TWM517951U - 致動器及相機模組 - Google Patents

Description

致動器及相機模組

本新型是有關於一種致動器及相機模組，特別是關於一種可產生線性而均勻之作用力且能進一步縮小高度的相機模組。

由於科技的進步，使得數位相機的體積日益縮小，而目前眾多小型電子裝置，如行動電話，幾乎都建置有數位攝像之功能，這些都歸功於鏡頭單元之微小化。而現今所採用的微型鏡頭普遍被使用最多的是音圈馬達(VCM)，其利用線圈、磁鐵以及彈片的組合來承載一鏡頭於攝像光軸方向進行前後移動，以達到自動對焦或變焦的功能，且對於攝像品質及功能的要求也逐漸提高。例如：千萬畫素、防手震等功能，用以區隔高階相機與低階的不同。

在一個由鏡頭單元以及影像模組所構成的光學系統中，例如相機或攝影機等之光學系統，常會因為外力因素或是手持相機或攝影機時的抖動，而造成光路徑的震動偏移並使得影像模組上的成像不穩定，進而導致所拍攝 到的影像模糊不清。最常見的解決方式，就是對此類因震動所造成的影像模糊現象提供一補償機制，來使鏡頭單元所擷取到的影像清晰化，而此種補償機制可以是數位補償機制或是光學補償機制。其中所謂的數位補償機制，就是對影像模組所擷取到的數位影像資料透過軟體進行分析與處理，以獲得較為清晰的數位影像，這樣的方式也常被稱為數位防震機制。至於光學補償機制，則通常是在鏡頭單元或是影像補償模組上設置震動補償裝置，而這樣的方式也常被稱為光學防震機制。

一般傳統的光學防震機制，其利用直線條狀之金屬鋼絲構成的可撓部來將一上座體承載於一具有影像感測器之電路基板上方。此鏡頭單元包含鏡頭以及鏡頭保持部。當鏡頭單元為可變焦或對焦之鏡頭組時，鏡頭單元可以相對於上座體進行某一方向之移動。當有震動發生時，鏡頭單元與電路基板兩者之間會產生相對位移。此時，透過相對位移感測器以及位置移動偵測器可將鏡頭單元與電路基板間的X軸與Y軸的位移量傳送到一防震控制部，控制一移動驅動部依其位移量驅動鏡頭單元與電路基板作相對應之補償運動，以防止影像感測器因震動產生的模糊影像。然而，此種結構會因為防震控制部以及移動驅動部之配置方式而直接增加了整體體積的大小，使整體X-Y軸平行於鏡頭單元之表面無法更進一步縮小面積。

另一種習知的光學防震機制，其第一線圈與第二線圈分別設置於磁性件的下邊與側邊，此種結構雖然可 產生防震效果，然而其所產生之磁力呈分散狀態，而且其所產生之作用力用以位移鏡頭單元的平衡程度有限。

由上述可知，目前已知的光學防震機制，大多牽涉到複雜或是大體積的笨重機構或元件，因此存在結構複雜、組裝困難、成本較高、高度無法進一步縮小或者磁力過於分散的缺點，故相關業者均在尋求其解決之道。

因此，本新型提供一種致動器及相機模組，其第一線圈與第二線圈可共用一顆特殊形狀的磁性件，此特殊形狀的磁性件可達到磁力集中的效果。再者，第一線圈、第二線圈及磁性件之相對位置的擺設可減少整體模組的高度。此外，其利用特殊形狀的磁性件結合第一線圈、第二線圈及磁性件之相對配置，使同方向之兩個致動器所產生的作用力相互彌補，進而讓作用力較為線性且均勻。

依據本新型之一實施方式為一種致動器，其包含第一線圈以及磁性件。其中第一線圈具有一第一部與一第二部，第一部連接第二部。此外，磁性件包含一第一側面、一第二側面及一第一磁極，第一側面與第二側面彼此相對傾斜且相鄰第一磁極。第一磁極對應第一線圈，且第一側面與第二側面分別對應第一線圈之第一部與第二部。

