TWM497727U - 旋轉接頭與製程設備 - Google Patents

Description

旋轉接頭與製程設備

本創作是有關於一種旋轉接頭與製程設備，且特別是有關於一種用於樞接旋轉管體與固接管體之間的旋轉接頭與製程設備。

一般來說，習用管路中的管體是固定而不動的。接頭(或稱由另，Union)會用於管路中的兩管體之間，且管路中會通入液體以對基板進行製程的動作。由此可知，接頭除了可以將兩管體連接而便於後續拆卸以外，還具有防止防漏的功能。而習用的接頭在防漏的設計上，往往是用O型環(O-ring)的方式來防止管內液體流出。

然而，在一些製程中，需要藉由管體的擺動來使噴灑於基板的液體得以均勻分布。而此時管體的擺動往往會使O型環磨損而產生過大的間隙，使得O型環防漏的效果大為降低，進而降低接頭的使用壽命。

此外，習用的接頭雖進一步以多種工件配合的方式來補足此O型環的不足之處。此時為了需要考量工件配合的公差，若是為了要達到防漏的目的，需要將工件間的公差降低以使工件間緊配合，藉此避免液體由工件間的縫隙中漏出，與此同時，在擺動中管體便會受限於工件間緊配合，造成管體的扭力過大而會有毀損的情況。另一方面，若是為了達到噴灑液體均勻分布的目的，需要使接頭內的工件間內的公差不要過小，然此舉便 會降低對防漏的功能。

本創作提供一種旋轉接頭，其能降低液漏的情況，以提升旋轉接頭的使用壽命。

本創作提供一種製程設備，製程設備包括有旋轉接頭，以達到降低液漏的情況，進而使基板表面上的液體能均勻分布。

本創作的一實施例提出一種旋轉接頭。旋轉接頭用於樞接一旋轉管體與一固接管體之間。旋轉接頭包括一固定件、一活動件、一第二防漏件以及一磁吸組件。固定件包括一第一管道，其中第一管道連通固接管體。活動件與固定件相對轉動。活動件包括一第一防漏件以及一第二管道，其中第二管道連通旋轉管體。第二防漏件設於固定件的內部，且第二防漏件位於第一管道，其中第一管道連通第二管道，且第一防漏件與第二防漏件相互抵接，以防止第一管道與第二管道內的液體流出。磁吸組件包含一第一磁吸元件與一第二磁吸元件，其中第一磁吸元件設於固定件，第二磁吸元件設於活動件，藉由第一磁吸元件與第二磁吸元件相互磁吸，以使第一防漏件與第二防漏件相互緊配合。

本創作的另一實施例提出一種製程設備。製程設備包括一旋轉接頭。旋轉接頭用於樞接一旋轉管體與一固接管體之間。旋轉接頭包括一固定件、一活動件、一第二防漏件以及一磁吸組件。固定件包括一第一管道，其中第一管道連通固接管體。活動件與固定件相對轉動。活動件包括一第一防漏件以及一第二管道，其中第二管道連通旋轉管體。第二防漏件設於固定件的內部，且第二防漏件位於第一管道，其中第一管道連通第 二管道，且第一防漏件與第二防漏件相互抵接，以防止第一管道與第二管道內的液體流出。磁吸組件包含一第一磁吸元件與一第二磁吸元件，其中第一磁吸元件設於固定件，第二磁吸元件設於活動件，藉由第一磁吸元件與第二磁吸元件相互磁吸，以使第一防漏件與第二防漏件相互緊配合。

基於上述，在本創作的旋轉接頭中，當固定件與活動件相對轉動時，藉由第一防漏件與第二防漏件相互抵接，以防止第一管道與第二管道內的液體流出。並且，經由磁吸組件彼此相吸，而使第一防漏件與第二防漏件相互緊配合，以確保固定件與活動件之間保持固定的間距，藉以降低液漏的情況，甚至達到完全防漏。進一步地，本創作的製程設備包括前述的旋轉接頭，旋轉接頭具有能降低液漏的情況，進而使基板表面上的液體能均勻分布。

