KR102477767B1 - 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치 - Google Patents

멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102477767B1
KR102477767B1 KR1020210006188A KR20210006188A KR102477767B1 KR 102477767 B1 KR102477767 B1 KR 102477767B1 KR 1020210006188 A KR1020210006188 A KR 1020210006188A KR 20210006188 A KR20210006188 A KR 20210006188A KR 102477767 B1 KR102477767 B1 KR 102477767B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
fmm
camera
metal mask
fine metal
Prior art date
Application number
KR1020210006188A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20220103863A (ko
Inventor
김진
김연태
장민석
이영수
김택겸
김양곤
임길택
Original Assignee
(주)화이버 옵틱코리아
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)화이버 옵틱코리아, 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical (주)화이버 옵틱코리아
Priority to KR1020210006188A priority Critical patent/KR102477767B1/ko
Publication of KR20220103863A publication Critical patent/KR20220103863A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102477767B1 publication Critical patent/KR102477767B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/60Analysis of geometric attributes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2210/00Aspects not specifically covered by any group under G01B, e.g. of wheel alignment, caliper-like sensors
    • G01B2210/56Measuring geometric parameters of semiconductor structures, e.g. profile, critical dimensions or trench depth

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Eye Examination Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 멀티카메라를 이용하여 높이 축으로 다른 지점을 동시에 측정하여 Glass와 FMM(Fine metal mask)를 정렬하고 검사하는 것으로 멀티카메라를 사용하여 평판 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면의 정렬 표식마크를 동시에 측정하여 정렬 상태를 확인하고, 위치를 정확하게 정렬한 후, glass면과 FMM면을 밀착시켜 증착한 후 정렬 상태에 대해 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치에 관한 것이다.
본 발명의 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치에 있어서, 빛을 발생시키는 광원과 광원으로부터 발생된 빛의 경로 방향을 전환하는 제1,2광분할기와 제1,2광분할기에서 경로가 전환된 빛을 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면에 집광하여 조사하여 주는 대물렌즈와 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면에 조사되기 전 광로차(위상차)를 형성하여 각가 집광하여 조사될 수 있도록 하는 파장판과 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면 높이를 실시간 측정할 수 있는 높이측정부와 제1,2광분할기를 통해 분리된 빛을 입사받아 검출하는 복수개로 형성되는 카메라 또는 영상장치로 이루어지는 제1,2검출부 및 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면의 위치를 검출할 수 있도록 하는 갈바노미러부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치{Optical inspection device for high speed and high precision alignment using multi-camera}
본 발명은 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치에 관한 것이다.
멀티카메라를 이용하여 높이 축으로 다른 지점을 동시에 측정하여 Glass와 FMM(Fine metal mask)를 정렬하고 검사하는 것으로 멀티카메라를 사용하여 평판 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면의 정렬 표식마크를 동시에 측정하여 정렬 상태를 확인하고, 위치를 정확하게 정렬한 후, glass면과 FMM면을 밀착시켜 증착한 후 정렬 상태에 대해 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치에 관한 것이다.
상술한 바와 같이 organic light emitting diodes (OLEDs)의 수명은 exciton 에너지가 유기물의 결함을 분해시키는 내적 열화 (intrinsic degradation)와 산소, 수분 등의 요인에 의한 외적 열화 (extrinsic degradation)에 기인한다. 외적 열화를 최소화하기 위해서 고진공으로 구성된 inline 설비 (총길이 약 300m)에서 유기 발광 물질을 Heating 하여 기체 상태로 상변화를 시켜 Glass에 성막 시킬 수 있도록 구성되어 있다. 고해상도 제품을 제작하기 위해서는 진공 내에서 Glass와 FMM(Fine Metal Mask)을 ~μm대 수준으로 정렬(alignment) 해야 하며 이를 수행하기 위해서는 허용된 오차 범위에 들어가기 전까지 무한 반복 작업을 실시한다. 현재 광학 시스템은 Glass와 FMM이 멀리 떨어져 있는 거리(대략 ~10 mm)에서 촬영하는 광학계와 그리고, Glass와 FMM를 근접하여 촬영하는 광학계로 구성되어 있다. 첫 번째 광학계는 분해력이 아주 떨어진다, 그 이유는 한 카메라의 한 이미지에서 높이 축으로 10mm 다른 지점을 동시에 촬영해야하기 때문이다. 또한 정확한 정렬상태를 파악하기 힘들다. 두 번째 광학계는 좀 더 놓은 분해력을 가지고 있지만 Glass와 FMM이 높이 축으로 어느 정도 떨어져있는 두 지점을 한 이미지로 촬영하여야하기 때문에 um급 정렬을 위한 충분한 이미지를 획득하기 힘들다. (높은 분해력은 가지는 광학계일수록 짧은 DOF를 가지기 때문이다, 현재의 시스템에서는 긴 거리의 DOF를 요구되기 때문에 분해력이 좋은 광학계를 채택할 수 없다.)