藉此，本新型之致動器利用特殊形狀的磁性件充磁，進而達到磁力集中的效果。

依據前述實施方式之其他實施例如下：前述磁性件可包含第二磁極，第一磁極與第一線圈相隔一第一間距，第二磁極與第一線圈則相隔一第二間距。第一間距小於第二間距。前述第一側面可為平面狀或弧面狀，而第二側面亦可為平面狀或弧面狀。再者，前述第一磁極可具有一頂表面，此頂表面連接第一側面與第二側面。頂表面之延伸方向與第一側面之延伸方向相交一第一傾斜角，且頂表面之延伸方向與第二側面之延伸方向相交一第二傾斜角。前述第一傾斜角等於第二傾斜角。此外，前述第一側面與第二側面之間的距離朝第一線圈之方向逐漸縮小。前述致動器可用以自動對焦或防手震，其中第一線圈通以一第一電流，此第一電流受磁性件影響產生一第一作用力，令磁性件朝第一作用力之方向位移一偏移量。

依據本新型之另一實施方式為一種致動器，其包含相對應之二第一線圈以及相對應之二磁性件。各第一線圈具有一第一部與一第二部，第一部連接第二部。而各磁性件包含一第一側面、一第二側面、一第一磁極及一磁通，第一側面與第二側面彼此相對傾斜且相鄰第一磁極。第一磁極對應其中一第一線圈，且第一側面與第二側面分別對應其中一第一線圈之第一部與第二部。此外，各第一線圈通以一第一電流，此第一電流受其中一磁通影響而令各磁性件位移。

藉此，本新型之致動器係透過特殊形狀的磁性件以及第一線圈與磁性件之相對配置使同方向之兩個致動 器所產生的作用力相互彌補，進而讓作用力較為線性且均勻。

依據前述實施方式之致動器，其中二磁性件彼此連動。二第一線圈之二第一電流受二磁性件影響分別產生對應之二第一作用力，令二磁性件朝二第一作用力之總和方向位移。

依據本新型之又一實施方式為一種相機模組，其用以自動對焦或防手震。此相機模組包含相對應之二致動器以及一第二線圈。各致動器包含第一線圈與磁性件。第一線圈具有一第一部與一第二部，第一部連接第二部，第一線圈通以一第一電流。再者，磁性件包含一第一側面、一第二側面、一第一磁極以及一磁通。第一側面與第二側面彼此相對傾斜且相鄰第一磁極，第一磁極對應第一線圈，且第一側面與第二側面分別對應第一線圈之第一部與第二部。第一電流受磁通影響產生一第一作用力，令磁性件朝第一作用力之方向位移。此外，第二線圈包含相對應之二作用部，二作用部分別對應二致動器。第二線圈通以一第二電流，二作用部之第二電流的流向相反，且二作用部之第二電流受二磁通影響分別產生對應之二第二作用力，令第二線圈朝二第二作用力之總和方向位移。

藉此，本新型之相機模組係透過致動器中殊形狀的磁性件對應適當的第一線圈電流控制，並透過二致動器之相對配置，使同方向之兩個致動器所產生的作用力相互彌補，進而讓作用力較為線性且均勻。此外，第一線 圈、第二線圈及磁性件之相互配置的結構可減少整體相機模組的高度，相當適合應用於薄型的需求當中。

依據前述實施方式之其他實施例如下：前述第二線圈可位於二致動器之間。前述各磁性件可包含一第二磁極，此第二磁極對應第二線圈。前述第一磁極與第一線圈可相隔一第一間距，而第二磁極與第一線圈則相隔一第二間距。第一間距小於第二間距。另外，前述第一側面可為平面狀或弧面狀，且第二側面亦為平面狀或弧面狀。前述第一側面與第二側面之間的距離可朝第一線圈之方向逐漸縮小。此外，前述相機模組可包含一鏡頭單元，此鏡頭單元對應第二磁極且連接第二線圈，鏡頭單元受第二線圈連動位移。前述相機模組可包含一座體、一彈動裝置以及一控制電路。其中座體承載各致動器且連接各第一線圈。彈動裝置連接於座體，其包含上彈片、下彈片以及彈線。上彈片連接鏡頭單元。下彈片亦連接鏡頭單元，且鏡頭單元設於上彈片與下彈片之間。彈線受座體連動位移。控制電路則設於座體且電性連接第二線圈，控制電路可控制第二電流的大小與方向。再者，前述第一磁極具有一頂表面，此頂表面連接第一側面與第二側面。頂表面之延伸方向與第一側面之延伸方向相交一第一傾斜角，而頂表面之延伸方向與第二側面之延伸方向則相交一第二傾斜角。前述第一傾斜角可等於第二傾斜角。

