TWM484505U - 具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構 - Google Patents
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Description
本案係關於一種轉印膜及應用轉印膜之殼體結構,特別是一種具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構。
以筆記型電腦而言,其方便攜帶的特性非常受到歡迎。因此對於筆記型電腦的品質及外觀,也有更高的要求。舉例來說,為了提升使用時的舒適性,具有軟性觸感外殼的筆記型電腦也蔚為時尚。
為了使外殼具有更多元的外觀,通常會在殼體設計花紋,以達到視覺的美感。目前常見的方法是透過噴塗的方式在外殼表面噴塗出花紋,然而噴塗的製程很容易造成環境的汙染。
本新型是關於一種具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構,藉以解決先前技術中,在外殼表面形成花紋會造成環境汙染的問題。
本新型一實施例所揭露之具內紋路的轉印膜,包含一離型載板、一熱風乾燥塗層、一紫外線硬化樹脂層、一油墨層以及一黏著層。熱風乾燥塗層設置於離型載板。紫外線硬化樹脂層設置於熱風乾燥塗層。紫外線硬化樹脂層相反於熱風乾燥塗層之一側具有一凹凸紋路。油墨層設置於紫外線硬化樹脂層相反於熱風乾燥塗層之一側。油墨層面對紫外線硬化樹脂層之一側具有對應於凹凸紋路的一立體圖案。黏著層設置於油墨層相反於紫外線硬化樹脂層之一
側。
本新型一實施例所揭露之具內紋路的殼體結構,包含一基板、一黏著層、一油墨層、一紫外線硬化樹脂層以及一熱風乾燥塗層。黏著層設置於基板。油墨層設置於黏著層相反於基板之一側。油墨層相反於黏著層之一側具有一立體圖案。紫外線硬化樹脂層設置於油墨層相反於黏著層之一側。紫外線硬化樹脂層面對油墨層之一側具有對應立體圖案之一凹凸紋路。熱風乾燥塗層設置於紫外線硬化樹脂層相反於油墨層之一側。
根據本新型實施例所揭露之具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構,由於是透過轉印的方法以在殼體結構形成轉印膜,而可在殼體結構形成立體圖案。因此,解決了先前技術中,在外殼表面形成花紋會造成環境汙染的問題。
9‧‧‧具內紋路的殼體結構
10‧‧‧具內紋路的轉印膜
11‧‧‧離型載板
12‧‧‧熱風乾燥塗層
13‧‧‧紫外線硬化樹脂層
14‧‧‧油墨層
15‧‧‧黏著層
16‧‧‧接著層
20‧‧‧基板
A‧‧‧凹凸紋路
B‧‧‧立體圖案
第1圖為本新型一實施例所揭露之具內紋路的轉印膜的製備方法。
第2A圖至第2E圖為分別對應第1圖之步驟S101至S105之剖切示意圖。
第2F圖為依據第1圖的製備方法所製備之具內紋路的轉印膜之剖切示意圖。
第3A圖為本新型另一實施例所揭露之具內紋路的轉印膜的製備方法。
第3B圖為對應第3A圖之步驟S203之剖切示意圖。
第3C圖為依據第3A圖的製備方法所製備之具內紋路的轉印膜之剖切示意圖。
第4圖為本新型一實施例所揭露之具內紋路的殼體結構的製備方法。
第5A圖至第5B圖為分別對應第4圖之步驟S301至S302之剖切示意圖。
第5C圖為依據第4圖的製備方法所製備之具內紋路的轉印膜之剖切示意圖。
第6圖為本新型另一實施例所揭露之具內紋路的殼體結構的製備方法。
以下在實施方式中詳細敘述本新型之詳細特徵以及優點,其內容足以使任何熟習相關技藝者了解本新型之技術內容並據以實施,且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式,任何熟習相關技藝者可輕易地理解本新型相關之目的及優點。以下之實施例係進一步詳細說明本新型之觀點,但非以任何觀點限制本新型之範疇。
首先,請參閱第1圖及第2A圖至第2F圖,第1圖為本新型一實施例所揭露之具內紋路的轉印膜的製備方法。第2A圖至第2E圖為分別對應第1圖之步驟S101至S105之剖切示意圖。第2F圖為依據第1圖的製備方法所製備之具內紋路的轉印膜之剖切示意圖。
