TWM527443U - 包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備 - Google Patents

包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備 Download PDF

Info

Publication number
TWM527443U
TWM527443U TW104220026U TW104220026U TWM527443U TW M527443 U TWM527443 U TW M527443U TW 104220026 U TW104220026 U TW 104220026U TW 104220026 U TW104220026 U TW 104220026U TW M527443 U TWM527443 U TW M527443U
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
chlorine dioxide
dioxide gas
unit
mixing
aqueous solution
Prior art date
Application number
TW104220026U
Other languages
English (en)
Inventor
Hao-Zhang Yin
Sheng-Shi Wang
Ming-Long Zheng
Bin-Xuan Huang
Zhu-Wei Xu
Zheng-He Lin
Original Assignee
Unique Biotechnology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Unique Biotechnology Co Ltd filed Critical Unique Biotechnology Co Ltd
Priority to TW104220026U priority Critical patent/TWM527443U/zh
Priority to DE202016103175.3U priority patent/DE202016103175U1/de
Publication of TWM527443U publication Critical patent/TWM527443U/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/48—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
    • C02F1/481—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields using permanent magnets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00—Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02—Oxides of chlorine
    • C01B11/022—Chlorine dioxide (ClO2)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • C02F1/4672—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
    • C02F1/4674—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation with halogen or compound of halogens, e.g. chlorine, bromine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01—Products
    • C25B1/24—Halogens or compounds thereof
    • C25B1/26—Chlorine; Compounds thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B9/00—Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461—Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/46155—Heating or cooling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Description