100‧‧‧相機模組

110‧‧‧外殼

200‧‧‧致動器

210‧‧‧第一線圈

212‧‧‧第一部

214‧‧‧第二部

220、220a、220b‧‧‧磁性件

220c、220d、220e、220f‧‧‧磁性件

222、222a、222b‧‧‧第一側面

222c、222d、222e、222f‧‧‧第一側面

223、223b、223c‧‧‧頂表面

223d‧‧‧頂表面

224、224a、224b‧‧‧第二側面

224c、224d、224e、224f‧‧‧第二側面

226‧‧‧第一磁極

228‧‧‧第二磁極

300‧‧‧第二線圈

310‧‧‧作用部

400‧‧‧鏡頭單元

410‧‧‧鏡頭

420‧‧‧鏡頭載座

500‧‧‧座體

510‧‧‧上座體

520‧‧‧下座體

600‧‧‧彈動裝置

610‧‧‧上彈片

620‧‧‧彈線

630‧‧‧下彈片

700‧‧‧控制電路

θ 1‧‧‧第一傾斜角

θ 2‧‧‧第二傾斜角

B1、B2‧‧‧磁通

S、N‧‧‧磁極

D1‧‧‧第一間距

D2‧‧‧第二間距

I1‧‧‧第一電流

I2‧‧‧第二電流

○、×‧‧‧電流流向

F1‧‧‧第一作用力

F2‧‧‧第二作用力

第1圖繪示本新型之一實施方式之相機模組的立體示意圖。

第2圖繪示第1圖之相機模組的爆炸圖。

第3圖繪示第1圖之局部剖視圖。

第4圖繪示第1圖之剖線4-4的剖視圖。

第5圖繪示第4圖一實施例之電流與作用力的示意圖。

第6A圖繪示本新型之另一實施例之磁性件的示意圖。

第6B圖繪示本新型之又一實施例之磁性件的示意圖。

第6C圖繪示本新型之再一實施例之磁性件的示意圖。

第6D圖繪示本新型之另一實施例之磁性件的示意圖。

第6E圖繪示本新型之又一實施例之磁性件的示意圖。

第6F圖繪示本新型之再一實施例之磁性件的示意圖。

第7圖繪示本新型之相機模組於自動對焦之作用力與位移量的關係圖。

第8圖繪示本新型之相機模組於防手震之作用力與位移量的關係圖。

以下將參照圖式說明本新型之複數個實施例。為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本新型。也就是說，在本新型部分實施例中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣 用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之；並且重複之元件將可能使用相同的編號表示之。

請一併參閱第1~5圖。第1圖繪示本新型之一實施方式之相機模組100示意圖。第2圖繪示第1圖之相機模組100的爆炸圖。第3圖繪示第1圖之局部剖視圖。第4圖繪示第1圖之剖線4-4的剖視圖。第5圖繪示第4圖一實施例之電流與作用力的示意圖。如圖所示，相機模組100係用以自動對焦或防手震，且相機模組100包含一外殼110、四個致動器200、一個第二線圈300、鏡頭單元400、座體500、彈動裝置600以及控制電路700。