首先,提供一離型載板11(S101)(如第2A圖所示)。離型載板11例如為聚烯烴膜(polyolefin)、具有離型層之聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、聚對苯二甲酸乙二醇酯-1,4-環己烷二甲醇酯(Poly(ethylene terephthalateco-1,4-cylclohexylenedimethylene terephthalate),PETG)、聚丙烯膜(polypropylene,PP)或聚乙烯膜(polyethylene,PE),但並不以此為限。
接著,於離型載板11設置一熱風乾燥塗層12(S102)(如第2B圖所示)。詳細來說,例如是透過塗佈或印刷的方法而在離型載板11設置熱風乾燥塗層12。熱風乾燥塗層12是指塗層具有可撓曲、拉伸的性質。熱風乾燥塗層12例如是選自於軟性塗層(soft touch)及硬塗層(hard coat,HC)所組成之群組。當熱風乾燥塗層12是軟性塗層時,熱風乾燥塗層12之材質包含聚氨酯、絨毛粉及二氧化矽,其中絨毛粉佔熱風乾燥塗層12之總重量之10~50%wt,並
且所形成的熱風乾燥塗層12的厚度大於6微米(μm)。在本新型部分實施例中,熱風乾燥塗層12(軟性塗層)之厚度介於6微米以及46微米之間。當熱風乾燥塗層12的厚度越厚時,熱風乾燥塗層12的觸感越柔軟且越具有彈性。亦即,使用者可依據其觸感的需求來調整熱風乾燥塗層12的厚度。另一方面,當熱風乾燥塗層12是硬塗層時,熱風乾燥塗層12之材質包含聚氨酯及聚氨酯壓克力樹脂,並且所形成的熱風乾燥塗層12的厚度介於10微米以及20微米之間。詳細來說,當熱風乾燥塗層12的厚度越厚時,熱風乾燥塗層12具有較佳之硬度。亦即,當熱風乾燥塗層12是硬塗層時,使用者可依據其硬度的需求來調整熱風乾燥塗層12的厚度。此外,使用硬塗層作為熱風乾燥塗層12所製成的轉印膜還具有亮面的視覺感受。
然後,於熱風乾燥塗層12相反於離型載板11之一側設置一紫外線硬化樹脂層13,且於紫外線硬化樹脂層13相反於熱風乾燥塗層12之一側形成一凹凸紋路A(S103)(如第2C圖、第2D圖所示)。詳細來說,例如是透過塗佈或印刷的方法而在熱風乾燥塗層12設置紫外線硬化樹脂層13。紫外線硬化樹脂層13可以是一熱硬化樹脂或一紫外線硬化樹脂。也就是說,紫外線硬化樹脂層13可以透過加熱或者照射紫外線而硬化。紫外線硬化樹脂層13之材質例如是選自於聚氨酯壓克力樹脂及聚酯壓克力樹脂所組成之群組。於紫外線硬化樹脂層13形成凹凸紋路A的方法可以是使用壓印製程,然不以此為限,使用者可依據其需求來選擇適當的方法。
接著,執行一第一固化程序(S104)以使紫外線硬化樹脂層13固化。詳細來說,當紫外線硬化樹脂層13是熱硬化樹脂時,固化程序是透過加熱之方式來執行,而當紫外線硬化樹脂層13是紫外線硬化樹脂時,固化程序則
是透過照射紫外線之方式來執行。須注意的是,本實施例之紫外線硬化樹脂層13固化後仍保有拉伸性,因而可確保轉印膜可轉印至具有彎曲表面的殼體結構。
上述步驟(S103)及步驟(S104)之先後順序並非用以限定本新型,在本新型部分實施例中,可以同時執行步驟(S103)及步驟(S104)或者先執行步驟(S104)再執行步驟(S103)。舉例來說,當紫外線硬化樹脂層13是紫外線硬化樹脂時,可以在照光環境下進行壓印製程,因而可一併完成固化與成形之程序。
然後,於紫外線硬化樹脂層13相反於熱風乾燥塗層12之一側設置一油墨層14(S105)(如第2E圖所示)。詳細來說,例如是透過塗佈或印刷的方法而在紫外線硬化樹脂層13設置油墨層14。油墨層14之材質為聚酯壓克力樹脂。使用者可依據其需求來選擇透明的油墨層14,或者選擇油墨層14的顏色。由於紫外線硬化樹脂層13的表面具有凹凸紋路A,因而油墨層14面對紫外線硬化樹脂層13之一側會形成對應於凹凸紋路A的一立體圖案B。
最後,於油墨層14相反於紫外線硬化樹脂層13之一側設置一黏著層15(S106)(如第2F圖所示)。詳細來說,例如是透過塗佈或印刷的方法而在油墨層14設置黏著層15。黏著層15之材質是選自於乙烯-醋酸乙烯酯共聚合物(ethylene-vinyl acetate copolymer,EVA)及壓克力樹脂所組成之群組。如此一來,即完成了具內紋路的轉印膜10的製備。具內紋路的轉印膜10可透過黏著層15而轉印至殼體結構,如何將具內紋路的轉印膜10轉印至殼體結構將於稍後之段落進行更詳細的介紹。
