TWM523019U - 滑台裝置 - Google Patents

Description

滑台裝置

本新型係關於一種滑台裝置。

滑台裝置由於具有線性移動的特性，被廣泛應用於工業界機台上，並且需進行線性移動對工作機構之承載，使該工作機構藉由線性滑軌帶動而進行直線移動，利於校準以及操作作業的進行。

滑台裝置主要具有一線性軌道、一滑動單元以及一承載單元。滑動單元係滑設於線性軌道上，承載單元係固設於滑動單元上。當一驅動模組驅動滑動單元在線性軌道之軌道槽移動時，承載單元上之工作機構係被帶動而進行線性移動。

在滑動過程中，滑動單元與線性軌道之軌道槽之間會設置許多珠體進行循環運動，藉著珠體的循環運動就可使滑動單元穩定地在軌道槽上移動。據此，珠體在軌道槽內的潤滑效果就顯得特別重要，若潤滑效果不佳，則會使得滑動的效能削減許多，甚至會使元件受到損傷。為達到潤滑效果，會在珠體與軌道槽之間的空隙設置一油體，而由油體來提供珠體與軌道槽之潤滑。因此，空隙的設計對於潤滑效果有著重的影響。

因此，如何提供一種滑台裝置，能對上述空隙有著合適的設計，以提升整體的潤滑效果並能延長元件的使用壽命，實為當前重要課題之一。

有鑒於上述課題，本新型之一目的在於提供一種滑台裝置，其具有合適的空隙設計，以提升整體的潤滑效果並能延長元件的使用壽命。

為達上述目的，本新型之一種滑台裝置包含一線性軌道、一滑動單元以及複數珠體。線性軌道係具有兩軌道槽。滑動單元係滑設於線性軌道上並具有兩珠體槽，該等珠體槽係分別對應該等軌道槽設置。該等珠體係容置於該等軌道槽與該等珠體槽之間。其中一珠體與軌道槽之間係形成一空隙，空隙之一剖面之一最大水平距離係為珠體之一直徑之2%與6%之間。空隙之剖面之一最大垂直距離係為珠體之一直徑之30%與50%之間。另外，珠體與對應的珠體槽之間也形成另一空隙，另該空隙之一剖面之一最大水平距離係為該珠體之一直徑之2%與6%之間，且另該空隙之該剖面之一最大垂直距離係為該珠體之一直徑之30%與50%之間

在一實施例中，該等空隙之該最大垂直距離係更為該珠體之該直徑之35%與45%之間。

在一實施例中，該等軌道槽係由線性軌道之一本體形成。

在一實施例中，線性軌道係具有一本體及二軌道件，該等軌道槽係由該等軌道件嵌設該本體而形成。

在一實施例中，該等軌道件與本體之材料不同。

在一實施例中，該等軌道件之材質包含金屬、陶瓷、複合材料或其組合。

如上所述，依據本新型之滑台裝置係針對珠體與軌道槽及珠體槽之間所形成的二空隙有以下設計條件，即該等空隙之一剖面之一最大水平距離為珠體之一直徑之2%與6%之間，並且空隙之剖面之一最大垂直距離係為珠體之一直徑之30%與50%之間。經由驗證，藉由上述空隙設計，可使珠體與軌道槽及珠體槽之間的潤滑效果最佳化。若最大水平距離與最大垂直距離過大，則會造成油體積存於空隙內而不易流動且易積存油污；若最大水平距離與最大垂直距離過小，則會造成油體被推擠至軌道槽之相對二端，而無法再回流到空隙來潤滑。上述不利的情況皆會造成潤滑效果不佳甚至元件損害。因此，本新型之滑台裝置藉由上述合適的空隙設計，能提升整體的潤滑效果並能延長元件的使用壽命。

圖1為本新型一實施例之一滑台裝置1的分解示意圖。如圖1所示，滑台裝置1包含一線性軌道11、一滑動單元12以及複數珠體13。當然，滑台裝置1可更包含一驅動模組，但由於驅動模組並非本新型之技術特徵之所在，故為清楚顯示其他元件而未繪示於圖中。滑動單元12係滑設於線性軌道11上。驅動模組係與滑動單元12連接，並驅動滑動單元12於線性軌道11移動。驅動模組係例如至少具有一馬達（圖未顯示）及一螺桿，馬達驅動螺桿並帶動滑動單元12於線性軌道11上移動。由於此部分技術可由熟知該項技術領域者所了解，故於此不再贅述。需注意者，本實施例不限制滑台裝置1的用途與領域，只要其係用於承載一工作機構以使其進行線性移動。

圖2為線性軌道11之一分解示意圖，圖3為線性軌道11之一剖面示意圖。請參照圖1、圖2及圖3所示，線性軌道11具有二軌道槽111，於此，軌道槽111係設置於線性軌道11之內側並且相對設置。在本實施例中，線性軌道11係具有一本體112及二軌道件113，該等軌道槽111係由該等軌道件113嵌設本體112而形成。該等軌道件113與本體112之材料可不相同。其中，由於本體112不需負責摩耗的目的，故其可使用輕金屬作為材料，藉此可減輕產品的重量並提升產品競爭力。而軌道件113係負責摩耗目的，因此其材質可例如包含金屬、陶瓷、複合材料或其組合、或是其他耐摩耗的材質，藉此可提升產品的耐摩耗能力。

然而，在其他實施例中，軌道槽111可有其他形成態樣。例如圖4所示，其係為另一實施例之滑台裝置1a的剖面示意圖。如圖4所示，在本實施例中，滑台裝置1a之線性軌道11a之軌道槽111係由線性軌道11a之一本體112a形成。