外殼110設於致動器200、第二線圈300、座體500以及彈動裝置600之外側，且外殼110具有一孔洞，鏡頭單元400可穿設於孔洞中。四個致動器200當中有兩組相對應之二致動器200，此兩組相對應之二致動器200的對應方向分別為X軸方向與Y軸方向；換句話說，此四個致動器200兩兩相對，且兩組相對應之二致動器200所對應的方向相互垂直。本實施例之四個致動器200環繞成正方形。當然，其亦可環繞成圓形或其它對稱之正多邊形。各致動器200包含第一線圈210與磁性件220。其中第一線圈210具有一第一部212與一第二部214，第一部212連接第二部214。再者，磁性件220可為徑向充磁磁鐵，且磁性件220包含第一側面222、頂表面223、第二側面224、第一磁極226、第二磁極228以及磁通 B1、B2。第一側面222與第二側面224彼此相對傾斜且相鄰第一磁極226。第一磁極226對應第一線圈210，且第一側面222與第二側面224分別對應第一線圈210之第一部212與第二部214。而頂表面223則連接第一側面222與第二側面224。頂表面223之延伸方向與第一側面222之延伸方向相交一第一傾斜角θ 1，且頂表面223之延伸方向與第二側面224之延伸方向相交一第二傾斜角θ 2。此第一傾斜角θ 1可大於0度且小於90度，而第二傾斜角θ 2亦可大於0度且小於90度。而本實施例之第一傾斜角θ 1為23度，而且第一傾斜角θ 1等於第二傾斜角θ 2。第一側面222、頂表面223以及第二側面224均為平面狀。第一側面222與第二側面224之間的距離朝第一線圈210之方向逐漸縮小。此外，第一磁極226為磁極S，第二磁極228為磁極N。第一磁極226與第一線圈210可相隔一第一間距D1，而第二磁極228與第一線圈210則相隔一第二間距D2，第一間距D1小於第二間距D2。當然，第一磁極226與第二磁極228的磁性可相反；換句話說，第一磁極226可為磁極N，第二磁極228可為磁極S。不同磁極所產生的磁通方向相異，其可搭配對應線圈的電流以產生所需方向與大小之作用力，進而藉由作用力來控制相機模組100的防手震效果。另外，透過相對應且特殊形狀的二磁性件220所產生的磁通結合相對應之二第一線圈210所產生的電流，可以使同方向之兩個致動器200的作用力相互彌補，進而讓作用力較為線性且均勻。

第二線圈300位於相對應的二致動器200之間，且第二線圈300對應磁性件220的第二磁極228。第二線圈300具有四個作用部310，此四個作用部310環狀連結而呈方形，且四個作用部310分別對應四個致動器200。參閱第4圖，就單軸方向(X軸方向或Y軸方向)而言，相對應的二致動器200之間設有相對應之二作用部310，此二作用部310均通有第二電流I2，二作用部310的第二電流I2彼此大小相同而方向相反。由此可知，各第一線圈210與第二線圈300之間共用同一個凸出形狀的磁性件220，此共用的好處在於能夠大幅縮小整個相機模組100的體積，進而節省了成本並減輕重量。此外，由於四個作用部310彼此係一體連結，因此四個作用部310均為相同的位移方向與位移距離。值得一提的是，以單軸方向而言(X或Y軸)，由於磁性件220設於第一線圈210與第二線圈300之間，磁性件220、第一線圈210及第二線圈300沿Z軸方向的高度不會受到彼此之間距離的影響，因此這種橫向的三明治結構可透過位置的擺放而減少整體相機模組100的高度，其非常適合應用在薄型相機模組100的結構中。

參閱第4圖，圖中電流流向○代表電流流出紙面，電流流向×代表電流流入紙面。磁性件220的第一磁極226沿X軸方向朝外，第二磁極228則沿X軸方向朝內；換句話說，相對應的二磁性件220彼此的磁極N相對，且二磁性件220為鏡像對稱。致動器200之磁性件 220會產生磁通B1與磁通B2。其中磁通B1作用於第一線圈210，而磁通B2作用於第二線圈300。詳細地說，第一線圈210通以一第一電流I1，第一電流I1受磁性件220的磁通B1影響而產生一第一作用力F1，令磁性件220朝第一作用力F1的方向位移一偏移量，此偏移量可以讓致動器200達到防手震的效果。若以相對應之二第一線圈210與二磁性件220而言，二磁性件220係彼此連動，且二第一線圈210之二第一電流I1受二磁性件的磁通B1影響分別產生對應之二第一作用力F1，令二磁性件220朝二第一作用力F1之總和方向位移。因此本實施例透過第一電流I1的控制可以補償因手震所產生的位移而達到防手震之效果。另外，第二線圈300對應磁性件220的第二磁極228並通以第二電流I2，第二電流I2受磁性件220的磁通B2影響而產生一第二作用力F2，令第二線圈300朝第二作用力F2的方向位移另一偏移量，此另一偏移量可以讓致動器200實現自動對焦的效果。值得一提的是，本結構可利用相對應之第二線圈300之二作用部310的電流方向控制變化來選擇實現鏡頭單元400對焦的作動。二作用部310之第二電流I2分別受二磁通B2影響而產生對應之二第二作用力F2，令第二線圈300朝二第二作用力F2之總和方向位移，因此本實施例透過第二電流I2的控制可以調整焦距而完成對焦的操作。