此外,為了進一步提升熱風乾燥塗層12與紫外線硬化樹脂層13之間的接合強度,在本新型部分實施例中,還可以在熱風乾燥塗層12與紫外線
硬化樹脂層13之間形成一接著層。請參閱第3A圖至第3C圖,第3A圖為本新型另一實施例所揭露之具內紋路的轉印膜的製備方法。第3B圖為對應第3A圖之步驟S203之剖切示意圖。第3C圖為依據第3A圖的製備方法所製備之具內紋路的轉印膜之剖切示意圖。本實施例之步驟S201、S202以及S204至S207與第1圖之步驟S101至S106相似,故僅針對其差異之處進行說明。
詳細來說,在設置熱風乾燥塗層12(S202)之步驟後,接著於熱風乾燥塗層12相反於離型載板11之一側形成一接著層16(S203)(如第3B圖所示)。詳細來說,例如是透過塗佈或印刷的方法而在熱風乾燥塗層12設置接著層16。接著層16之材質是選自於聚氨酯壓克力樹脂及聚酯壓克力樹脂所組成之群組。藉此,以提升熱風乾燥塗層12與紫外線硬化樹脂層13之間的接合強度。依據第3A圖的製備方法所製備之具內紋路的轉印膜10x如第3C圖所示。須注意的是,具內紋路的轉印膜10x包含接著層16並非用以限定本新型。
請參閱第4圖及第5A至5C圖,第4圖為本新型一實施例所揭露之具內紋路的殼體結構的製備方法。第5A圖至第5B圖為分別對應第4圖之步驟S301至S302之剖切示意圖。第5C圖為依據第4圖的製備方法所製備之具內紋路的殼體結構之剖切示意圖。
首先,提供一具內紋路的轉印膜10(S301)(如第5A圖所示)。具內紋路的轉印膜10及其製備方法如上所述,故不重複描述。
接著,將一基板20黏著於黏著層15相反於油墨層14之一側(S302)(如第5B圖所示)。基板20係代表所欲應用之殼體結構,基板20的材質例如為金屬件或者塑膠件,但並不以此為限。
最後,將離型載板11自熱風乾燥塗層12分離,即完成了具內紋
路的殼體結構9之製備(S303)。上述將基板20黏著於黏著層15之步驟S302以及將離型載板11自熱風乾燥塗層12分離之步驟S303就是一轉印製程。
本實施例所製備完成之具內紋路的殼體結構9如第5C圖所示,具內紋路的殼體結構9具有軟性的觸感並且內部具有立體圖案B,因而可同時滿足使用者視覺以及觸覺上的要求。
須注意的是,隨著所選用之熱風乾燥塗層12的性質差異,上述製程會有對應的差異步驟。當熱風乾燥塗層12是硬塗層時,殼體結構的製備過程會有對應的差異步驟。
請參閱第6圖,第6圖為本新型另一實施例所揭露之具內紋路的殼體結構的製備方法。在本實施例中,所使用之熱風乾燥塗層12是硬塗層,而在將基板20黏著於黏著層15相反於油墨層14之一側之步驟(S402)後,另執行一第二固化程序(S403),以將熱風乾燥塗層12進一步固化,以強化熱風乾燥塗層12之結構性質。
根據本新型實施例所揭露之具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構,由於是透過轉印的方法將轉印膜轉印到殼體結構,以在殼體之表面形成立體圖案。如此,解決了先前技術中,在外殼表面形成花紋會造成環境汙染的問題。此外,由於本新型實施例之具內紋路的殼體結構具有軟性的觸感並且內部具有立體圖案,因而可同時滿足使用者視覺以及觸覺上的要求。
雖然本新型已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本新型,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本新型之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,故本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
9‧‧‧具內紋路的殼體結構
11‧‧‧離型載板
12‧‧‧熱風乾燥塗層
13‧‧‧紫外線硬化樹脂層
14‧‧‧油墨層
15‧‧‧黏著層
20‧‧‧基板
A‧‧‧凹凸紋路
B‧‧‧立體圖案
Claims (9)