본 발명은 이러한 문제점을 극복하기 위해 높이 축으로 다른 지점에 있는Glass와 FMM를 고 분해력과 고속으로 촬영하여 고정밀(~um급) 정렬을 하는데 목적을 두고 있다.
더 높은 정렬 정밀도를 위해서는 분해력의 증가가 필요하다. 증착을 하기위하여 Glass 성막 부분이 아래를 향하는 Facedown으로(Glass 외곽만 지지하기 때문에 Glass가 처져서 중앙부가 Mask와 접촉 상태임), Glass를 FMM 쪽으로 근접시켜 특정 높이에서 고정하여 측정(measurement)을 한 후, 정렬이 정확할 때 밀착시켜서 성막을 한다. 만일 정렬(Alignment) SPEC을 만족하지 않을 경우 Glass와 FMM이 접촉이 없는 곳으로 이동시킨다. Alignment를 조정 후 다시 측정(measurement)에서 정렬(Alignment)을 확인한다. SPEC 내에 존재 여부를 확인하고 다음 공정을 진행한다. 정렬(Alignment)을 진행하면서 측정(Measurement)과 조정을 다른 위치에 진행하기 때문에 공정 시간이 길어진다. 정렬과 성막을 진행하면서 유기물과 FMM 접촉과 박리가 일어난다. 이로 인해서 Glass 표면에 있는 이물이 FMM에 전사시켜 다른 Glass에 전이 시키는 불량과 정전기로 인한 불량을 유발한다.
또한, Glass와 FMM를 접촉하여 최종 정렬 상태를 검사하고 정렬이 불량할 경우 이탈하고 보정하여 다시 접촉하고 재검사를 진행한다. 이때 양호상태일 경우는 종료하지만 불량할 경우 다시 이탈, 보정 및 재검사를 진행하여야 하는 불편함이있었다. 또한, 각각의 위치로 이동하는 추가 시간과 박리에 의한 정전기를 발생시키는 원인으로 작용하는 불편함이 있었다.
상술한 바와 같은 선행기술들로도 이러한 문제의 해결이 어려울 뿐만 아니라, 측정 공정이나 결과 산출식이 매우 복잡하기 때문에 오차 증폭 요인이 많아 오히려 측정 오차가 커질 수 있는 문제가 있다. 이에 따라, 표면 반사율이 위치에 따라 변화하는 시편의 경우에도 정확하고 신속하게 높이를 측정할 수 있게 해 주면서 도, 산업 현장에의 적용이 용이하도록 경제적인 구성으로 되는 광학 시스템에 대한 개발 요구가 꾸준히 있어 왔다.
등록번호 제10-1196219호(2011.08.09. 공개)
상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 목적은, glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면이 높이 축으로 떨어져 있는 상태에서 고분해능으로 두 지점을 동시에 검사하고 정확하게 위치를 조정하여 접촉하도록 하는 것으로 검사 방법이 간결하고 빠르게 진행되어 시간을 단축할 수 있도록 하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치를 제공하기 위함이다.
또한, 본 발명의 목적은, glass면이 FMM(Fine Metal Mask)면과 반복적으로 접촉이 되면 glass면에 스크래치 또는 파손이 될 수 있어 비접촉 상태에서 검사가 가능하도록 하여 glass면의 파손을 방지하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치를 제공하기 위함이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치에 있어서, 빛을 발생시키는 광원과 광원으로부터 발생된 빛의 경로 방향을 전환하는 제1,2광분할기와 제1,2광분할기에서 경로가 전환된 빛을 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면에 집광하여 조사하여 주는 대물렌즈와 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면에 조사되기 전 광로차(위상차)를 형성하여 각가 집광하여 조사될 수 있도록 하는 파장판과 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면 높이를 실시간 측정할 수 있는 높이측정부와 제1,2광분할기를 통해 분리된 빛을 입사받아 검출하는 복수개로 형성되는 카메라 또는 영상장치로 이루어지는 제1,2검출부 및 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면의 위치를 검출할 수 있도록 하는 갈바노미러부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
갈바노미러부는 복수개의 스캔미러들을 서로 다른 축을 중심으로 회전시켜줌으로써 광 경로의 방향을 수평면 상에서 이동시킬 수 있도록 제1,2갈바노미러로 이루어지되, 입사되는 광의 각도는 45도이며, 평행을 이루도록 하는 것을 특징으로 한다.
