(23A),協助分離之金屬導至該冷卻液排出單元(46)。
綜上所述,本新型創作符合可專利之要件,爰依法提出專利申請。舉凡依本新型創作申請專利範圍所作之均等變化,皆屬本案訴求標的之範疇。
(1)‧‧‧箱體
(11)‧‧‧頂壁
(12)‧‧‧底壁
(13)‧‧‧前壁
(14)‧‧‧後壁
(15)‧‧‧第一側壁
(16)‧‧‧第二側壁
(21)‧‧‧第一隔板
(21A)‧‧‧斜導板
(22)‧‧‧第二隔板
(23)‧‧‧第三隔板
(23A)‧‧‧斜導板
(3A)‧‧‧第一通道
(3B)‧‧‧第二通道
(3C)‧‧‧第三通道
(31)‧‧‧第一容室
(32)‧‧‧第二容室
(33)‧‧‧第三容室
(34)‧‧‧第四容室
(41)‧‧‧送風單元
(42)‧‧‧金屬殘液輸入單元
(43)‧‧‧金屬殘液排出單元
(44)‧‧‧冷卻液輸入單元
(45)‧‧‧排氣口
(46)‧‧‧冷卻液排出單元
(51)‧‧‧過濾板
(52A)‧‧‧過濾板
(52B)‧‧‧過濾板
(53)‧‧‧過濾板

Claims (6)

  1. 一種含金屬殘液之淨化裝置,包括一箱體,該箱體包括一頂壁、一底壁、一前壁、一後壁、一第一側壁與一第二側壁相互框圍;該箱體內部於該頂壁與該底壁之間設直立之一第一隔板,該第一隔板與該底壁之間保持一第一通道;且該第一隔板與該第一側壁之間界定一第一容室;與該第一隔板相隔之位置,該箱體內部於該頂壁與該底壁之間設直立之一第二隔板,該第二隔板與該頂壁之間保持一第二通道;且該第二隔板與該第一隔板界定一第二容室;與該第二隔板相隔之位置,該箱體內部於該頂壁與該底壁之間設直立之一第三隔板,該第三隔板與該底壁之間保持一第三通道;且該第三隔板與該第二隔板之間界定一第三容室,且該第三隔板與該第二側壁界定一第四容室;且該箱體設一送風單元與該第一容室相通;該箱體設一金屬殘液輸入單元與該第一容室相通,該箱體設一金屬殘液排出單元與該第二容室相通,該箱體設一冷卻液輸入單元與該第三容室相通,該箱體設一排氣口與該第四容室相通,且該箱體設一冷卻液排出單元與該第四容室相通。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之含金屬殘液之淨化裝置,其中該第一容室於該前壁與該後壁間設一過濾板,且該金屬殘液輸入單元設置位置之高於該過濾板上方。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之含金屬殘液之淨化裝置,其中該第二容室於該前壁與該後壁間設上下相隔之二過濾板,且該金屬殘液排出單元設置位置低於該下方之過濾板。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之含金屬殘液之淨化裝置,其中該第四容室 於該前壁與該後壁間設一過濾板,且該冷卻液排出單元設置位置低於該過濾板。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之含金屬殘液之淨化裝置,其中該第一隔板下方延伸一斜導板。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之含金屬殘液之淨化裝置,其中該第三隔板下方延伸一斜導板。
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