TWM491943U - 液體溢洒裝置 - Google Patents

Description

液體溢洒裝置

本新型是有關於一種液體溢洒裝置，特別是指一種可對基板提供液體簾幕的液體溢洒裝置。

參閱圖1與圖2，一種現有液體溢洒裝置1，是安裝於顯影機、溼式蝕刻機或清洗設備，用於將液體呈簾幕狀地溢洒在一片基板(圖未示)上，以進行顯影、蝕刻或清洗。該液體溢洒裝置1包含一個儲液座11，及數個供液頭12。該儲液座11左右長向延伸，並具有一個中空的底座111，及一個蓋設連接於該底座111頂部的頂蓋112。且該底座111與該頂蓋112相配合界定出一個儲液空間113，及一個由該儲液空間113往前連通的狹縫出口114。而該等供液頭12是左右間隔地安裝於該儲液座11的頂蓋112上，且分別連通該儲液空間113，用以將液體注入該儲液空間113。

使用時，注入該儲液空間113內的液體，會直接由該狹縫出口114噴出，而呈一面液體簾幕，直接溢洒在該基板上。然而由於該液體之注入方式為點狀輸入，但該液體之噴出方式為面狀輸出，因此容易造成液壓不均勻的現象，如此一來，雖然該液體溢洒裝置1可提供一平整 的液體簾幕，但卻會因為其液壓不均勻，而在該基板上產生蝕刻不均勻或是彩紋(MURA)的蝕刻缺陷，進而影響後續相關產品的顯示品質。此外，若有雜物堵塞於該狹縫出口114中，也會使該液體溢洒裝置1所產生之液體簾幕，出現分岔不連續的現象，而產生更為明顯之蝕刻缺陷。因此上述液體溢洒裝置1之設計仍有待改善。

因此，本新型之目的，即在提供一種能提供均勻且連續之液體簾幕的液體溢洒裝置。

於是，本新型液體溢洒裝置，是用於將液體呈簾幕狀地溢洒在一片基板上，並包含：一個儲液座，及數個供液頭。該儲液座左右長向延伸，並界定出一個儲液空間、一個間隔位於該儲液空間前方的第一導流空間、一個連通該儲液空間與該第一導流空間之相鄰底部的第一通道，及一個連通該第一導流空間之前側頂部的第二通道。該等供液頭左右間隔地安裝於該儲液座，且分別連通該儲液空間，用以將液體注入該儲液空間，使得該儲液空間內的液體，會向下通過該第一通道，再向上流入該第一導流空間，接著由該第二通道向下流出。

2‧‧‧基板

3‧‧‧儲液座

31‧‧‧底壁

32‧‧‧側壁

33‧‧‧後壁

34‧‧‧前壁

35‧‧‧第一隔壁

36‧‧‧第二隔壁

37‧‧‧第三隔壁

38‧‧‧導流板

381‧‧‧側底邊

382‧‧‧後腰邊

383‧‧‧前腰邊

380‧‧‧水平線

39‧‧‧頂壁

30‧‧‧擋沖板

40‧‧‧儲液空間

41‧‧‧第一導流空間

42‧‧‧第二導流空間

43‧‧‧第三導流空間

44‧‧‧第一通道

45‧‧‧第二通道

46‧‧‧第三通道

47‧‧‧第四通道

5‧‧‧供液頭

θ‧‧‧夾角

δ‧‧‧夾角

本新型之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一種現有液體溢洒裝置的一立體圖； 圖2是圖1的一部分剖視示意圖；圖3是本新型液體溢洒裝置的一第一實施例的一立體圖；圖4是該第一實施例的一局部剖面側視示意圖；圖5是該第一實施例之一局部剖面俯視示意圖；圖6是該第一實施例之一前側視示意圖；圖7是本新型液體溢洒裝置的一第二實施例的一局部剖面側視示意圖；及圖8是該第二實施例的一局部剖面俯視示意圖。

在本新型被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。

參閱圖3、圖4與圖5，本新型液體溢洒裝置之一第一實施例，是安裝於顯影機、溼式蝕刻機或清洗設備，用於將液體呈簾幕狀地溢洒在一片基板2上。該液體可以是顯影劑、去離子水、蝕刻液或液態化學溶液、清潔液或水液，該基板2可以是玻璃基板或矽晶圓。而為了避免多餘的液體淤積於該基板2表面，影響該基板2的顯影、蝕刻或清潔品質，所以在本實施例中，是令一個輸送裝置(圖未示)，將該基板2左右傾斜擺放並前後向地輸送通過該液體溢洒裝置的下方，以便於均勻溢洒在該基板2上的液體能順利往下排放。而該液體溢洒裝置包含一個儲液座3，及數個供液頭5。

