TWM471589U - 電子裝置之螢幕光學保護貼結構 - Google Patents

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Wen-Pin Ho
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Kupo Co Ltd
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Description

電子裝置之螢幕光學保護貼結構
本新型是有關一種電子裝置之螢幕光學保護貼結構,尤指一種可大幅降低外部光線的反射現象,以確保在外部光線較為強烈的情形下,仍能清楚觀視螢幕顯示內容之光學保護貼結構。
隨著各種具有螢幕(尤其是觸控螢幕)的電子裝置逐漸被廣泛的使用,許多使用者為避免螢幕發生刮傷或沾黏油汙等問題,會選擇在螢幕表面貼覆一螢幕保護片,以達到保護螢幕的功效。
而目前在螢幕保護片的使用上,較常遇到的問題係將螢幕保護片貼附於螢幕上的過程中,常因操作錯誤或疏失而導致螢幕保護片與觸控螢幕的表面之間出現惱人的氣泡;為解決上述缺失,美國專利US 8,004,942揭露了一種螢幕保護器,可克服螢幕保護器與螢幕表面之間產生氣泡的問題。
另有中華民國專利公告第M442264號「手持式電子裝置的螢幕保護裝置」新型專利案,其可有效避免牛頓環的出現,防止對螢幕呈現的畫面造成干涉條紋,進而確保經由螢幕保護器所看到的螢幕畫面品質。
上述所揭示的已公開結構中,皆係針對螢幕表面保護、防止螢幕保護器對螢幕顯示產生不良影響等方面加以改善,但在可攜式電子裝置的使用上,另有一使用上不便之處,即為當外部光線強於螢幕亮度(如:室外陽光下)時,由於光線反射的眩目現象,會影響使用者無法清楚觀視螢幕內容;如第1圖所示,其係於螢幕視窗周側設置黏膠之框膠玻璃螢幕保護片的結構,該圖所示之結構,係於一玻璃片20周側設有一圈環狀膠 層30,使該玻璃片20得以經由該圈環狀膠層30黏合於電子裝置之螢幕4上,藉以於螢幕4外側形成一保護,且於該環狀膠層30中央留有一中空部301;此種結構於實際應用時,當外部光線強度A0(100%)由空氣中投射於玻璃片20外表面時,會產生一反射光線A1(反射率約4.1%),而光線通過玻璃片20內部投射入空氣中時,會產生一反射光線A2(反射率約4.1%),然後,光線通過中空部301的空氣進入螢幕4表面時,亦會產生一反射光線A3(反射率約4.1%),最後,光線通過螢幕4再進入其它介質(例如:觸控模組40)中,則會產生一反射光線A4(反射率約1.3%),因此總反射率A=(A1+A2+A3+A4)反射率=13~14%;而目前一般太陽的最大平均照度粗估約為100,000LUX,若其通過反射率13~14%所反射的太陽光線會嚴重影響使用者觀視螢幕的品質。
另有如第2圖所示者,其係於玻璃片20一側表面設置全面分佈黏膠之全膠玻璃螢幕保護片,該圖所示之結構,係於玻璃片20一表側設有一全面分佈之黏膠層300,使該玻璃片20得以經由該黏膠層300黏合於電子裝置之螢幕4上;此種結構於實際應用時,當外部光線強度B0(100%)由空氣中投射於玻璃片20外表面時,會產生一反射光線B1(反射率約4.1%),而光線通過玻璃片20內部投射入黏膠層300時,會產生一反射光線B2(反射率約0.01%),然後光線通過黏膠層300進入螢幕4表面時,亦會產生一反射光線B3(反射率約0.2%),最後,光線通過螢幕4再進入其它介質(例如:觸控模組40)中,則會產生一反射光線B4(反射率約1.3%),因此其總反射率B=(B1+B2+B3+B4)反射率=5.6%;此種反射率所反射的太陽光線亦會影響使用者觀視螢幕的品質,由此可見,針對此種液晶螢幕於強光下的應用缺失,目前仍未見到市面上有任何具有解決方案的裝置或結構被公開,此亦為相關業者所亟待努力之課題。
有鑑於習見之螢幕保護片於應用上仍有上述限制及缺失,創作人乃針對該些缺點研究改進之道,終於有本新型產生。