圖5為本新型一實施例之滑台裝置1之一剖面示意圖，圖6為珠體13附近之一放大示意圖。請參照圖1及圖5、圖6所示，滑動單元12係滑設於線性軌道11上並具有兩珠體槽121，該等珠體槽121係分別對應該等軌道槽111設置。於此，珠體槽121係設置於滑動單元12之外側。珠體槽121與軌道槽111係共同形成珠體之通道，珠體13係容置於該等軌道槽111與該等珠體槽121之間而運動。

如圖6所示，珠體13與對應的軌道槽111之間係形成一空隙G，用於潤滑之一油體（圖未顯示）可在空隙G內流動，以達到潤滑珠體13、軌道槽111及珠體槽121之功效。其中，空隙G之一剖面（例如圖6所示）之一最大水平距離A係為珠體13之一直徑D之2%與6%之間，且空隙G之剖面之一最大垂直距離B係為珠體13之一直徑D之30%與50%之間。

在本實施例中，最大水平距離A係指以一條水平線所能測得空隙G的最大距離，該條水平線例如是通過珠體13之中心的水平線，而最大水平距離A例如是從珠體13最左邊的端點到軌道槽111最內凹的端點。

在本實施例中，最大垂直距離B係指以一條垂直線所能測得空隙G的最大距離，最大垂直距離B例如是珠體13與軌道槽111在空隙G內的上下二接觸點之間的距離。較佳者，空隙G之最大垂直距離B係更為珠體13之直徑D之35%與45%之間。

需注意者，在本實施例中，珠體13與對應的珠體槽121之間亦形成一空隙，且該空隙之一剖面（例如圖6所示）之一最大水平距離係為珠體13之一直徑D之2%與6%之間，且該空隙之剖面之一最大垂直距離係為珠體13之一直徑D之30%與50%之間。由於本實施例係以對稱為例，因此珠體13與對應的珠體槽121所形成之空隙係與空隙G相同。

藉由上述空隙G之設計，可使得本新型之潤滑用之油體能夠回補同時能循環的流動，進而提升整體的潤滑效果。

綜上所述，依據本新型之滑台裝置係針對珠體與軌道槽之間所形成的空隙有以下設計條件，即空隙之一剖面之一最大水平距離為珠體之一直徑之2%與6%之間，並且空隙之剖面之一最大垂直距離係為珠體之一直徑之30%與50%之間。經由驗證，藉由上述空隙設計，可使珠體與軌道槽之間的潤滑效果最佳化。若最大水平距離與最大垂直距離過大，油體將因受附著力影響，而導致油體受珠體回復塗佈的特性中斷，且會造成油體積存於空隙內而不易流動且易積存油污；若最大水平距離與最大垂直距離過小，則會造成油體被推擠至軌道槽之相對二端，而無法再回流到空隙來潤滑。上述不利的情況皆會造成潤滑效果不佳甚至元件損害。因此，本新型之滑台裝置藉由上述合適的空隙設計，具備較佳的油體回填作用與較高的含油空間，進而能提升整體的潤滑效果並能延長元件的使用壽命。

以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本新型之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。

1、1a‧‧‧滑台裝置

11、11a‧‧‧線性軌道

111‧‧‧軌道槽

112、112a‧‧‧本體

113‧‧‧軌道件

12‧‧‧滑動單元

121‧‧‧珠體槽

13‧‧‧珠體

A‧‧‧最大水平距離

B‧‧‧最大垂直距離

D‧‧‧直徑

G‧‧‧空隙

圖1為本新型一實施例之一滑台裝置的分解示意圖。

圖2為本新型一實施例之線性軌道之一分解示意圖。

圖3為本新型一實施例之線性軌道之一剖面示意圖。

圖4為本新型另一實施例之滑台裝置的剖面示意圖。

圖5為本新型一實施例之滑台裝置之一剖面示意圖。

圖6為本新型一實施例之珠體附近之一放大示意圖。

111‧‧‧軌道槽

112‧‧‧本體

113‧‧‧軌道件

121‧‧‧珠體槽

13‧‧‧珠體

A‧‧‧最大水平距離

B‧‧‧最大垂直距離

D‧‧‧直徑

G‧‧‧空隙

Claims (6)

1. 一種滑台裝置，包含： 一線性軌道，係具有兩軌道槽； 一滑動單元，係滑設於該線性軌道上並具有兩珠體槽，該等珠體槽係分別對應該等軌道槽設置；以及 複數珠體，係容置於該等軌道槽與該等珠體槽之間， 其中一珠體與對應的該軌道槽以及該珠體槽之間係各形成一空隙，該等空隙之一剖面之一最大水平距離係為該珠體之一直徑之2%與6%之間，該空隙之該剖面之一最大垂直距離係為該珠體之一直徑之30%與50%之間。
2. 如申請專利範圍第1項所述之滑台裝置，其中該空隙之該最大垂直距離係更為該珠體之該直徑之35%與45%之間。
3. 如申請專利範圍第1項所述之滑台裝置，其中該等軌道槽係由該線性軌道之一本體形成。
4. 如申請專利範圍第1項所述之滑台裝置，其中該線性軌道係具有一本體及二軌道件，該等軌道槽係由該等軌道件嵌設該本體而形成。
5. 如申請專利範圍第4項所述之滑台裝置，其中該等軌道件與該本體之材料不同。
6. 如申請專利範圍第4項所述之滑台裝置，其中該等軌道件之材質包含金屬、陶瓷、複合材料或其組合。