該儲液座3左右長向延伸，並包括一片底壁31 、兩片分別由該底壁31之左右兩側向上延伸的側壁32、一片連接該底壁31與該等側壁32之後側的後壁33、一片連接該底壁31與該等側壁32之前側的前壁34、連接該等側壁32且由後向前間隔排列於該後壁33與該前壁34之間的一片第一隔壁35、一片第二隔壁36與一片第三隔壁37、一片由該前壁34之頂側向前下方傾斜延伸的導流板38、一片連接該後壁33與該第一隔壁35之頂側的頂壁39，及數片左右間隔且頂側連接該頂壁39的擋沖板30。

該底壁31、該後壁33、該頂壁39與該第一隔壁35相配合界定出一個儲液空間40。該第一隔壁35、該第二隔壁36與該底壁31相配合界定出一個間隔位於該儲液空間40前方的第一導流空間41。該第二隔壁36、該第三隔壁37與該底壁31相配合界定出一個間隔位於該第一導流空間41前方的第二導流空間42。該第三隔壁37、該前壁34與該底壁31相配合界定出一個間隔位於該第二導流空間42前方的第三導流空間43。該第一隔壁35之底側與該底壁31相配合界定出一個連通該儲液空間40與該第一導流空間41之相鄰底部的第一通道44。該第二隔壁36之底側與該底壁31連接且頂側界定出一個連通該第一導流空間41與該第二導流空間42之相鄰頂部的第二通道45。該第三隔壁37之底側與該底壁31相配合界定出一個連通該第二導流空間42與該第三導流空間43之相鄰底部的第三通道46。該前壁34頂側界限出一個連通該第三導流空間43之前側頂部的第四通道47。

該第一隔壁35的高度大於該第二隔壁36的高度，該第三隔壁37的高度大於該第二隔壁36的高度也大於該前壁34的高度。該導流板38與該前壁34間的夾角θ 為20°~40°，最佳的夾角θ 為30°，可產生較為均勻順暢的液體簾幕。再者，該導流板38呈一梯形板片，並具有兩個左右平行且長度不同的側底邊381、一個水平連接該等側底邊381之後端的後腰邊382，及一個傾斜連接該等側底邊381之前端的前腰邊383。該前腰邊383如圖6所示與一條平行於該後腰邊382之水平線380的夾角δ 呈5°~7°，最佳的夾角δ 為6°，可配合該基板2斜度地鄰近於該基板2。而該等擋沖板30分別由該頂壁39向下伸入該儲液空間40，且底側與底壁31相間隔，左右兩側亦分別與該等側壁32相間隔。

該等供液頭5左右間隔地安裝於該儲液座3之後壁33的頂部，分別連通該儲液空間40之頂部附近，並分別對應位於該等擋沖板30的後方。該等供液頭5分別通過數條供液管(圖未示)連接於一個供液裝置(圖未示)，用以將液體注入該儲液空間40內。

使用時，該等供液頭5將液體注入該儲液空間40，由於該等擋沖板30分別豎立在該等供液頭5的前方，所以可減緩液體噴射衝入的力量，藉以降低流入該儲液空間40的流速，而進入的液體會貯存於該儲液空間40內，接著會向下通過該第一通道44，並緩慢地向上流入且蓄積於該第一導流空間41，直到溢滿漫出該第二隔壁36，會由 該第二通道45向下流入並貯存於該第二導流空間42，再通過該第三通道46後緩慢地向上流入且蓄積於該第三導流空間43，直到溢滿漫出該前壁34，會由該第四通道47溢出，接著再沿著該導流板38向下傾斜流出，而呈一面均勻連續的液體簾幕，直接溢洒在該基板2上，以進行後續的顯影、蝕刻或清潔流程。

參閱圖7與圖8，本新型液體溢洒裝置之一第二實施例之構造大致相同於第一實施例，不同之處在於：本實施例將第一實施例之該等擋沖板30連接成一片板片，亦即該儲液座3所設置之擋沖板30的數量及尺寸不同。本實施例之該儲液座3包括一片左、右側分別連接該等側壁32且底側與該底壁31連接的擋沖板30。該擋沖板30位於該儲液空間40中，且頂側與該頂壁39相間隔，並對應位於該等供液頭5前方，同樣可用以減緩液體噴射衝入的力量，降低液體流入該儲液空間40的流速。

綜上所述，本新型液體溢洒裝置，主要是在該儲液座3之該後壁33與該前壁34之間，設有該第一隔壁35、該第二隔壁36與該第三隔壁37，還在該等供液頭5的前方設置有該等擋沖板30或該擋沖板30，另外更設有傾斜連接該前壁34的導流板38，因此可藉由上述結構設計，來減緩內部流道中液體的流動速度，並可改善液體壓力不均之現象，以及因內部液體之流向改變與過快的流動速度所產生的紊流，如此即可藉以達到整流的效果，使得該液體可均勻地自該導流板38溢出，以形成均勻連續的液體簾 幕至該基板2上，藉以避免該基板2上蝕刻不均勻或是彩紋現象的產生，進而能提昇該基板2的品質。此外，由於本新型液體溢洒裝置並非以往的狹縫出口設計，而是利用多個升降彎道以緩速漫流溢出的設計，使得液體可均勻溢出，不會出現有雜物堵塞的問題，可避免因有雜物堵塞出水間隙時所產生之液體簾幕分岔不連續的問題，故確實能達成本新型之目的。