20‧‧‧旋轉管體

30‧‧‧固接管體

50‧‧‧製程設備

100‧‧‧旋轉接頭

110‧‧‧接頭本體

120‧‧‧固定件

122‧‧‧第一管道

124‧‧‧第二O型環

126‧‧‧第三O型環

130‧‧‧活動件

132‧‧‧第一防漏件

134‧‧‧第二管道

136‧‧‧第一O型環

138‧‧‧套管

138a‧‧‧轉動組件

138b‧‧‧間隔環

140‧‧‧第二防漏件

150‧‧‧磁吸組件

152‧‧‧第一磁吸元件

154‧‧‧第二磁吸元件

b1‧‧‧第一軸承

b2‧‧‧第二軸承

c1‧‧‧第一組滾珠

c2‧‧‧第二組滾珠

圖1為本創作之旋轉接頭的示意圖。

圖2為圖1之旋轉接頭的剖面圖。

圖3為圖1之旋轉接頭的另一實施例的部分剖面圖。

圖4為本創作之製程設備的示意圖。

以下謹結合附圖和實施例，對本創作的具體實施方式作進一步描述。以下實施例僅用於更加清楚地說明本創作的技術方案，而不能以此限制本創作的保護範圍。

圖1為本創作之旋轉接頭的示意圖。圖2為圖1之旋轉接頭的 剖面圖。請參閱圖1至圖2。本實施例的旋轉接頭100用於樞接一旋轉管體20與一固接管體30之間。旋轉接頭100包括一接頭本體110、一固定件120、一活動件130、一第二防漏件140以及一磁吸組件150，其中接頭本體110例如是以鎖附的方式連接於固定件120。

固定件120包括一第一管道122，其中第一管道122連通固接管體30。

活動件130與固定件120相對轉動。活動件130包括一第一防漏件132、一第二管道134、一第一O型環(O-ring)136、一套管138。此外，於進一步的實施例中，活動件130可包括複數個塊件，複數個塊件沿著活動件130的軸向相對移動。

第一O型環136位於第一防漏件132與活動件130之間，以防止第二管道134內的液體流出。

套管138套設於活動件130。具體而言，套管138包括一轉動組件138a與一間隔環138b。間隔環138b與活動件130彼此有間距而使得間隔環138b不會接觸到活動件130，而轉動組件138a位於活動件130的外環面，以使活動件130在套管138內轉動。在此並不限制轉動組件138a的形式，請先參閱圖2，在一實施例中，轉動組件138a例如是一對軸承，即第一軸承b1與第二軸承b2，而間隔環138b位於第一軸承b1與第二軸承b2之間。在此配置之下，間隔環138b用以固定第一軸承b1與第二軸承b2外圈並區隔第一軸承b1與第二軸承b2。

在另一實施例中，請參閱圖3。圖3為圖1之旋轉接頭的另一實施例的部分剖面圖。需說明的是，圖3的旋轉接頭與圖2的旋轉接頭相似， 其中相同的元件以相同的標號表示且具有相同的功效而不再重複說明，以下僅說明差異處。並且，為了清楚說明，圖3省略了部分的元件。圖3與圖2不同之處在於，轉動組件138a例如為複數個滾珠，如圖3所示，轉動組件138a可以是第一組滾珠c1與第二組滾珠c2所構成，間隔環138b位於第一組滾珠c1與第二組滾珠c2之間，以固定第一組滾珠c1與第二組滾珠c2外圈並區隔第一組滾珠c1與第二組滾珠c2。藉此配置之下，間隔環138b與活動件130彼此有間距而使得間隔環138b不會接觸到活動件130，而活動件130經由第一組滾珠c1與第二組滾珠c2而可在套管138內轉動。

請復參閱圖1至圖2。第二防漏件140設於固定件120的內部。第二防漏件140位於第一管道122。此外，固定件120包括一第二O型環(O-ring)124與一第三O型環(O-ring)126。第二O型環124位於固定件120與第二防漏件140之間。第三O型環(O-ring)126位於固定件120之前端內緣。

磁吸組件150包含一第一磁吸元件152與一第二磁吸元件154。第一磁吸元件152設於固定件120。第二磁吸元件154設於活動件130。需說明的是，本創作也不限制第一磁吸元件152與第二磁吸元件154的形狀，舉例而言，第一磁吸元件152例如是呈圓形、方形、矩形、扇形、環形，而第二磁吸元件154例如是呈圓形、方形、矩形、扇形、環形，且此第一磁吸元件152的位置與第二磁吸元件154的位置彼此對應而能相吸。當然，在其他實施例中，本創作也不限制第一磁吸元件152與第二磁吸元件154的數量，舉例而言，第一磁吸元件152例如是具有多個，而第二磁吸元件154例如是具有多個，且每一個第一磁吸元件152的位置會與每一個第二磁吸元件154的位置彼此對應而能相吸。