갈바노미러부는 제1갈바노미러와 제2갈바노미러의 오차를 보상하기 위한 광 경로 거리변환식을 더 포함하게 되며, 제1,2갈바노미러와 일치하는 직선이 만나는 점(x,y)의 좌표를 나타내고 광 경로 거리 변환 식은
1) y = -tan(90-θ)ㆍx
2) y = tanθㆍx + R
-> x = R/(tan(90-θ) -tanθ)
-> y = R(tan(90-θ)/(tan(90-θ)-tanθ) 이고,
상기 θ는 제1,2갈바노미러의 회전각도, R은 제1,2갈바노미러 중심간의 거리를 나타내며 경로 변화값은 ΔL = R - (x^2+y^2)^1/2 인 것을 특징으로 한다.
제1,2검출부는 높이조절부를 통해 측정된 높이값을 참조하여 이미지 배율을 조절하도록 하는 경로조절부를 더 포함하여 형성되되, 제1,2검출부의 구비되는 수에 따라 경로조절부도 매칭되어 구비되는 것을 특징으로 한다.
각각의 glass면과 FMM면이 위치를 확인하고 위치조절을 할 수 있도록 하는 이동부를 추가로 더 포함할 수 있는 것을 특징으로 한다.
이상 살펴본 바와 같은 본 발명의 효과는, glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면이 원거리 상태에서 높이 축으로 위치가 다른 지점을 동시에 검사하고 검사상태에 따라 위치를 조정한 후 포지셔닝이 완료되면 접촉하도록 하는 것으로 검사 방법이 간결하고 빠르게 진행되어 얼라인 시간을 단축할 수 있도록 하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 효과는, glass면이 FMM(Fine Metal Mask)면과 반복적으로 접촉이 되면 glass면에 스크래치 또는 파손이 될 수 있어 비접촉 상태에서 검사가 가능하도록 하여 glass면의 파손을 방지하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치의 갈바노미러부를 나타낸 도면이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 본 발명의 실시 예들에 의하여 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치을 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치의 갈바노미러부를 나타낸 도면이다.
본 발명은 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치에 관한 것이다.
멀티카메라를 이용하여 높이 축으로 다른 지점을 동시에 측정하여 Glass와 FMM(Fine metal mask)를 정렬하고 검사하는 것으로 멀티카메라를 사용하여 평판 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면의 정렬 표식마크를 동시에 측정하여 정렬 상태를 확인하고, 위치를 정확하게 정렬한 후, glass면과 FMM면을 밀착시켜 증착한 후 정렬 상태에 대해 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치에 관한 것이다.
여기서, 멀티카메라라 함은 2개 이상의 카메라를 적용하는 것을 말하며, 그 수를 제한하지는 않으나, 본 발명의 실시예 등에서는 2개의 카메라 즉, 듀얼카메라를 적용한 예로 설명하고 있다.
본 발명에 의한 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치의 한 실시예를 도시하고 있다. 상기 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치(100)의 기본적인 구성을 보다 구체적으로 설명하자면, 일반적인 광학검사장치(100)와 마찬가지로 광원(110), 제1광분할기(120), 제2광분할기(140), 파장판(180), 제1검출부(150) 및 제2검출부(160)를 포함하여 이루어진다. 이때, 본 발명의 광학검사장치(100)는 높이측정부(130), 경로조절부(190), 갈바노미러부(170)가 더 구비됨으로써, 상기 제1,2검출부(150,160)가 멀티로 구비되어 glass면(200)과 FMM면(300)에서 반사된 빛을 제1,2검출부(150,160)를 통해 비접촉상태(원거리)에서 glass면(200)과 FMM면(300)의 위치를 두 개의 카메라로 동시에 측정하고 조절할 수 있도록 이루어진다.