- 一種具內紋路的轉印膜,包含:一離型載板;一熱風乾燥塗層,設置於該離型載板;一紫外線硬化樹脂層,設置於該熱風乾燥塗層,該紫外線硬化樹脂層相反於該熱風乾燥塗層之一側具有一凹凸紋路;一油墨層,設置於該紫外線硬化樹脂層相反於該熱風乾燥塗層之一側,該油墨層面對該紫外線硬化樹脂層之一側具有對應於該凹凸紋路的一立體圖案;以及一黏著層,設置於該油墨層相反於該紫外線硬化樹脂層之一側。
- 如請求項1所述之具內紋路的轉印膜,其中該熱風乾燥塗層是選自於軟性塗層以及硬塗層所組成之群組。
- 如請求項2所述之具內紋路的轉印膜,其中該熱風乾燥塗層之厚度大於6微米。
- 如請求項3所述之具內紋路的轉印膜,其中該熱風乾燥塗層之材質包含聚氨酯及聚氨酯壓克力樹脂。
- 如請求項3所述之具內紋路的轉印膜,其中該熱風乾燥塗層之材質包含聚氨酯、絨毛粉及二氧化矽,其中絨毛粉佔該熱風乾燥塗層之總重量之10~50%wt。
- 如請求項4至請求項5中任一項所述之具內紋路的轉印膜,其中該紫外線硬化樹脂層之材質是選自於聚氨酯壓克力樹脂及聚酯壓克力樹脂所組成之群組。
- 如請求項6所述之具內紋路的轉印膜,另包含一接著層,該接著層位於該熱風乾燥塗層以及該紫外線硬化樹脂層之間。
- 如請求項7所述之具內紋路的轉印膜,其中該油墨層之材質為聚酯壓克力樹脂,該黏著層之材質是選自於乙烯-醋酸乙烯酯共聚合物及壓克力樹脂所組成之群組,該接著層之材質是選自於聚氨酯壓克力樹脂及聚酯壓克力樹脂所組成之群組。
- 一種具內紋路的殼體結構,包含:一基板;一黏著層,設置於該基板;一油墨層,設置於該黏著層相反於該基板之一側,該油墨層相反於該黏著層之一側具有一立體圖案;一紫外線硬化樹脂層,設置於該油墨層相反於該黏著層之一側,該紫外線硬化樹脂層面對該油墨層之一側具有對應該立體圖案之一凹凸紋路;以及一熱風乾燥塗層,設置於該紫外線硬化樹脂層相反於該油墨層之一側。
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TW103208415U TWM484505U (zh) | 2014-05-14 | 2014-05-14 | 具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構 |
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TWM484505U true TWM484505U (zh) | 2014-08-21 |
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Family Applications (1)
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TW103208415U TWM484505U (zh) | 2014-05-14 | 2014-05-14 | 具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構 |
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TW (1) | TWM484505U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI552888B (zh) * | 2014-05-14 | 2016-10-11 | 正美企業股份有限公司 | 具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法 |
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2014
- 2014-05-14 TW TW103208415U patent/TWM484505U/zh unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI552888B (zh) * | 2014-05-14 | 2016-10-11 | 正美企業股份有限公司 | 具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法 |
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