需說明的是，在一實施中，第一磁吸元件152與第二磁吸元件154分別為一第一磁鐵與一第二磁鐵，而第一磁鐵與第二磁鐵彼此相吸。當然，本創作不以此為限制，在另一實施例中，第一磁吸元件152與第二磁吸元件154分別為一磁鐵與一磁吸金屬，即第一磁吸元件152為磁鐵，第二磁吸元件154則為磁吸金屬，或者第一磁吸元件152為磁吸金屬，第二磁吸元件154為磁鐵，而可使磁鐵與磁吸金屬彼此相吸。

在此配置之下，固接管體30連通第一管道122，第一管道122連通第二管道134，第二管道134連通旋轉管體20。固接管體30作為旋轉接頭100之一固定端，而旋轉管體20則作為旋轉街頭100之一自由端。於通入液體時，液體便流經第一管道122與第二管道134，藉由第一防漏件132與第二防漏件140相互抵接，以防止第一管道122與第二管道134內的液體流出。此外，第二O型環124與第三O型環126也可降低第一管道122內液漏的情況，而第一O型環136則可降低第二管道134內液漏的情況。

進一步地，藉由第一磁吸元件152與第二磁吸元件154相互磁吸，以使第一防漏件132與第二防漏件140相互緊配合，如此一來，在固定件120與活動件130相對轉動的過程中，固定件120與活動件130之間仍能夠保持固定的間距，藉以降低液體流出的情況。

第一防漏件132與第二防漏件140的材質例如為聚四氟乙烯(PTFE，或譯稱鐵氟龍)、聚酯乙酯(UPE)或陶瓷所製成的防漏墊片，以達到防止液體流出的功能。需說明的是，上述第一防漏件132與第二防漏件140的材質僅為舉例說明，不限定任意材質。

圖4為本創作之製程設備的示意圖。在本實施例中，製程設 備50例如是在製程上需要噴管擺動功能的機構，舉例而言，製程設備50可為一重工機(rework)、一蝕刻機(etcher)、一剝膜機(stripper)或者一微影機(developer)，但本創作不限於此。製程設備50包括一旋轉接頭100，而旋轉接頭100之兩端分別樞接旋轉管體20與固接管體30。旋轉接頭100的具體實施例結構如圖1至圖3配合以上說明所述，在此不再重複說明。旋轉接頭100用於本實施例的製程設備50時，所使用的液體可根據製程設備50所進行的製程不同而擇定，例如是進行蝕刻製程、剝膜製程或者顯影製程，而所搭配的液體則分別為蝕刻劑、剝離液與顯影劑。

固定件120與活動件130相對轉動而液體則從旋轉管體20噴灑，以對基板(未繪示)進行如蝕刻製程、剝膜製程或者顯影製程。由於藉由第一磁吸元件152與第二磁吸元件154相互磁吸，以使第一防漏件132與第二防漏件140相互緊配合，故能降低液體流出的情況，進而使基板板面上的液體能均勻分布。

綜上所述，本創作的旋轉接頭中，當固定件與活動件相對轉動時，藉由第一防漏件與第二防漏件相互抵接，以防止第一管道與第二管道內的液體流出，並且，經由磁吸組件彼此相吸，而使第一防漏件與第二防漏件相互緊配合，以確保固定件與活動件之間保持固定的間距，藉以降低液漏的情況，甚至達到完全防漏。進一步地，本創作的製程設備包括前述的旋轉接頭，此旋轉接頭能降低液體流出的情況，進而使基板表面上的液體能均勻分布。

以上所述，乃僅記載本創作為呈現解決問題所採用的技術手段之較佳實施方式或實施例而已，並非用來限定本創作專利實施之範圍。 即凡與本創作專利申請範圍文義相符，或依本創作專利範圍所做的均等變化與修飾，皆為本創作專利範圍所涵蓋。

100‧‧‧旋轉接頭

110‧‧‧接頭本體

120‧‧‧固定件

122‧‧‧第一管道

124‧‧‧第二O型環

126‧‧‧第三O型環

130‧‧‧活動件

132‧‧‧第一防漏件

134‧‧‧第二管道

136‧‧‧第一O型環

138‧‧‧套管

138a‧‧‧轉動組件

138b‧‧‧間隔環

140‧‧‧第二防漏件

150‧‧‧磁吸組件

152‧‧‧第一磁吸元件

154‧‧‧第二磁吸元件

b1‧‧‧第一軸承

b2‧‧‧第二軸承

Claims (18)