상기 광원(110)은 빛을 발생시키는 장치로서, 점광원(point light source) 및 점광원에서 나온 빛을 확산시키는 렌즈로 이루어질 수 있고 다양한 종류의 광원들 중 어떤 것을 선택하여 사용하여도 무방하다.
상기 제1광분할기(120)는 상기 광원(110)으로부터 발생된 빛의 경로 방향을 전환해 주는 역할을 한다. 상기 glass면(200)과 FMM면(300)에서 반사되는 빛의 경로 상에 배치되어 분할된 빛을 제1검출부(150)에 전달한다.
상기 제2광분할기(140)는 상기 갈바노미러부(170)으로부터 FMM면의 이미지를 전달하는 빛의 분할하여 제2검출부(160)에 전달해 주는 역할을 한다.
상기 파장판(180)은 편광된 상기 광원(110)이 glass면(200)과 FMM면(300)에 도달하는 빛만 카메라(150, 160)에 도달하는 역할을 하게 한다. 이때 편광판을 통과하지 못한 빛(잡광)은 카메라 앞에 편광판을 설치함으로써 제거 되어, 촬영 이미지의 contrast를 높여 준다. 또한 편광판(180)은 미세 조절을 하여 이미지 contrast를 높일 수 있다.
상기 광학검사장치(100)는 glass면(200)과 FMM면(300)의 높이를 실시간 측정할 수 있는 높이측정부(130)를 포함한다.
또한, 높이측정부(130)를 통해 측정된 높이 값은 사용자가 확인할 수 있도록 제1,2검출부(150,160)를 통해 확인될 수 있거나 디스플레이를 통해 외부로 값이 출력될 수 있도록 한다.
상기 제1,2검출부(150,160)는 제1,2광분할기(120,140)를 통해 분리된 빛을 입사받아 검출하는 카메라 또는 영상장치로 이루어진다.
상기 제1,2검출부(150,160)는 복수개가 구비될 수 있고, 구비되는 수에 따라 각각의 경로조절부(190)를 더 포함하여 형성된다.
상기 제1,2검출부(150,160)는 멀티로 구비되면 상기 경로조절부(190) 또한 제1,2검출부(150,160)와 같은 멀티로 구비하도록 한다.
상기 경로조절부(190)는 상기 높이측정부(130)를 통해 측정된 높이 값을 참조하여 상기 제1,2검출부(150,160) 각각의 영상(glass면과 FMM면)의 초점이 되도록 광경로차를 조정하는 장치이다.
상기 제1검출부(150)는 제1경로조절부(191)가 구비되고 상기 제2검출부(160)는 제2경로조절부(192)가 구비되도록 한다.
상기 갈바노미러부(170)는 복수개의 스캔 미러(scan mirror)들을 서로 다른 축을 중심으로 회전시켜 줌으로써 광 경로의 방향을 수평면 상에서 이동시킬 수 있게 구성된다(광 경로차를 조절할 수 있다).
상기 제1갈바노미러(171)에 입사되는 광의 초기 각도(incidence angle)는 45도이며, 제2갈바노미러(172)와는 평행을 이루도록 한다.
상기 제2갈바노미러(172)와 광이 만나는 점이 제1갈바노미러(171)의 중심을 중심으로 하는 원을 그려보면, 원의 크기가 경로가 되는 것이다.
상기 제1,2갈바노미러(171,172)의 초기 45도를 벗어남에 따라 광 경로의 길이가 달라지며 광 경로의 길이 변화를 통해 glass면(200)과 FMM면(300)의 위치를 검출할 수 있도록 하는 것이다.
이때, 상기 갈바노미러부(170)에는 제1갈바노미러(171)과 제2갈바노미러(172)의 오차를 보상하기 위한 광 경로 거리변환식을 더 포함하게 된다.
이하에서, 보다 상세하게 설명하면, 상기 제1,2갈바노미러(171,172)와 일치하는 직선이 만나는 점(x,y)의 좌표를 나타내고 광 경로 거리 변환식은 하기 식과 같다.
1) y = -tan(90-θ)ㆍx
2) y = tanθㆍx + R
-> x = R/(tan(90-θ) -tanθ)
-> y = R(tan(90-θ)/(tan(90-θ)-tanθ)
여기서, θ는 제1,2갈바노미러(171,172)의 회전각도, R은 제1,2갈바노미러(171,172) 중심간의 거리를 나타낸다.