包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備
本新型是有關於一種殺菌劑製造設備，特別是指一種包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備。
由於二氧化氯氣體具有強氧化性質，因此，常被用來作為殺菌劑使用。一般製作含有二氧化氯氣體的殺菌劑的設備包含一用來產生二氧化氯氣體的電解裝置、一用來容置水的攪拌混合槽，及一用來將該二氧化氯氣體輸送至該攪拌混合槽中的管路。該二氧化氯氣體及該水於該攪拌混合槽中充分混合。
雖該設備可製作出含有二氧化氯氣體的殺菌劑，但該含有二氧化氯氣體的殺菌劑中的該二氧化氯氣體會因晃動、攪動、空間分壓或儲存於高透氣性的容器材質等因素，而無法穩定地存在於其中，導致該二氧化氯氣體隨著存放時間的增加，而自該殺菌劑中逸散出來，繼而使得該殺菌劑的殺菌效果逐漸喪失。
因此，本新型之目的，即在提供一種可製備出具有優異殺菌存放期限的包括二氧化氯氣體的水溶液的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備。
於是，本新型包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，該包括二氧化氯氣體的水溶液包括二氧化氯氣體及磁化水，該製造設備包含一用來產生該二氧化氯氣體的電解裝置、一用來將水磁化形成該磁化水的磁化裝置，及一用來將該水及該磁化水的其中一者與該二氧化氯氣體混合的混合裝置。
本新型之功效在於：透過該磁化裝置將該水磁化形成該磁化水，使得該包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備可製備出具有優異殺菌存放期限的包括二氧化氯氣體的水溶液。
在本新型被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。
參閱圖1，本新型包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備之一第一實施例，包含一個用來產生二氧化氯氣體的電解裝置1、一個混合裝置2、一個磁化裝置3，以及一個連接該電解裝置1、該混合裝置2及該磁化裝置3的管路單元4。
參閱圖2及圖3，該電解裝置1包括兩個相間隔的陰極單元11、兩個相間隔地設置在該等陰極單元11之間的隔離單元12，及一個設置在該等隔離單元12之間的陽極單元13。
每一個陰極單元11包括一個與各別的隔離單元12連接的內壁111、一個與該內壁111相間隔且形成有一供冷卻液進入的入口10的外壁112，以及一個設置在該內壁111及該外壁112之間並連接該內壁111及該外壁112的周壁113。該周壁113形成有兩個相間隔且供該冷卻液進入的入口20，且該周壁113、該內壁111及該外壁112共同界定出一用來容置該冷卻液的冷卻空間114。每一個陰極單元11還包括複數個相間隔地在該冷卻空間114內延伸且連接該內壁111及該外壁112的支撐壁115，以及兩個相間隔地穿設該內壁111及該外壁112並用來輸送電解液的輸送管116。
本新型主要的技術特徵並不在於該等隔離單元12，且該等隔離單元12為本領域技術人員所公知的，為了精簡的因素，故細節在此不多作說明。
該陽極單元13包括一個圍繞界定出一容置空間134的框座131、一設置在該容置空間130內的金屬網袋132，以及一個設置在該金屬網袋132內且一端延伸穿過該金屬網袋132及該框座131的陽極133。該框座131界定出一個與該容置空間134連通且用來供該二氧化氯氣體排出的出氣口130。該陽極133具有兩個相反的端面1331，及一連接該兩端面1331且與該金屬網袋132連接的周面1332。
參閱圖1、圖3及圖4，該混合裝置2包括一個第一混合單元21，及一個第二混合單元22。該第一混合單元21界定出一個混合室210、一個連接該陽極單元13的框座131的出氣口130的進氣口212、一個進液口211，以及一個出口213。該第二混合單元22包括兩個攪拌式混合槽221。本新型主要的技術特徵並不在於該等攪拌式混合槽221，故細節在此不多作說明。要注意的是該等攪拌式混合槽221的數目不限於兩個，依實際需求可以是一個、三個…等。
參閱圖1、圖4及圖5，該磁化裝置3包括一個連接該混合裝置2的該第一混合單元21的該進液口211的第一磁化單元31，及一個連接該第一混合單元21的該出口213及該第二混合單元22的第二磁化單元32。每一個磁化單元31、32中界定出一個進液口33及一出液口34，且包括兩個相間隔地設置且具有磁石301的磁化器30。每一個磁石301為為具有磁場強度範圍為2,500至6,500高斯的礦石。在本第一實施例中，該礦石的磁場強度為4,500高斯。要注意的是該等磁化器30的數目不限於兩個，依實際需求可以是一個、三個…等。本實施例的另一變化態樣中，該第一磁化單元31及該第二磁化單元32為不相同，亦即不須都是利用磁石301來磁化水，只要能將水磁化即可，舉例來說，可將磁石301置換成可導電的線圈，並透過提供一電能至該線圈上產生磁能，繼而將水磁化。