本新型之主要目的在於提供一種電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其係於一玻璃基材表面上設有一可大幅降低外部光線反射的光學層,以確保在外部光線較強烈的情形下,使用者仍能清楚觀視螢幕顯示內容,減少外部環境影響電子裝置使用上之便利性。
本新型之另一目的在於提供一種電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其於玻璃基材之背側設有具矽膠成份之黏著層,使該具有光學層之玻璃基材得以被重複黏貼使用於不同電子裝置的螢幕上,以產生較大的經濟效益。
為達成上述目的及功效,本新型所採行的技術手段包括:一薄片狀之玻璃基材;一抗反射的鍍膜層,係設置分佈於該玻璃基材之一側表面,該鍍膜層至少具有一層抗反射增透(Anti-Reflection)膜,該抗反射增透膜係由至少一層折射率為1.3~1.48之低折射率的介電材料所組成;一光學透明黏膠(Optically Clear Adhesive)層,係設置分佈於該玻璃基材之另一側表面,該光學透明黏膠層係由至少一層折射率為1.38~1.48之矽膠(Silicon)所組成,使其具有重覆黏貼結合之特性。
依上述結構,其中該抗反射增透膜另包括一層折射率為1.9~2.4之高折射率的介電材料所共同組成。
依上述結構,其中該抗反射增透膜另包括一層折射率為1.7~1.9之中折射率的介電材料所共同組成。
依上述結構,其中該低折射率的介電材料之膜厚為10~120nm,該中折射率的介電材料之膜厚為60~120nm,該高折射率的介電材料之膜厚為60~280nm。
依上述結構,其中該抗反射增透膜另包括一層折射率為1.7~1.9之中折射率的介電材料所共同組成。
依上述結構,其中該鍍膜層另包括一能使光線分佈更均勻之抗眩光學(Anti-Glare)膜,以有效緩和光線反射所造成之眩光情形。
依上述結構,其中該抗眩光學膜係經由蝕刻、鍍膜其中之一方式形成。
依上述結構,其中該抗眩光學膜之霧度係為3~70%,輝度係為30~120,及平坦度係為0.1~0.9。
依上述結構,其中該玻璃基材係選自鈉鈣玻璃、高鋁玻璃之其中之一,且其折射率為1.43~1.6。
依上述結構,其中該玻璃基材之厚度為0.1~10mm。
依上述結構,其中該光學透明黏膠層於矽膠與玻璃基材之間另設有結合於玻璃基材表面之壓克力膠(PMMA),及一結合於該壓克力膠與矽膠之間的PET薄膜。
依上述結構,其中該壓克力膠(PMMA)之折射率為1.44~1.58,該PET薄膜之折射率為1.53~1.61。
依上述結構,其中該矽膠之厚度為0.005~0.1mm,該壓克力膠之厚度為0.005~0.1mm,該PET薄膜之厚度為0.005~0.1mm。
為使本新型的上述目的、功效及特徵可獲致更具體的暸解,茲依下列附圖說明如下:
1、10‧‧‧鍍膜層
11‧‧‧抗眩光學膜
2‧‧‧玻璃基材
20‧‧‧玻璃片
3‧‧‧光學透明黏膠層
31‧‧‧壓克力膠
32‧‧‧樹脂PET薄膜
33‧‧‧矽膠
30‧‧‧環狀膠層
301‧‧‧中空部
300‧‧‧黏膠層
4‧‧‧螢幕
40‧‧‧觸控模組
A0、B0、C0‧‧‧外部光線強度
A1、A2、A3、A4、B1、B2、B3、B4、C1、C2、C3、C4、C5‧‧‧反射光線
第1圖係習見框膠玻璃螢幕保護片之光線反射示意圖。
第2圖係習見全膠玻璃螢幕保護片之光線反射示意圖。
第3圖係本新型第一實施例之結構剖面圖。
第4圖係本新型第一實施例之光線反射示意圖。
第5圖係本新型第二實施例之結構剖面圖。
請參第3、4圖所示,可知本新型第一實施例之結構主要包括:鍍膜層1、玻璃基材2及光學透明黏膠層3等部份,其中該玻璃基材2係為一薄片狀之玻璃結構體,其可為厚度於0.1~10mm之間的鈉鈣玻璃或高鋁玻璃,且其折射率保持於1.43~1.6之間。
該鍍膜層1係為設置於該玻璃基材2一側表面之抗反射增 透(Anti-Reflection)膜,該抗反射增透膜至少具有一折射率為1.3~1.48,且膜厚為10~120nm之低折射率介電材料,於實際應用時,該低折射率介電材料亦可配合一層折射率為1.9~2.4,膜厚為60~280nm之高折射率介電材料,及/或配合一折射率為1.7~1.9,膜厚為60~120nm之中折射率介電材料所共同組合成該抗反射增透膜。
該光學透明黏膠(Optically Clear Adhesive)層3係設置於該玻璃基材2之另一側表面,該光學透明黏膠層3主要具有一層厚度為0.005~0.1mm,折射率為1.38~1.48之矽膠33(Silicon),在實際應用時,該矽膠33可配合一結合於玻璃基材2上之壓克力膠31(PMMA),該壓克力膠31之厚度為0.005~0.1mm,折射率為1.44~1.58,及一結合於壓克力膠31、矽膠33之間的PET薄膜32(Polyethylene terephthalate),該PET薄膜32之厚度為0.005~0.1mm,其折射率為1.53~1.61,藉由上述的組合,使該光學透明黏膠層3具有低反射且重覆黏貼性佳之膠合結構。
上述結構於使用時,當外部光線強度C0(100%)由空氣中投射於鍍膜層1外表面時,會產生一反射光線C1,而當光線通過鍍膜層1內部投射入玻璃基材2外表面時,會產生一反射光線C2(該C1的反射率+C2的反射率=約0.3%),然後,光線通過玻璃基材2進入光學透明黏膠層3表面時,會產生一反射光線C3(其反射率約為0.01%),而當光線通過光學透明黏膠層3進入螢幕4表面時,亦會產生一反射光線C4(反射率約0.2%),最後,光線通過螢幕4再進入其它介質(例如:觸控模組40)中,則會產生一反射光線C5(反射率約1.3%),因此總反射率C=(C1+C2+C3+C4)反射率=1.8%;以一般太陽的最大平均照度約為100,000LUX,其所反射的太陽光線已可被適當壓制,並可確保使用者觀視螢幕的品質。
請參第5圖所示,可知本新型第二實施例之結構主要係以前述第一實施例為基礎,其包括:鍍膜層10及與該第一實施例相同之玻璃基材2、光學透明黏膠層3等部份,其中該鍍膜層10係由與第一實施例相同之鍍膜層1(抗反射增透膜)與一經由蝕刻或鍍膜方式形成之抗眩光學(Anti-Glare)膜11所組成,該抗眩光學膜11具有霧度為3~70%,輝度為 30~120及平坦度為0.1~0.9等特性,其可使光線分佈更均勻,以有效緩和光線反射所造成之眩光情形,藉以配合該抗反射增透膜而可產生更佳的強光環境下觀視螢幕的品質。
綜合以上所述,本新型電子裝置之螢幕光學保護貼結構確可達成降低外部光線的反射現象、確保在外部強光環境下仍能清楚觀視螢幕顯示之功效,實為一具新穎性及進步性之新型,爰依法提出申請新型專利;惟上述說明之內容,僅為本新型之較佳實施例說明,舉凡依本新型之技術手段與範疇所延伸之變化、修飾、改變或等效置換者,亦皆應落入本新型之專利申請範圍內。
1‧‧‧鍍膜層
2‧‧‧玻璃基材
3‧‧‧光學透明黏膠層
31‧‧‧壓克力膠
32‧‧‧PET薄膜
33‧‧‧矽膠
4‧‧‧螢幕
40‧‧‧觸控模組
C0‧‧‧外部光線強度
C1、C2、C3、C4、C5‧‧‧反射光線

Claims (17)

  1. 一種電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其至少包括:一薄片狀之玻璃基材;一抗反射的鍍膜層,係設置分佈於該玻璃基材之一側表面,該鍍膜層至少具有一層抗反射增透(Anti-Reflection)膜,該抗反射增透膜係由至少一層折射率為1.3~1.48之低折射率的介電材料所組成;一光學透明黏膠(Optically Clear Adhesive)層,係設置分佈於該玻璃基材之另一側表面,該光學透明黏膠層係由至少一層折射率為1.38~1.48之矽膠(Silicon)所組成,使其具有重覆黏貼結合之特性。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該抗反射增透膜另包括一層折射率為1.9~2.4之高折射率的介電材料所共同組成。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該抗反射增透膜另包括一層折射率為1.7~1.9之中折射率的介電材料所共同組成。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該低折射率的介電材料之膜厚為10~120nm,該中折射率的介電材料之膜厚為60~120nm,該高折射率的介電材料之膜厚為60~280nm。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該抗反射增透膜另包括一層折射率為1.7~1.9之中折射率的介電材料所共同組成。
  6. 如申請專利範圍第1至5任一項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該鍍膜層另包括一能使光線分佈更均勻之抗眩 光學(Anti-Glare)膜,以有效緩和光線反射所造成之眩光情形。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該抗眩光學膜係經由蝕刻、鍍膜其中之一方式形成。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該抗眩光學膜之霧度係為3~70%,輝度係為30~120,及平坦度係為0.1~0.9。
  9. 如申請專利範圍第1至5任一項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該玻璃基材係選自鈉鈣玻璃、高鋁玻璃之其中之一,且其折射率為1.43~1.6。
  10. 如申請專利範圍第6項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該玻璃基材係選自鈉鈣玻璃、高鋁玻璃之其中之一,且其折射率為1.43~1.6。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該玻璃基材之厚度為0.1~10mm。
  12. 如申請專利範圍第1至5任一項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該光學透明黏膠層於矽膠與玻璃基材之間另設有結合於玻璃基材表面之壓克力膠(PMMA),及一結合於該壓克力膠與矽膠之間的PET薄膜(Polyethylene terephthalate)。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該壓克力膠(PMMA)之折射率為1.44~1.58,該PET薄膜之折射率為1.53~1.61。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之電子裝置之螢幕光學保護 貼結構,其中該矽膠之厚度為0.005~0.1mm,該壓克力膠之厚度為0.005~0.1mm,該PET薄膜之厚度為0.005~0.1mm。
  15. 如申請專利範圍第6項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該光學透明黏膠層於矽膠與玻璃基材之間另設有結合於玻璃基材表面之壓克力膠(PMMA),及一結合於該壓克力膠與矽膠之間的PET薄膜(Polyethylene terephthalate)。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該壓克力膠(PMMA)之折射率為1.44~1.58,該PET薄膜之折射率為1.53~1.61。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之電子裝置之螢幕光學保護貼結構,其中該矽膠之厚度為0.005~0.1mm,該壓克力膠之厚度為0.005~0.1mm,該PET薄膜之厚度為0.005~0.1mm。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI656332B (zh) * 2014-05-14 2019-04-11 日商Agc股份有限公司 評價透明基體之光學特性之方法及透明基體

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