경로 변화값은 ΔL = R - (x^2+y^2)^1/2가 된다.
다음 표는 R = 25mm일때, 제1,2갈바노미러(171,172) 각도에 따라 경로 변화 값 ΔL을 표현한 그래프를 도시한다.
Figure 112021005749653-pat00001
상기 광학검사장치(100)는 광원(110)으로부터 발생된 편광 빛을 제1 광분할기(120)및 제2광분할기(140)를 통해 각각의 glass면(200)과 FMM면(300)에서 반사되는 빛의 경로를 전환하고 1/4λ 파장판(waveplate)(180)을 통해 경로가 전환된 빛을 갈바노미러부(170)를 통해 집광 및 조사하며 각각의 glass면(200)과 FMM면(300)에 조사하도록 하여 각각의 위치를 제1,2검출부(150,160)를 통해 위치를 검출할 수 있도록 한다. 제1,2검출부(150,160)를 앞에 편광판을 삽입한다.
이때, 제1,2검출부(150,160)는 높이측정부(130)를 통해 실시간 높이값을 각각의 경로조절부(190)로 전달하고 초점위치를 조절할 수 있도록 한다.
또한, 갈바노미러부(170)를 실시간 높이 측정부(130)는 제1,2갈바노미러(171, 172)를 설정된 값으로 스캔하여 glass면(200)과 FMM면(300)의 위치를 측정할 수 있도록 하는 것이다.
각각의 glass면(200)과 FMM면(300)이 위치를 확인하고 위치조절을 할 수 있도록 하는 이동부(미도시)를 추가로 더 포함할 수 있도록 한다.
상기 glass면(200)과 FMM면(300)은 수직방향으로 정밀하게 위치가 일정하도록 원거리 상태에서 포지셔닝이 가능해야하며 정밀하게 포지셔닝이 된 상태에서 각각의 glass면(200)과 FMM면(300)이 접촉될 수 있도록 한다.
본 발명의 광학검사장치(100)는 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면이 비접촉된(원거리) 상태에서 위치를 검사하고 검사상태에 따라 위치를 조정하여 상태확인 후 포지셔닝이 완료되면 접촉하도록 하는 것으로 검사 방법이 간결하고 빠르게 진행되어 시간을 단축할 수 있도록 하는 듀얼카메라를 가지는 고속·고정밀 얼라인 광학검사장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 효과는, glass면이 FMM(Fine Metal Mask)면과 반복적으로 접촉이 되면 glass면에 스크래치 또는 파손이 될 수 있어 비접촉 상태에서 검사가 가능하도록 하여 glass면의 파손을 방지하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치를 제공할 수 있다.
본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다. 더불어, 상술하는 과정에서 기술된 구성의 작동순서는 반드시 시계열적인 순서대로 수행될 필요는 없으며, 각 구성 및 단계의 수행 순서가 바뀌어도 본 발명의 요지를 충족한다면 이러한 과정은 본 발명의 권리범위에 속할 수 있음은 물론이다.
100 : 광학검사장치 110 : 광원
120 : 제1광분할기 130 : 높이측정부
140 : 제2광분할기 1500 : 제1검출부
160 : 제2검출부 170 : 갈바노미러부
180 : 대물렌즈 181 : 파장판
190 : 이동부 200 : glass면
300 : FMM(Fine Metal Mask)면

Claims (5)

  1. 광학검사장치에 있어서,
    빛을 발생시키는 광원;과
    상기 광원으로부터 발생된 빛의 경로 방향을 전환하는 제1,2광분할기;와
    상기 제1,2광분할기에서 경로가 전환된 빛을 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면에 집광하여 조사하여 주는 대물렌즈;와
    상기 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면에 조사되기 전 광로차(위상차)를 형성하여 각가 집광하여 조사될 수 있도록 하는 파장판;과
    상기 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면 높이를 실시간 측정할 수 있는 높이측정부;와
    상기 제1,2광분할기를 통해 분리된 빛을 입사받아 검출하는 복수개로 형성되는 카메라 또는 영상장치로 이루어지는 제1,2검출부; 및
    상기 glass면과 FMM(Fine Metal Mask)면의 위치를 검출할 수 있도록 하는 갈바노미러부;를 포함하고,
    상기 검출부는 높이조절부를 통해 측정된 높이값을 참조하여 이미지 배율을 조절하도록 상기 검출부의 개수에 따라 매칭되어 구비되는 경로조절부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 갈바노미러부는 복수개의 스캔미러들을 서로 다른 축을 중심으로 회전시켜줌으로써 광 경로의 방향을 수평면 상에서 이동시킬 수 있도록 제1,2갈바노미러로 이루어지되,
    입사되는 광의 각도는 45도이며, 평행을 이루도록 하는 것을 특징으로 하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 갈바노미러부는 제1갈바노미러와 제2갈바노미러의 오차를 보상하기 위한 광 경로 거리변환식을 더 포함하게 되며,
    상기 제1,2갈바노미러와 일치하는 직선이 만나는 점(x,y)의 좌표를 나타내고 광 경로 거리 변환 식은
