TWM451568U - 光罩清洗裝置 - Google Patents

Description

光罩清洗裝置

本創作係關於一種光罩清洗裝置，尤其係指利用擦拭元件及斜向出水結構來去除光罩上之微粒的清洗裝置。

隨著電子產品皆越來越輕薄短小，晶圓為現代重要的電子元件，而晶圓的製作方式係利用光罩投影，以蝕刻得到所欲之圖案。如光罩上具有微粒，可能使其投影置晶圓的圖案與結果有所不同，故光罩不容有微粒存在。因此光罩的清潔便成為現今各家業者所需面臨的問題。

若光罩僅利用液體清洗，較有可能殘留微粒。此外，若利用洗淨噴嘴清洗光罩，以及利用刷子剝除光罩上的異物。其問題在於清洗光罩後的液體可能流至已清洗好的部份，造成微粒仍黏附於光罩上，且刷子容易刮傷基板，故此種清洗方式仍可能有微粒殘留，且有刮痕產生。

故，本創作人有感上述結構之可改善性，且依據多年來從事此方面之相關經驗，悉心觀察且研究之，並配合學理之運用，提出一種設計合理且有效改善上述缺失之本創作。

本創作在於提供一種光罩清洗裝置，其利用濕潤的擦拭元件清潔光罩，以將光罩上的微粒去除，並利用斜向出水的水流將被擦拭元件鬆動的微粒帶走。另一方面其利用特殊的固定組件及壓夾令使用者可輕鬆替換擦拭元件，且 可幫助排水。

為達成前面所述，本創作提供一種光罩清洗裝置，其設置於欲清洗光罩面的方向。該光罩清洗裝置包括一基台、一設置於基台上的出水座、一擦拭元件、一固定擦拭元件於出水座上的壓夾及一固定組件。該出水座更包含一斜向出水單元及一正向出水單元，該擦拭元件大致覆蓋於該正向出水單元，使該擦拭元件濕潤，以減少將該光罩刮傷的機會。該斜向出水單元將水大致噴向該擦拭元件與該光罩的接觸位置，利用與該光罩間具有一角度的水流將微粒帶走。

依據本創作的一種實施方式，該壓夾框設於該正向出水單元，且該壓夾面向光罩之一面為一導斜面，該導斜面向外並朝向該機台方向傾斜，使清洗光罩後之液體可順著該導斜面遠離該出水座。

本創作之有益效果可在於利用擦拭元件及斜向出水單元的配置，將光罩上的微粒更完整地清除，且因有壓夾的導斜面設置，使清洗後的液體可避免積於出水座，已造成再度污染乾淨的光罩。

為使能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明用，並非用來對本創作加以限制者。

參照圖1所示，本創作提供一種光罩清洗裝置1，其包含有一基台50、一設置於基台50上的出水座10、一設置於出水座10與基台50之間的導座60、一設置於出水座10 上的擦拭元件20、一固定擦拭元件20於出水座10的壓夾30及一固定壓夾30及出水座10的固定組件40。如圖4所示，欲清洗光罩9時，將光罩9夾持於光罩清洗裝置1的上方，且其欲清洗面朝向光罩清洗裝置1並與集水盤51平行，利用擦拭元件20鬆動光罩9上的微粒，並利用水流將微粒帶走。以下所提及之水流，不僅以清水為限，亦可為可用於清洗光罩的清洗液體。

如圖1所示，基台50包含有一集水盤51及數個供水管52，供水管52的一端連接於集水盤51。集水盤51設置有一排水孔512及一排水槽511，排水槽511設置於相對於供水管的一面，排水孔512設置於集水盤51的一側，使排水時較不亦影響機台。

如圖2所示，導座60設置於集水盤51相對於供水管52的一面。導座60包含數個液體通道61，且液體通道61有間隔地平行並列，水管將水流入液體通道61。導座60相對於集水盤51的一面為一斜面62(如圖3所示)，且斜面62由中央向外圍下斜，使水流(亦可為清洗液)可順著斜面流入集水盤51。此導座60的設置可使出水座10與集水盤51具有一定距離，使出水座10可不必浸泡於流出的水流中，甚至造成積水，以避免清洗掉的微粒回流再度沾附光罩9。

如圖3所示，出水座10包含有二個設置於出水座10兩側的斜向出水單元11、一設置於斜向出水單元11之間的正向出水單元12及二個凸部13，斜向出水單元11及正向出水單元12的位置對應於液體通道61，此二個凸部13分別設置於斜向出水單元11面向正向出水單元12的一側，亦即設致於正向出水單元12的兩側。正向出水單元12及 斜向出水單元11的數量及位置並不以此為限。擦拭元件20設置於正向出水單元12，且擦拭元件20包含有一海綿21及一擦拭布22，海綿21設置於擦拭布22與正向出水單元12之間，利用海綿21柔軟可壓縮的特性，令擦拭布22可輕柔地擦拭光罩9，以避免擦拭布22過於用力地擦拭光罩9，造成光罩9損傷。

正向出水單元12可為出水噴嘴或由數個出水孔所組成的面，不在此限。正向出水單元12由頂面朝光罩的方向出水，擦拭元件20完全覆蓋正向出水單元12的頂面，當水流流出時，便可將擦拭元件20完全濕潤，且於擦拭過程中依然保持濕潤狀態，濕潤的擦拭元件20較乾燥的擦拭元件20不易於光罩上留下刮痕。正向出水單元12高於斜向出水單元11，亦當使擦拭元件20接觸光罩9時，斜向出水單元11不會與光罩9接觸，可避免於光罩9上產生刮痕。

斜向出水單元11由面向正向出水單元12之一側朝光罩9的方向斜向出水，令從斜向出水單元11流出的水流可斜向沖洗光罩9，並將水大致噴向擦拭元件20與光罩9的接觸部分。當水流具有一角度地沖洗光罩9時，較水流正向沖洗光罩更可將水流可沖入微粒與光罩9之間，使微粒與光罩9分離，故較容易將光罩9上的微粒帶走。斜向出水單元11可由噴嘴出水，亦可由數個出水孔出水，並不為此限。此種結構的配置方式，可以將擦拭元件20所鬆動的微粒，利用斜向水流將其帶走。

如圖3及圖4所示，壓夾30框設於正向出水單元12，且壓夾30與斜向出水單元11間具有一定間隔。擦拭元件20部分位於出水座10與壓夾30之間，使擦拭元件20可大 致包覆正向出水單元12。壓夾30相對於集水盤51之一面為一由中央向外圍下斜的導斜面32，使水流可順著導斜面32流入集水盤51，且因壓夾30與斜向出水單元11間具有距離，不會造成水流積於此，此種結構較一般壓夾30更可幫助排水。壓夾30更包含有一由壓夾30兩端向極水盤方向延伸的固定部33，固定部33具有一限位板331及一中空部332，限位板331位於固定部33的末端，且限位板331與集水盤51平行。

如圖4所示，壓夾30面向集水盤51之一面更具有一對應於凸部13的凹槽31，將擦拭布22部分被凸部13夾持於該凹槽31，使擦拭元件20可穩固的固定於正向出水單元12上。且當使用者判別擦拭布22需更換時，僅需將壓夾30拿起即可替換擦拭布22。

如圖2及圖4所示，固定組件40包含有一卡扣本體43、一扣夾42、一框體41、一第一彈性件44及一第二彈性件45，框體41圍繞於正向出水單元12且設置於壓夾30及出水座10之間，且框體41的兩端各具有一凸出端411，凸出端411穿過中空部332。第二彈性件45設置於框體41與壓夾30之間，且第二彈性件45為壓縮狀態。

卡扣本體43設置於出水座10的兩端，且扣夾42樞接於卡扣本體43，以下稱扣夾42與卡扣本體43的樞接位置為樞接處。第一彈性件44設置於卡扣本體43上，且扣夾42於樞接處的一側與第一彈性件44抵觸。扣夾42於樞接處的另一側具有一壓部421，壓部421與限位板331相對於光罩9的一面相抵觸，因壓夾30與框體41間的第二彈性件45為壓縮狀態，故此第二彈性件45提供壓夾30一向上 的力量，而彈簧令扣夾42的壓部421提供限位板331一向下的力量，以此種結構將壓夾30固定於出水座10，且只需於扣夾42的壓部421所在之一側上施力抵抗第一彈性件44的力量，便可將壓夾30鬆開以替換擦拭元件20。此種結構配置可便於替換擦拭元件20。

綜上所述，本創作至少具有以下之優點：

1.利用斜向出水單元11及擦拭元件20的設置，將光罩9上之微粒以斜向沖洗的方式帶走，使光罩9更為清潔

2.利用壓夾30及導座60具有導斜面及斜面的配置，

使水流可沿著此導斜面及斜面更為順利的排走。

3.利用固定組件40及壓夾30的設置，令使用者可更為輕鬆的更換擦拭元件20。

惟以上所述僅為本創作之較佳實施例，非意欲侷限本創作的專利保護範圍，故舉凡運用本創作說明書及圖式內容所為的等效變化，均同理皆包含於本創作的權利保護範圍內，合予陳明。

1‧‧‧光罩清洗裝置

10‧‧‧出水座

11‧‧‧斜向出水單元

12‧‧‧正向出水單元

13‧‧‧凸部

20‧‧‧擦拭元件

21‧‧‧海綿

22‧‧‧擦拭布

30‧‧‧壓夾

31‧‧‧凹槽

32‧‧‧導斜面

33‧‧‧固定部

331‧‧‧限位板

332‧‧‧中空部

40‧‧‧固定組件

41‧‧‧框體

411‧‧‧凸出端

42‧‧‧扣夾

421‧‧‧壓部

43‧‧‧卡扣本體

44‧‧‧第一彈性件

45‧‧‧第二彈性件

50‧‧‧基台

51‧‧‧集水盤

511‧‧‧排水槽

512‧‧‧排水孔

52‧‧‧供水管

60‧‧‧導座

61‧‧‧液體通道

62‧‧‧斜面

9‧‧‧光罩

圖1為本創作光罩清洗裝置之組合示意圖。

圖2為本創作光罩清洗裝置之部分分解示意圖。

圖3為本創作光罩清洗裝置之剖面圖。

圖4為本創作光罩清洗裝置之固定組件組合示意圖。

圖5為本創作光罩清洗裝置之基台及導座示意圖

1‧‧‧光罩清洗裝置

10‧‧‧出水座

20‧‧‧擦拭元件

30‧‧‧壓夾

40‧‧‧固定組件

50‧‧‧基台

51‧‧‧集水盤

52‧‧‧供水管

60‧‧‧導座

Claims (15)

1. 一種光罩清洗裝置，用以清洗一光罩，包含：一出水座，位於該光罩下方，該出水座包含至少一斜向出水單元及一正向出水單元，該斜向出水單元位於該出水座的側邊，且該斜向出水單元斜向噴水於該光罩；一擦拭元件，舖設於該正向出水單元上，以擦拭該光罩；一壓夾，設置於該正向出水單元的外圍，以固定該擦拭元件於該正向出水單元；一固定組件，固定該壓夾於該出水座；以及一基台，包含有至少一供水管及一集水盤，該供水管的一端連接於該集水盤，該出水座設置於該集水盤上，且該供水管供水給該斜向出水單元及該正向出水單元。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中該斜向出水單元的數量為一對，該對斜向出水單元位於該出水座的兩側，該正向出水單元設置於該斜向出水單元之間。
3. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中該正向出水單元較該斜向出水單元靠近該光罩。
4. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中該出水座更包含一凸部，該凸部設置於正向出水單元的兩側，該壓夾面向該集水盤的一面設有一凹槽，該凹槽對應於該凸部。
5. 如申請專利範圍第4項所述之光罩清洗裝置，其中該擦拭元件部分彎折，且該凸部將該擦拭元件夾持於該凹槽內。
6. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中該壓夾面向該光罩之一面為一導斜面，且向外並朝向該集水盤傾斜。
7. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中更包含一導座，該導座位於該出水座與該集水盤之間，該導座具有多個液體通道，該液體通道的位置對應於該斜向出水單元及該正向出水單元。
8. 如申請專利範圍第7項所述之光罩清洗裝置，其中該導座相對於該集水盤之一面為一斜面。
9. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中該壓夾包含至少一固定部，該固定部由該壓夾的兩端朝該集水盤方向延伸。
10. 如申請專利範圍第9項所述之光罩清洗裝置，其中該固定組件更包含一框體、一扣夾及一卡扣本體，該框體設置該正向出水單元的外圍，且該框體設置於該壓夾及該出水座之間，該卡扣本體設置於該出水座的兩端，該扣夾樞接於該卡扣本體，且該固定部穿設該框體。
11. 如申請專利範圍第10項所述之光罩清洗裝置，其中該固定組件更包含有一第一彈性件，該第一彈性件設置於該卡扣本體與該扣夾之間，該固定部包含一限位板，該限位板位於該固定部的一端且朝與該集水盤平行，該卡扣具有一壓部，該壓部抵接於該限位板。
12. 如申請專利範圍第10項所述之光罩清洗裝置，其中該固定組件更包含有至少一第二彈性件，該至少一第二彈性件設置於該框體及該壓夾之間。
13. 如申請專利範圍第10項所述之光罩清洗裝置，其中該框 體的兩端具有一凸出端，該固定部具有一中空部，該凸出端穿過該中空部。
14. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中該集水盤具有一排水槽及一排水孔，該排水槽環繞於該出水座的周圍。
15. 如申請專利範圍第1項所述之光罩清洗裝置，其中該擦拭元件更包含一海綿及一擦拭布，該海綿位於該擦拭布及該正向出水單元之間。