TWM526177U - 視覺化系統及具有其之製程腔室 - Google Patents

Description

視覺化系統及具有其之製程腔室

本創作的實施方式通常涉及用於基板(諸如半導體基板)的遮罩和對準裝置與操作。

在諸如OLED平板的基板上的沉積製程期間，遮罩可被放置在沉積源與基板之間以防止在基板上的選定位置中的材料沉積。隨著裝置幾何形狀持續縮小，精確遮罩定位和對準變得對於促進基板表面上的準確沉積日益重要。然而，現存的遮罩對準技術可能不具有實現下一代裝置所需的準確度。

因此，存在對於改進的遮罩對準裝置和方法的需要。

本創作係有關於一種相對於基板對準遮罩之視覺化系統及具有其之製程腔室。

根據本創作之一實施方式，用於對準的視覺化系統包括雙光源。雙光源包括用於觀察基板上的對準標記的第一光源，和用於觀察遮罩上的遮罩開口或其他對準標記的第二光源。可發 生第一光源和第二光源之間的切換以促進遮罩相對於基板的對準。視覺化系統也可在Z軸上致動以當成像遮罩時將視覺化系統聚焦，從而促進由於遮罩整修或影響遮罩尺寸的其他因素的相距原始或默認位置的遮罩位移的確定。

根據本創作之另一實施方式，視覺化系統包含：第一光源，具有環狀；第二光源，適合於導引光通過第一光源的中心；透鏡，定位在第一光源和照相機之間，所述照相機導引通過第一光源的中心且適合於通過透鏡捕獲圖像。

根據本創作之又一實施方式，製程腔室包含：基板支撐件，定位在製程腔室的主體之內；一個或多個運動對準元件，用於支撐在所述運動對準元件上的遮罩；和視覺化系統，被定位以檢測遮罩與支撐在所述基板支撐件上的基板的對準，視覺化系統，包含：第一光源，具有環狀；第二光源，適合於導引光通過第一光源的中心；透鏡，定位在第一光源和照相機之間，所述照相機導引通過第一光源的中心且適合於通過透鏡捕獲圖像。

根據本創作之再一實施方式，一種處理基板的方法包含：將基板定位在製程腔室中的基板支撐件上，所述基板相鄰遮罩定位；使用視覺化系統的照相機將基板相對於遮罩對準，其中所述遮罩先前已經受整修；垂直地致動照相機以將照相機聚焦在遮罩上，其中在聚焦期間的照相機的垂直距離的變化對應於由於整修的遮罩位置或厚度中的變化；以及將遮罩佈置在基板上。

因此，以可詳細地理解本創作的上述特徵的方式， 可參考實施方式獲得上文簡要概述的本創作的更特定描述，所述實施方式中的一些實施方式在圖式中繪示。然而，應注意，圖式僅繪示示例性實施方式且因此不將圖式視為限制本創作的範疇，因為本創作可允許其他同等有效的實施方式。

100‧‧‧裝置

102‧‧‧腔室主體

104‧‧‧開口

106‧‧‧基板

108‧‧‧遮罩

110‧‧‧基板支撐件

112‧‧‧擴散器

114‧‧‧開口

116‧‧‧處理空間

118A、118B、118C、118D‧‧‧運動對準元件

120‧‧‧升舉銷

122‧‧‧視覺化系統

124‧‧‧致動器

126‧‧‧杆

128‧‧‧遮蔽結構

130‧‧‧突出部

132‧‧‧氣體源

134‧‧‧背板

136‧‧‧開口

138‧‧‧對準標記

140‧‧‧開口

144‧‧‧對準位置

250‧‧‧光學系統

251‧‧‧支撐件

252a‧‧‧第一光源

252b‧‧‧第二光源

253‧‧‧主管

254‧‧‧光學器件外殼

255‧‧‧照相機

256‧‧‧鏈路

257‧‧‧夾具

258‧‧‧托架

259‧‧‧導軌

260‧‧‧致動器

290‧‧‧鏡子

291‧‧‧透鏡

293‧‧‧外殼

295‧‧‧中心開口

297‧‧‧導向器

298‧‧‧感測器

396‧‧‧對準系統

780、781、782、788、789‧‧‧區域

第1A圖是根據一個實施方式的化學氣相沉積裝置的示意橫截面圖。

第1B圖是第1A圖中所示的裝置的一部分的擴大示意圖。

第2A圖是根據一個實施方式的視覺化系統的示意圖。

第2B圖是如第2A圖中所示的視覺化系統的一部分的俯視圖。

第3圖是根據一個實施方式的遮罩和對準系統的示意等距視圖。

第4圖是根據一個實施方式的遮蔽框的底視圖。

第5圖是用於對準遮罩的方法的流程圖。

第6A圖至第6D圖繪示在對準操作期間的遮罩的局部視圖。

第7A圖至第7C圖繪示使用本創作的視覺系統的測量可重複性的圖形。

第8圖繪示通過本創作的視覺化系統執行的焦點測量的圖形。

為了便於理解，在可能的情況下，已使用相同元件符號來指定對諸圖共用的相同元件。可以預期，一個實施方式的 元件和特徵可有利地併入其他實施方式中而無需進一步敘述。

本創作涉及相對於基板對準遮罩的裝置和方法。在一個實施方式中，用於對準的視覺化系統包括雙光源。雙光源包括用於觀察基板上的對準標記的第一光源，和用於觀察遮罩上的遮罩開口或其他對準標記的第二光源。可發生第一光源和第二光源之間的切換以促進遮罩相對於基板的對準。視覺化系統也可在Z軸上致動以當成像遮罩時將視覺化系統聚焦，從而促進由於遮罩整修或影響遮罩尺寸的其他因素的相距原始或默認位置的遮罩位移的確定。

第1A圖是根據一個實施方式的化學氣相沉積(chemical vapor deposition；CVD)裝置100的示意橫截面圖。裝置100包括腔室主體102，所述腔室主體102具有通過一個或多個壁的開口104，以允許一個或多個基板106和遮罩108被插入到腔室主體102中。在處理期間，基板106被佈置在與擴散器112相對的基板支撐件110上。擴散器112具有通過所述擴散器形成的一個或多個開口114，以允許處理氣體進入界定在擴散器112和基板106之間的處理空間116。

對於處理，遮罩108被初始地通過開口104插入到裝置100中，且被佈置在多個運動對準元件118A至118D(繪示了兩個運動對準元件)上。基板106隨後被通過開口104插入且 佈置在貫穿基板支撐件110的多個升舉銷120上。隨後，基板支撐件110升高以靠近基板106，以便基板106被佈置在基板支撐件110上。

一旦基板106被佈置在基板支撐件110上，一個或多個視覺化系統122確定遮罩108是否在基板106之上適當地對準。如果遮罩108沒有適當地對準，那麼對準系統396的一個或多個致動器124(如第3圖中所示)移動一個或多個運動對準元件118A至118D以調整遮罩108的位置。一個或多個視覺化系統122隨後再檢查遮罩108的對準。

一旦遮罩108在基板106之上適當地對準，那麼遮罩108被降低至基板106上，且隨後基板支撐件110升高杆126，直到遮蔽框128接觸遮罩108為止。在被擱在遮罩108上之前，遮蔽框128被佈置在腔室主體102中的突出部130上，所述突出部130從腔室主體102的一個或多個內壁延伸。基板支撐件110繼續上升，直到基板106、遮罩108和遮蔽框128被佈置在與擴散器112相對的處理位置中為止。然後，處理氣體被從一個或多個氣體源132傳遞通過在背板134中形成的開口，同時將偏壓提供到擴散器112。

為了將遮罩108在基板106之上適當地對準，視覺化系統122通過從多個光源(如第3圖中所示)朝向基板106和遮罩108導引光來操作。遮罩108和基板106的照明促進形成在基板106上的對準標記138(諸如，基準標記)相對於通過遮罩 108形成的開口140的定位。當通過基板支撐件110觀察對準標記138時，一個或多個視覺化系統122將觀察遮蔽框128以及遮罩108的開口140的邊界。遮蔽框128和遮罩108可由陽極化鋁製造。然而，因為陽極化鋁具有灰色，所以一個或多個視覺化系統122可能具有相對於遮蔽框128和遮罩108觀察對準標記138的困難。因此，視覺化系統122可被改進以在對準操作期間清楚地觀察對準標記138、遮罩開口140和遮蔽框128，如根據第4圖進一步說明。

第1B圖是第1A圖中所示的裝置100的一部分的擴大示意圖。如第1B圖中所示，基板支撐件110包括通過基板支撐件110以容納升舉銷120的第一組開口，和用於對準元件118A至118D經由基板支撐件110延伸的第二組開口。開口136也存在于對應於對準視覺化系統122操作的位置處。應將理解，對準視覺化系統122可被佈置在裝置100之外且利用一個或多個視覺化元件(諸如照相機、照明元件、透鏡，和/或視窗)以觀察到裝置100中。對準視覺化系統122通過導引在由箭頭“A”所示的方向中的數個光源通過在基板支撐件110中形成的開口136、通過基板106、通過在遮罩108中形成的開口140，且導引所述數個光源在遮蔽框128上的對準位置144處來操作。對準視覺化系統122通過執行一個或多個測量和位置校正促進在通過遮罩108形成的開口140之內的對準標記138的居中定位。

第2A圖是根據一個實施方式的視覺化系統122的 示意圖。視覺化系統122包括耦接到支撐件251的光學系統250。光學系統250包括諸如環狀光的第一光源252a，所述第一光源安置在光學系統250的第一端處。諸如點光源的第二光源252b被定位以導引光通過第一光源252a之內的中心開口295。在一個實例中，第二光源252b與光學系統250的主管253垂直地定位，且經由在第一光源252a之內同心定位的外殼293被導引通過第一光源252a。第二光源252b被耦接到在光學器件外殼254處的主管253，所述光學器件外殼254選擇性地在其中包含一個或多個透鏡或鏡子290，以導引光通過第一光源252a的中心開口。第一光源252a和第二光源252b的每一個可以是產生白光的發光二極體(light-emitting diode；LED)。

主管253也包括諸如遠心透鏡的透鏡291，所述透鏡封裝在主管中且鄰近於光學器件外殼254而位於光學器件外殼254與照相機255之間。在一個實例中，照相機255是2MP照相機，所述照相機適合於捕獲基板106和遮罩108的圖像(如第圖1A圖中所示)以促進基板106相對於遮罩108的對準。由照相機255捕獲的圖像可經由鏈路256傳輸至控制單元(未繪示)。控制單元可例如使用一個或多個致動器124和一個或多個運動對準元件118A至118D來處理所捕獲的圖像以確定在基板106和/或遮罩108的定位中的適當校正以促進適當對準。

光學系統250經由耦接到托架258的一個或多個夾具257(繪示了兩個夾具)固定至支撐件251。托架258沿著支 撐件251的導軌259被垂直致動。托架258和耦接到托架258的光學系統250的致動是通過致動器260來完成，所述致動器諸如可操作地耦接到托架258的步進電動機、滾珠絲杠或其他適當的線性致動器。可選導向器297被耦接到導軌259以促進沿著導軌的運動。在一個實施方式中，可以預期，導軌可省略或與托架258整體地形成。諸如編碼器的感測器298可被定位以監控或感測導向器297和/或托架258沿著導軌259的絕對或相對位置，且因此，監控或感測照相機255的位置。在一個實例中，如圖所示，感測器298可被耦接到致動器260，但是也可預期其他感測器位置。

第2B圖是第2A圖中所示的視覺化系統122的一部分的俯視圖。特別地，第2B圖是第一光源252a的俯視圖，第一光源252a圍繞主管253的延伸部分。來自第二光源252b(如第2B圖中所示)的光可離開相鄰第一光源252a的主管253的延伸部分。在一個實例中，第一光源252a可包括由外殼部分地圍繞的燈泡，所述外殼適合於朝向基板和遮罩導引光。

第3圖是根據一個實施方式的遮罩108和對準系統396的示意等距視圖。如上文所論述，遮罩108被最初地使用終端受動器插入到裝置100中，所述終端受動器將遮罩108安置到一個或多個對準元件118A至118D上。在所述實施方式中，對準系統396包括除兩個致動器124之外的四個對準元件118A至118D。應將理解，本創作不限於四個對準元件118A至118D。每一對準元件118A至118D被耦接到一個或多個致動器124，所述 一個或多個致動器控制對準元件118A至118D的運動。