鏡頭單元400包含鏡頭410與鏡頭載座420，且鏡頭單元400設於相機模組100之中心。鏡頭 410連接鏡頭載座420。鏡頭載座420具有四個側面，此四個側面兩兩相對，且每個側面均連接一個第二線圈300之一作用部310。鏡頭單元400的各側面對應各磁性件220的第二磁極228。再者，若以鏡頭單元400的相對應之二側面而言，受第二作用力F2位移之第二線圈300會連結帶動鏡頭載座420的相對應之二側面而沿Z軸正方向或Z軸負方向位移。另外值得一提的是，磁性件220朝第一作用力F1之總和方向位移，此位移方向平行X軸方向或Y軸方向。第二線圈300則是朝第二作用力F2之總和方向位移，此位移方向平行Z軸方向。在上述第一作用力F1和第二作用力F2之交互作用下，鏡頭單元400可呈現三維方向之位移。至於鏡頭單元400中鏡頭410內部之鏡片結構以及鏡頭410與其他影像處理裝置之連接方式皆為習知的技術，故不再贅述。

座體500包含上座體510與下座體520。上座體510圍繞鏡頭單元400。下座體520位於鏡頭單元400的下方且連接第一線圈210。此外，下座體520可承載各致動器200、第二線圈300、鏡頭單元400以及彈動裝置600。

彈動裝置600連接座體500且包含上彈片610、彈線620以及下彈片630。其中上彈片610設於磁性件220、第二線圈300以及鏡頭載座420的上方，且上彈片610連接且嵌合鏡頭單元400。彈線620之二端則分別連接上彈片610與下座體520，且彈線620受座體500 連動位移。至於下彈片630則設於座體500中。詳細地說，下彈片630係位於上座體510與下座體520之間，且下彈片630連接且嵌合鏡頭單元400。再者，鏡頭單元400之鏡頭載座420設於上彈片610與下彈片630之間，當鏡頭單元400受第一作用力F1和第二作用力F2之總和力而產生三維方向之位移時，上彈片610、彈線620以及下彈片630均會跟著連動而同步位移。

控制電路700設於下座體520且電性連接第一線圈210與第二線圈300。此控制電路700可控制第一線圈210以及第二線圈300的電流大小與方向。詳細地說，控制電路700會先透過彈線620將所需之第二電流I2傳送至上彈片610，然後再將第二電流I2傳輸至第二線圈300。此外，控制電路700會透過下座體520將第一電流I1傳送至第一線圈210。因此本新型可藉由控制電路700操控電流來調整鏡頭單元400的對焦與防手震之狀況。至於控制電路700的電路細節則為習知的技術，故不再贅述。

第6A圖繪示本新型之另一實施例之磁性件220a的示意圖。第6B圖繪示本新型之又一實施例之磁性件220b的示意圖。第6C圖繪示本新型之再一實施例之磁性件220c的示意圖。第6D圖繪示本新型之另一實施例之磁性件220d的示意圖。第6E圖繪示本新型之又一實施例之磁性件220e的示意圖。第6F圖繪示本新型之再一實施例之磁性件220f的示意圖。如圖所示，本新型之磁性件 220可以為各種凸出的形狀，以達到磁力集中的效果。其中磁性件220a包含第一側面222a與第二側面224a，第一側面222a與第二側面224a均為平面狀且彼此相連接。磁性件220a呈三角形，且其磁極S為三角形之尖端，而磁極N則為平面狀。另外，磁性件220b包含第一側面222b、頂表面223b以及第二側面224b，第一側面222b、頂表面223b以及第二側面224b均為平面狀且依序連接，此磁性件220b為梯狀。再者，磁性件220c包含第一側面222c、頂表面223c以及第二側面224c，磁性件220c呈六邊形。此磁性件220c與第2圖的磁性件220之差異在於頂表面223c的面積不同以及第一側面222c、第二側面224c之傾斜程度相異，進而造成兩者磁力集中之效不同。此外，磁性件220d包含第一側面222d、頂表面223d以及第二側面224d，頂表面223d為平面狀而第一側面222d與第二側面224d則為弧面狀。再者，磁性件220e具有四分之一圓弧面狀之第一側面222e以及四分之一圓弧面狀之第二側面224e，第一側面222e連接第二側面224e。由上述的形狀可知，第一側面222a、222b、222c、222d、222e分別與第二側面224a、224b、224c、224d、224e沿X軸方向上下對稱，此對稱之雙側面結構可產生均勻且對稱的磁通，而且每一種磁性件220a、220b、220c、224d、220e皆可讓磁力有效地集中。另外，磁性件220f具有平面狀之第一側面222f以及四分之一圓弧面狀之第二側面224f，第一側面222f連接 第二側面224f，此種非對稱之結構可產生特殊的磁通供致動器200使用。