該管路單元4主要是以管路連接該電解裝置1、該混合裝置2及該磁化裝置3，由於本新型主要的技術特徵並不在於該管路單元4，為了精簡，故細節在此不多作說明。該水暫存於該第二混合單元22的該等攪拌式混合槽221內。該第一實施例於使用時，該水自該第二混合單元22中流出，並流經該磁化裝置3的該第一磁化單元31的該等磁化器30進行第一次磁化，形成該磁化水。接著，該磁化水與由該電解裝置1產生的該二氧化氯氣體分別經由該第一混合單元21的該進液口211及該進氣口212進入該混合室210中進行第一次混合，形成該包括二氧化氯氣體的水溶液。然後，該包括二氧化氯氣體的水溶液自該第一混合單元21的該出口213流出，並流入該第二磁化單元32的該等磁化器30進行第二次磁化，最後，進入該第二混合單元22進行第二次混合，然後，再排出。
參閱圖4、圖5及圖6，本新型第二實施例與該第一實施例主要的不同點在於該第一磁化單元31及該第二磁化單元32的設置位置相互對調，亦即該第一磁化單元31連接於該第一混合單元21的該出口213及該第二混合單元22，而該第二磁化單元32連接該第一混合單元21的該進液口211及該第二混合單元22。
本第二實施例使用時，由一水供應裝置(圖未示)提供的該水與由該電解裝置1產生的該二氧化氯氣體分別經由該第一混合單元21的該進液口211及該進氣口212進入該混合室210中進行第一次混合。接著，自該第一混合單元21的該出口213流出，並流入該第一磁化單元31的該等磁化器30進行第一次磁化。然後，進入該第二混合單元22進行第二次混合，並再循環至該第二磁化單元32的該等磁化器30進行第二次磁化，最後，再排出。本第二實施例於使用上的另一變化態樣為可在該第二次磁化後，再次依序導入該第一混合單元21、該第一磁化單元31及該第二混合單元22後，再排出。
為突顯效果差異，本發明提供一比較例，且該比較例與本發明第一實施例主要的不同點在於水不經過該磁化裝置3，而是直接與由該電解裝置1產生的該二氧化氯氣體混合，形成包括二氧化氯氣體的水溶液。
評價項目
二氧化氯殘留量量測：使用N,N-二乙基對苯二胺餘氯檢測方法。
表1 <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="_0001"><TBODY><tr><td> 室溫 </td><td> 比較例的二氧化氯氣體 濃度(ppm) </td><td> 第一實施例的二氧化氯氣體 濃度(ppm) </td></tr><tr><td> 第0天 </td><td> 2030 </td><td> 2034 </td></tr><tr><td> 第3天 </td><td> 1718 </td><td> 1934 </td></tr><tr><td> 第7天 </td><td> 1444 </td><td> 1728 </td></tr><tr><td> 第10天 </td><td> 1305 </td><td> 1680 </td></tr><tr><td> 第14天 </td><td> 1066 </td><td> 1564 </td></tr></TBODY></TABLE>
綜上所述，透過該磁化裝置3將該水磁化形成該磁化水，使得該包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備可製備出具有優異殺菌存放期限包括二氧化氯氣體的水溶液，故確實能達成本新型之目的。
惟以上所述者，僅為本新型之實施例而已，當不能以此限定本新型實施之範圍，凡是依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。
1‧‧‧電解裝置
11‧‧‧陰極單元
111‧‧‧內壁
112‧‧‧外壁
113‧‧‧周壁
20‧‧‧入口
114‧‧‧冷卻空間
115‧‧‧支撐壁
116‧‧‧輸送管
12‧‧‧隔離單元
13‧‧‧陽極單元
134‧‧‧容置空間
130‧‧‧出氣口
132‧‧‧金屬網袋
133‧‧‧陽極
1331‧‧‧端面
1332‧‧‧周面
131‧‧‧框座
2‧‧‧混合裝置
21‧‧‧第一混合單元
210‧‧‧混合室
211‧‧‧進液口
212‧‧‧進氣口
213‧‧‧出口
22‧‧‧第二混合單元
221‧‧‧攪拌式混合槽
3‧‧‧磁化裝置
31‧‧‧第一磁化單元
32‧‧‧第二磁化單元
33‧‧‧進液口
34‧‧‧出液口
30‧‧‧磁化器
301‧‧‧磁石
4‧‧‧管路單元
本新型之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中： 圖1是本新型包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備的一第一實施例的一示意圖； 圖2是一立體分解圖，說明該第一實施例的一電解裝置； 圖3是一剖視圖，輔助說明圖2； 圖4是一剖視圖，說明該第一實施例的一第一混合單元； 圖5是一不完整剖視圖，說明該第一實施例的一磁化裝置；及 圖6是本新型包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備的一第二實施例的一示意圖。
1‧‧‧電解裝置
2‧‧‧混合裝置
21‧‧‧第一混合單元
22‧‧‧第二混合單元
221‧‧‧攪拌式混合槽
3‧‧‧磁化裝置
31‧‧‧第一磁化單元
32‧‧‧第二磁化單元
4‧‧‧管路單元