1. 一種旋轉接頭，用於樞接一旋轉管體與一固接管體之間，該旋轉接頭包括：一固定件，包括一第一管道，其中該第一管道連通該固接管體；一活動件，與該固定件相對轉動，該活動件包括一第一防漏件及一第二管道，其中該第二管道連通該旋轉管體；一第二防漏件，設於該固定件的內部，且該第二防漏件位於該第一管道，其中該第一管道連通該第二管道，且該第一防漏件與該第二防漏件相互抵接，以防止該第一管道與該第二管道內的液體流出；以及一磁吸組件，包含一第一磁吸元件與一第二磁吸元件，其中該第一磁吸元件設於該固定件，該第二磁吸元件設於該活動件，藉由該第一磁吸元件與該第二磁吸元件相互磁吸，以使該第一防漏件與該第二防漏件相互緊配合。
2. 如申請專利範圍第1項所述之旋轉接頭，其中該第一磁吸元件與該第二磁吸元件分別為一第一磁鐵與一第二磁鐵。
3. 如申請專利範圍第1項所述之旋轉接頭，其中該第一磁吸元件與該第二磁吸元件分別為一磁鐵與一磁吸金屬。
4. 如申請專利範圍第1項所述之旋轉接頭，其中該活動件包括一第一O型環，該第一O型環位於該第一防漏件與該活動件之間。
5. 如申請專利範圍第1項所述之旋轉接頭，其中該活動件包括一套管，該套管套設於該活動件，該套管包括一轉動組件，該轉動組件位於該活動件的外環面，以使該活動件在該套管內轉動。
6. 如申請專利範圍第5項所述之旋轉接頭，其中該轉動組件為一軸承。
7. 如申請專利範圍第5項所述之旋轉接頭，其中該轉動組件為複數個滾珠。
8. 如申請專利範圍第1項所述之旋轉接頭，其中該固定件包括一第二O型環，該第二O型環位於該固定件與該第二防漏件之間。
9. 如申請專利範圍第1項所述之旋轉接頭，其中該活動件包括複數個塊件，該複數個塊件沿著該活動件的軸向相對移動。
10. 一種製程設備，包括：一旋轉接頭，用於樞接一旋轉管體與一固接管體之間，該旋轉接頭包括：一固定件，包括一第一管道，其中該第一管道連通該固接管體；一活動件，與該固定件相對轉動，該活動件包括一第一防漏件及一第二管道，其中該第二管道連通該旋轉管體；一第二防漏件，設於該固定件的內部，且該第二防漏件位於該第一管道，其中該第一管道連通該第二管道，且該第一防漏件與該第二防漏件相互抵接，以防止該第一管道與該第二管道內的液體流出；以及一磁吸組件，包含一第一磁吸元件與一第二磁吸元件，其中該第一磁吸元件設於該固定件，該第二磁吸元件設於該活動件，藉由該第一磁吸元件與該第二磁吸元件相互磁吸，以使該第一防漏件與該第二防漏件相互緊配合。
11. 如申請專利範圍第10項所述之製程設備，其中該第一磁吸元件與該第二磁吸元件分別為一第一磁鐵與一第二磁鐵。
12. 如申請專利範圍第10項所述之製程設備，其中該第一磁吸元件與該第二磁吸元件分別為一磁鐵與一磁吸金屬。
13. 如申請專利範圍第10項所述之製程設備，其中該活動件包括一第一O型環，該第一O型環位於該第一防漏件與該活動件之間。
14. 如申請專利範圍第10項所述之製程設備，其中該活動件包括一套管，該套管套設於該活動件，該套管包括一轉動組件，該轉動組件位於該活動件 的外環面，以使該活動件在該套管內轉動。
15. 如申請專利範圍第14項所述之製程設備，其中該轉動組件為一軸承。
16. 如申請專利範圍第14項所述之製程設備，其中該轉動組件為複數個滾珠。
17. 如申請專利範圍第10項所述之製程設備，其中該固定件包括一第二O型環，該第二O型環於該固定件與該第二防漏件之間。
18. 如申請專利範圍第10項所述之製程設備，其中該活動件包括複數個塊件，該複數個塊件沿著該活動件的軸向相對移動。