第7圖繪示本新型之相機模組100於自動對焦之作用力與位移量的關係圖。第8圖則繪示本新型之相機模組100於防手震之作用力與位移量的關係圖。如圖所示，其中第一電流I1與第二電流I2均控制在30毫安培，“作用力”代表第一作用力F1或第二作用力F2的大小，而“位移量”則代表鏡頭單元400之位移距離。圖中數據顯示，相機模組100無論是用於自動對焦或防手震上，當鏡頭單元400之位移量改變時，作用力呈線性變動。此外，當鏡頭單元400之正位移量與負位移量相同時，其對應之作用力亦相同。例如，在第7圖中，位移量為0.1與-0.1公厘時，作用力均為375毫克重；在第8圖中，位移量為0.09與-0.09公厘時，作用力均為305毫克重。由此可知，本新型利用特殊形狀的磁性件220結合二致動器200之相對配置，可以使同方向之兩個致動器200所產生的作用力相互彌補，進而讓作用力較為線性且均勻。

由上述實施方式可知，本新型具有下列優點：其一，第一線圈與第二線圈可共用一顆特殊形狀的磁性件，此特殊形狀的磁性件可達到磁力集中的效果。其二，第一線圈配合位置擺放可減少整體模組的高度。其三，利用特殊形狀的磁性件結合二致動器之相對配置，可以使同方向之兩個致動器所產生的作用力相互彌補，進而讓作用力較為線性且均勻。

雖然本新型已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本新型，任何熟習此技藝者，在不脫離本新型之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧相機模組

200‧‧‧致動器

210‧‧‧第一線圈

212‧‧‧第一部

500‧‧‧座體

510‧‧‧上座體

520‧‧‧下座體

600‧‧‧彈動裝置

214‧‧‧第二部

220‧‧‧磁性件

222‧‧‧第一側面

223‧‧‧頂表面

224‧‧‧第二側面

226‧‧‧第一磁極

228‧‧‧第二磁極

300‧‧‧第二線圈

400‧‧‧鏡頭單元

410‧‧‧鏡頭

420‧‧‧鏡頭載座

610‧‧‧上彈片

620‧‧‧彈線

630‧‧‧下彈片

θ 1‧‧‧第一傾斜角

θ 2‧‧‧第二傾斜角

S、N‧‧‧磁極

D1‧‧‧第一間距

D2‧‧‧第二間距

Claims (19)