Claims (11)

  1. 一種包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，該包括二氧化氯氣體的水溶液包括磁化水及二氧化氯氣體，該製造設備包含：一個電解裝置，用來產生該二氧化氯氣體；一個磁化裝置，用來將水磁化，形成該磁化水；及一個混合裝置，包括一連接該電解裝置及該磁化裝置的第一混合單元，且該第一混合單元用來將該水及該磁化水的其中一者與該二氧化氯氣體混合。
  2. 如請求項1所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該第一混合單元界定出一供該磁化水及該二氧化氯氣體進行混合的混合室、一連通該混合室且供該二氧化氯氣體進入的進氣口、一連通該混合室且供該磁化水進入的進液口，及一連通該混合室且供該二氧化氯水溶液流出的出口。
  3. 如請求項2所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該磁化裝置包括一連接該第一混合單元的該進液口的第一磁化單元。
  4. 如請求項3所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該磁化裝置還包括一連接該第一混合單元的該出口的第二磁化單元。
  5. 如請求項4所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該混合裝置還包括一連接該磁化裝置的該第二磁化單元及該第一磁化單元的第二混合單元。
  6. 如請求項5所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該第二磁化單元及該第一磁化單元中至少一者包括一具有磁石的磁化器。
  7. 如請求項1所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該第一混合單元界定出一供該水及該二氧化氯氣體進行混合的混合室、一連通該混合室且供該二氧化氯氣體進入的進氣口、一連通該混合室且供該水進入的進液口，及一連通該混合室且供該水及該二氧化氯氣體流出的出口。
  8. 如請求項7所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該磁化裝置包括一連接該第一混合單元的該出口的第一磁化單元。
  9. 如請求項8所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該混合裝置還包括一連接該磁化裝置的該第一磁化單元的第二混合單元。
  10. 如請求項9所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該磁化裝置包括一連接該第一混合單元的該進液口及該第二混合單元的第二磁化單元。
  11. 如請求項10所述的包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，其中，該第二磁化單元及該第一磁化單元中至少一者包括一具有磁石的磁化器。
TW104220026U 2015-12-14 2015-12-14 包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備 TWM527443U (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW104220026U TWM527443U (zh) 2015-12-14 2015-12-14 包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備
DE202016103175.3U DE202016103175U1 (de) 2015-12-14 2016-06-15 Vorrichtung zur Herstellung einer chlordioxidgas-haltigen wässrigen Lösung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW104220026U TWM527443U (zh) 2015-12-14 2015-12-14 包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWM527443U true TWM527443U (zh) 2016-08-21

Family

ID=56498106

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104220026U TWM527443U (zh) 2015-12-14 2015-12-14 包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE202016103175U1 (zh)
TW (1) TWM527443U (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107081099A (zh) * 2016-02-14 2017-08-22 优尼克生技股份有限公司 包括二氧化氯气体的水溶液的制造设备及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE202016103175U1 (de) 2016-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2017136977A1 (zh) 包括二氧化氯气体的水溶液之制造设备
KR20140110866A (ko) 오존 생성 및 오존 용해 장치
KR101936073B1 (ko) 자동 염소 투입장치
TWM527443U (zh) 包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備
WO2017199990A1 (ja) 次亜塩素酸水の生成方法および生成器
JP2016037442A (ja) 亜硝酸生成装置
KR20190127539A (ko) 선체 밸러스트 수 멸균 방법 및 그 장치
SG194658A1 (en) Plasma generating method and generating device
CN102917982B (zh) 电解水制造装置
TW201720753A (zh) 包括二氧化氯氣體的水溶液之製造設備，及其製備方法
WO2017136978A1 (zh) 包括二氧化氯气体的水溶液之制造设备，及其制备方法
KR101573318B1 (ko) 반도체 세정 장치의 전해이온수 공급 장치
CN206843597U (zh) 一种由余氯控制的次氯酸钠发生器
KR20150083498A (ko) 전자기장을 이용한 고농도 오존수 생성 장치
TWM577019U (zh) Automated electrolysis unit
CN112791676B (zh) 用于多形态消毒剂的制备装置
TW202024399A (zh) 自動化電解裝置
CN210457816U (zh) 含稳态活性氧的水的制备装置
CN108796546B (zh) 二氧化氯水溶液生产设备
CN209702367U (zh) Mods消毒系统
CN208032489U (zh) 臭氧水混合设备
KR102435882B1 (ko) 연속식 전기방전수 생성시스템
JP2015166057A (ja) 担体添加活性汚泥混合液のサンプリング装置及びサンプリング方法
JPWO2014080847A1 (ja) 殺菌水の製造方法及び製造システム
KR101568860B1 (ko) 반도체 세정 장치의 전해질 용액 공급 장치