對準元件118A至118D可能不是相同的。在一個實例中，兩個對準元件118A、118D是X-Y-Z軸對準元件(亦即，可經由在三個不同平面中的致動器運動)，而其他兩個對準元件118C、118B為Z軸運動對準元件(亦即，經由僅在一個平面中的致動器運動)。因此，所有四個對準元件118A至118D能夠在垂直於基板106的沉積表面的平面中運動，而僅兩個對準元件118A、118D能夠在平行於基板106的沉積表面的平面之內運動。在第4圖中所示的實施方式中，X-Y-Z軸對準元件118A、118D並不彼此相鄰，而是彼此相對。同樣地，Z軸對準元件118B、118C並不彼此相鄰，而是彼此相對。

第4圖是根據一個實施方式的遮蔽框128的底視圖。為了容納視覺化系統122(如第1A圖中所示)，遮蔽框128具有對應於其中來自每一視覺化系統122的光將照明的位置的對準位置144。對準位置144是不為陽極化鋁的遮蔽框128的一部分。遮蔽框128的其餘部分是陽極化鋁。應將理解，雖然已繪示四個對準位置144，但是可存在更多或更少的對準位置144。在基板106上的標記138與遮蔽框128上的對準位置144之間存在足夠的對比度，以確保視覺化系統122可有效地視覺化基板106上的標記138。另外，在遮蔽框128的陽極化部分與對準位置144之間存在足夠的對比度，以使得視覺化系統122可在遮蔽框128的各部分之間區分。對準位置144可具有裸露的、非陽極化鋁，所 述非陽極化鋁將具有亮銀色外觀，而不是灰色的陽極化鋁。或者，對準位置144可包含插入遮蔽框128中的陶瓷材料，以使得對準位置144具有用於對準目的的白色外觀。當視覺化系統122處於操作中時，對準位置144提高相對於陽極化遮蔽框128的對比度。

在常規系統中，相對於視覺化系統122的視圖，當基板的對準標記138朝向遮罩108的開口140佈置時，發生對準問題。特別地，對準標記138缺乏與遮罩108或遮蔽框128的陽極化鋁的對比，從而使對準標記138難以辨別。當對準標記138佈置在開口140的區域的外部時，在對準操作期間僅利用單個光源的常規系統通常無法檢測或視覺化對準標記138。因此，當視覺化系統122搜尋對準標記138時產量降低，此搜尋可包括相對於基板106隨機地移動遮罩108，直到對準標記138出現在開口140中為止。

第5圖為用於對準遮罩的方法560的流程圖。第6A圖至第6D圖繪示在對準操作期間的遮罩108的局部視圖。為了促進說明，第5圖和第6A圖至第6D圖將結合來進行說明。第6A圖為在照明期間具有形成在遮罩108中的開口140的遮罩108的局部視圖。照明使用第一光源在操作561期間發生，所述第一光源諸如第一光源252a(如第2B圖中所示)。如圖所示，基板的對準標記138(以虛線繪示)不與開口140對準，且因此，由於缺乏遮罩108的陽極化鋁與對準標記138之間的對比度，在使用 單個光源視覺系統時對準標記138通常不可見。缺乏對比度至少部分地由於第一光源252a的泛光照明特性。然而，開口140使用第一光源252a可見。

本創作的實施方式包括諸如第二光源252b(如第2A圖中所示)的附加光源，以促進對準標記138的視覺化。第二光源252b的利用在操作562期間發生。利用第二光源252b，即使當對準標記138沒有相對於視覺化系統122的視場定位在開口140之內時，對準標記138也可見。第二光源252b通常產生“點光源”或其他聚焦或集中光束，所述“點光源”或其他聚焦或集中光束促進對準標記138相對於遮罩108的視覺對比。特別地，由第二光源252b產生的光束比由第一光源252a產生的光速更加集中，且因此第二光源252b在開口140附近的區域中產生更加均勻或一致的照明圖案。如第6B圖中所示，對準標記138沒有定位在開口140之內(未在第6B圖中繪示)，然而，由於由相鄰於開口140的第一光源252a產生的均勻照明，對準標記仍然相對於遮罩108可見。應注意，利用第二光源252b通常不提供開口140相對於遮罩108的其餘部分的足夠對比度。