1. 一種致動器，包含：一第一線圈，具有一第一部與一第二部，該第一部連接該第二部；以及一磁性件，包含一第一側面、一第二側面及一第一磁極，該第一側面與該第二側面彼此相對傾斜且相鄰該第一磁極，該第一磁極對應該第一線圈，且該第一側面與該第二側面分別對應該第一線圈之該第一部與該第二部。
2. 如申請專利範圍第1項所述之致動器，其中該磁性件更包含一第二磁極，該第一磁極與該第一線圈相隔一第一間距，該第二磁極與該第一線圈相隔一第二間距，該第一間距小於該第二間距。
3. 如申請專利範圍第1項所述之致動器，其中該第一側面及該第二側面為平面狀或弧面狀。
4. 如申請專利範圍第1項所述之致動器，其中該第一磁極具有一頂表面，該頂表面連接該第一側面與該第二側面，該頂表面之延伸方向與該第一側面之延伸方向相交一第一傾斜角，該頂表面之延伸方向與該第二側面之延伸方向相交一第二傾斜角。
5. 如申請專利範圍第4項所述之致動器，其中該第一傾斜角等於該第二傾斜角。
6. 如申請專利範圍第1項所述之致動器，其中該第一側面與該第二側面之間的距離朝該第一線圈之方向逐漸縮小。
7. 如申請專利範圍第1項所述之致動器，用以自動對焦或防手震，其中該第一線圈通以一第一電流，該第一電流受該磁性件影響產生一第一作用力，令該磁性件朝該第一作用力之方向位移一偏移量。
8. 一種致動器，包含：相對應之二第一線圈，各該第一線圈具有一第一部與一第二部，該第一部連接該第二部；以及相對應之二磁性件，各該磁性件包含一第一側面、一第二側面、一第一磁極及一磁通，該第一側面與該第二側面彼此相對傾斜且相鄰該第一磁極，該第一磁極對應其中一該第一線圈，且該第一側面與該第二側面分別對應其中一該第一線圈之該第一部與該第二部；其中各該第一線圈通以一第一電流，該第一電流受其中一該磁通影響而令各該磁性件位移。
9. 如申請專利範圍第8項所述之致動器，其中該二磁性件彼此連動，該二第一線圈之該二第一電流受該二磁性件影響分別產生對應之二第一作用力，令該二磁性件朝該二第一作用力之總和方向位移。
10. 一種相機模組，用以自動對焦或防手震，該相機模組包含：相對應之二致動器，各該致動器包含：一第一線圈，具有一第一部與一第二部，該第一部連接該第二部，該第一線圈通以一第一電流；及一磁性件，包含一第一側面、一第二側面、一第一磁極及一磁通，該第一側面與該第二側面彼此相對傾斜且相鄰該第一磁極，該第一磁極對應該第一線圈，且該第一側面與該第二側面分別對應該第一線圈之該第一部與該第二部，該第一電流受該磁通影響產生一第一作用力，令該磁性件朝該第一作用力之方向位移；以及一第二線圈，包含相對應之二作用部，該二作用部分別對應該二致動器，該第二線圈通以一第二電流，該二作用部之該第二電流的流向相反，且該二作用部之該第二電流受該二磁通影響分別產生對應之二第二作用力，令該第二線圈朝該二第二作用力之總和方向位移。
11. 如申請專利範圍第10項所述之相機模組，其中該第二線圈位於該二致動器之間。
12. 如申請專利範圍第11項所述之相機模組，其中各該磁性件更包含一第二磁極，該第二磁極對應該第二線圈。
13. 如申請專利範圍第12項所述之相機模組，其中該第一磁極與該第一線圈相隔一第一間距，該第二磁極與該第一線圈相隔一第二間距，該第一間距小於該第二間距。
14. 如申請專利範圍第10項所述之相機模組，其中該第一側面及該第二側面為平面狀或弧面狀。
15. 如申請專利範圍第10項所述之相機模組，其中該第一側面與該第二側面之間的距離朝該第一線圈之方向逐漸縮小。
16. 如申請專利範圍第12項所述之相機模組，更包含：一鏡頭單元，該鏡頭單元對應該第二磁極且連接該第二線圈，該鏡頭單元受該第二線圈連動位移。
17. 如申請專利範圍第16項所述之相機模組，更包含：一座體，承載各該致動器且連接各該第一線圈；一彈動裝置，連接於該座體，該彈動裝置包含：一上彈片，連接該鏡頭單元；一下彈片，連接該鏡頭單元，且該鏡頭單元設於該上彈片與該下彈片之間；及一彈線，受該座體連動位移；以及 一控制電路，設於該座體且電性連接該第二線圈，該控制電路控制該第二電流的大小與方向。
18. 如申請專利範圍第10項所述之相機模組，其中該第一磁極具有一頂表面，該頂表面連接該第一側面與該第二側面，該頂表面之延伸方向與該第一側面之延伸方向相交一第一傾斜角，該頂表面之延伸方向與該第二側面之延伸方向相交一第二傾斜角。
19. 如申請專利範圍第18項所述之相機模組，其中該第一傾斜角等於該第二傾斜角。