惟以上所述者，僅為本新型之實施例而已，當不能以此限定本新型實施之範圍，即大凡依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。

2‧‧‧基板

3‧‧‧儲液座

31‧‧‧底壁

32‧‧‧側壁

33‧‧‧後壁

34‧‧‧前壁

35‧‧‧第一隔壁

36‧‧‧第二隔壁

37‧‧‧第三隔壁

38‧‧‧導流板

39‧‧‧頂壁

30‧‧‧擋沖板

40‧‧‧儲液空間

41‧‧‧第一導流空間

42‧‧‧第二導流空間

43‧‧‧第三導流空間

44‧‧‧第一通道

45‧‧‧第二通道

46‧‧‧第三通道

47‧‧‧第四通道

5‧‧‧供液頭

θ‧‧‧夾角

Claims (10)

1. 一種液體溢洒裝置，是用於將液體呈簾幕狀地溢洒在一片基板上，並包含：一個儲液座，左右長向延伸，並界定出一個儲液空間、一個間隔位於該儲液空間前方的第一導流空間、一個連通該儲液空間與該第一導流空間之相鄰底部的第一通道，及一個連通該第一導流空間之前側頂部的第二通道；及數個供液頭，左右間隔地安裝於該儲液座，且分別連通該儲液空間，用以將液體注入該儲液空間，使得該儲液空間內的液體，會向下通過該第一通道，再向上流入該第一導流空間，接著由該第二通道向下流出。
2. 如請求項1所述的液體溢洒裝置，其中，該儲液座還界定出一個間隔位於該第一導流空間前方且藉由該第二通道與該第一導流空間之相鄰頂部連通的第二導流空間、一個間隔位於該第二導流空間前方的第三導流空間、一個連通該第二導流空間與該第三導流空間之相鄰底部的第三通道，及一個連通該第三導流空間之前側頂部的第四通道，使得該第一導流空間內的液體，會經由該第二通道向下流入該第二導流空間，並通過該第三通道向上流入該第三導流空間，接著再由該第四通道向下流出。
3. 如請求項2所述的液體溢洒裝置，其中，該儲液座包括一片底壁、兩片分別由該底壁之左右兩側向上延伸的側 壁、一片連接該底壁與該等側壁之後側的後壁、一片連接該底壁與該等側壁之前側的前壁，及連接該等側壁且由後向前間隔排列於該後壁與該前壁之間的一片第一隔壁、一片第二隔壁與一片第三隔壁，該底壁、該後壁與該第一隔壁相配合界限出該儲液空間，該第一隔壁、該第二隔壁與該底壁相配合界限出該第一導流空間，該第二隔壁、該第三隔壁與該底壁相配合界限出該第二導流空間，該第三隔壁、該前壁與該底壁相配合界限出該第三導流空間，該第一隔壁之底側與該底壁相配合界限出該第一通道，該第二隔壁之底側與該底壁連接且頂側界限出該第二通道，該第三隔壁之底側與該底壁相配合界限出該第三通道，該前壁頂側界限出該第四通道。
4. 如請求項3所述的液體溢洒裝置，其中，該第一隔壁的高度大於該第二隔壁的高度，該第三隔壁的高度大於該第二隔壁的高度也大於該前壁的高度。
5. 如請求項4所述的液體溢洒裝置，其中，該儲液座還包括一片由該前壁之頂側向前下方傾斜延伸的導流板。
6. 如請求項5所述的液體溢洒裝置，其中，該導流板與該前壁間的夾角為20°~40°。
7. 如請求項6所述的液體溢洒裝置，其中，該導流板呈一梯形板片，並具有兩個左右平行且長度不同的側底邊、一個水平連接該等側底邊之後端的後腰邊，及一個傾斜連接該等側底邊之前端且鄰近於該基板的前腰邊，該前腰邊與一條平行於該後腰邊之水平線的夾角呈5°~7°。
8. 如請求項3至7中任一項所述的液體溢洒裝置，其中，該等供液頭分別安裝於該儲液座之後壁的頂部，而該儲液座還包括一片連接該後壁與該第一隔壁之頂側的頂壁，及數片左右間隔地伸入該儲液空間並分別對應位於該等供液頭前方的擋沖板，每一片擋沖板之頂側連接該頂壁且底側與該底壁相間隔。
9. 如請求項3至7中任一項所述的液體溢洒裝置，其中，該等供液頭分別安裝於該儲液座之後壁的底部，而該儲液座還包括一片左、右側分別連接該等側壁且底側與該底壁連接的擋沖板，該擋沖板位於該儲液空間中，且高度低於該後壁，並對應位於該等供液頭前方。
10. 如請求項9所述的液體溢洒裝置，其中，該儲液座還包括一片連接該後壁與該第一隔壁之頂側且與該擋沖板之頂側相間隔的頂壁。