如從第6A圖和第6B圖中可見，第一光源和第二光源允許開口140和對準標記138的每一個分別由視覺化系統122容易且可靠地檢測。在操作563期間，可提供開口140與對準標記138的相對位置至控制單元，所述控制單元隨後可調整基板106和/或遮罩108的位置以將對準標記138相對於開口140對準。可 以預期，可將第一光源252a和第二光源252b來回重複轉換(例如，切換)多次以促進對準。在此實施方式中，第一光源252a可用以決定開口140的位置，接著繼之以第二光源252b的照明以確定對準標記138的位置。例如，如在操作564中，可隨後在重複第一和第二光源的照明反覆運算之前，執行基板106或遮罩108的位置變化。第6C圖繪示使用視覺化系統122在開口140之內對準的對準標記138。一旦遮罩108在基板106之上適當地對準，對準元件118A至118D就可將遮罩108降低至基板106上。

第6D圖繪示遮罩108與基板的對準標記138的對準，所述基板另外地與遮蔽框128上的對準位置144對準。對準位置144可以是例如位於遮蔽框128的表面上的陶瓷按鈕或環。通過來自第一光源252a的照明來促進對準位置144的對準。應注意，對準標記138也可如由第一光源252a照明而可見，如第6D圖中所示，因為對準標記138通過開口140而可見地定位，且因此不存在對比問題。遮蔽框的單獨對準控制可用於對準遮蔽框。另外地或替代地，遮罩108和基板106可相對於固定遮蔽框對準。在此實施方式中，相對於遮蔽框的對準可與操作561至564同時發生。

在操作565期間，必要時，一旦基板106、遮罩108和遮蔽框128已對準，那麼可決定且隨後調整遮罩108的高度。在操作565期間，在支撐件251(如第2A圖中所示)上的致動器260調整照相機255(如第2A圖中所示)與遮罩108之間的距離， 直到遮罩108上的標記138相對於照相機聚焦為止。因為照相機255具有固定和已知的焦距，所以一旦照相機255已聚焦，就可快速且輕易地確定照相機255和遮罩108之間的距離。此外，感測器298促進確定照相機255相對於固定基板106的位置，且另外地，確定遮罩108與固定基板106的距離。因此，通過在遮罩108上聚焦照相機255，可確定遮罩108與基板106的距離。當定位遮罩108時，遮罩108和基板106之間的距離的確定允許遮罩108和基板106之間的更平緩接觸，從而減少對基板106的無意損壞。

例如，由於在遮罩108上的沉積材料的累積，或者，由於遮罩108的機械加工或整修，可發生遮罩108與基板106的距離偏差。在一個實例中，遮罩108可通過從遮罩108的表面去除所沉積材料，例如經由研磨、拋光或化學蝕刻來整修。由於整修的從遮罩108的材料去除，或由於沉積的向遮罩108的材料增加都會使遮罩108相對於照相機255移動。遮罩108相對於照相機255的移動引起遮罩108散焦。然而，照相機255可如上所述重新聚焦，且照相機255移動到重調焦距的距離等於遮罩高度的變化。

在操作565期間，通過重新聚焦照相機255的焦距，且通過查明照相機255相對於遮罩108的距離的變化，可確定遮罩108和基板106之間的相對距離的精確變化。在一個實例中，所述距離變化可為約200微米或更少。遮罩108和基板106之間 的精確距離的確定促進在遮罩放置期間的遮罩108和基板106之間的更平緩接觸，從而防止對基板106的損壞，諸如基板表面的剝落或劃傷。可以預期，在遮罩108的整修或置換之後，可對每個基板、每隔幾個基板，或對第一基板執行操作565。在已在操作565中調整遮罩高度之後，在諸如CVD製程的沉積製程之前，遮罩108可在操作566期間設置在基板106上。

第7A圖至第7C圖繪示使用本創作的視覺系統的測量的圖形。第7A圖是繪示使用本文所述的視覺化系統122的對準標記138位置的24個不同測量的圖形780。對準標記138測量在X軸中產生0.0808微米的σ值，且在Y軸中產生0.0867微米的σ值。第7B圖是繪示使用視覺化系統122的遮罩開口140位置的24個不同測量的圖形781。遮罩開口140測量在X軸中產生0.1361微米的σ值，且在Y軸中產生0.1837微米的σ值。第7C圖是使用視覺化系統122的在遮蔽框128上的對準位置144位置的24個不同測量的圖形782。對準位置144測量在X軸中產生1.4502微米的σ值，且在Y軸中產生1.0417微米的σ值。因此，使用本創作的視覺化系統，可快速且準確地完成基板、遮罩，和遮蔽框的對準，即使當基板106的對準標記138被遮罩108的各部分遮蔽時。

第8圖繪示通過本創作的視覺化系統122執行的焦點測量的圖形788。視覺化系統122的照相機255同時在正z軸方向和負z軸方向中行進，以確定最大焦點的峰值，如由區域789 所示。已決定最大焦點的相對z軸位置之後，視覺化系統和/或耦接至視覺化系統的控制器可校正遮罩定位以補償由於遮罩整修或其他因素的遮罩位置的變化。因此，可調整遮罩運動以補償遮罩至基板距離的變化，以促進遮罩108和基板106之間的更平緩的接觸，從而當安置遮罩108在基板106上時減少對基板106的損壞。在無遮罩高度調節操作的情況下，基板106之上的遮罩108的絕對高度是未知的，且可產生過度有力的接觸，例如由於當佈置遮罩108在基板106上時未使遮罩108的運動減速而引起。在一個實例中，可使用本文所述的實施方式決定遮罩位置在約25微米或更少的距離之內。

本創作的益處包括相對於基板快速且準確地對準遮罩。即使當基板的對準標記不通過遮罩中的開口存在時，多光源視覺系統也促進遮罩的對準。另外，本創作的視覺系統的照相機的Z軸自動聚焦允許確定和補償由於遮罩整修的遮罩高度的變化。因此，遮罩可更加平緩地定位在基板上以最小化對基板的損壞。

綜上所述，雖然本創作已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本新型。本新型所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本創作之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧裝置

102‧‧‧腔室主體

104‧‧‧開口

106‧‧‧基板

108‧‧‧遮罩

110‧‧‧基板支撐件

112‧‧‧擴散器

114‧‧‧開口

116‧‧‧處理空間

118A、118B‧‧‧運動對準元件

120‧‧‧升舉銷

122‧‧‧視覺化系統

124‧‧‧致動器

126‧‧‧杆

128‧‧‧遮蔽結構

130‧‧‧突出部

132‧‧‧氣體源

134‧‧‧背板

136‧‧‧開口

140‧‧‧開口

144‧‧‧對準位置

Claims (12)

1. 一種視覺化系統，包括：一第一光源，具有環形；一第二光源，適合於導引光通過該第一光源的中心；以及一透鏡，定位在該第一光源和一照相機之間，該照相機導引通過該第一光源的中心且適合於捕獲通過該透鏡的圖像。
2. 如申請專利範圍第1項所述的視覺化系統，其中該透鏡是一遠心透鏡。
3. 如申請專利範圍第1項所述的視覺化系統，其中該第二光源是一點光源。
4. 如申請專利範圍第1項所述的視覺化系統，其中該照相機耦接到一線性致動器。
5. 如申請專利範圍第1項所述的視覺化系統，進一步包括一光學器件外殼，該光學器件外殼在其中包括一鏡子或一透鏡，該鏡子或該透鏡適合於從該第二光源導引光。
6. 一種製程腔室，包括：一基板支撐件，定位在該製程腔室的主體之內；一個或多個運動對準元件，用於支撐在該一個或多個運動對準元件上的一遮罩；以及一視覺化系統，被定位以檢測該遮罩與支撐在該基板支撐件上的基板的對準，該視覺化系統包括：一第一光源，具有環狀； 一第二光源，適合於導引光通過該第一光源的中心；以及一透鏡，定位在該第一光源和一照相機之間，該照相機導引通過該第一光源的中心且適合於捕獲通過該透鏡的圖像。
7. 如申請專利範圍第6項所述的製程腔室，其中該透鏡是一遠心透鏡。
8. 如申請專利範圍第6項所述的製程腔室，其中該第二光源是一點光源。
9. 如申請專利範圍第6項所述的製程腔室，其中該照相機耦接到一線性致動器。
10. 如申請專利範圍第6項所述的製程腔室，進一步包括一遮蔽框，該遮蔽框具有用於由該視覺化系統檢測的在該遮蔽框上的數個對準位置。
11. 如申請專利範圍第6項所述的製程腔室，其中該基板支撐件包括數個開口，該數個開口用於導引該第一光源和該第二光源通過該數個開口。
12. 如申請專利範圍第6項所述的製程腔室，其中該第一光源和該第二光源是一LED。