    1) y = -tan(90-θ)ㆍx
    2) y = tanθㆍx + R
    -> x = R/(tan(90-θ) -tanθ)
    -> y = R(tan(90-θ)/(tan(90-θ)-tanθ) 이고,
    상기 θ는 제1,2갈바노미러의 회전각도, R은 제1,2갈바노미러 중심간의 거리를 나타내며 경로 변화값은 ΔL = R - (x^2+y^2)^1/2 인 것을 특징으로 하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치
  4. 삭제
  5. 제 1항에 있어서,
    각각의 glass면과 FMM면이 위치를 확인하고 위치조절을 할 수 있도록 하는 이동부;를 추가로 더 포함할 수 있는 것을 특징으로 하는 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치
KR1020210006188A 2021-01-15 2021-01-15 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치 KR102477767B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210006188A KR102477767B1 (ko) 2021-01-15 2021-01-15 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210006188A KR102477767B1 (ko) 2021-01-15 2021-01-15 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220103863A KR20220103863A (ko) 2022-07-25
KR102477767B1 true KR102477767B1 (ko) 2022-12-16

Family

ID=82608839

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210006188A KR102477767B1 (ko) 2021-01-15 2021-01-15 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102477767B1 (ko)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080065062A (ko) * 2007-01-08 2008-07-11 삼성전기주식회사 높이 측정 장치 및 방법
KR101196219B1 (ko) 2010-02-01 2012-11-05 주식회사 고영테크놀러지 3차원 형상 측정장치의 높이 측정방법 및 이를 이용한 3차원 형상 측정장치
JP5905729B2 (ja) * 2011-10-26 2016-04-20 Dmg森精機株式会社 変位検出装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220103863A (ko) 2022-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108010875B (zh) 基板校准装置以及检测系统
KR101782336B1 (ko) 검사 장치 및 검사 방법
KR101808388B1 (ko) 프로브 장치 및 프로브 방법
US20130215258A1 (en) Device for Noncontact Determination of Edge Profile at a Thin Disk-Shaped Object
US20130114081A1 (en) Inspection apparatus and inspection method
US20100204820A1 (en) Apparatus and method for substrate handling
US20140160267A1 (en) Image Pickup Apparatus
KR101917131B1 (ko) 광학 검사 장치
WO2016116036A1 (zh) 消杂光双光路光学定中仪
CN106290390B (zh) 缺陷检测装置及方法
CN104181131A (zh) 红外调制光致发光二维成像光路自动定位校准装置
KR20190100616A (ko) 표면 결함 검사 장치
JP2009063314A (ja) 基板位置検出装置、基板位置調整装置、エリプソメータおよび膜厚測定装置
CN108010855B (zh) 用于检测基板上的标记的装置、设备和方法
TWI627725B (zh) 標記位置校正裝置與方法
WO2017206755A1 (zh) 调焦调平测量装置及方法
KR102477767B1 (ko) 멀티카메라를 이용한 고속고정밀 얼라인용 광학검사장치
JP5268749B2 (ja) 基板状態検査方法及びレーザ加工装置並びにソーラパネル製造方法
US10769769B2 (en) Dual mode inspector
US20220291140A1 (en) Defect inspection device and defect inspection method
JP6415948B2 (ja) 形状等測定装置
KR102257311B1 (ko) 분광 측정 장치의 측정 헤드 정렬 장치
TWI518300B (zh) 光學校正裝置與光學校正方法
US9594230B2 (en) On-axis focus sensor and method
JP2010253506A (ja) レーザ加工方法、レーザ加工装置及びソーラパネル製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant